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技術 極端紫外光生成装置

出願人 ギガフォトン株式会社
発明者 鈴木徹菅沼崇高山明大黒澤義明
出願日 2015年11月25日 (5年0ヶ月経過) 出願番号 2016-564756
公開日 2017年9月28日 (3年2ヶ月経過) 公開番号 WO2016-098543
状態 特許登録済
技術分野 X線技術 レーザ(2)
主要キーワード 設置機構 熱絶縁部材 光路管 略直線形状 進行方向制御 スパイラル管 ビーム中心位置 軸移動ステージ
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図面 (20)

課題・解決手段

極端紫外光生成装置におけるビーム調節装置は、パルスレーザ光光路上に配置された、第1凹面ミラーと第1凸面ミラーとからなる第1組と、パルスレーザ光の光路上で第1組より下流において、第1凹面ミラーと第1凸面ミラーの配置順序とは逆に配置された、第2凹面ミラーと第2凸面ミラーとからなる第2組と、第1凹面ミラーと第1凸面ミラーとの間の距離、及び、第2凹面ミラーと第2凸面ミラーとの間の距離を、同時に増加または同時に減少させる方向に変化させる移動装置と、を含んでもよい。

概要

背景

近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、70nm〜45nmの微細加工、さらには32nm以下の微細加工が要求されるようになる。このため、例えば32nm以下の微細加工の要求に応えるべく、波長13nm程度の極端紫外(EUV)光を生成するための装置と縮小投影反射光学系(reduced projection reflective optics)とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。

EUV光生成装置としては、ターゲット物質レーザ光照射することによって生成されるプラズマを用いたLPP(Laser Produced Plasma)方式の装置と、放電によって生成されるプラズマを用いたDPP(Discharge Produced Plasma)方式の装置と、軌道放射光を用いたSR(Synchrotron Radiation)方式の装置との3種類の装置が提案されている。

概要

極端紫外光生成装置におけるビーム調節装置は、パルスレーザ光光路上に配置された、第1凹面ミラーと第1凸面ミラーとからなる第1組と、パルスレーザ光の光路上で第1組より下流において、第1凹面ミラーと第1凸面ミラーの配置順序とは逆に配置された、第2凹面ミラーと第2凸面ミラーとからなる第2組と、第1凹面ミラーと第1凸面ミラーとの間の距離、及び、第2凹面ミラーと第2凸面ミラーとの間の距離を、同時に増加または同時に減少させる方向に変化させる移動装置と、を含んでもよい。

目的

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
0件

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請求項1

レーザ装置から出力されたパルスレーザ光ターゲット照射することによって、プラズマを生成し、極端紫外光を生成する極端紫外光生成装置であって、チャンバと、前記チャンバ内にターゲットを供給するターゲット供給部と、前記ターゲットに照射されるパルスレーザ光の光路上に配置され、ビームパラメータを調整するビーム調節装置と、を含み、前記ビーム調節装置は、前記パルスレーザ光の光路上に配置された、第1凹面ミラーと第1凸面ミラーとからなる第1組と、前記パルスレーザ光の光路上で前記第1組より下流において、前記第1凹面ミラーと前記第1凸面ミラーの配置順序とは逆に配置された、第2凹面ミラーと第2凸面ミラーとからなる第2組と、前記第1凹面ミラーと前記第1凸面ミラーとの間の距離、及び、前記第2凹面ミラーと前記第2凸面ミラーとの間の距離を、同時に増加または同時に減少させる方向に変化させる移動装置と、を含む、極端紫外光生成装置。

請求項2

請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、前記移動装置は、前記第1組における下流側ミラーを前記パルスレーザ光の光軸に沿って移動し、前記第2組における上流側ミラーを前記パルスレーザ光の光軸に沿って移動する、極端紫外光生成装置。

請求項3

請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、前記第1凹面ミラー及び前記第2凹面ミラーは、軸外放物面凹面ミラーであり、前記第1凸面ミラー及び前記第2凸面ミラーは、軸外放物面凸面ミラーであり、前記第1凹面ミラーと前記第1凸面ミラーの焦点が一致するとき、前記第2凹面ミラーと前記第2凸面ミラーの焦点は一致する、極端紫外光生成装置。

請求項4

請求項3に記載の極端紫外光生成装置であって、前記第1凹面ミラー、前記第2凹面ミラー、前記第1凸面ミラー、及び前記第2凸面ミラーそれぞれにおける、前記パルスレーザ光の入射角出射角は45°である、極端紫外光生成装置。

請求項5

請求項4に記載の極端紫外光生成装置であって、前記移動装置は、前記第1組の下流側ミラーと前記第2組の上流側ミラーとが固定された移動プレートを含み、前記移動プレートを前記第1組及び前記第2組における前記パルスレーザ光の光軸に沿って移動する、極端紫外光生成装置。

請求項6

請求項5に記載の極端紫外光生成装置であって、前記第1凹面ミラー及び前記第2凹面ミラーは、同一の関数で表される形状の反射面を備え、前記第1凸面ミラー及び前記第2凸面ミラーは、同一の関数で表される形状の反射面を備える、極端紫外光生成装置。

請求項7

請求項2に記載の極端紫外光生成装置であって、前記第1凹面ミラー及び前記第2凹面ミラーは、同一の関数で表される形状の反射面を備え、前記第1凸面ミラー及び前記第2凸面ミラーは、同一の関数で表される形状の反射面を備える、極端紫外光生成装置。

請求項8

請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、前記第1凹面ミラー及び前記第2凹面ミラーの組、及び、前記第1凸面ミラー及び前記第2凸面ミラーの組の少なくとも一方の組は、球面ミラーであり、前記球面ミラーにおける前記パルスレーザ光の入射光軸出射光軸との間の角度は45°未満である、極端紫外光生成装置。

請求項9

請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、前記レーザ装置内において増幅器より上流に配置された第2ビーム調節装置をさらに含み、前記第2ビーム調節装置は、前記パルスレーザ光の光路上に配置された、第3凹面ミラーと第3凸面ミラーとからなる第3組と、前記パルスレーザ光の光路上で前記第3組の下流において、前記第3凹面ミラーと前記第3凸面ミラーの配置順序とは逆に配置された、第4凹面ミラーと第4凸面ミラーとからなる第4組と前記第3凹面ミラーと前記第3凸面ミラーとの間の距離、及び、前記第4凹面ミラーと前記第4凸面ミラーとの間の距離を、同時に増加または同時に減少させる方向に変化させる第2移動装置と、を含み、前記第1組において、前記第1凸面ミラーは上流側ミラーであり、前記第1凹面ミラーは下流側ミラーであり、前記第3組において、前記第3凹面ミラーは上流側ミラーであり、前記第3凸面ミラーは下流側ミラーである、極端紫外光生成装置。

技術分野

0001

本開示は、極端紫外光生成装置に関する。

背景技術

0002

近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、70nm〜45nmの微細加工、さらには32nm以下の微細加工が要求されるようになる。このため、例えば32nm以下の微細加工の要求に応えるべく、波長13nm程度の極端紫外(EUV)光を生成するための装置と縮小投影反射光学系(reduced projection reflective optics)とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。

0003

EUV光生成装置としては、ターゲット物質レーザ光照射することによって生成されるプラズマを用いたLPP(Laser Produced Plasma)方式の装置と、放電によって生成されるプラズマを用いたDPP(Discharge Produced Plasma)方式の装置と、軌道放射光を用いたSR(Synchrotron Radiation)方式の装置との3種類の装置が提案されている。

先行技術

0004

特開2010−135769号
特開2010−186735号
特開2012−175006号
米国特許出願公開第2010/0127191号
米国特許出願公開第2012/0085741号

概要

0005

本開示の一例は、レーザ装置から出力されたパルスレーザ光ターゲットに照射することによって、プラズマを生成し、極端紫外光を生成する極端紫外光生成装置であって、チャンバと、前記チャンバ内にターゲットを供給するターゲット供給部と、前記ターゲットに照射されるパルスレーザ光の光路上に配置され、ビームパラメータを調整するビーム調節装置と、を含み、前記ビーム調節装置は、前記パルスレーザ光の光路上に配置された、第1凹面ミラーと第1凸面ミラーとからなる第1組と、前記パルスレーザ光の光路上で前記第1組より下流において、前記第1凹面ミラーと前記第1凸面ミラーの配置順序とは逆に配置された、第2凹面ミラーと第2凸面ミラーとからなる第2組と、前記第1凹面ミラーと前記第1凸面ミラーとの間の距離、及び、前記第2凹面ミラーと前記第2凸面ミラーとの間の距離を、同時に増加または同時に減少させる方向に変化させる移動装置と、を含んでもよい。

