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技術 ピぺリジン誘導体又はその塩及びこれを有効成分として含有する農園芸用殺菌剤

出願人 アグロカネショウ株式会社
発明者 石川幸一藤井英世畠本正浩福地俊樹
出願日 2018年9月14日 (2年0ヶ月経過) 出願番号 2018-172437
公開日 2020年3月26日 (5ヶ月経過) 公開番号 2020-045292
状態 未査定
技術分野 農薬・動植物の保存 複数複素環系化合物
主要キーワード かえで 流入元 微粉末炭 ぼたん エアロール からまつ 灌漑装置 いちょう
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(2020年3月26日)のものです。
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課題

有効成分として農園芸用殺菌剤に使用されるピぺリジン誘導体又はその塩を提供する。

解決手段

有効成分は、以下の式により表される。(式中、R1及びR2は、それぞれ独立して置換されてよいC1〜C4のアルキル基を示し、R3及びR4は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、置換されてよいC1〜C6のアルキル基、置換されてよいC1〜C6のアルコキシ基を示し、Xは、CHあるいは窒素原子を示し、Aは、置換されてよい5〜14員環の単環性又は縮合環性のヘテロアリール基である。)で表される。

概要

背景

概要

有効成分として農園芸用殺菌剤に使用されるピぺリジン誘導体又はその塩を提供する。有効成分は、以下の式により表される。(式中、R1及びR2は、それぞれ独立して置換されてよいC1〜C4のアルキル基を示し、R3及びR4は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、置換されてよいC1〜C6のアルキル基、置換されてよいC1〜C6のアルコキシ基を示し、Xは、CHあるいは窒素原子を示し、Aは、置換されてよい5〜14員環の単環性又は縮合環性のヘテロアリール基である。)で表される。なし

目的

本発明は、各種植物病原菌防除に有用な新しい物質を提供することにあり、特に従来の農園芸用殺菌剤に対して耐性を示す各種植物病原菌に対しても高い防除効果を示し、更に、低薬量で効果を奏し、従って、残留毒性環境汚染等の問題が軽減された安全性の高い農園芸用殺菌剤用の化合物を提供する

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
0件

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請求項1

次式(I)で示されるピぺリジン誘導体又はその塩。(式中、R1及びR2は、それぞれ独立して置換されてよいC1〜C4のアルキル基を示し、R3及びR4は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、置換されてよいC1〜C6のアルキル基、置換されてよいC1〜C6のアルコキシ基を示し、Xは、CH又は窒素原子を示し、そしてAは、置換されてよい5〜14員環の単環性又は縮合環性のヘテロアリール基である。)

請求項2

請求項1に記載のピぺリジン誘導体又はその塩を有効成分として含有することを特徴とする農園芸用殺菌剤

請求項3

更に、増量剤及び/又は界面活性剤が配合されている請求項2に記載の農園芸用殺菌剤。

請求項4

請求項1に記載のピぺリジン誘導体又はその塩に、増量剤及び/又は界面活性剤を配合することを特徴とする、農園芸用殺菌剤の調製方法

請求項5

植物の有害生物防除するための、請求項1に記載のピぺリジン誘導体又はその塩を含有する農園芸用殺菌剤の使用。

請求項6

前記植物の有害生物が、病原体である、請求項5に記載の使用。

請求項7

請求項2に記載の農園芸用殺菌剤を、有害生物及び/又はその生息環境及び/又は種子及び/又は植物繁殖材料に処理することを特徴とする、植物の有害生物を防除する方法。

請求項8

請求項2に記載の農園芸用殺菌剤を、有用生物を生育させようとする場所、生育させている場所又は生育している作物に処理することを特徴とする、植物の有害生物を防除する方法。

技術分野

0001

本発明は、各種植物病原菌防除に有用な新しい物質を提供することにあり、特に従来の農園芸用殺菌剤に対して耐性を示す各種植物病原菌に対しても高い防除効果を示し、更に、低薬量で効果を奏し、従って、残留毒性環境汚染等の問題が軽減された安全性の高い農園芸用殺菌剤用の化合物を提供することにある。

0002

農園芸分野では、各種病原菌の防除を目的とした様々な殺菌剤が開発され、実用に供されている。

0003

しかしながら、従来汎用されている農薬は、その効果や、スペクトル残効性等、更には、施用回数や、施用薬量の低減等の要求を必ずしも満足しているとは言えない。加えて、従来汎用の農薬に対して耐性を発達させた病原菌の出現も問題となっている。例えば、野菜や、果樹花卉麦類及び稲等の栽培において、例えば、これまでベンズイミダゾール系の殺菌剤、ジカルボキシイミド系の殺菌剤、MBI(メラニン合成阻害剤)、フェニルアマイド系の殺菌剤、EBI(エルゴステロール生合成阻害剤)、アニリノピリミジン系の殺菌剤、ストロビルリン系の殺菌剤、SDHI(コハク酸脱水素酵素阻害剤)及びフルアジナム剤である殺菌剤などが開発上市されてきたが、上市後まもなく耐性菌が出現し、効果の低下が問題になっている。従って、従来汎用の農園芸用殺菌剤に耐性を発達させた各種病原菌に対しても低薬量で十分な防除効果を示し、しかも環境への悪影響が小さい、新規な農園芸用殺菌剤の出現が常に望まれている。

0004

これらの要望応えるための新しい殺菌剤が種々提案されているが、必ずしも、上記要望に応えるものではない。

0005

特許文献1には、酸素原子にN, N −ジメチルアミノプロピル基が結合した化合物が殺菌活性を有していることが記載されている。

(特許文献1)

0006

特許文献2には、フェニルエーテル誘導体除草活性を有していることが記載されている。

(特許文献2)

0007

特許文献3には、フェノキシ誘導体に殺菌活性を有していることが記載されている。

(特許文献3)

0008

特許文献4には、ピリジン環誘導体に殺菌活性を有していることが記載されている。

(特許文献4)

しかしながら、特許文献1〜4は、ヘテロアリール基が結合したピペリジニル基を有する化合物については、開示していない。

先行技術

0009

WO2003/093224パンフレット
WO2008/110278パンフレット
WO2008/110313パンフレット
WO2012/146125パンフレット

発明が解決しようとする課題

0010

本発明は、各種植物病原菌の防除に有用な、新規物質を提供することにあり、特に従来の農園芸用殺菌剤に対して耐性を示す各種植物病原菌に対しても高い防除効果を示し、更に、低薬量で効果を奏し、従って、残留毒性や環境汚染等の問題が軽減された安全性の高い物質を提供することにある。

0011

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、以下の式で規定されるピぺリジン誘導体又はその塩が、上記課題を達成できる化合物であることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。
即ち、本発明は、下式(I)で示されるピぺリジン誘導体又はその塩、もしくはこれらの化合物を含有する農園芸用殺菌剤に関するものである。


(式中、
R1及びR2は、それぞれ独立して置換されてよいC1〜C4のアルキル基を示し、
R3及びR4は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、置換されてよいC1〜C6のアルキル基又は置換されてよいC1〜C6のアルコキシ基を示し、
Xは、CH又は窒素原子を示し、そして
Aは、置換されてよい5〜14員環の単環性又は縮合環性のヘテロアリール基を示す。)

発明の効果

0012

本発明の化合物は、各種植物病原菌に対して優れた効果を示す。

0013

以下において、本発明について、更に詳細に説明する。
式(I)において、R1及びR2は、それぞれ独立して置換されてよいC1〜C4のアルキル基を示す。
R1及びR2としてのC1〜C4のアルキル基は、炭素数1〜4個の直鎖又は分枝鎖のものであり、具体的には、C1〜C4のアルキル基としては、例えば、メチル基や、エチル基プロピル基イソプロピル基ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基などを好適に列挙することができる。

0014

本発明において、本発明において、R3及びR4としてのハロゲン原子としては、フッ素原子や、塩素原子臭素原子ヨウ素原子などを列挙することができる。好適には、フッ素原子や、塩素原子、臭素原子などである。

0015

本発明において、R3及びR4としてのC1〜C6アルキル基は、炭素数1〜6個の直鎖又は分枝鎖のものであり、具体的には、このようなC1〜C6アルキル基としては、例えば、メチル基や、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基イソペンチル基、2−メチルブチル基、ネオペンチル基、1−エチルプロピル基、へキシル基、4−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、1−メチルペンチル基、3,3−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、1,1−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、2−エチルブチル基などを好適に列挙することができる。

0016

R1〜R4としてのC1〜C4のアルキル基又はC1〜C6のアルキル基は、本発明の化合物の特性に影響を与えない範囲内において、例えば、1〜3個、好ましくは、1〜2個の置換基を有してもよい。そのような置換基としては、例えば、ハロゲン原子等が好適に挙げられる。ハロゲン原子の範囲は、上記の通りである。従って、このようなハロゲン置換のC1〜C4のアルキル基や、C1〜C6アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基や、トリクロロメチル基ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基ジブロモメチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基ブロモメチル基、ヨ−ドメチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2−ブロモエチル基、2−クロロエチル基、2−フルオロエチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、3−フルオロ−2−メチルプロピル基、3,3,3−トリフルオロ−2−メチルプロピル基、6,6,6−トリクロロヘキシル基などが好適に挙げられる。

0017

本発明において、C1〜C6アルコキシ基は、炭素数1〜6個の直鎖又は分枝鎖のアルキル基を有するものであれば特に限定されるものではなく、アルキル基の範囲は、上記の通りである。具体的には、このようなC1〜C6アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基や、エトキシ基プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基イソブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、2−メチルブトキシ基、ネオペンチルオキシ基、1−エチルプロポキシ基、へキシルオキシ基、(4−メチルペンチル)オキシ基、(3−メチルペンチル)オキシ基、(2−メチルペンチル)オキシ基、(1−メチルペンチル)オキシ基、3,3−ジメチルブトキシ基、2,2−ジメチルブトキシ基、1,1−ジメチルブトキシ基、1,2−ジメチルブトキシ基、1,3−ジメチルブトキシ基、2,3−ジメチルブトキシ基、2−エチルブトキシ基等を好適に列挙することができる。
このようなC1〜C6アルコキシ基は、本発明の化合物の特性に影響を与えない範囲内において、上記のような、例えば、1〜3個の置換基を有してもよい。