図面の簡単な説明

0006

本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図1は、例示的なLPP方式のEUV光生成装置の構成を概略的に示す。
図2は、比較例におけるEUV光生成システムの一部断面図を示す。
図3は、比較例におけるビーム調節装置の構成及び動作を示す。
図4は、実施形態1に係るEUV光生成システムの構成例を示す。
図5Aは、実施形態1のビーム調節装置の構成例を示す。
図5Bは、図5Aに示すビーム調節装置の状態から、移動プレート軸外放物面凹面ミラーから離した状態を示す。
図5Cは、図5Aに示すビーム調節装置の状態から、移動プレートを軸外放物面凹面ミラーに近づけた状態を示す。
図6は、図5Aの状態からの移動プレートの移動距離dLに対する発散角半角)を計算した結果を示す。
図7は、実施形態1のビーム調節装置の変形例を示す。
図8は、実施形態2のビーム調節装置の構成例を示す。
図9は、実施形態3のビーム調節装置の構成例を示す。
図10は、実施形態4のEUV光生成システムの構成例を示す。
図11は、実施形態5のビーム調節装置の構成例を示す。
図12は、実施形態6のビーム調節装置の構成例における斜視図を示す。
図13は、実施形態6のビーム調節装置の構成例における平面図を示す。
図14は、図13に示された矢印Aからビーム調節装置を視た図を示す。
図15は、図13に示されたB−B線における1軸移動ステージの一部断面図を示す。
図16は、軸外放物面ミラーベースプレートへの取り付け構造例を示す。
図17は、実施形態6のビーム調節装置の変形例を示す。
図18は、図17に示された矢印Cからビーム調節装置を視た図を示す。
図19は、実施形態7のビーム調節装置を示す。
図20は、図19に示された液冷アパーチャ外形を概略的に示す。
図21は、図19に示された液冷アパーチャの詳細な構成例を示す。
図22は、実施形態7のビーム調節装置の変形例1を示す。
図23は、実施形態7のビーム調節装置の変形例2を示す。
図24は、図23に示された矢印Eから保護カバーを視た図を示す。

実施形態

0007

内容
1.概要
2.EUV光生成システムの全体説明
構成
動作
3.EUV光生成システムの比較例
構成
動作
ビーム調節装置の構成
ビーム調節装置の動作
課題
4.実施形態1
構成
動作
効果
変形例
5.実施形態2
構成
動作
6.実施形態3
構成
動作
7.実施形態4
構成
動作
効果
8.実施形態5
構成
動作
9.実施形態6
構成
動作及び効果
変形例
10.実施形態7
構成
動作及び効果
変形例

0008

以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。

0009

1.概要
LPP方式のEUV光生成装置は、ターゲット供給部から出力したターゲットにレーザ装置から出力したパルスレーザ光を照射し、プラズマ化することによってEUV光を生成し得る。

0010

レーザ装置から出力されるパルスレーザ光は、ビーム調節装置及びレーザ集光光学系を介してターゲットに照射されてもよい。照射されるパルスレーザ光のエネルギ密度を調整するため、ビーム調節装置によってパルスレーザ光の発散角を調整してもよい。

0011

従来のビーム調節装置によってパルスレーザ光の発散角を調整すると、ビーム径及び出射方向が変動する場合があった。ビーム径及び出射方向が変動すると、レーザ集光光学系へ入射するパルスレーザ光が、レーザ集光光学系へのレーザ入射条件から外れ得る。これにより、素子によりパルスレーザ光が遮蔽されて照射エネルギが低下し得る、または、パルスレーザ光の集光により光学素子が損傷し得る。

0012

本開示における一例のビーム調節装置は、第1凹面ミラーと第1凸面ミラーとからなる第1組と、第1組より下流に配置され、第2凹面ミラーと第2凸面ミラーとからなる第2組と、を含んでもよい。第2凹面ミラーと第2凸面ミラーの配置順序は、第1凹面ミラーと第1凸面ミラーの配置順序と逆であってもよい。ビーム調節装置は、第1凹面ミラーと第1凸面ミラーとの間の距離、及び、第2凹面ミラーと第2凸面ミラーとの間の距離を、同時に増加または同時に減少させる方向に変化させてもよい。

0013

上記ビーム調節装置により、パルスレーザ光の発散角の調節においてビーム径及び出射方向の変動を小さくし、ターゲットへのパルスレーザ光の照射条件を維持し得る。

0014

2.EUV光生成システムの全体説明
<構成>
図1は、例示的なLPP方式のEUV光生成装置の構成を概略的に示す。EUV光生成装置1は、少なくとも1つのレーザ装置3と共に用いてもよい(EUV光生成装置1及びレーザ装置3を含むシステムを、以下、EUV光生成システム11と称する)。図1に示し、かつ以下に詳細に説明するように、EUV光生成装置1は、チャンバ2及びターゲット供給部26(例えばドロップレット発生器)を含んでもよい。チャンバ2は、密閉可能であってもよい。ターゲット供給部26は、例えばチャンバ2の壁に取り付けられてもよい。ターゲット供給装置から供給されるターゲットの材料は、スズ、テルビウムガドリニウムリチウムキセノン、又はそれらのうちのいずれか2つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。

0015

チャンバ2の壁には、少なくとも1つの貫通孔が設けられてもよい。その貫通孔をレーザ装置3から出力されたパルスレーザ光32が通過してもよい。チャンバ2には、レーザ装置3から出力されたパルスレーザ光32が透過する少なくとも1つのウインドウ21が設けられてもよい。チャンバ2の内部には、例えば、回転楕円面形状反射面を有するEUV集光ミラー23が配置されてもよい。EUV集光ミラー23は、第1の焦点、及び第2の焦点を有する。EUV集光ミラー23の表面には例えば、モリブデンシリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されていてもよい。EUV集光ミラー23は、例えば、その第1の焦点がプラズマ発生位置プラズマ生成領域25)又はその近傍に位置し、その第2の焦点が露光装置の仕様によって規定される所望の集光位置(中間焦点(IF)292)に位置するように配置されるのが好ましい。EUV集光ミラー23の中央部には、パルスレーザ光33が通過することができる貫通孔24が設けられてもよい。

0016

EUV光生成装置1は、EUV光生成制御部5を含んでもよい。また、EUV光生成装置1は、ターゲットセンサ4を含んでもよい。ターゲットセンサ4は、ターゲットの存在、軌道、位置の少なくとも1つを検出してもよい。ターゲットセンサ4は、撮像機能を有していてもよい。

0017

更に、EUV光生成装置1は、チャンバ2内部と露光装置6内部とを連通する接続部29を含んでもよい。接続部29内部には、アパーチャが形成された壁291を設けてもよい。壁291は、そのアパーチャがEUV集光ミラー23の第2の焦点位置に位置するように配置してもよい。

0018

更に、EUV光生成装置1は、レーザ光進行方向制御部34、レーザ光集光ミラー22、ターゲット27を回収するターゲット回収部28などを含んでもよい。レーザ光進行方向制御部34は、レーザ光の進行方向を制御するために、レーザ光の進行方向を規定する光学素子と、この光学素子の位置または姿勢を調整するためのアクチュエータとを備えてもよい。

0019

<動作>
図1を参照すると、レーザ装置3から出力されたパルスレーザ光31は、レーザ光進行方向制御部34を経てパルスレーザ光32としてウインドウ21を透過してチャンバ2内に入射してもよい。パルスレーザ光32は、少なくとも1つのレーザ光経路に沿ってチャンバ2内に進み、レーザ光集光ミラー22で反射されて、パルスレーザ光33として少なくとも1つのターゲット27に照射されてもよい。

0020

ターゲット供給部26は、ターゲット27をチャンバ2内部のプラズマ生成領域25に向けて出力してもよい。ターゲット27には、パルスレーザ光33に含まれる少なくとも1つのパルスが照射される。レーザ光が照射されたターゲット27はプラズマ化し、そのプラズマからEUV光251が生成される。EUV光251は、EUV集光ミラー23によって反射されるとともに集光されてもよい。EUV集光ミラー23で反射されたEUV光252は、中間焦点292を通って露光装置6に出力されてもよい。なお、1つのターゲット27に、パルスレーザ光33に含まれる複数のパルスが照射されてもよい。

0021

EUV光生成制御部5は、EUV光生成システム11全体の制御を統括してもよい。EUV光生成制御部5はターゲットセンサ4によって撮像されたターゲット27のイメージデータ等を処理してもよい。EUV光生成制御部5は、例えば、ターゲット27を出力するタイミングの制御及びターゲット27の出力方向の制御の内の少なくとも1つを行ってもよい。EUV光生成制御部5は、例えば、レーザ装置3のレーザ発振タイミングの制御、パルスレーザ光32の進行方向の制御、及びパルスレーザ光33の集光位置の制御の内の少なくとも1つを行ってもよい。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御を追加してもよい。

0022

3.EUV光生成システムの比較例
<構成>
図2は、比較例におけるEUV光生成システムの一部断面図を示す。チャンバ2は、クリーンルームフロアに配置され、レーザ装置3は、サブファブフロアに配置されてもよい。サブファブフロアはクリーンルームフロアの階下に位置してもよい。レーザ装置3は、パルスレーザ光を出力するCO2レーザ装置であってもよい。

0023

レーザ装置3からチャンバ2内に供給されるレーザ光の進行方向を制御するためのレーザ光進行方向制御部34は、クリーンルームフロアとサブファブフロアとにまたがって配置されてもよい。

0024

レーザ装置3は、図示しない固定装置により筐体310内部に固定されていてもよい。筐体310はエアサスペンション320によってサブファブフロアの床上に設置されていてもよい。サブファブフロアにおいて、レーザ光進行方向制御部34は、高反射ミラー52Aを含んでもよい。高反射ミラー52Aは、レーザ装置3が出力するパルスレーザ光の光路上に配置されてよい。高反射ミラー52Aは、パルスレーザ光を光路管520に向けて反射してもよい。

0025

レーザ光進行方向制御部34は、サブファブフロアにおいて高反射ミラー52Aで反射されたパルスレーザ光を、クリーンルームフロアに導いてもよい。サブファブフロアとクリーンルームフロアとにまたがる領域において、レーザ光進行方向制御部34は、中空の光路管520を含んでもよい。光路管520内に、複数の高反射ミラー52B、52Cが配置されてもよい。複数の高反射ミラー52B、52Cは、レーザ装置3からのパルスレーザ光をチャンバ2まで導く伝送経路を構成し得る。

0026

クリーンルームフロアにおいて、チャンバ2は、チャンバ基準部材10上に固定されてもよい。チャンバ基準部材10は、設置機構9によってクリーンルームフロアの床上に固定されてもよい。チャンバ基準部材10は、レーザ光進行方向制御部34の一部を構成する光学素子群を収容してもよい。

0027

クリーンルームフロアにおいて、レーザ光進行方向制御部34は、ビーム調節装置61、ビームモニタ66、コントローラ58、高反射ミラー63、及びウインドウ62を含んでもよい。ビーム調節装置61、ビームモニタ66、高反射ミラー63、及びウインドウ62は、チャンバ基準部材10内に配置されてもよい。

0028

ビーム調節装置61には、高反射ミラー52Cの反射光が入射してもよい。ビーム調節装置61は、パルスレーザ光のビームパラメータを調節するよう構成されてもよい。ビーム調節装置61は、少なくとも1つのミラー或いは少なくとも1つのレンズを含んでもよい。

0029

高反射ミラー63は、ビーム調節装置61とウインドウ62との間において、パルスレーザ光の光路上に配置されてもよい。高反射ミラー63は、ビーム調節装置61からのパルスレーザ光を、ウインドウ62及び平面ミラー64に向けて反射してもよい。

0030

ウインドウ62は、高反射ミラー63からのパルスレーザ光の一部を反射し他を透過させてもよい。ビームモニタ66は、ウインドウ62で反射された僅かな光量のパルスレーザのビームパラメータを計測するよう構成されてもよい。ビームモニタ66は、受光面におけるサンプル光プロファイルに関するパラメータを算出するための検出値を、コントローラ58へ出力するよう構成されてもよい。パラメータは、例えば、ビーム径及びビーム中心であってもよい。

0031

コントローラ58は、ビーム調節装置61、ビームモニタ66、及びEUV光生成制御部5に接続されてもよい。コントローラ58は、ビームモニタ66から出力される検出値に基づいて、サンプル光のプロファイルに関するパラメータ値を算出してもよい。

0032

コントローラ58は、上記パラメータ値を利用して、予め定めた範囲内のプロファイルを有するサンプル光がビームモニタ66の受光面に入射するように、ビーム調節装置61をフィードバック制御してもよい。
<動作>

0033

レーザ装置3は、パルスレーザ光を出力してもよい。パルスレーザ光の光路は、高反射ミラー52A〜52Cを経て、ビーム調節装置61に至ってもよい。ビーム調節装置61により調節されたパルスレーザ光は、高反射ミラー63で反射されてもよい。

0034

高反射ミラー63で反射されたパルスレーザ光は、ウインドウ62を透過して平面ミラー64に入射してもよい。ウインドウ62は、パルスレーザ光の一部をビームモニタ66で反射してもよい。

0035

ビームモニタ66は、パルスレーザ光に関する検出値を出力してもよい。検出値はコントローラ58に入力され、コントローラ58は、検出値からパラメータを算出し、パラメータが所望の値となるよう、ビーム調節装置61を制御してもよい。コントローラ58は、例えば、ビーム径が所定の大きさとなるように、ビーム調節装置61によってパルスレーザ光の発散角を制御してもよい。

0036

所定の発散角のパルスレーザ光は、平面ミラー64及びレーザ光集光ミラー65で反射されて、プラズマ生成領域25に供給されるターゲット27に集光されてもよい。ターゲット27は、パルスレーザ光に照射されることによってプラズマ化し、当該プラズマからEUV光を含む放射光放射され得る。

0037

<ビーム調節装置の構成>
図3は、比較例のビーム調節装置61の構成を示す。図3における(a)に示すように、ビーム調節装置61は、軸外放物面凸面ミラー611、軸外放物面凹面ミラー612、平面ミラー613、及び1軸移動ステージ615を含んでもよい。1軸移動ステージ615は、1軸移動ステージ615上を1軸方向に移動可能な移動プレート616を含んで構成されてもよい。移動プレート616は、軸外放物面凹面ミラー612の入射光軸方向において移動してもよい。

0038

軸外放物面凸面ミラー611、平面ミラー613及び1軸移動ステージ615は、ベースプレート618に固定されてもよい。軸外放物面凹面ミラー612は、移動プレート616に固定されてもよい。

0039

<ビーム調節装置の動作>
コントローラ58は、移動プレート616を移動することで、軸外放物面凹面ミラー612の入射光軸方向における位置を調節し得る。図3における(b)は、(a)に示すビーム調節装置の状態から、移動プレート616を軸外放物面凸面ミラー611に近づけた状態を示す。(b)に示すように、コントローラ58が軸外放物面凹面ミラー612を軸外放物面凸面ミラー611に近付けると、ビーム調節装置61から出射されるパルスレーザ光の発散角は大きくなり得る。しかし、同時にビーム調節装置61から出射されるパルスレーザ光の光軸方向及びビーム径も変化し得る。

0040

また、図3における(c)は、(a)に示すビーム調節装置の状態から、移動プレート616を軸外放物面凸面ミラー611から離した状態を示す。(c)に示すように、コントローラ58が軸外放物面凹面ミラー612を軸外放物面凸面ミラー611から遠ざけると、ビーム調節装置61から出射されるパルスレーザ光の発散角は小さくなり得る。しかし、同時にビーム調節装置61から出射されるパルスレーザ光の光軸方向及びビーム径も変化し得る。

0041

<課題>
上述のように、比較例のビーム調節装置61において、パルスレーザ光の発散角の制御に伴って、ビーム調節装置61から出射されるパルスレーザ光の光軸方向及びビーム径が大きく変化し得る。このため、照射条件の調整が複雑となり得る。

0042

光軸方向の変化を補正するために、コントローラ58は、高反射ミラー63の向きを制御して、平面ミラー64への入射光軸を調節してもよい。しかし、比較例のビーム調節装置61は、ビーム径の変化を補正できない。そのため、ビーム径が大きくなる場合には、ビーム調節装置61は、ビーム調節装置61より下流の光学素子のケラレにより光量低下を生じさせ得る。ビーム径が小さくなる場合は、ビーム調節装置61は、エネルギ密度増加による光学素子へのダメージを生じさせ得る。

0043

4.実施形態1
<構成>
図4は、実施形態1に係るEUV光生成システム11の構成例を示す。以下において、図2に示す比較例との相違点を主に説明する。クリーンルームフロアにおいて、レーザ光進行方向制御部34は、図2の比較例におけるビーム調節装置61に代えて、ビーム調節装置630を含んでもよい。

0044

レーザ光進行方向制御部34は、さらに、高反射ミラー52Cとビーム調節装置630との間において、パルスレーザ光の光路上に、高反射ミラー610を含んでもよい。高反射ミラー610は、高反射ミラー52Cからのパルスレーザ光を、ビーム調節装置630に向けて反射してもよい。

0045

図5Aは、本実施形態のビーム調節装置630の構成例を示す。ビーム調節装置630は、2つの軸外放物面凹面ミラー631、634と2つの軸外放物面凸面ミラー632、633とを含んでもよい。パルスレーザ光の光路上において、軸外放物面凹面ミラー631、軸外放物面凸面ミラー632、軸外放物面凸面ミラー633、及び軸外放物面凹面ミラー634は、この順序で配置されてもよい。

0046

軸外放物面凹面ミラー631及び軸外放物面凸面ミラー632は上流側の組を構成し、軸外放物面凸面ミラー633及び軸外放物面凹面ミラー634は下流側の組を構成してもよい。上流側の組と下流側の組との間において、軸外放物面凹面ミラーと軸外放物面凸面ミラーの配置順序が逆であってもよい。
ここで、上流側とは、パルスレーザ光の光路上であって、パルスレーザ光の光源に近い側であってもよい。実施形態1〜3、5〜7においては、上流側とは、パルスレーザ光の光路上であって、レーザ装置3に近い側であってもよい。実施形態4においては、上流側とは、パルスレーザ光の光路上であって、発振器(MO)301に近い側であってもよい。また、下流側とは、パルスレーザ光の光路上であって、プラズマ生成領域25に近い側であってよい。

0047

図5Aの状態において、軸外放物面凹面ミラー631の焦点F1と軸外放物面凸面ミラー632の焦点F2とが一致するように、ビーム調節装置630は構成されてもよい。さらに、軸外放物面凸面ミラー633の焦点F3と軸外放物面凹面ミラー634の焦点F4とが一致するように、ビーム調節装置630は構成されてもよい。上流側の組、下流側の組で各々焦点が一致するような配置である場合、ビーム調節装置630に入射するパルスレーザ光が平行光であれば、ビーム調節装置630から出射するパルスレーザ光は平行光であり得る。

0048

軸外放物面凹面ミラー631、634は、同一の関数で表される形状の反射曲面を有してもよい。つまり、軸外放物面凹面ミラー631、634の反射面の形状を規定する関数は同一であってもよい。軸外放物面凸面ミラー632、633は、同一の関数で表される形状の反射曲面を有してもよい。つまり、軸外放物面凸面ミラー632、633の反射面の形状を規定する関数は同一であってもよい。

0049

軸外放物面凹面ミラー631と軸外放物面凸面ミラー632との間の光軸OA2と、軸外放物面凸面ミラー633と軸外放物面凹面ミラー634と間の光軸OA4が平行となるよう、軸外放物面凹面ミラー631、634及び軸外放物面凸面ミラー632、633は配置されてもよい。

0050

軸外放物面凹面ミラー631に入射するパルスレーザ光の光軸OA1と、軸外放物面凹面ミラー634から出射するパルスレーザ光の光軸OA5とが一致するよう、軸外放物面凹面ミラー631、634及び軸外放物面凸面ミラー632、633は配置されてもよい。