0018

本発明の化合物を示す式(I)において、Xは、CH又は窒素原子である。Xが、CHの場合には、ベンゼン環を構成する。また、Xが、窒素原子の場合には、ヘテロ原子として窒素原子を含有するピリジル基を構成する。
本発明の化合物を示す式(I)において、Aは、置換されてよい5〜14員環の単環性又は縮合環性のヘテロアリール基を示す。
ヘテロアリール基としては、具体的には、ピリジル基や、ピリダジル基、ピラジニル基、チアゾリル基オキサゾリル基チアジアゾリル基、ベンゾチアゾリル基ベンゾオキサゾリル基キノリニル基キナゾリル基などを好適に列挙することができる。

0019

これらのヘテロアリール基は、本発明の化合物の特性に影響を与えない範囲内において、例えば、1〜3個、好ましくは、1〜2個の置換基を有してもよい。そのような置換基としては、例えば、ハロゲン原子や、ヒドロキシル基ニトロ基、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基アルコキシカルボニル基ハロゲン化アルコキシカルボニル基アシル基(例えば、アセチル基)、アシルアミノ基アルキルスルホニル基スルファモイル基、N,N−アルキルスルファモイル基等を好適に列挙することができる。

0020

本発明の化合物(I)において、
(1)R1及びR2が、それぞれ独立してアルキル基、より好適には、メチル基あるいはエチル基である場合、
(2)R3及びR4が、ハロゲン原子、(ハロ)アルキル基、アルコキシ基であり、より好適には、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基である場合、
(3)Xが、CH又は窒素原子である場合、
(4)Aが、置換されてよい5〜10員環の単環性又は縮環性のへテロアリール基であり、より好適にはチアゾリル基、オキサゾリル基、1,3,5−チアジアゾリル基、1,2,4−オキサジアゾリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピラジニル基、ピリミジニル基ベンズオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、キノリニル基、キノキサリンニル基などである場合、
が好適である。

0021

本発明の化合物(I)は、例えば、銅塩や、カルシウム塩亜鉛塩の様な塩にすることができる。それらの塩は、農園芸用の殺菌剤として使用できる限り、本発明に包含される。
本発明化合物(I)又はその塩は、溶媒和物として使用することができ、それら溶媒和物も、本発明に包含される。そのような溶媒和物は、好適には、水和物である。

0022

本発明のピぺリジン誘導体(I)は、例えば、下記のスキームAにより製造することができる。

0023

0024

(式中、R1〜R4、X、及びAの定義は、上記の通りである。Yは、ハロゲン原子である。)

0025

上記スキームAにおいて、工程1は、例えば、WO2016/031255に開示の方法に従って行うことできる。例えば、化合物(I−1)と化合物(I−2)とを塩基存在下、適当な溶媒中で反応させることにより化合物(I−3)が得られる。

0026

上記の反応で使用される溶媒としては、不活性溶媒が好適に使用される。そのような不活性溶媒としては、上記反応の進行を著しく阻害しないものであれば特に制限なく、各種の溶媒が利用できる。そのような不活性溶媒としては、例えば、塩化メチレンや、クロロホルム四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類;クロロベンゼンジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類;ジエチルエーテルメチルターシャリーブチルエーテルジオキサンテトラヒドロフラン(THF)等の鎖状又は環状エーテル類酢酸エチル等のエステル類ジメチルホルムアミドDMF)、ジメチルアセトアミドDMA)等のアミド類ジメチルスルホキシドDMSO)、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等の不活性溶媒を好適に列挙することができる。これらの不活性溶媒は、単独で又は2種以上混合して使用することができる。

0027

反応温度は、原料化合物反応試薬及び溶媒などにより異なるが、通常、−20℃〜300℃であり、好適には、20℃〜200℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度などにより、また、反応温度との関係でも、異なり得るが、通常、15分間〜120時間であり、好適には、30分間〜10時間である。
反応終了後目的物を含む反応系から常法により単離すれば良く、必要に応じて、再結晶や、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる

0028

スキームAにおいて、工程2は、例えば、有機合成化学協会第55巻7号(1997)やWO2008/062276などに記載された方法に従って行うことができる。例えば、工程1で得られた化合物(I−3)、WO2007/031526の方法で合成された化合物(I−4)、及び光延試薬とを適当な有機溶媒中で反応させることにより、本発明の化合物(I)を得ることができる。

0029

本反応で使用する光延試薬としては、例えば、ジエチルアゾジカルボキシレート(DEAD)、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート(DIAD)などのアゾジカルボキシレート類或いはN,N,N、N’,N’−テトラメチルアゾジカルボキサミドなどのアゾジカルボキサミド類をトリフェニルホスフィンTPP)やトリブチルホスフィン(TBP)などのホスフィン類と組み合わせて使用することができる。
反応終了後、本発明の化合物(I)を含む反応系から常法により単離すれば良く、必要に応じて、再結晶や、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより本発明の化合物(I)を製造することができる

0030

本発明の化合物(I)は、スキームBとして示される以下の方法により、製造することもできる。

0031

0032

(上記式中、R1〜R4、X、Y、Aの定義は、上記の通りである。)
上記スキームBにおいて、工程1では、ブッフバルト・ハートウィッグの方法に従って化合物(II−2)が合成できる。例えば、WO2016/107832に記載された方法に従い、テロアリールハライド(I−1)と4−ピぺリドンエチレンケタール(II−1)とを、パラジウム触媒及び塩基の存在下において、適当な溶媒中で反応させることにより、本発明化合物(II−2)が製造できる。

0033

工程1で使用するパラジウム触媒としては、酢酸などのパラジウム塩を1, 1’−ビスジフェニルホスフィノフェロセン(dppf)、バイナップ(BINAP)、2−ジシクロへキシルホスフィノ−2’,4’, 6’−トリイソプロピルビフェニル(Xphos)、2−ジシクロへキシルホスフィノ−2’, 6’−ジイソプロピルビフェニル(Ruphos)などの配位子配位化合物として使用することができる。

0034

工程1で使用する溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば特に制限なく、各種の溶媒が利用できる。このような溶媒として、例えば、ベンゼンや、トルエン等の芳香族炭化水素類ジメトキシエタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の鎖状又は環状エーテル類;N−メチルピロリドン,N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類;プロパノール、t−ブタノールなどのアルコール類;水などを好適に列挙することができる。これらの溶媒は単独で又は2種以上混合して使用することができる。

0035

本反応で使用する塩基としては、ビス(トリメチルリスアミドナトリウムターシャリブトキシド(t−BuONa)などを好適に列挙することができる。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒などにより異なるが、通常、−20℃〜300℃であり、好適には、20℃〜150℃である。

0036

反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度などにより、また上記の反応温度などに依存して異なり得るが、通常、15分間〜120時間であり、好適には、30分間〜10時間である。
反応終了後、目的物を含む反応系から常法により単離すれば良く、必要に応じて、再結晶や、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる

0037

スキームBにおいて、工程2は、例えば、WO2016/107832の方法で製造できる。化合物(II−2)を適当な溶媒中で酸触媒で処理することにより、化合物(II−3)が得られる。
工程2の反応で使用する酸触媒としては、例えば、塩酸硫酸などの無機酸類や、ギ酸、酢酸などの有機酸類などを好適に列挙することができる。
工程2の反応で使用される溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えば、ジオキサンや、テトラヒドロフラン等の環状エーテル類アセトンメチルエチルケトン等のケトン類;水等の溶媒を例示することができ、これらの不活性溶媒は単独で又は2種以上の混合物として使用することができる。

0038

工程2で用いられる酸触媒の量は、化合物(II−2)1モルに対して、通常、1〜1000モルであり、好適には、10〜100モルである。
工程2の反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒などにより異なるが、通常、0℃〜200℃であり、好適には、20℃〜100℃である。

0039

工程2の反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度などや、反応温度などにより異なり得るが、好適には、15分間〜120時間であり、更に好適には、30分間〜10時間である。
工程2の反応終了後、目的物を含む反応系から常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶や、カラムクロマトグラフィー等で精製することができる。

0040

工程3は、例えば、WO2008/101682などの方法で行うことができる。工程2で合成された化合物(II−3)を適当な溶媒中、還元剤で処理することにより化合物(I−3)を得ることができる。
工程3の反応で使用する還元剤としては、例えば、水素化アルミニウムリチウム、水素化アルミニウムリチウム−塩化アルミニウム水素化ホウ素ナトリウム水素化ホウ素リチウムなどの金属水素錯化合物類などを挙げることができる。

0041

工程3において、還元剤の量は、化合物(II−2)1モルに対して、通常、0.001〜100モルであり、好適には、0.1〜50モルである。
工程3において、反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒などにより異なるが、通常、0℃〜300℃であり、好適には、20℃〜200℃である。
工程3において、反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度など、また、上記反応温度により異なり得るが、通常、15分間〜72時間であり、好適には、30分間〜10時間である。
工程3の反応終了後、目的物を含む反応系から常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる

0042

本発明の化合物(I)は、更に、スキームCとして示される以下の方法によっても、製造することができる。

0043

0044

(式中、R1〜R4、X、Aの定義は、上記の通りである。)

0045

スキームCにおいて、工程1では、例えばWO2014/026125に記載された方法に従って、上記スキームAの工程1で合成された化合物(I−3)と、スルホニルクロライド(III−1)とを塩基の存在下で、溶媒中で反応させることにより、式III−2の化合物を得ることが出来る。

0047

本反応で用いられる塩基の量は、化合物(III−1)1モルに対し、通常、0.5〜10モルであり、好適には、1〜5モルである。

0048

本反応で使用する溶媒は、不活性溶媒であることが好適であり、そのような不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば特に制限なく、各種の不活性溶媒が利用でき、例えば、塩化メチレンや、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類;ジエチルエーテル、メチルターシャリーブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の鎖状又は環状エーテル類;酢酸エチル等のエステル類;ギ酸、酢酸等のカルボン酸類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類;ジメチルスルホキシド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等の不活性溶媒を例示することができ、これらの不活性溶媒は単独で又は2種以上混合して使用することができる。