0051

軸外放物面凸面ミラー632と軸外放物面凸面ミラー633間との光軸OA3、軸外放物面凹面ミラー631に入射するパルスレーザ光の光軸OA1、及び軸外放物面凹面ミラー634から出射するパルスレーザ光の光軸OA5が平行となるよう、軸外放物面凹面ミラー631、634及び軸外放物面凸面ミラー632、633は配置されてもよい。

0052

軸外放物面凹面ミラー631に入射するパルスレーザ光の光軸OA1と、軸外放物面凹面ミラー631と軸外放物面凸面ミラー632との間の光軸OA2との間の角度は、直角であってもよい。つまり、軸外放物面凹面ミラー631、634及び軸外放物面凸面ミラー632、633の入射角及び反射角は、45°であってもよい。ミラーの入射角及び反射角は、入射光軸と出射光軸との間で定義され、入射光軸と出射光軸の間の角度の半分であり得る。

0053

軸外放物面凸面ミラー632と軸外放物面凹面ミラー631との間の距離と軸外放物面凸面ミラー633と軸外放物面凹面ミラー634との間の距離とは同一であってもよい。これらの距離はHで表わされている。軸外放物面凸面ミラー632と軸外放物面凹面ミラー631との間の距離Hは、軸外放物面凹面ミラー631の反射面が光軸OA2と交差する点と軸外放物面凸面ミラー632の反射面が光軸OA2と交差する点との間の距離であってもよい。軸外放物面凸面ミラー633と軸外放物面凹面ミラー634との間の距離Hは、軸外放物面凸面ミラー633の反射面が光軸OA4と交差する点と軸外放物面凹面ミラー634の反射面が光軸OA4と交差する点との間の距離であってもよい。

0054

ビーム調節装置630は、さらに、ベースプレート638及び1軸移動ステージ635を含んでもよい。1軸移動ステージ635は、1軸移動ステージ635上を1軸方向において移動可能な移動プレート637含んでもよい。1軸移動ステージ635は、移動プレート637上のミラーを移動する移動装置であり得る。

0055

1軸移動ステージ635は、ベースプレート638上に配置され、ベースプレート638に対して移動プレート637を移動できるよう構成されてもよい。移動プレート637の移動方向は、軸外放物面凹面ミラー631と軸外放物面凸面ミラー632との間の光軸OA2及び軸外放物面凸面ミラー633と軸外放物面凹面ミラー634と間の光軸OA4に対して平行であってもよい。

0056

軸外放物面凹面ミラー631、634はベースプレート638に固定されてもよい。軸外放物面凸面ミラー632、633は、移動プレート637に固定されてもよい。1軸移動ステージ635は、軸外放物面凸面ミラー632と軸外放物面凹面ミラー631との間の距離、及び、軸外放物面凸面ミラー633と軸外放物面凹面ミラー634との間の距離を、同時に増加または同時に減少させる方向に変化させ得る。

0057

具体的には、移動プレート637の移動に伴い、軸外放物面凸面ミラー632と軸外放物面凹面ミラー631との間の距離H、及び、軸外放物面凸面ミラー633と軸外放物面凹面ミラー634との間の距離Hが、同時に増減し得る。

0058

<動作>
図5A図5Cを参照して、ビーム調節装置630の動作を説明する。図5Bは、図5Aに示すビーム調節装置630の状態から、移動プレート637を軸外放物面凹面ミラー631、634から離した状態を示す。図5Cは、図5Aに示すビーム調節装置630の状態から、移動プレート637を軸外放物面凹面ミラー631、634に近づけた状態を示す。

0059

図5Aにおいて、軸外放物面凹面ミラー631に入射するパルスレーザ光は平行光でよい。軸外放物面凹面ミラー631は、パルスレーザ光が焦点F1にて集光されるように、パルスレーザ光を反射してもよい。

0060

上述のように、焦点F1は、軸外放物面凸面ミラー632の焦点F2と一致してもよい。したがって、軸外放物面凸面ミラー632は、軸外放物面凹面ミラー631で反射され焦点F1に集光するように進行するパルスレーザ光を、平行光に変換して反射し得る。軸外放物面凸面ミラー632によって平行光に変換されたパルスレーザ光のビーム径D2は、入射ビーム径D1の1/M12倍に縮小され得る。

0061

軸外放物面凹面ミラー631の焦点距離LF1、軸外放物面凸面ミラー632の焦点距離LF2とする。上述のように、焦点F1と焦点F2とは一致してもよい。倍率M12は、LF1/LF2であり得る。また、軸外放物面凹面ミラー631と軸外放物面凸面ミラー632との間の距離Hは、LF2−LF1であり得る。

0062

ビーム径D2の平行光となったパルスレーザ光は、軸外放物面凸面ミラー633によって、焦点F3から発散するようなパルスレーザ光として反射され得る。上述のように、焦点F3と焦点F4とは一致してもよい。したがって、軸外放物面凹面ミラー634は、焦点F3から発散するようなパルスレーザ光を、軸外放物面凹面ミラー631に入射したパルスレーザ光と略同一の光軸OA5を持つ平行光に変換して反射し得る。

0063

軸外放物面凸面ミラー633で反射され軸外放物面凹面ミラー634に入射するパルスレーザ光のビーム径は、倍率M43で拡大され得る。軸外放物面凸面ミラー633の焦点距離LF3、軸外放物面凹面ミラー634の焦点距離をLF4とする。上述のように、焦点F3と焦点F4とは一致してもよい。

0064

M43は、LF4/LF3であり得る。LF1=LF4、LF2=LF3である場合、倍率M12と倍率M43は同一となり得る。したがって、軸外放物面凹面ミラー634からの出射光のビーム径D3は、軸外放物面凹面ミラー631に入射したパルスレーザ光とビーム径D1と同一であり得る。

0065

コントローラ58からの制御により、1軸移動ステージ635は、ベースプレート638に対して移動プレート637を移動してもよい。コントローラ58は、移動プレート637を移動することで、軸外放物面凹面ミラー631と軸外放物面凸面ミラー632との間の距離Hを増減させ得る。距離Hは、軸外放物面凹面ミラー631の反射面が光軸OA2と交差する点と軸外放物面凸面ミラー632の反射面が光軸OA2と交差する点との間の距離であってもよい。軸外放物面凹面ミラー634と軸外放物面凸面ミラー633との間の距離もHでありえる。距離Hを変化させることで、コントローラ58は、ビーム調節装置630からの出射光を、集光又は発散させ得る。

0066

例えば、図5Bに示すように、コントローラ58は、図5Aの状態から距離HをdLだけ増加させてもよい。軸外放物面凹面ミラー634から出射するパルスレーザ光の発散角は減少し得る。軸外放物面凹面ミラー631に入射したパルスレーザ光のビーム径D1に対して、軸外放物面凹面ミラー634から出射するパルスレーザ光のビーム径D3は、わずかに小さくなるものの略等しい径であり得る。さらに、軸外放物面凹面ミラー631に入射したパルスレーザ光の光軸OA1と、軸外放物面凹面ミラー634から出射するパルスレーザ光の光軸OA5とは、一致し得る。

0067

また、例えば、図5Cに示すように、コントローラ58は、図5Aの状態から距離HをdLだけ減少させてもよい。軸外放物面凹面ミラー634から出射するパルスレーザ光の発散角は増加し得る。軸外放物面凹面ミラー631に入射したパルスレーザ光のビーム径D1に対して、軸外放物面凹面ミラー634から出射するパルスレーザ光のビーム径D3は、わずかに大きくなるものの略等しい径であり得る。さらに、軸外放物面凹面ミラー631に入射したパルスレーザ光の光軸OA1と、軸外放物面凹面ミラー634から出射するパルスレーザ光の光軸OA5とは、一致し得る。

0068

図6は、図5A図5Cに示す構成において、図5Aの状態からの移動プレート637の移動距離dLに対する発散角(半角)を計算した結果を示す。図6が示すように、発散角は距離dLに対してほぼ線形に増減し得る。

0069

<効果>
本実施形態のビーム調節装置630は、入射するパルスレーザ光のビーム径と出射するパルスレーザ光のビーム径変動を抑制しつつ、出射光の発散角を変化させ得る。さらに、本実施形態のビーム調節装置630は、入射するパルスレーザ光の光軸と出射するパルスレーザ光の光軸を一致させつつ、出射光の発散角を変化させ得る。

0070

本実施形態のビーム調節装置630において、発散角は距離Hに対してほぼ線形に増減し得るため、コントローラ58は、ビーム調節装置630からの出射光の発散角を容易に調整し得る。本実施形態のビーム調節装置630は、軸外放物面凹面ミラーと軸外放物面凸面ミラーの焦点を一致させることで、ビーム形状の変化を抑制し得る。

0071

本実施形態のビーム調節装置630は、軸外放物面凹面ミラー631、634の位置を固定し、軸外放物面凸面ミラー632、633の位置を移動することで、パルスレーザ光のビーム調節装置630における入射位置及び出射位置を変化させることなく発散角を変化させ得る。

0072

本実施形態において、軸外放物面凹面ミラー631、634及び軸外放物面凸面ミラー632、633における反射角は45°であるので、軸外放物面凸面ミラー632、633を同一方向に移動して発散角を調節し得る。ただし、軸外放物面凹面ミラー631、634及び軸外放物面凸面ミラー632、633における反射角は45°でなくてもよい。

0073

以上のように、本実施形態のビーム調節装置630によってターゲット27へのパルスレーザ光のフォーカス調整が容易となり、ターゲット27へのパルスレーザ光の適切な照射条件を保ち得る。

0074

<変形例>
図7は、本実施形態のビーム調節装置630の変形例を示す。ビーム調節装置630における軸外放物面凹面ミラー及び軸外放物面凸面ミラーの配置順序は、図5Aに示す構成と逆であってもよい。

0075

具体的には、ビーム調節装置630は、軸外放物面凸面ミラー651、654及び軸外放物面凹面ミラー652、653を含んでもよい。軸外放物面凸面ミラー651、軸外放物面凹面ミラー652、軸外放物面凹面ミラー653、及び軸外放物面凸面ミラー654は、パルスレーザ光の光路上において、この順序で配置されてもよい。他の構成要素及び動作は、図5A図5Cに示す構成と同様でよい。

0076

5.実施形態2
<構成>
図8は、実施形態2のビーム調節装置630の構成例を示す。以下において、実施形態1との相違点を主に説明する。ビーム調節装置630において、ミラーの反射角は45°でなくてもよく、45°未満であってもよい。ミラーの反射面は軸外放物面と異なる曲面であってもよく、例えば、球面であってもよい。

0077

具体的には、図8に示すように、ビーム調節装置630は、球面凹面ミラー661、664及び球面凸面ミラー662、663を含んでもよい。パルスレーザ光の光路上において、球面凹面ミラー661、球面凸面ミラー662、球面凸面ミラー663、及び球面凹面ミラー664は、この順序で配置されてもよい。球面凹面ミラー661、664は、同一の関数で表される形状の反射曲面を有してもよい。球面凸面ミラー662、663は、同一の関数で表される形状の反射曲面を有してもよい。

0078

球面凹面ミラー661に入射するパルスレーザ光の光軸OA1と、球面凹面ミラー664から出射するパルスレーザ光の光軸OA5とが一致するよう、球面凹面ミラー661、球面凸面ミラー662、球面凸面ミラー663、及び球面凹面ミラー664は配置されてもよい。

0079

球面凹面ミラー661と球面凸面ミラー662との間の光軸OA2と、球面凸面ミラー663と球面凹面ミラー664と間の光軸OA4が、光軸OA1に垂直な軸について線対称となるよう、球面凹面ミラー661、球面凸面ミラー662、球面凸面ミラー663、及び球面凹面ミラー664は配置されてもよい。球面凸面ミラー662と軸外放物面凸面ミラー633間との光軸OA3、光軸OA1、及び光軸OA5が平行となるよう、球面凹面ミラー661、球面凸面ミラー662、球面凸面ミラー663、及び球面凹面ミラー664は配置されてもよい。

0080

光軸OA1と光軸OA2との間の角度及び光軸OA2と光軸OA3との間の角度は、それぞれ、90°未満であってもよく、さらに40°未満であってもよい。つまり、球面凹面ミラー661及び球面凸面ミラー662の反射角は、45°未満であってもよく、さらに20°未満であってもよい。

0081

光軸OA3と光軸OA4との間の角度及び光軸OA4と光軸OA5との間の角度は、それぞれ、90°未満であってもよく、さらに40°未満であってもよい。つまり、球面凸面ミラー663及び球面凹面ミラー664の反射角は、45°未満であってもよく、さらに20°未満であってもよい。

0082

ビーム調節装置630は、さらに、ベースプレート669及び2つの1軸移動ステージ665、667を含んでもよい。1軸移動ステージ665、667は、それぞれ、移動プレート666、668を含んでもよい。1軸移動ステージ665、667は、移動プレート666、668上のミラーを移動する移動装置であり得る。

0083

1軸移動ステージ665、667は、ベースプレート669上に配置されてもよい。1軸移動ステージ665、667は、それぞれ、ベースプレート669に対して移動プレート666、668を移動できるよう構成されてもよい。移動プレート666の移動方向は、球面凹面ミラー661と球面凸面ミラー662との間の光軸OA2に対して平行であってもよい。移動プレート668の移動方向は、球面凸面ミラー663と球面凹面ミラー664と間の光軸OA4に対して平行であってもよい。

0084

球面凹面ミラー661、664は、ベースプレート669に固定されてもよい。球面凸面ミラー662は、移動プレート666に固定されてもよい。移動プレート666の移動に伴い、球面凸面ミラー662と球面凹面ミラー661との間の距離が増減し得る。球面凸面ミラー663は、移動プレート668に固定されてもよい。移動プレート668の移動に伴い、球面凸面ミラー663と球面凹面ミラー664との間の距離が増減し得る。

0085

<動作>
コントローラ58は、移動プレート666、668を移動して、ビーム調節装置630から出射されるパルスレーザ光の発散角を調整してもよい。コントローラ58は、球面凹面ミラー661及び球面凸面ミラー662の間の距離と、球面凸面ミラー663及び球面凹面ミラー664の間の距離とを、同時に増加または同時に減少させる方向に変化させてもよい。

0086

図8の例において、コントローラ58は、球面凹面ミラー661及び球面凸面ミラー662の間の距離と、球面凸面ミラー663及び球面凹面ミラー664の間の距離とが同一であるように、移動プレート666、668を移動してもよい。

0087

球面凹面ミラー661及び球面凸面ミラー662の間の距離と球面凸面ミラー663及び球面凹面ミラー664の間の距離との増減による発散角の変化は、実施形態1と同様であり得る。本実施形態は、ビーム調節装置630による発散角の調整に伴うビーム径及び光軸の変動を小さくし得る。また、ミラーの反射角を小さくすることで、球面ミラーの反射によるビーム形状の変化を小さくし得る。

0088

6.実施形態3
<構成>
図9は、実施形態3のビーム調節装置630の構成例を示す。以下において、実施形態1との相違点を主に説明する。ビーム調節装置630は、軸外放物面凸面ミラー681、684、球面凹面ミラー682、683、及び平面ミラー685を含んでもよい。パルスレーザ光の光路上において、軸外放物面凸面ミラー681、球面凹面ミラー682、平面ミラー685、球面凹面ミラー683、及び軸外放物面凸面ミラー684の順で配置されてもよい。

0089

本実施形態の構成において、実施形態1における変形例と比較して、軸外放物面凹面ミラー652、653に代えて、球面凹面ミラー682、683が配置されてもよい。さらに、パルスレーザ光の光路上において、球面凹面ミラー682、683の間に平面ミラー685が配置されてもよい。

0090

<動作>
球面凹面ミラー682は、入射したパルスレーザ光を、45°未満の反射角で反射してもよい。反射角は、20°未満であってもよい。球面凹面ミラー682で反射されたパルスレーザ光は、平面ミラー685に入射してもよい。平面ミラー685で反射された光は球面凹面ミラー683に入射してもよい。球面凹面ミラー683は、入射したパルスレーザ光を、45°未満の反射角で反射してもよい。反射角は、20°未満であってもよい。移動プレート637の移動による発散角の変化は、実施形態1と同様であり得る。

0091

平面ミラー685により、球面凹面ミラー682、683の反射角を、45°未満の小さい角度にし得る。このため、球面凹面ミラー682、683の反射によるビーム形状の変化を小さくし得る。

0092

7.実施形態4
<構成>
図10は、実施形態4のEUV光生成システム11の構成例を示す。EUV光生成システム11は、レーザ装置3内にビーム調節装置を含んでもよい。さらに、EUV光生成システム11は、レーザ装置3より下流のビーム調節装置を含み、これらビーム調節装置の構成が異なっていてもよい。

0093

以下において、実施形態1との相違点を主に説明する。レーザ装置3は、発振器(MO)301、増幅器(PA)302〜304、ビーム調節装置350、ビームサンプラ361、及びビームモニタ362を含んでもよい。

0094

発振器301は、1つまたは複数のレーザ光源から構成されてもよい。発振器301は、増幅器302〜304が増幅可能な波長のパルスレーザ光を出力するよう構成されてもよい。レーザ光源は、量子カスケードレーザでもよい。複数のレーザ光源を配置する場合、図示しないビームコンバイナ等によって各レーザ光源からのパルスレーザ光の光路を一致させてもよい。

0095

増幅器302〜304は、この順序で、レーザ装置3内の光路上に配置されてもよい。増幅器302〜304は、それぞれ、入射したパルスレーザ光を所定のゲインで増幅してもよい。

0096

ビームサンプラ361は、レーザ装置3内の光路上に配置されてもよい。ビームサンプラ361は、パルスレーザ光の一部をサンプル光としてパルスレーザ光と異なる方向に出力してもよい。サンプル光は、ビームサンプラ361によって反射されたパルスレーザ光の一部でもよく、ビームサンプラ361を透過したパルスレーザ光の一部でもよい。

0097

ビームモニタ362は、ビームサンプラ361から出力されるサンプル光を受光する位置に配置されてもよい。ビームモニタ362は、サンプル光のプロファイルをモニタしてもよい。ビームモニタ362は、コントローラ58に接続されてもよい。

0098

ビーム調節装置350は、レーザ装置3内の光路において、ビームサンプラ361よりも上流に配置されてもよい。例えば、ビーム調節装置350は増幅器302と増幅器303との間に配置され、ビームサンプラ361は増幅器303と増幅器304との間に配置されてもよい。ビーム調節装置350はコントローラ58に接続されてもよい。

0099

ビーム調節装置350は、実施形態1において図5Aに示す構成と同様の構成を有してもよい。具体的には、ビーム調節装置350は、軸外放物面凹面ミラー631、軸外放物面凸面ミラー632、軸外放物面凸面ミラー633、及び軸外放物面凹面ミラー634の順序で配置されたミラーを含んでもよい。

0100

ビーム調節装置630は、実施形態1の図7に示す変形例と同様の構成を有してもよい。具体的には、ビーム調節装置630は、軸外放物面凸面ミラー651、軸外放物面凹面ミラー652、軸外放物面凹面ミラー653、及び軸外放物面凸面ミラー654の順序で配置されたミラーを含んでもよい。