0049

反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒などにより異なるが、通常、−20℃〜300℃であり、好適には、0℃〜150℃である。

0050

反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度などによ、また、上記反応温度との関係で異なり得るが、通常、15分間〜120時間であり、好適には、30分間〜10時間である。
反応終了後、目的物を含む反応系から常法により単離すれば良く、必要に応じて、再結晶や、カラムクロマトグラフィー等で精製することができる。

0051

工程2では、例えばWO2014/025709に記載された方法により、工程1で合成された化合物(III−2)と化合物(I−4)とを、塩基の存在下において、不活性溶媒中で反応させることにより、化合物(I)を得ることが出来る。

0052

工程2で使用される塩基としては、例えば、炭酸ナトリウムや、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸セシウム等の無機塩基類を好適に列挙することができる。
工程2で使用される塩基の量は、化合物(III−2)1モルに対し、通常、0.5〜10モルであり、好適には、1〜5モルである。

0053

工程2で使用される不活性溶媒としては、工程2の反応を著しく阻害しないものであれば特に制限なく各種の不活性溶媒を使用することができる。このような不活性溶媒としては、具体的に、ジオキサンや、テトラヒドロフラン等の環状エーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類;ジメチルスルホキシド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等の不活性溶媒を好適に列挙することができる。これらの不活性溶媒は、単独で又は2種以上混合して使用することができる。

0054

工程2の反応温度は、原料、反応試薬及び溶媒などにより異なるが、通常、20℃〜120℃であり、好適には、80℃〜100℃である。
工程2の反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度などにより、また、上記反応温度により異なり得るが、通常、1分間〜48時間であり、好適には、5分間〜10時間である。
工程2の反応終了後、目的物を含む反応系から常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することができる

0055

本発明のピぺリジン誘導体(I)は、更に、下記のスキームDにより製造することができる。

0056

スキームD

0057

(式中、R1〜R4、X、Aの定義は、上記の通りである。)

0058

スキームDにおいて、工程1においてスキームAの工程2又はWO2008/101682などに開示の方法に従って得られた化合物(I−3)と、化合物(IV−1)とを光延試薬の存在下、不活性溶媒中で反応させることにより、化合物(IV−2)を得ることが出来る。

0059

工程2では、例えばWO2008/101682などに開示の方法に従って、適当な溶媒中で還元することにより、化合物(IV−3)を得ることができる。
工程2の反応で使用する還元剤としては、例えば、ナトリウム、カリウムアンモニア、鉄、スズ、塩化スズ亜鉛ラネーニッケル酸化プラチナパラジウム炭素などを好適に列挙することができる。

0060

工程2の反応で使用する溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、メタノールや、エタノールなどのアルコール類;ギ酸、酢酸などの有機酸類;塩酸/水、水酸化ナトリウム/水、水等の溶媒を例示することができ、これらの溶媒は単独で又は2種以上混合して使用することができる。
工程2で用いられる還元剤の量は、化合物(IV−2)1モルに対して、通常、0.001〜100モルであり、好適には、0.1〜50モルである。
工程2の反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒などにより異なるが、通常、0℃〜300℃であり、好適には、20℃〜200℃である。
工程2の反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度など、また、上記反応温度などにより異なり得るが、通常、15分間〜72時間であり、好適には、30分間〜10時間である。
工程2の反応終了後、目的物を含む反応系から常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる

0061

スキームDの工程3と4は、例えば、WO2007/031526やWO2008/101682などに記載された方法に従って、化合物(IV−3)と化合物化合物(IV−4)とを酸触媒の存在下、不活性溶媒中で反応させた後、化合物(IV−5)を更に反応させることにより本発明の化合物(I)を得ることが出来る。
工程3で使用される酸触媒としては、例えば、メタンスルホン酸p−トルエンスルホン酸などの有機酸類、硫酸や塩酸などが挙げることができる。
工程3で用いられる酸触媒の量は、化合物(IV−3)1モルに対して通常、0.001〜10モルであり、好適には、0.01〜1モルである。

0062

工程3の反応で使用する不活性溶媒としては、例えば、ベンゼンや、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類を例示することができ、これらの溶媒は単独で又は2種以上混合して使用することができる。
工程3の反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒などにより異なるが、通常、0℃〜300℃であり、好適には、20℃〜150℃である。
工程3の反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度などや、上記反応温度などにより異なり得るが、通常、15分間〜72時間であり、好適には、30分間〜10時間である。
反応終了後、過剰の試薬と溶媒を留去して次の反応に用いてもよく、或いは常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することができる

0063

工程4では、工程3で得られた化合物と、化合物(IV−5)とを不活性溶媒中で反応させて化合物(I)を得ることができる。
工程4の反応で使用する不活性溶媒としては、例えば、ベンゼンや、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;メチル−ターシャリ−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンなどの鎖状又は環状エーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類;ジメチルスルホキシド、1,3−ジメチル-2−イミダゾリジノンなどの不活性溶媒を例示することができ、これらの溶媒は単独で又は2種以上混合して使用することができる。

0064

工程4の反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒などにより異なるが、通常、0℃〜300℃であり、好適には、20℃〜100℃である。
工程4の反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度などや、上記反応温度などにより異なり得るが、通常、15分間〜72時間であり、好適には、30分間〜10時間である。
工程4の反応終了後、目的物を含む反応系から常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することができる

0065

本発明のピぺリジン誘導体は、単独で使用してもよく、他の殺菌活性を有する少なくとも1種以上の化合物と混合又は併用してもよい。そのようにして得られた混合物は、幅広活性スペクトルを有する。
本発明のピぺリジン誘導体と混合又は併用できる他の殺菌剤(一般名)の例を以下に示すが、混合又は併用できる殺菌剤は必ずしもこれに限定されるものではない。
殺菌活性を有する化合物として、以下の化合物が好適に挙げられる。核酸合成を阻害する殺菌剤として、例えば、ベナラキシル(benalaxyl)、ベナラキシルM(benalaxyl M)、フララキシル(furalaxyl)、メタラキシル(metalaXyl)、メタラキシルM(metalaxyl M)、オキサジキシル(oxadixyl)、オフラセ(ofurace)、ブピリメート(bupirimate)、ジメチリモール(dimethirimol)、エチリモール(ethirimol)、ヒドロキシイソキサゾール(hydroxyioxazole)、ヒメキサゾール(hymexazol)、オクチリノン、オキソリニック酸(oxolinic acid)など、

0066

有糸核分裂細胞分裂を阻害する剤として、例えば、ベノミル(benomyl)、カルベンダジム(carbendazim)、フベリダゾール(fuberidazole)、チアベンダゾール(thiabendazole)、チオファネート(thiophanate)、チオファネートメチル(thiophanate−methyl)、ジエトフェンカルブ(diethofencarb)、ゾキサミド(zoXamide)、ザリラミド(zarilamid)、エタボキサム(ethaboXam)、ペンシクロン(pencycuron)、フルオピコリド(fluopicolide)など、

0067

呼吸を阻害する殺菌剤として、例えば、ジフルメトリム(diflumetorim)、トルフェンピラド(tolfenpyrad)、テブフェンラド(tebufenpyrad)、フェナザキン(fenazaquin)、ピリダベン(pyridaben)、フェンピロキシメート(fenpyroximate)、ピリミジフェン(pyrimidifene)、ロテン(rotenone)ベノダニル(benodanil)、フルトラニル(flutolanil)、メプロニル(mepronil)、イソフェタミド(isofetamid)、フルオピラム(fluopyram)、フェンフラム(fenfuram)、カルボキシン(carboxin)、オキシカルボキシン(oxycarboXin)、チフルザミド(thifluzamide)、ベンゾビンジフルピル(benzovindiflupyr)、ビキサフェン(bixafen)、フルキサピロキサド(fluxapyroxad)、フラメトピル(furametpyr)、イソピラザム(isopyrazam)、ペンフルフェン(penflufen)、ペンチオピラド(penthiopyrad)、セダキサン(sedaxane)、ボスカリド(boscalid)、ピラジフルミド(pyraziflumid)、ピジフルメトフェン(pydiflumetofen)、アゾキシストロビン(azoxystrobin)、クモシストロビン(coumoxystrobin)、エノキサストロビン(enoxastrobin)、フルフェノキシストロビン(flufenoxystrobin)、ピコキシストロビン(picoxystrobin)、ピラオキシストロビン(pyraoxystrobin)、ピラクロストロビン(pyraclostrobin)、ピラメトストロビン(pyrametostrobin)、トリクロピリカルブ(triclopyricarb)、クレソキシムメチル(kresoxim−methyl)、トリフロキシストロビン(trifloxystrobin)、ジモキシストロビン(dimoxystrobin)、フェナミンストロビン、メトミノストロビン(metominostrobin)、オリザストロビン、ファモキサドン、フルオキサストロビン、フェナミドン(fenamidone)、ピリベンカルブ(pyribencarb)、シアゾファミド(cyazofamid)、アミスルブロム(amisulbrom)、ビナパクリル(binapacryl)、メプチルジノカップ(meptyldinocap)、ジノカップ(dinocap)、フルアジナム(fluazinam)、シルチオファム(silthiopham)、アメトクトジン(ametoctradin)、テブフロキン(tebfloquin)など、

0068

アミノ酸及びタンパク質合成を阻害する殺菌剤として、例えば、アンドプリム(andoprim)、シプロジニル(cyprodinil)、メパニピリム(mepanipyrim)、ピリメタニル(pyrimethanil)、ブラストサイジンS(blasticidin S)、カスガマイシン(kasugamycin)、ストレプトマイシン(streptomycin)、オキシテトラサイクリン(oxytetracycline)、ミルディマイシン(mildiomycin)など、