0101

<動作>
発振器301から出力されたパルスレーザ光は、増幅器302〜304で順次増幅されレーザ装置3から出力され得る。ビームサンプラ361は、増幅器303から出力されたパルスレーザ光の一部をサンプル光としてビームモニタ362で反射してもよい。

0102

ビームモニタ362は、サンプル光のプロファイルを検出しプロファイルに関する検出値をコントローラ58に送信してもよい。コントローラ58は、送信された検出値からパルスレーザ光のパラメータを算出してもよい。算出されるパラメータは、例えば、ビーム径やビーム中心位置であってもよい。

0103

コントローラ58は、算出したパラメータが所定の値となるよう、ビーム調節装置350を制御してもよい。例えば、コントローラ58は、ビーム調節装置350によって、パルスレーザ光の発散角を制御してビーム径が所定の大きさとなるようにしてもよい。

0104

ビーム調節装置350によって所定の発散角となったパルスレーザ光は、増幅器304によってさらに増幅され、高反射ミラー52A〜52C及び610を経由して、ビーム調節装置630に入射してもよい。他の動作は実施形態1と同様でよい。

0105

<効果>
本実施形態は、レーザ装置3内でビーム調節装置350によりパルスレーザ光の発散角を調節することで、次に入射する増幅器303おけるパルスレーザ光のビーム径やビーム中心位置を調節し得る。これにより、次に入射する増幅器303において、パルスレーザ光が内部構造物に遮蔽されることを抑制し、また、パルスレーザ光が内部光学素子で集光して、当該内部光学素子が損傷することを抑制し得る。

0106

図5Aに示すビーム調節装置の内部において、パルスレーザ光は一旦集光され得る。一方、図7に示すビーム調節装置の内部において、パルスレーザ光は一旦発散させ得る。したがって、図7に示す構成と比較して、図5Aに示す構成は、ミラーサイズを小さくし得る。一方、図5Aの構成と比較して、図7に示す構成はミラーに照射されるエネルギ密度を小さくし得る。

0107

本実施形態は、レーザ装置3内のビーム調節装置350に、図5Aの構成を適用することで、レーザ装置3内のビーム調節装置350のサイズを小さくし得る。また、レーザ装置3から出力されるパルスレーザ光と比較して、発振器301と増幅器302との間及び増幅器間のパルスレーザ光のエネルギは小さくあり得る。したがって、ビーム調節装置350のミラーの損傷を避け得る。

0108

一方、レーザ装置3より下流においてチャンバ2入り口付近に配置されるビーム調節装置630に、図7の構成を適用することで、ビーム調節装置630内のミラーに入射するパルスレーザ光のエネルギ密度を低減し、ミラーの損傷を抑制し得る。

0109

なお、ビーム調節装置350及びビームサンプラ361の配置位置は、図10に示した位置と異なっていてもよい。例えば、ビーム調節装置350を発振器301の次に配置し、増幅器304の次にビームサンプラ361を配置してもよい。この構成により、増幅器302〜304を経て反射ミラー52Aに入射するレーザ光のスポット位置を調整してもよい。

0110

8.実施形態5
<構成>
図11は、実施形態5のビーム調節装置630の構成例を示す。以下において、実施形態1との相違点を主に説明する。ビーム調節装置630は、実施形態1の軸外放物面凹面ミラー631、軸外放物面凸面ミラー632、軸外放物面凸面ミラー633、及び軸外放物面凹面ミラー634に代えて、軸外放物面凹面ミラー691、軸外放物面凸面ミラー692、軸外放物面凸面ミラー693、及び軸外放物面凹面ミラー694を含んでもよい。

0111

軸外放物面凹面ミラー691に入射するパルスレーザ光の光軸OA1と、軸外放物面凹面ミラー694から出射するパルスレーザ光の光軸OA5とが平行であるよう、軸外放物面凹面ミラー691、694及び軸外放物面凸面ミラー692、693は、配置されてもよい。

0112

図11の状態において、軸外放物面凹面ミラー691の焦点F1と、軸外放物面凸面ミラー692の焦点F2とは一致するよう、軸外放物面凹面ミラー691及び軸外放物面凸面ミラー692は配置されてもよい。さらに、軸外放物面凹面ミラー694の焦点F4と、軸外放物面凸面ミラー693の焦点F3とが一致するよう、軸外放物面凹面ミラー694及び軸外放物面凸面ミラー693は配置されてもよい。

0113

実施形態1で説明したように、軸外放物面凹面ミラー691と軸外放物面凸面ミラー692による倍率M12は、LF1/LF2で表わされ得る。軸外放物面凹面ミラー694と軸外放物面凸面ミラー693による倍率M43は、LF4/LF3で表わされ得る。LF1、LF4は、それぞれ、軸外放物面凹面ミラー691、694の焦点距離である。LF2、LF3は、それぞれ、軸外放物面凸面ミラー692、693の焦点距離である。

0114

本実施形態において、M12=M43かつ、LF1≠LF4、LF2≠LF3であるように、軸外放物面凹面ミラー691、694及び軸外放物面凸面ミラー692、693が構成されてもよい。

0115

軸外放物面凹面ミラー691、694は異なる関数形状の反射面を有し、軸外放物面凹面ミラー694の焦点距離LF4は、軸外放物面凹面ミラー691の焦点距離LF1より長くてもよい。軸外放物面凸面ミラー692、693は異なる関数形状の反射面を有し、軸外放物面凸面ミラー693の焦点距離LF3は、軸外放物面凸面ミラー692の焦点距離LF2より長くてもよい。軸外放物面凹面ミラー694と軸外放物面凸面ミラー693との間の距離H2は、軸外放物面凹面ミラー691と軸外放物面凸面ミラー692との間の距離H1より長くてもよい。

0116

ビーム調節装置630は、さらに、平面ミラー695、696を含み、軸外放物面凹面ミラー691に入射するパルスレーザ光の光軸OA1と、軸外放物面凹面ミラー694から出射するパルスレーザ光の光軸OA5とを一致させてもよい。

0117

具体的には、軸外放物面凹面ミラー694に対向して、平面ミラー695が配置されてもよい。軸外放物面凹面ミラー694の反射光が、平面ミラー695に入射してもよい。さらに、平面ミラー695に対向して、平面ミラー696が配置されてもよい。平面ミラー695の反射光が平面ミラー696に入射してもよい。平面ミラー696で反射されたパルスレーザ光の光軸は、光軸OA1と一致してもよい。

0118

軸外放物面凹面ミラー691に入射するパルスレーザ光の光軸OA1と、軸外放物面凹面ミラー694から出射するパルスレーザ光の光軸OA5とを一致させる必要がない場合、平面ミラー695、696は配置されなくともよい。LF1とLF4との関係及びLF2とLF3との関係はそれぞれ逆でもよい。

0119

<動作>
本実施形態のビーム調節装置は、実施形態1のビーム調節装置と同様に動作し得る。本実施形態のビーム調節装置は、実施形態1のビーム調節装置と同様に、入射するパルスレーザ光のビーム径と出射するパルスレーザ光のビーム径を略同一に維持しつつ、出射光の発散角を変化させ得る。本実施形態のビーム調節装置は、2枚の平面ミラーを使用することで、入射するパルスレーザ光の光軸と出射するパルスレーザ光の光軸を一致させつつ、出射光の発散角を変化させ得る。

0120

9.実施形態6
上述のように、1軸移動ステージ635は、ベースプレート638に対して移動プレート637を移動できるよう構成されてもよい。すなわち、移動プレート637が移動する際、ビーム調節装置630では、移動プレート637に固定された軸外放物面凸面ミラー632、633がベースプレート638に対して移動し得る。一方、軸外放物面凹面ミラー631、634及び軸外放物面凸面ミラー632、633のそれぞれは、パルスレーザ光の照射に伴って発熱し得る。このため、ビーム調節装置630では、これらの軸外放物面ミラーのそれぞれの内部に冷却水等の冷媒が流れる流路等を形成した上で、これらの軸外放物面ミラーのそれぞれに対して、冷媒が流れる冷却管を取り付けることが考えられる。しかしながら、これらの軸外放物面ミラーに対して冷却管が単純に取り付けられると、移動プレート637が移動する際、軸外放物面凸面ミラー632、633に取り付けられた冷却管には、冷却管を引張り又は圧縮する力が加えられ得る。この際、これらの軸外放物面ミラーには冷却管からの反力が加えられて、これらの軸外放物面ミラーの位置及び姿勢がずれることがあり得る。それにより、ビーム調節装置630では、出射されるパルスレーザ光の発散角、光軸方向及びビーム径が所望の値にならず、パルスレーザ光を適切に伝搬できないことがあり得る。

0121

以下の説明では、ビーム調節装置630に含まれる軸外放物面凹面ミラー631、634及び軸外放物面凸面ミラー632、633を総称して、軸外放物面ミラー631〜634ともいう。

0122

<構成>
図12は、実施形態6のビーム調節装置630の構成例における斜視図を示す。図13は、実施形態6のビーム調節装置630の構成例における平面図を示す。以下において、実施形態1との相違点を主に説明する。ビーム調節装置630は、さらに、冷却管640を含んでもよい。冷却管640は、軸外放物面ミラー631〜634のそれぞれの背面に設けられた流入口及び流出口に連結されてもよい。軸外放物面ミラー631〜634のそれぞれに設けられた流入口は、冷却管640内を流れる冷媒を軸外放物面ミラー631〜634内に流入させるための入口であってもよい。軸外放物面ミラー631〜634のそれぞれに設けられた流出口は、軸外放物面ミラー631〜634内を流れる冷媒を冷却管640内に流出させるための出口であってもよい。

0123

冷却管640は、供給口640a、排出口640b、スパイラル管部640c及び直管部640dを含んでもよい。供給口640aは、チラー等の外部の冷却装置から冷却管640内に冷媒を供給するための入口であってもよい。排出口640bは、冷却管640内の冷媒を、チラー等の外部の冷却装置に排出する出口であってもよい。スパイラル管部640cは、冷却管640の一部であって略スパイラル形状に形成された部分であってもよい。直管部640dは、冷却管640の一部であって略直線形状に形成された部分であってもよい。

0124

供給口640aを含む冷却管640は、パルスレーザ光が入射する軸外放物面凹面ミラー631の流入口と、外部の冷却装置とを連結してもよい。スパイラル管部640cを含む冷却管640は、軸外放物面凹面ミラー631の流出口と、軸外放物面凸面ミラー632の流入口とを連結してもよい。直管部640dを含む冷却管640は、軸外放物面凸面ミラー632の流出口と、軸外放物面凸面ミラー633の流入口とを連結してもよい。スパイラル管部640cを含む冷却管640は、軸外放物面凸面ミラー633の流出口と軸外放物面凹面ミラー634の流入口とを連結してもよい。排出口640bを含む冷却管640は、軸外放物面凹面ミラー634の流出口と、外部の冷却装置とを連結してもよい。

0125

図14は、図13に示された矢印Aからビーム調節装置630を視た図を示す。冷却管640のスパイラル管部640cは、引張ばねを構成してもよい。スパイラル管部640cは、密着巻き、すなわち、隣り合う管同士が密着する構造に形成されてもよい。スパイラル管部640cは、引張荷重が加えられた状態で移動プレート637及びベースプレート638に固定され、移動プレート637の移動方向に沿って配置されてもよい。スパイラル管部640cの一端部にあるスパイラル開始点640eは、移動プレート637に固定された第1可動片637aに対して固定されてもよい。スパイラル管部640cの他端部にあるスパイラル開始点640fは、ベースプレート638に固定された後述のブラケット639に対して固定されてもよい。

0126

図15は、図13に示されたB−B線における1軸移動ステージ635の一部断面図を示す。1軸移動ステージ635の台座636は、アクチュエータ636a及びばね636bを含んでもよい。アクチュエータ636aは、移動プレート637に固定された第2可動片637bに接続され、移動プレート637の移動方向に沿って配置されてもよい。アクチュエータ636aは、移動プレート637の移動方向に沿って伸縮し、第2可動片637bを介して移動プレート637を移動させてもよい。ばね636bは、第2可動片637bのアクチュエータ636aとは反対側に接続され、アクチュエータ636a及びスパイラル管部640cの伸縮方向に沿って配置されてもよい。ばね636bは、圧縮ばねであり、その弾性力によって第2可動片637bをアクチュエータ636aに押し付けてもよい。

0127

図16は、軸外放物面ミラー631〜634のベースプレート638への取り付け構造例を示す。軸外放物面ミラー631〜634のベースプレート638への取り付け構造は、互いに略同一であってもよい。図16では、軸外放物面凹面ミラー634のベースプレート638への取り付け構造例を代表して説明する。軸外放物面凹面ミラー634は、ブラケット639を用いてベースプレート638に取り付けられてもよい。ブラケット639は、軸外放物面凹面ミラー634の背面をベースプレート638に固定してもよい。ブラケット639は、軸外放物面凹面ミラー634の背面に設けられた流入口634b及び流出口634cを覆うように形成されてもよい。ブラケット639は、軸外放物面凹面ミラー634の背面との接続部分に、アジャスタ639aを備えてもよい。アジャスタ639aは、軸外放物面凹面ミラー634の位置及び姿勢を、X、Y及びZの3つの並進方向並びにRx、Ry及びRzの3つの回転方向の6自由度にて調整可能な機構であってもよい。

0128

<動作及び効果>
本実施形態のビーム調節装置630は、移動プレート637が移動する際、冷却管640が移動プレート637の移動方向に沿って伸縮し得る。このため、本実施形態のビーム調節装置630は、移動プレート637が移動する際に軸外放物面ミラー631〜634の位置及び姿勢がずれることを抑制しつつ、軸外放物面ミラー631〜634を冷却し得る。

0129

さらに、本実施形態のビーム調節装置630は、移動プレート637に固定された第1可動片637a及びベースプレート638に固定されたブラケット639には、スパイラル管部640cのスパイラル開始点640e及び640fがそれぞれ固定されてもよい。このため、本実施形態のビーム調節装置630は、スパイラル管部640cが伸縮する際にスパイラル管部640cの弾性力が変動しても、その反力の変動が軸外放物面ミラー631〜634に伝わることを抑制し得る。

0130

しかも、本実施形態のビーム調節装置630は、ばね636bがその弾性力によって第2可動片637bをアクチュエータ636aに押し付け得る。このため、本実施形態のビーム調節装置630は、第2可動片637bの姿勢及び移動方向がアクチュエータ636aの伸縮時でも適切に保たれ得る。特に、本実施形態のビーム調節装置630は、スパイラル管部640cの弾性力の反力によって第2可動片637bがアクチュエータ636aから離れてしまうことを抑制し得る。

0131

そのうえ、本実施形態のビーム調節装置630は、ブラケット639がアジャスタ639aを備えるため、軸外放物面ミラー631〜634のそれぞれにおける光学的な相対位置を高精度で調整し得る。

0132

したがって、本実施形態のビーム調節装置630は、軸外放物面ミラー631〜634を冷却しつつ、出射されるパルスレーザ光の発散角、光軸方向及びビーム径を高精度で調整し得る。本実施形態のビーム調節装置630は、パルスレーザ光をより適切に伝搬し得る。

0133

<変形例>
図17は、実施形態6のビーム調節装置630の変形例を示す。図18は、図17に示された矢印Cからビーム調節装置630を視た図を示す。ビーム調節装置630は、隔壁641aを含んでもよい。隔壁641aは、パルスレーザ光の光路付近に位置するビーム調節装置630の構成要素を、パルスレーザ光から遮蔽してもよい。隔壁641aは、冷却管640のスパイラル管部640cと1軸移動ステージ635の台座636の一部及び移動プレート637の一部とを、パルスレーザ光から遮蔽してもよい。それにより、ビーム調節装置630は、スパイラル管部640cなどの樹脂材料を用いて形成された構成要素がパルスレーザ光の散乱光曝露されることを抑制し得る。他の構成要素は、図12図16に示す構成と同様でよい。

0134

10.実施形態7
ビーム調節装置630では、パルスレーザ光の発散角及び光路を調整する際、軸外放物面凸面ミラー633等の凸面ミラーによって反射されたパルスレーザ光が、拡散して外部へ漏洩することがあり得る。例えば、軸外放物面凸面ミラー633によって反射されたパルスレーザ光は、拡散して、軸外放物面凸面ミラー633より下流に配置された軸外放物面凹面ミラー634の反射面634aより大きなビーム径となることがあり得る。反射面634aより大きなビーム径となったパルスレーザ光は、反射面634aで有効に反射されず、ビーム調節装置630の構成要素に入射して散乱し、散乱光として外部へ漏洩することがあり得る。このため、ビーム調節装置630は、図19に示されるように、散乱光の外部への漏洩を抑制することを目的として、ベースプレート638に対してフレーム642を設けてもよい。フレーム642が設けられる目的には、ベースプレート638の剛性を向上させることもあり得る。しかしながら、例えば反射面634aで反射されなかったパルスレーザ光がフレーム642をはじめとするビーム調節装置630の構成要素に入射すると、ビーム調節装置630の構成要素は、加熱されて熱変形することがあり得る。それにより、ビーム調節装置630では、軸外放物面ミラー631〜634の位置及び姿勢がずれることがあり得る。その結果、ビーム調節装置630では、出射されるパルスレーザ光の発散角、光軸方向及びビーム径が所望の値にならず、パルスレーザ光を適切に伝搬できないことがあり得る。

0135

上述のようにパルスレーザ光が拡散する現象は、ビーム調節装置630に入射するパルスレーザ光及びビーム調節装置630から出射するパルスレーザ光においても発生し得る。例えば、高反射ミラー610からビーム調節装置630まので距離が比較的長い場合、上述のようにパルスレーザ光が拡散する現象は、ビーム調節装置630に入射するパルスレーザ光においても発生し得る。ビーム調節装置630から高反射ミラー63までの距離が比較的長い場合、上述のようにパルスレーザ光が拡散する現象は、ビーム調節装置630から出射するパルスレーザ光においても発生し得る。

0136

<構成>
図19は、実施形態7のビーム調節装置630を示す。図19以降の図面では、ブラケット639及び冷却管640の図示が省略されている。以下において、実施形態6との相違点を主に説明する。ビーム調節装置630は、上述のような目的からフレーム642を含むと共に、さらに、液冷アパーチャ643〜645を含んでもよい。液冷アパーチャ643〜645のそれぞれは、パルスレーザ光を所望のビーム径で通過させつつ、所望のビーム径を超えて大きく拡散したパルスレーザ光の余剰部分遮断するようなアパーチャであってもよい。液冷アパーチャ643〜645のそれぞれは、液体によって冷却されてもよい。

0137

液冷アパーチャ643〜645は、パルスレーザ光の光路上であって、上述のようなパルスレーザ光が拡散する現象が発生し易い光路上に配置されてもよい。具体的には、液冷アパーチャ643〜645は、ビーム調節装置630に入射するパルスレーザ光、軸外放物面凸面ミラー633によって反射されたパルスレーザ光、及び、ビーム調節装置630を出射するパルスレーザ光の光路上にそれぞれ配置されてもよい。言い換えると、液冷アパーチャ643〜645は、ビーム調節装置630のパルスレーザ光の入射口、軸外放物面凸面ミラー633と軸外放物面凹面ミラー634との間、及び、ビーム調節装置630のパルスレーザ光の出射口にそれぞれ配置されてもよい。軸外放物面凸面ミラー633と軸外放物面凹面ミラー634との間では、軸外放物面凸面ミラー633によって反射されたパルスレーザ光が拡散しながら進行し易いため、これらの間に液冷アパーチャ644が配置されることは好ましい。