0069

シグナル伝達を阻害する殺菌剤として、例えば、キノキシフェン(quinoxyfen)、プロキナジド(proquinazid)、フェンピクロニル(fenpiclonil)、フルジオキソニル(fludioxonil)、クロゾリネート(chlozolinate)、イプロジオン(iprodione)、プロシミドン(procymidone)、ビンクロゾリン(vinclozolin)など、
脂質及び細胞膜合成を阻害する殺菌剤として、例えば、エジフェンホス(edifenphos)、イプロベンホス(iprobenfos)、ピラゾホス(pyrazophos)、イソプロチオラン(isoprothiolane)、ビフェニル(biphenyl)、クロロネブ(Chloroneb)、キントゼン(quintozene)、テクナゼン、トルクロホスメチル(tolclofos−methyl)、エクロメゾール(echlomezole)、ヨードカルブ、プロパモカルブ(propamocarb)、プロチオカルブなど、

0070

細胞膜のステロール生合成を阻害する殺菌剤として、例えば、トリホリン(triforine)、ピリフェノクス(pyrifenox)、ピリソキサゾール、フェナリモル(fenarimol)、ヌアリモル(nuarimol)、イマザリル(imazalil)、オキスポコナゾール(oxpoconazole)、ペフラゾエート(pefurazoate)、プロクロラズ(prochloraz)、トリフルミゾール(triflumizole)、アザコナゾール(azaconazole)、ビテルタノール(bitertanol)、ブロムコナゾール(bromuconazole)、シプロコナゾール(cyproconazole)、ジフェノコナゾール(difenoconazole)、ジニコナゾール(diniconazole)、エポキシコナゾール(epoXiconazole)、エタコナゾール(etaconazole)、フェンブコナゾール(fenbuconazole)、フルキンコナゾール(fluquinconazole)、フルシラゾール(flusilazole)、フルオトリマゾール(fluotrimazole)、フルコナゾール(furconazole)、フルトリアホール(flutriafol)、ヘキサコナゾール(heXaconazole)、

0071

イミベンコナゾール(imibenconazole)、イプコナゾール(ipconazole)、メトコナゾール(metaconazole)、ミクロブタニル(myclobutanil)、ペンコナゾール(penconazole)、プロピコナゾール(propiconazole)、シメコナゾール(simeconazole)、テブコナゾール(tebuconazole)、テトラコナゾール(tetraconazole)、トリアジメホン(triadimefon)、トリアジメノール(triadimenol)、トリチコナゾール(triticonazole)、プロチオコナゾール(prothioconazole)、ユニコナゾールP(uniconazole−P)、ブチオベート(buthiobate)、ジクロブトラゾール(diclobutrazol)、アルモルフ(aldimorph)、ドデモルフ(dodemorph)、フェンプロピモルフ(fenpropimorph)、トリデモルフ(tridemorph)、フェンプロピジン(fenpropidin)、ピペラリン(piperalin)、スピロサミン(spiroxamine)、フェンヘキサミド(fenhexamid)、フェンピラザミン(fenpyrazamine)、フロルピラウキシフェン(florpyrauxifen)、イプフェントリフルコナゾール(ipfentrifluconazole)、ナフチフィンテルビナフィン(terbinafine)など、

0072

細胞壁生合成を阻害する殺菌剤として、例えば、バリダマイシン(validamycin)、ポリオキシン(polyoxin)、ジメトモルフ(dimetomorph)、フルモルフ(flumorph)、ピリモルフ(pyrimorph)、ベンチバリカルブ(benthiavalicarb)、イプロバリカルブ(iprovalicarb)、バリェナレート(valifenalate)、マンジプロパミド(mandipropamid)など、

0073

細胞壁のメラニン合成を阻害する殺菌剤として、例えば、フサライド(fthalide)、ピロキロン(pyroquilon)、トリシクラゾール(tricyclazole)、カルプロパミド(carpropamid)、ジクロシメット(diclocymet)、フェノキサニル(fenoxanil)など、

0074

宿主植物抵抗性誘導する殺菌剤として、例えば、プロベナゾール(probenazole)、チアジニル(thiadinil)、イソチアニル(isotianil)、ラミナリン(laminarin)、オオイタドリ抽出液(eXtract from giant knotweed)、アシベンゾラルSメチル(acibenzolar−S−methyl)など、

0075

作用点を阻害する殺菌剤として、例えば、銅(copper)、DBEDC(complex of bis(ethylenediamine)copper−bis−(dodecylbenzenesulfonic acid))、水酸化第二銅(copper hydroxide)、ノニルフェノールスルホン酸銅(copper nonylphenol sulfonate)、塩基性塩化銅(copper oxychloride)、塩基性硫酸銅basiccopper sulfate)、有機銅(oxine−copper)、硫黄(sulfur)、石灰硫黄合剤(calcium polysulfide)、銀(silver)、D−D(1,3−dichloropropene)、ダゾメット(dazomet)、臭化メチル(methyl bromide)、メチルイソチオシアネート(methylisothiocyanate)、カーバム(metam−ammonium)、マンゼブ(mancozeb)、マンネブ(maneb)、メチラム(metiram)、プロピネブ(propineb)、チウラム(thiram)、硫酸亜鉛(zinc sulfate)、ジネブ(zineb)、ジラム(ziram)、キャプタン(captan)、カプタホール(captafol)、ホルペット(folpet)、クロロタロニル(chlorothalonil)、ジクロフルアニド(dichlofluanid)、トリルルアニド(tolylfluanid)、グアザチン(guazatine)、イミノクタジン酢酸塩(iminoctadine acetate)、イミノクタジンアルベシル酸塩(iminoctadine−DBS)、トリアジン(anilazine)、ジチアノン(dithianon)、キノメチオネート(chinomethionat)、フルオルイミド(fluoroimide)、ダイセンステンレス(dithane−stainless)など、

0076

その他の殺菌剤として、例えば、シモキサニル(cymoxanil)、ホセチル(fosetyl)、亜リン酸(phosphorous acid)、亜リン酸塩(phosphite)、テクロフタラム(tecloftalam)、トリアゾキシド(triazoxid)、フルスルファミド(flusulfamide)、ジクロメジン(diclomezine)、メタスルホカルブ(methasulfocarb)、シフルフェナミド(cyflufenamid)、メトラフェノン(metrafenone)、ピリオフェノン(pyriofenone)、ドジン(dodine)、フルチアニル(flutianil)、フェリムゾン(ferimzone)、オキサチアピプロリン(oxathiapiprolin)、トルクロカルブ(tolprocarb)、ピカルブトラゾックス(picarbutrazox)、マシン油(petroleum oil)、有機油(organic oil)、

0077

炭酸水素カリウム(potassium hydrogen carbonate)、炭酸水素ナトリウム(sodium hydrogen carbonate)、次亜塩素酸ナトリウム(sodium hypochlorite)、炭酸カルシウム(calcium carbonate)、ベンチアゾール(benthiazole)、ジクロブトラゾール(diclobutrazol)、フルメットーバー(flumetover)、チアジアジン(thiadiazin)、ジクロン(dichlone)、有機錫(organo−tin)、シイタケ菌糸体抽出物(extract from mushroom)、キノフメリン(Quinofumelin)、国際公開第2011081174号パンフレットに記載のキノリン化合物、国際公開第2005/121104号パンフレットに記載のピリダジン化合物、国際公開第2011/162397号パンフレットに記載のピラゾール化合物、国際公開第2014/006945号パンフレットに記載のピリジン系化合物などが挙げられる。

0078

本発明は、農作物、例えば、食用作物(稲、大麦小麦ライ麦オート麦等の麦類、馬鈴薯甘藷里芋、やまのいも等の芋類大豆小豆、そら豆、えんどう豆、いんげん豆、落花生等の豆類とうもろこし、粟、そば等)、野菜(キャベツ白菜大根、蕪、ブロッコリーカリフラワー、こまつな等のアブラナ科作物、かぼちゃ、きゅうり、すいか、まくわうり、メロンズッキーニ、ゆうがお、にがうり等のウリ科作物、なす、トマトピーマン、とうがらし、ししとうなどのナス科作物、おくら等のアオイ科作物、ほうれんそう、ふだんそう等のアカザ科作物、にんじん、みつば、パセリセルリー、うど等のセリ科作物、レタス、ごぼうなどのキク科作物、にんにく、たまねぎ、ねぎ、にら、らっきょう等のねぎ類、アスパラガス、しそ、れんこん等)、きのこ類(しいたけ、マッシュルーム等)、

0079

果樹・果実類柑橘類林檎、梨、、梅、桜桃、李、杏、葡萄枇杷、無花果、あけび、ブルーベリーラズベリーパイナップルマンゴーキウイフルーツバナナ、いちご、オリーブ胡桃アーモンド等)、香料鑑賞用作物ラベンダーローズマリータイムセージ胡椒生姜等)、特用作物(たばこ、茶、甜菜、さとうきび、いぐさ、ごま、こんにゃく、ホップ、綿、、オリーブ、ゴムコーヒー、なたね、ひまわり、等)、牧草飼料用作物(チモシークローバーアルファルファ等の豆科牧草、とうもろこし、ソルガム類、オーチャードグラス等のイネ科牧草等)、類(高麗芝、ベントグラス等)、林木トドマツ類、エゾマツ類、類、ヒバ、桧等)や鑑賞用植物(きく、ばら、カーネーション、ゆり、トルコギキョウ宿根かすみそう、スターチス、蘭等の草本花卉類いちょうさくら類、あおき等の庭木等)などに適用される。

0080

対象とする病害としては、例えば、植物寄生性糸状菌や、細菌及び放線菌類等が挙げられ、具体的には、稲のいもち病(Pyricularia oryzae)、ごま葉枯病(Cochliobolus miyabeanus)、紋枯病(Rhizoctonia solani)、内穎褐変病(Pantoea ananatis)、鹿病(Gibberella fujikuroi)、苗立枯病(Pythium graminicolum)、褐条病(Acidovorax avene subsp. avenae)、葉鞘褐変病(Pseudomonas fuscovaginae)、白葉枯病(Xanthomonas oryzae pv. oryzae)、立枯細菌病(Burkholderia plantarii)等;麦類のうどんこ病(Erysiphe graminis)、赤かび病(Gibberella zeae)、赤さび病(Puccinia striiformis, P.graminis, P. recondita, P. hordei)、