0138

ビーム調節装置630は、液冷アパーチャ643〜645のうちの少なくとも1つを含んでもよい。この場合、液冷アパーチャ643〜645のうちでビーム調節装置630に含めるべき優先度は、最も上流に配置される液冷アパーチャ643から、液冷アパーチャ644、最も下流に配置される液冷アパーチャ645の順番で高くてもよい。ビーム調節装置630では、より上流に配置される液冷アパーチャを含む方が、所望のビーム径を超えて大きく拡散したパルスレーザ光の余剰部分を発生させ難いからであり得る。また、ビーム調節装置630は、軸外放物面凹面ミラー631と軸外放物面凸面ミラー632との間に配置される液冷アパーチャを含んでもよいし、軸外放物面凸面ミラー632と軸外放物面凸面ミラー633との間に配置される液冷アパーチャを含んでもよい。

0139

図20は、図19に示された液冷アパーチャ643〜645の外形を概略的に示す。図21は、図19に示された液冷アパーチャ643〜645の詳細な構成例を示す。液冷アパーチャ643〜645は、互いに略同一であってもよい。図20及び図21では、液冷アパーチャ644の外形及び構成を代表して説明する。液冷アパーチャ644の外形は、図19に示されるように、略円筒形状に形成されてもよい。液冷アパーチャ644には、貫通孔644aが形成されてもよい。貫通孔644aは、入射口644bと、出射口644cと、テーパ面644dとを含んでもよい。入射口644bは、貫通孔644aの一方の開口であって、液冷アパーチャ644にパルスレーザ光を入射させる入口であってもよい。出射口644cは、貫通孔644aの他方の開口であって、液冷アパーチャ644からパルスレーザ光を出射させる出口であってもよい。入射口644b及び出射口644cは、パルスレーザ光のビーム断面形状に応じた形状に形成されてもよい。例えば、パルスレーザ光のビーム断面形状が略円形である場合、入射口644b及び出射口644cは、略円形に形成されてもよい。入射口644bの直径は、出射口644cの直径Dよりも大きくてもよい。出射口644cの直径Dは、液冷アパーチャ644の下流にある軸外放物面凹面ミラー634の反射面634aの直径よりも小さくてもよい。出射口644cの直径Dは、反射面634aの有効反射エリアであるクリアアパーチャの直径Dcaよりも小さくてもよい。出射口644cの直径Dは、出射したパルスレーザ光の反射面634aでのビーム径が、直径Dca以下となるように形成されてもよい。それにより、液冷アパーチャ644は、所望のビーム径を超えて、液冷アパーチャ644の下流にある軸外放物面凹面ミラー634のクリアアパーチャよりも大きく拡散したパルスレーザ光の余剰部分を遮断してもよい。

0140

テーパ面644dは、所望のビーム径を超えて大きく拡散したパルスレーザ光の余剰部分を受ける面であってもよい。テーパ面644dは、テーパ面644dに入射するパルスレーザ光のパワー密度を低減させるよう、パルスレーザ光の光軸に対して傾斜するように形成されてもよい。テーパ面644dは、貫通孔644aの内周面であって、入射口644bから出射口644cに向かうに従い、その内径が小さくなるように形成されてもよい。テーパ面644dは、パルスレーザ光の光軸方向に略直交する面に対する傾斜角度θが、45°以上90°以下となるように形成されてもよい。好ましくは、テーパ面644dは、傾斜角度θが略60°となるように形成されてもよい。

0141

また、液冷アパーチャ644の表面のうちの少なくともテーパ面644dには、パルスレーザ光を吸収し易くする表面処理が施されてもよい。パルスレーザ光を吸収し易くする表面処理は、例えば、黒色アルマイト処理であってもよい。黒色のアルマイト処理が施される場合、液冷アパーチャ644は、アルミニウムを用いて形成されてもよい。

0142

また、液冷アパーチャ644の内部には、冷却水等の冷媒が流れる冷媒流路644eが形成されてもよい。冷媒流路644eは、テーパ面644dの外周方向に沿って形成されてもよい。冷媒流路644eは、不図示の冷却装置に連結されてもよい。所望のビーム径を超えて大きく拡散したパルスレーザ光の余剰部分がテーパ面644dに入射すると、液冷アパーチャ644は発熱し得る。液冷アパーチャ644は、冷媒流路644eを流れる冷媒との熱交換によって冷却され得る。ビーム調節装置630が複数の液冷アパーチャを含む場合、複数の液冷アパーチャに形成される複数の冷媒流路は、互いに直列に連結されてもよい。これは、複数の冷媒流路を流れる冷媒が複数の液冷アパーチャの過熱を抑制すれば十分であるからであり得る。

0143

また、液冷アパーチャ644は、熱絶縁部材646を介してベースプレート638に固定されてもよい。熱絶縁部材646は、例えばセラミクスであってもよい。

0144

<動作及び効果>
本実施形態のビーム調節装置630は、液冷アパーチャ643〜645のそれぞれが、パルスレーザ光を所望のビーム径で通過させつつ、所望のビーム径を超えて大きく拡散したパルスレーザ光の余剰部分を吸収し得る。このため、本実施形態のビーム調節装置630は、フレーム642をはじめとするビーム調節装置630の構成要素が加熱されて熱変形することを抑制し得る。

0145

さらに、本実施形態のビーム調節装置630は、液冷アパーチャ643〜645のそれぞれがパルスレーザ光の余剰部分の吸収によって発熱しても、液冷アパーチャ643〜645のそれぞれに形成された冷媒流路を流れる冷媒によって排熱され得る。しかも、本実施形態のビーム調節装置630は、液冷アパーチャ643〜645のそれぞれが熱絶縁部材646を介してベースプレート638に固定されるため、液冷アパーチャ643〜645のそれぞれからベースプレート638への伝熱を抑制し得る。このため、本実施形態のビーム調節装置630は、フレーム642をはじめとするビーム調節装置630の構成要素が加熱されて熱変形することを抑制し得る。

0146

したがって、本実施形態のビーム調節装置630は、軸外放物面ミラー631〜634の位置及び姿勢がずれることを抑制し、出射されるパルスレーザ光の発散角、光軸方向及びビーム径を高精度で調整し得る。本実施形態のビーム調節装置630は、パルスレーザ光をより適切に伝搬し得る。

0147

<変形例>
図22は、実施形態7のビーム調節装置630の変形例1を示す。ビーム調節装置630における軸外放物面凹面ミラー及び軸外放物面凸面ミラーの配置順序は、図19に示す構成と逆であってもよい。

0148

具体的には、ビーム調節装置630は、軸外放物面凸面ミラー647、650及び軸外放物面凹面ミラー648、649を含んでもよい。軸外放物面凸面ミラー647、軸外放物面凹面ミラー648、軸外放物面凹面ミラー649及び軸外放物面凸面ミラー650は、パルスレーザ光の光路上において、この順序で配置されてもよい。軸外放物面凸面ミラー647と軸外放物面凹面ミラー648との間では、軸外放物面凸面ミラー647によって反射されたパルスレーザ光が拡散しながら進行し易いため、これらの間に液冷アパーチャ644が配置されることは好ましい。他の構成要素は、図19図21に示す構成と同様でよい。

0149

図23は、実施形態7のビーム調節装置630の変形例2を示す。図24は、図23に示された矢印Eから保護カバー641bを視た図を示す。ビーム調節装置630は、保護カバー641bを含んでもよい。保護カバー641bは、フレーム642をパルスレーザ光から遮蔽してもよい。保護カバー641bは、パルスレーザ光の光路とフレーム642との間に配置されてもよい。保護カバー641bの表面には、パルスレーザ光を吸収し易くする表面処理が施されてもよい。パルスレーザ光を吸収し易くする表面処理は、例えば、黒色のアルマイト処理であってもよい。黒色のアルマイト処理が施される場合、保護カバー641bは、アルミニウムを用いて形成されてもよい。保護カバー641bは、熱絶縁部材646を介して、ベースプレート638及び移動プレート637に固定されてもよい。或いは、保護カバー641bは、熱絶縁部材646を介してフレーム642に固定されてもよい。それにより、ビーム調節装置630は、予測不能なパルスレーザ光の散乱光、プラズマからの放射光及びターゲット27からの反射光等がフレーム642に入射して、フレーム642を発熱させることを更に抑制し得る。他の構成要素は、図22に示す構成と同様でよい。

0150

上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えてもよいことは、当業者には明らかであろう。

0151

ある実施形態の構成の一部を他の実施形態の構成に置き換え得る。ある実施形態の構成に他の実施形態の構成を加え得る。各実施形態の構成の一部について、削除、他の構成の追加、他の構成による置換をし得る。

0152

本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書及び添付の特許請求の範囲に記載される修飾句「1つの」は、「少なくとも1つ」又は「1又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。

0153

3レーザ装置、11EUV光生成システム、58コントローラ、61、350、630ビーム調節装置、66、362ビームモニタ、361ビームサンプラ、631、634、648、649、652、653、691、694軸外放物面凹面ミラー、632、633、647、650、651、654、692、693 軸外放物面凸面ミラー、635、665、667移動ステージ、661、664、682、683 球面凸面ミラー、662、663球面凹面ミラー、685、696、697 平面ミラー

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