0081

雪腐病(Typhula sp. , Micronectriella nivalis)、裸黒穂病(Ustilago tritici, U. nuda)、なまぐさ黒穂病(Tilletia caries)、眼紋病(Pseudocercosporella herpotrichoides)、雲形病(Rhynchosporium secalis)、葉枯病(Septoria tritici)、ふ枯病(Leptosphaeria nodorum)、網病(Pyrenophora teres)、ひょうもん病(Helminthosporium zonatum Ikata)、黒節病(Pseudomonas syringae pv. japonica)等;かんきつ類の黒点病(Diaporthe citri)、そうか病(Elsinoe fawcetti)、果実腐敗病(Penicillium digitatum, P. italicum)、褐色腐敗病(Phytophthora citrophthora, P. nicotianae)、黒星病(Phyllostictina citricarpa)等;りんごモニリア病(Monilinia mali)、褐斑病(Diplocarpon mali)、腐らん病(Valsa mali)、うどんこ病(Podosphaera leucotricha)、

0082

斑点落葉病(Alternaria mali)、黒星病(Venturia inaequalis)、黒点病(Mycospherella pomi)、炭そ病(Colletotrichum acutatum、Glomerella cingulata)、輪紋病(Botryosphaeria berengeriana)、赤星病(Gymnosporangium yamadae)、すす点病(Zygophiala jamaicensis)、すす斑病(Gloeodes pomigena)等;なしの黒星病(Venturia nashicola, V. pirina)、うどんこ病(Phyllactinia mali)、黒斑病(Alternaria kikuchiana)、赤星病(Gymnosporangium haraeanum)、灰星病(Monilinia fructigena)、輪紋病(Botryosphaeria berengeriana)等;おうとうの灰星病(Monilinia fructicola)、炭疽病(Glomerella cingulata)、幼果菌核病(Monilinia kusanoi)等;ももの灰星病(Monilinia fructicola)、黒星病(Cladosporium carpophilum)、フォモプシス腐敗病(Phomopsis sp. )、せん孔細菌病(Xanthomonas campestris pv. pruni)等;

0083

ぶどうの黒とう病(Elsinoe ampelina)、晩腐病(Colletotrichum acutatum、Glomerella cingulata)、うどんこ病(Uncinula necator)、さび病(Phakopsora ampelopsidis)、ブラックロット病(Guignardia bidwellii)、べと病(Plasmopara viticola)、黒星病(Cladosporium viticolum)、根頭がんしゅ細菌病(Agrobacterium vitis)等;かきの炭そ病(Gloeosporium kaki)、うどんこ病(Phyllactinia kakicola)、落葉病(Cercospora kaki, Mycoshaerella nawae)、キウイフルーツの角斑病(Phomopsis sp.)、炭疽病(Colletotrichum gloeosporioides、Colletotrichum acutatum)、白紋羽病(Rosellinia necatriX)、びわの褐斑病(Phyllosticta eriobotryae)、角斑病(Pseudocercospora eriobotryae)等;うり類の炭そ病(Colletotrichum lagenarium)、うどんこ病(Sphaerotheca fuliginea, Oidiopsis taurica)、つる枯病(Didymella bryoniae)、つる割病(Fusarium oXysporum)、べと病(Pseudoperonospora cubensis)、疫病(Phytophthora sp.)、苗立枯病(Pythium sp.、Rhizoctonia solani)等;

0084

きゅうりの斑点細菌病(Pseudomonas syringae pv. lochrymans)、縁枯細菌病(Pseudomonas viridiflava)、褐斑細菌病(Xanthomonas campestris pv. cucurbitae)等;メロンの褐斑細菌病(Xanthomonas campestris pv. cucurbitae)、毛根病(Agrobacterium rhizogens)、がんしゅ病(Streptomyces sp.)等;すいかの果実汚斑細菌病(AcidovoraX avenae pv. citrulli)等;なす科野菜の青枯病(Ralstonia solanacearum)等;トマトの輪紋病(Alternaria solani)、葉かび病(Cladosporium fulvum)、疫病(Phytophthora infestans)、すすかび病(Pseudocercospora fuligena)、うどんこ病(Erysiphe cichoracearum)、かいよう病(Clavibacter michiganense subsp. michiganense)、えそ病(Pseudomonas corrugata)、軟腐病(Pectobacterium carotovorum subsp. carotovorum)等;

0085

なすの褐紋病(Phomopsis vexans)、うどんこ病(Erysiphe cichoracearum)、すすかび病(Mycovellosiellanattrassii)、黒枯病(Corynespora melongenae)、褐色円星病(Paracercospora egenula)、褐色腐敗病(Phytophthora capsici)、半身萎凋病(Verticillium dahliae)等;アブラナ科野菜のべと病(Peronospora parasitica)、黒斑病(Alternaria japonica)、白斑病(Cercosporella brassicae)軟腐病(Pectobacterium carotovorum subsp. carotovorum)、黄化病(Verticillium dahliae)等;

0086

きゃべつの腐敗病(Pseudomonas syringae pv. marginalis)、黒腐病(Xanthomonas campestris pv. campestris)等;レタスのべと病(Bremia lactucae)すそ枯病(Rhizoctonia solani)、腐敗病(Pseudomonas cichorii、Pseudomonas viridiflava)、斑点細菌病(Xanthomonas campestris pv. vitians)、ネギのべと病(Peronospora destructor)、黒斑病(Alternaria porri)、さび病(Puccinia allii)、白病(Sclerotium rolfsii)等;だいずの紫斑病(Cercospora kikuchii)、炭疽病(Colletotrichum truncatum 、Colletotrichum trifolii、Glomerella glycines、Gloeosporium sp.)、べと病(Peronospora manshurica)、茎疫病(Phytophthora sojae)、黒とう病(Elsinoe glycines)、黒点病(Diaporthe phaseolorum var. sojae)、斑点細菌病(Pseudomonas savastanoi pv. glycinea)、葉焼病(Xanthomonas campestris pv. glycines)等;いんげんまめの炭そ病(Colletotrichum lindemthianum)、かさ枯病(Pseudomonas savastanoi pv. phaseolicola)、葉焼病(Xanthomonas campestris pv. phaseoli)、葉腐病(Rhizoctonia solani)等;

0087

らっかせいの黒病(Cercospora personata)、褐斑病(Cercospora arachidicola)等;えんどうまめのうどんこ病(Erysiphe pisi)等;ばれいしょの疫病(Alternaria solani)、疫病(Phytophthora infestans)、葉腐病菌(Rhizoctonia solani)、軟腐病(Pectobacterium carotovorum subsp. carotovorum)等;いちごのうどんこ病(Sphaerotheca humuli)、炭疽病(Colletotrichum gloeosporioides、Colletotrichum actatum、 Glomerella cingulata)、疫病(Phytophthora nicotianae)、輪斑病(Dendrophoma obscurans)、枯細菌病(Pseudomonas marginalis pv. marginalis)等;茶の褐色円星病(Pseudocercospora theae)、炭疽病(Discula theae−sinensis)、輪斑病(Pestalotiopsis theae、Pestalotiopsis longiseta)、網もち病(Exobasidium reticulatum)、もち病(Exobasidium vexans)、白星病(Elsinoe leucospila)、赤焼病(Pseudomonas syringae pv. theae)、かいよう病(Xanthomonas campestris pv. theicola)等;

0088

たばこの赤星病(Alternaria longipes)、うどんこ病(Erysiphe cichoracearum)、炭そ病(Colletotrichum tabacum)、べと病(Peronospora tabacina)、疫病(Phytophthora nicotianae)、立枯病(Ralstonia solanacearum)、空洞病(Pectobacterium carotovorum subsp. carotovorum)等;てんさいの褐斑病(Cercospora beticola)、根腐病(Rhizoctonia solani、Thanatephorus cucumeris)、苗立枯れ病(Aphanomyces cochliodes)等;ばらの黒星病(Diplocarpon rosae)、うどんこ病(Sphaerotheca pannosa)等;きくの褐斑病(Septoria chrysanthemi−indici)、白さび病(Puccinia horiana)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)等;なす、きゅうり及びレタス等の各種作物の灰色かび病(Botrytis cinerea)、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum);芝類の雪腐病(Pythium iwayamai, Tyohula incarnate, Fusarium nivale, Sclerotinia borealis)、うどんこ病(Erysiphe graminis)、ファリーリング病(Lycoperdon perlatum, Lepista subnudo, Marasmius oreades)、擬似葉腐病(Ceratobasidium spp.)、立枯病(Gaemannomyces graminis)、カーブリア葉枯病(Curvularia geniculata)、葉腐病(Rhizoctonia solani)、ピシウム病(Pythium periplocum, Pythium vanterpoolii)、さび病(Puccinia spp.)、ダラースポット病(Sclerotinia homoeocarpa)等;

0089

ベントグラスの赤焼病(Pythium aphanidermatum)、炭そ病(Colletotrichum sp.)、あかしあ類のさめ肌胴枯病(Botryosphaeria sp.)、炭疽病(Glomerella cingulata)、あじさいの輪紋病(Phoma exigua)、斑点病(Phyllosticta hydrangeae)、褐斑病(Corynespora cassiicola)、葉腐病(Rhizoctonia solani)、うどんこ病(Oidium sp.)、炭疽病(Glomerella cingulata)、輪斑病(Cercospora hydorangeae)、いちょうのすす斑病(Gonatobotryum apiculatum)、赤衣病(Erythricium salmonicolor)、かいどうの赤星病(Gymnosporangium yamadae)、白紋羽病(Rosellinia necatrix)、かえで類の黒紋病(Rhytisma acerinum)、環紋葉枯病(Cristulariella moricola)、胴枯病(Diaporthe sp.)、すすかび斑点病(Cercospora sp.)、炭疽病(Colletotrichum gloeosporioides)、赤衣病(Erythricium salmonicolor)、うどんこ病(Uncinula sp.、Sawadaea sp.、Oidium sp.)、かし類の白斑病(Phomatospora albomaculans)、うどんこ病(Uncinula sp.、Microsphaera alphitoides、Erysiphe gracilis)、からまつのならたけ病(Armillaria mellea)、腐心病(Phaeolus schweinitzii)、かんば類の褐斑病(Septoria chinensis)、胴枯病(Diaporthe melanocarpa、Diaporthe alleghaniensis)、くすのきの炭疽病(Glomerella cingulata)、くちなしのすすかび病(Passalora okinawaensis)、

0090

斑点病(Phaeosphaerella gardeniae)、けやきの褐斑病(Pseudocercospora zelkovae)、ならたけ病(Armillaria mellea )、こぶしの裏うどんこ病(Phyllactinia magnoliae)、斑点病(Phyllosticta concentrica)、さくら類のがんしゅ病(Nectria galligena)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、うどんこ病(Podosphaera longiseta、Podosphaera tridactyla)、てんぐ巣病(Taphrina wiesneri)、幼果菌核病(Monilinia kasanoi)、ならたけ病(Armillaria mellea)、胴枯病(Valsa ambiens)、ざくろのそうか病(Sphaceloma punicae)、さるすべりのうどんこ病(Uncinuliella australiana)、褐斑病(Pseudocercospora lythracearum)、環紋葉枯病(Cristulariella moricola)、さんざし類のすすかび病(Pseudocercospora crataegi)、しいのき類の白斑病(Bagcheea albo−maculans)、

0091

葉ぶくれ病(Taphrina kusanoi)、しゃくなげ類の炭疽病(Colletotrichum gloeosporioides)、葉斑病(Pseudocercospora handelii)、白紋羽病(Rosellinia necatrix)、すぎの枝枯菌核病(Sclerotium sp.)、赤枯病(Cercospora sequoiae)、微粒菌核病(Macrophoma phaseolina)、そてつの赤葉枯病(Ascochyta sp.)、つつじ類のうどんこ病(Microsphaera izuensis)、褐斑病(Septoria azaleae)、白紋羽病(Rosellinia necatrix)、苗立枯病(Rhizoctonia solani)、葉斑病(Pseudocercospora handelii)、斑点病(Phyllosticta maxima)、花腐菌核病(Ovulinia azaleae)、てんぐ巣病(Exobasidium pentasporium)、つばきの根腐疫病(Phytophthora cinnamomi)、炭疽病(Glomerella cingulata)、にせあかしあのならたけ病(Armillariella mellea)、バラのうどんこ病(Sphaerotheca pannosa、Oidium sp.)、べと病(Peronospora sparsa)、斑点病(Cercospora rosicola、Mycosphaerella rosicola)、

0092

疫病(Phytophthora megasperma)、黒星病(Marssonina rosae、Diplocarpon rosae)、腐らん病(Cryptosporella umbrina)、白紋羽病(Rosellinia necatrix)、ひのきのならたけ病(Armillariella mellea)、ペスタロチア病(Pestalotiopsis sp.)、ふじのこぶ病(Erwinia herbicola pv. millettiae)、ポインセチアの根腐病(Rythium sp.)、ぼたんの疫病(Phytophthora cactorum)、うどんこ病(Erysiphe paeoniae)、芽枯病(Alternaria sp.)、炭疽病(Gloeosporium sp.)、褐斑病(Pseudocercospora variicolor)、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)、立枯病(Botrytis paeoniae)、白紋羽病(Rosellinia necatrix)、まさきのうどんこ病(Oidium euonymi−japonici)、褐斑病(Pseudocercospora destructiva)、まつ類のこぶ病(Cronartium quercuum)、苗立枯病(Rhizoctonia solani, Fusarium sp., Pythium sp,, )、葉枯病(Pseudocercospora pini−densiflorae)、

0093

まてばしいの裏黒点病(Coccoidea querricola)、みずき類のうどんこ病(Microsphaera pulchra)、斑点病(Pseudocercospora cornicola)、やなぎ類のマルゾニナ落葉病(Marssonina brunnea)、ユーカリ類の角斑病(Cercospora epicoccoides)、ゆきやなぎのすすかび病(Pseudocercospora spiraeicola)、うどんこ病(Sphaerotheca spiraeae)、ライラックのうどんこ病(Microsphaera syringae−japonicae)、枝枯菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)、アサガオのつる割病(Fusarium oxysporum f. sp. batatas)、カーネーションのうどんこ病(Oidium dianthi)、ガーベラのうどんこ病(Sphaerotheca fuliginea)、炭疽病(Colletotrichum sp.)、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)、きくの萎凋病(Fusarium oxysporum)、うどんこ病(Erysiphe cichoracearum)、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)、半身萎凋病(Verticillium dahliae)、フザリウム立枯病(Fusarium solani)、

0094

金魚草の炭疽病(Colletotrichum gloeosporioides)、うどんこ病(Oidium subgenus Reticuloidium)、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)、コスモスの炭疽病(Colletotrichum acutatum、Gloeosporium sp.)、うどんこ病(Sphaerotheca fusca)、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)、宿根かすみそうのうどんこ病(Oidium sp.)、立枯病(Fusarium moniliforme)、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)、スイトピーのうどんこ病(Oidium sp.)、萎凋病(Fusarium sp.)、半身萎凋病(Verticillium dahliae)、炭疽病(Glomerella cingulata、Colletotrichum gloeosporioides)、スターチスの炭疽病(Glomerella cingulata)、うどんこ病(Oidium sp.)、

0095

ストックの萎凋病(Fusarium oxysporum Schlechtendahl : Fries f. sp. conglutinans)、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)、炭疽病(Colletotrichum gloeosporioides、Colletotrichum higginsianum)、立枯病(Fusarium avenaceum)、半身萎凋病(Verticillium dahliae)、トルコギキョウの炭疽病(Colletotrichum acutatum)、茎腐病(Fusarium avenaceum)、うどんこ病(Oidium sp.)、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)、ひまわりのうどんこ病(Sphaerotheca fusca、Erysiphe cichoracearum)、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)、褐斑病(Septoria helianthi)、半身萎凋病(Verticillium dahliae)、ペチュニアのうどんこ病(Sphaerotheca fuliginea、Oidium sp.)、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)、マリーゴールドの半身萎凋病(Verticillium dahliae)等が好適に列挙することができるが、限ずしもここに記載した菌類に限定されるものではない。

0096

また、本発明の化合物(I)を使用する農園芸用薬剤組成物は、作物や、有用生物に対する安全性が高く、また魚類温血動物などの各種生物への毒性が低い薬剤である。
また、本発明の化合物(I)を使用する農園芸用薬剤組成物は、問題化しているベンズイミダゾール系の殺菌剤や、ジカルボキシイミド系の殺菌剤、MBI(メラニン合成阻害剤)、フェニルアマイド系の殺菌剤、EBI(エルゴステロール生合成阻害剤)、アニリノピリミジン系の殺菌剤、ストロビルリン系の殺菌剤、SDHI(コハク酸脱水素酵素阻害剤)、フルアジナム剤などの既存剤に対して耐性を有する耐性菌に対しても優れた殺菌活性を有する。

0097

本発明の化合物(I)は、殺菌活性以外にも殺虫活性、殺ダニ活性又は殺センチュウ活性を有する化合物、更にはそれら以外の他の活性化合物と混合してもよい。使用時期に同時に発生する病害及び/又は雑草を防除するために、殺菌活性、除草活性又は植物成長調整活性を有する化合物と混合して使用することにより、防除労力の低減と共に薬量の低減等の相乗効果等も期待できる。また、忌避剤共力剤等と混合して使用することにより、相乗効果等のより有効な防除効果が期待できる。

0098

本発明の化合物(I)は、そのまま、あるいは一般に農薬として取りうる形態、例えば、水和剤や、顆粒水和剤ドライフロアブル剤水溶剤乳剤、油性懸濁製剤、液剤油剤水性懸濁剤水性乳濁剤等のフロアブル剤、カプセル剤粉剤粒剤細粒剤ベイト錠剤噴霧剤煙霧剤エアゾール剤等の剤型で使用することができる。これらの製剤には有効成分の合計量として質量比で0.1〜99.9%、好ましくは0.2〜80%を含有される。また、これらの剤形とするためには、適宜、農園芸用薬剤の技術分野において、従来から使用されている各種の農薬補助剤を使用することができる。このような農薬補助剤は、例えば、農園芸用薬剤の効果の向上、安定化、分散性の向上等の目的で使用することができる。農薬補助剤としては、例えば、坦体希釈剤)や、展着剤乳化剤、湿展剤、分散剤崩壊剤等が挙げられる。
液体坦体としては、水や、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、メタノール、ブタノール、グリコール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ジメチルホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類メチルナフタレンシクロヘキサン動植物油脂肪酸等を挙げることができる。また、固体坦体としては、クレーや、カオリンタルク珪藻土シリカ、炭酸カルシウム、モンモリナイトベントナイト長石石英アルミナ鋸屑ニトロセルロースデンプンアラビアゴム等を用いることができる。

0099

乳化剤や、分散剤としては、通常の界面活性剤を使用することが出来、例えば、高級アルコール硫酸ナトリウムや、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライドポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルラウリルベタイン等の陰イオン系界面活性剤陽イオン界面活性剤非イオン系界面活性剤両イオン系界面活性剤等を用いることが出来る。また、展着剤;ジアルキルスルホサクシネート等の湿展剤;カルボキシメチルセルロースポリビニルアルコール等の固着剤リグニンスルホン酸ナトリウムラウリル硫酸ナトリウム等の崩壊剤等を用いることが出来る。菌類などの有害生物を防除するには、通常これらの有害生物による被害が発生している場所、ないしは被害が発生する可能性がある場所に対して、植物の茎葉部散布する他に、土壌全層混和作条施用、側条施用、床土混和、セル苗処理、植え穴処理株元処理、トップドレス、イネの箱処理、水面施用等、土壌等に処理して根から吸収させて使用することもできる。また、種子の薬剤への浸漬、種子粉衣、カルパー処理等の種子処理養液水耕)栽培における養液への施用、くん煙あるいは樹幹注入等による使用もできる。使用する場合、有害生物の種類や発生量及び対象とする作物・樹木の種類や栽培形態・生育状態により異なるが、一般に10アール当たり有効成分の合計量で0.01〜1000gを、好ましくは0.1〜100gを施用する。これを処理するには、水和剤、顆粒水和剤、ドライフロアブル剤、水溶剤、乳剤、油性懸濁製剤、液剤、水性懸濁剤・水性乳濁剤等のフロアブル剤、カプセル剤等では水で希釈し、対象とする植物の種類や栽培形態・生育状態により異なるが、一般に10アール当たり10〜1000リットル施用量で作物等に散布すればよい。また、粉剤、噴霧剤又はエアゾール剤では、その製剤の状態で作物等に処理すればよい。

0100

対象とする有害生物が主として土壌中で植物を加害する場合や、本発明の化合物を根部から吸収させて対象とする有害生物を防除する場合の施用方法としては、例えば、製剤を水に希釈又は希釈せずに植物体の株元又は育苗苗床等に施用する方法、粒剤を植物体の株元又は育苗のための苗床等に散布する方法、播種前又移植前に粉剤、水和剤、顆粒水和剤、粒剤等を散布し土壌全体と混和する方法、播種前又は植物体を植える前に植え穴、作条等に粉剤、水和剤、顆粒水和剤、粒剤、細粒剤、等を散布する方法等が挙げられる。水和剤、顆粒水和剤、水溶剤、乳剤、液剤、水性懸濁剤・水性乳濁剤等のフロアブル剤、カプセル剤等では水で希釈し、一般に10アール当たり5〜500リットルの施用量で、処理する区域全体に均等となるように土壌表面に散布あるいは土壌中に灌注、粉剤、粒剤、細粒剤又はベイト等ではその製剤の状態で、処理する区域全体に均等となるように土壌表面に散布すればよい。散布あるいは灌注は、加害から保護したい種子又は作物・樹木の周囲にしてもよい。

0101

また、散布中又は散布後に耕耘し、有効成分を機械的に分散させることもできる。土壌への処理をする場合、有害生物の種類や発生量及び対象とする作物・樹木の種類や栽培形態・生育状態あるいは土壌種により異なるが、一般に10アール当たり有効成分の合計量で0.01〜1000g、好ましくは0.1〜500gを施用する。水稲育苗箱への施用方法としては、剤型は、播種時施用、緑化期施用、移植時施用などの施用時期により異なる場合もあるが、例えば、粉剤、顆粒水和剤、粒剤、細粒剤等はそのままで、水和剤、顆粒水和剤、水溶剤、乳剤、液剤、水性懸濁剤・水性乳濁剤等のフロアブル剤、カプセル剤等では水で希釈して施用すれば良い。培土との混和によっても施用することができ、培土と粉剤又は粒剤等との混和、例えば、床土混和、覆土混和、培土全体への混和等することができる。また、単に、培土と各種製剤を交互に層状にして施用しても良い。水田への施用方法としては、ジャンボ剤パック剤、粒剤、顆粒水和剤等の固形製剤フロアブル、乳剤等の液体状製剤を、通常は、湛水状態の水田に散布する。その他、田植え時には、適当な製剤をそのまま、又は肥料等に混和して土壌に散布、注入することもできる。また、水口灌漑装置等の水田への水の流入元に水和剤、乳剤、フロアブル等の薬液を利用することにより、水の供給に伴い省力的に施用することもできる。

0102

種子処理の方法としては、例えば、液状又は固体状の製剤を希釈又は希釈せずして液体状態にて種子を浸漬して薬剤を付着・浸透させる方法、固形製剤又は液状製剤を種子と混和、粉衣処理して種子の表面に付着させる方法、樹脂ポリマー等の付着性担体と混和して種子にコーティングする方法、植え付けと同時に種子付近に散布する方法等が挙げられる。当該種子処理を行う「種子」とは、植物の繁殖に用いられる栽培初期の植物体を意味し、例えば、種子の他、球根塊茎種芋、株芽、むかご鱗茎又は挿し木栽培用栄養繁殖用の植物体を挙げることができる。また、施用する場合の植物の「土壌」又は「栽培担体」とは、作物を栽培するための支持体、特に根を生えさせる支持体を示すものであり、材質は特に制限されないが、植物が生育しうる材質であれば良く、いわゆる土壌、育苗マット、水等であっても良く、具体的な素材としては例えば、砂、軽石バーミキュライト、珪藻土、寒天ゲル状物質高分子物質ロックウールグラスウール木材チップバーク等が挙げられる。使用する場合、種子1キログラムあたり有効成分の合計量で、例えば、0.001〜50g、好ましくは、0.01〜10gである。

0103

移植を行う栽培植物の播種、育苗期の処理としては、種子への直接処理の他、育苗用苗床への、液状とした薬剤の潅注処理又は粒剤の散布処理が好ましい。また、定植時に粒剤を植え穴に処理する、あるいは移植場所近辺の栽培担体に混和することも好ましい処理である。

0104

本発明の化合物を使用する農園芸用薬剤組成物は、人間及び家畜ペット体表あるいは体内寄生して皮膚や消化系呼吸器系などの器官病気の発生や蔓延を、予防・治療することに価値がある。このような場面では、本発明の化合物を少量食事又は飼料等に混入すること、適切な経口摂取可能な調合薬剤組成物等、例えば薬剤上許容しうる担体やコーティング物質を含む錠剤、丸剤、カプセル剤、ペーストゲル、飲料、薬用飼料、薬用飲料水、薬用追、除放性大粒丸薬、その他胃腸管内保留されるようにした除放性デバイス等として経口投与、あるいはスプレー粉末グリースクリーム軟膏、乳剤、ローションスポットオンポアオン、シャンプー等として経皮投与することができる。この様な方法で効果を達成するためには、一般に有効成分化合物の合計量として質量比で0.0001〜0.1%、好ましくは0.001〜0.01%を含有させる。

0105

以下、本発明について、更に、実施例、製剤例及び試験例を使用して、詳しく説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例、製剤例及び試験例によって何ら限定されるものではない。

0106

実施例1
N'−(4−((1−(5−クロロチアゾール−2−イル)−ピぺリジン−4−イル)オキシ)−2,5−ジメチルフェニル)−N−エチル−N−メチルホルムイミダミド(化合物No.2)の合成(スキームA)

0107

<工程1>
1-(5−クロロチアゾール−2−イル)ピぺリジン−4−オールの合成

4−ヒドロキシピぺリジン(0.49g, 4.84 mmol)、Journal of Agricultural and Food Chemistry, 51(7), . 1823〜1830項(2003)の方法に従い合成した2,5−ジクロロチアゾール(0.82g, 5.32 mmol)及び微粉末炭酸カリウム(0.87g, 5.82 mmol)をDMF(10 mL)中80℃で5時間加熱した。反応液氷水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を水で2回、飽和食塩水洗浄し、無硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=4:1から0:1の濃度)により0.72g(68%), m.p. 82〜83℃を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ:1.56(d, 1H), 1.62−1.70 (m, 2H), 1.94-2.00(m, 2H), 2.05-3.25(m, 2H), 3.72-3.78(m, 2H), 3.93-3.98(m, 1H),6.91(s, 1H)

0108

<工程2>
N'−(4−((1−(5−クロロチアゾール−2−イル)−ピぺリジン−4−イル)オキシ)−2,5−ジメチルフェニル)−N−エチル−N−メチルホルムイミダミドの合成

N−エチル−N'−(4−ヒドロキシ−2,5−ジメチルフェニル)−N−メチルホルムアミジン(0.37g , 1.8 mmol)、 1-(5−クロロチアゾール−2−イル)ピぺリジン−4−オール(0.39g, 1.8 mmol)及びトリフェニルホスフィン(0.71g, 1.8 mmol)をTHF(20 mL)に溶解し、アルゴン雰囲気下でDEAD(2.2Mのトルエン溶液106 mL, 2.34 mmol)を加え室温で0.5時間撹拌後、更に90℃で6時間撹拌した。水を加え酢酸エチルで2回抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:アセトン=9:1から3:2の濃度勾配)により油状物を得、更にアルミナカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=4:1から3:2の濃度勾配)により油状物として60mg (8%)を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ:1.21(t, 3H), 1.92−2.04 (m, 4H), 2.17(s, 3H), 2.23(s, 3H) 2.97(s, 3H), 3.34(br, 2H), 3.89-3.44(m, 2H), 3.63-3.69(m, 2H), 4.44-4.46(m, 1H),6.56(s, 1H), 6.67(s, 1H), 6.97(s, 1H), 7.40(s, 1H)

0109

実施例2
N'−(4−((1−(6−クロロピリジン−3−イル)−ピぺリジン−4−イルオキシ)−2,5−ジメチルフェニル)−N−エチル−N−メチルホルムイミダミド(化合物No.27)の合成(スキームB)

0110

<工程1> 8−(6−クロロピリジン−3−イル)−1,4−ジオキサ−8−アザスピロ[4.5]デカンの合成

アルゴン雰囲気下、4−ピぺリジエチレンケタール(2.86g, 20.0 mmol)、 2−ブロモ−3,5−ジメチルピリジン(4.47g, 24.0 mmol)及び t−BuONa(1.92g, 20.0 mmol)をt−BuOH(15 mL)とトルエン(15 mL)の混液にPd(OAc)2 (0.23g, 5 mol%)とXphos(0.48g, 5 mol%)を加え、120℃で8時間加熱還流した。水を加え酢酸エチルで2回抽出した。有機層を無硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル:エタノール=4: 10から0:9:1の濃度勾配)に1.75g(35%),油状物を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ: 1.82−1.85(m, 4H), 3.32−3.45(m, 4H),4.00(s, 4H), 7.14−7.19(m, 2H), 8.03−8.04(m, 4H)

0111

<工程2>
1−(6−クロロピリジン−3−イル)ピぺリジン−4−オンの合成

8−(6−クロロピリジン−3−イル)−1,4−ジオキサ−8−アザスピロ[4.5]デカン(1.63g, 6.56 mmol)をギ酸(12 mL)と水(12 mL)中、90℃で6時間加熱撹拌した。減圧下で溶媒を留去した後,飽和炭酸水素を加えて塩基性とし、酢酸エチルで2回抽出した。合わせた有機層を無硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル:酢酸エチル=4:1から0:1の濃度勾配)により油状物として1.25g(93%),油状物を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ: 2.59(t, 4H), 3.62(t, 4H), 7.23(m, 2H), 8.03−8.09(m, 1H)

0112

<工程3>
1−(6−クロロピリジン−3−イル)ピぺリジン−4−オールの合成

NaBH4(0.23g, 6.12 mmol)をエタノール(5 mL)に懸濁し,氷冷撹拌下エタノール(15 mL)に溶解した1-(6-クロロピリジン-3-イル)ピぺリジン-4-オン(1.25g, 6.12 mmol)をゆっくり加えた。室温で更に4時間撹拌し、減圧下で溶媒を留去した。残渣に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル:エタノール=1:10から0:4:1の濃度勾配)により固体として0.95g (75%), m.p. 113〜115℃を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ: 1.51(d, 1H), 1.65-1.74(m, 2H), 1.99-2.05(m, 2H), 2.95-3.56(m, 2H), 3.88-3.93(m, 1H), 7.14-7.21(m, 2H), 8.03-3.93(m, 1H), 8.03(s, 1H)

0113

<工程4>
N'−(4−((1−(6−クロロピリジン−3−イル)ピペリジン−4−イル)オキシ)−2,5−ジメチルフェニル)−N−エチル−N−メチルホルムイミダミドの合成

方法はスキームAの工程に従い合成し、油状物として0.13g(収率18%)を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ:1.19(t, 3H), 1.94−2.00 (m, 2H), 2.03−2.09 (m, 2H), 2.17(s, 3H), 2.23(s, 3H), 2.97(s, 3H), 3.13-3.19(m, 2H), 3.35(br, 2H), 3.43-3.49(m, 2H), 4.38-4.40(m, 1H),6.56(s, 1H), 6.68(s, 1H), 7.15-7.22(m, 2H), 8.05(d, 1H)

0114

実施例3
N'−(5−クロロ−4−((1−(3,5−ジクロロピリジン−2−イル)ピぺリジン−4−イルオキシ)−2−メチルフェニル)−N−エチル−N−メチルホルムイミダミド(化合物No.37)の合成(スキームC)

0115

<工程1>
1−(3,5−ジクロロピリジン−2−イル)ピぺリジン−4−イルメタンスルホネートの合成

スキームAの工程1に従い合成した1−(3,5−ジクロロピリジン−2−イル)ピぺリジン−4−オール(1.92g, 8.41 mmol)とトリエチルアミン(1.19g, 11.40 mmol)をクロロホルム(15 mL)に溶解し、氷冷下でクロロホルム(5 mL)に溶解したメタンスルホニルクロリド(1.16g, 9.62 mmol)を滴下した。室温で3時間撹拌後、反応液に飽和食塩水を加えクロロホルムで2回抽出した。無硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。 残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル:エタノール=1:10から0:4:1の濃度勾配)により油状物として2.06g(80%)を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ: 1.57−2.08(m, 2H), 2.12−2.18(m, 2H), 3.06(s, 3H), 3.17-3.23(m, 2H), 3.56-3.62(m, 2H), 4.93-4.97(m, 1H), 7.61(d, 1H), 8.12(d, 1H)

0116

<工程2>
N'−(5−クロロ−4−((1−(3,5−ジクロロピリジン−2−イル)ピぺリジン−4−イル)オキシ)−2−メチルフェニル)−N−エチル−N−メチルホルムイミダミド

アルゴン雰囲気下, WO2007/031526の方法で合成したN'−(5−クロロ−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−N−エチル−N−メチルホルムイミダミド(0.41g, 1.8 mmol)、1−(3,5−ジクロロピリジン−2−イル)ピぺリジン−4−イルメタンスルフォネート(0.72g, 2.0 mmol)、炭酸カリウム(0.30g, 2.4mmol)をDMF(15 mL)中で2時間加熱撹拌した。反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=49:1から9:1の濃度勾配)により精製し,油状物として0.33g(40%)を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ:1.20(t, 3H), 1.95−2.12 (m, 4H), 2.17(s, 3H), 2.18(s, 3H) 2.99(s, 3H), 3.19-3.25(m, 2H), 3.33(br, 2H), 4.11-4.43(m, 1H), 4.44-4.46(m, 1H), 6.77(s, 1H), 6.83(s, 1H), 7.51(s, 1H), 7.58(s, 1H), 8.11(s, 1H)

0117

実施例4
N'−(5−ブロモ−6−((1−(2−クロロピリジン−4−イル)ピぺリジン−4−イル)オキシ)−2−メチルピリジン−3−イル)−N−エチル−N−メチルホルムイミダミド(化合物No.55)の合成(スキームD)

0118

<工程1>
3−ブロモ−2−((1−(2−クロロピリジン−4−イル)ピぺリジン−4−イル)オキシ)−6−メチル−5−ニトロピリジンの合成

1−(2−クロロピリジン−4−イル)ピペリジン−4−オール(0.50 g,2.35 mmol)、3−ブロモ−6−メチル−5−ニトロ−ピリジン−2−オール(0.55 g,2.35 mmol)、トリフェニルホスフィン(0.740 g,2.82 mmol)をTHFに溶解し、アルゴン撹拌した。DIAD(0.570g,2.82 mmol)を加え、5時間加熱還流した。水を加え、酢酸エチルで抽出、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(0〜2% 酢酸エチル/ヘキサン) で精製した。

1H-NMR(CDCl3)δppm:1.96−2.03(m, 2H), 2.05−2.13(m, 2H), 2.79(s, 3H), 3.45−3.51(m, 2H), 3.59−3.65(m, 2H), 5.53−5.58(m, 1H), 6.62(dd, 1H), 6.70(d, 1H), 8.04(d, 1H), 8.56(s, 1H)

0119

<工程2>
5−ブロモ−6−(1−(2−クロロピリジン−4−イル)ピぺリジン−4−イル)オキシ)−2−メチルピリジン−3−アミンの合成

上記で得られた3−ブロモ−2−((1−(2−クロロピリジン−4−イル)ピぺリジン−4−イル)オキシ)−6−メチル−5−ニトロピリジンをエタノール(40 mL)に溶解し、水(10 mL)、鉄粉(0.20g ,3.53 mmol)、塩化アンモニウム(0.13g,2.35 mmol)を加え、2時間加熱還流した。セライトろ過後、溶媒をエバポレーターで留去。飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(50 % 酢酸エチル/ヘキサン) で精製し、0.59g (63 %), m.p.151 〜153 ℃を得た。
1H-NMR(CDCl3)δppm:1.88-2.03(m, 4H), 2.28(s, 3H), 3.34(br, 2H), 3.41 - 3.46(m, 2H), 3.58-3.64(m, 2H), 5.27−5.31(m, 1H), 6.60(dd, 1H), 6.68(d, 1H), 7.19(s, 1H), 8.01(d, 1H)

0120

<工程3・4>
N'−(5−ブロモ−6−((1−(2−クロロピリジン−4−イル)ピぺリジン−4−イル)オキシ)−2−メチルピリジン−3−イル)−N−エチル−N−メチルホルムイミダミドの合成

5−ブロモ−6−(1−(2−クロロピリジン−4−イル)ピぺリジン−4−イル)オキシ)−2−メチルピリジン−3−アミン(0.48g,1.21 mmol)、p-トルエンスルホン酸(0.01g,0.06 mmol)をオルトギ酸トリメチル(2.57g,24.2 mmol)に加え、2時間加熱還流した。エバポレーターで溶媒を留去し、トルエンに転溶、N-エチルメチルアミン(0.225g,3.63 mmol)を加え、50℃ 4時間加熱撹拌した。減圧下で溶媒を留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(0 〜 50 %酢酸エチル/ヘキサン) で精製し、0.26g(46 %), m.p. 102 〜106 ℃を得た。
1H-NMR(CDCl3)δppm:1.21(t, 3H), 1.89−1.96(m, 2H), 1.99−2.06(m, 2H), 2.38(s, 3H), 3.00(s, 3H), 3.31(br, 2H), 3.38−3.44(m, 2H), 3.60-3.67(m, 2H), 5.34−5.39(m, 1H), 6.60(dd, 1H), 6.68(d, 1H), 7.10(s, 1H), 7.43(br, 1H), 8.01(d, 1H)

0121

実施例5
N'−(4−((1−(3,5−ジクロロピリジン−2−イル)ピぺリジン−4−イル)オキシ)−2,5−ジメチルフェニル)−N,N−ジメチルホルムイミダミド(化合物No. 6)の合成(スキームD)

0122

<工程1>
4−((1−(3,5−ジクロロピリジン−2−イル)ピぺリジン−4−イル)オキシ)−2,5−ジメチルアニリン

スキームCの工程2に従って合成した3,5−ジクロロ−2−(4−(2,5−ジメチル−4−ニトロフェノキシ)ピぺリジン−1−イル)ピリジン(0.40g, 101 mmol)を1, 4−ジオキサン(5.0 mL)に溶解し、濃塩酸(5.0 mL)を加えた。塩化第二スズ(0.68g,3.03 mmol)を40℃以下でゆっくり加え, 室温で8時間撹拌した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で塩基性とした。酢酸エチルで2回抽出しし、合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=4:1から1:1の濃度勾配)により精製し,油状物として0.29g(78%)を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ: 1.93−1.98(m, 2H), 2.05−2.11(m, 2H), 2.14(s, 3H), 2.17(s, 3H), 3.15−3.21(m, 2H), 2.51−3.57(m, 2H), 3.35(s, 3H), 3.59−3.64(m, 2H), 4.26-4.30(m, 1H), 6.52 (s, 1H), 6.65 (s, 1H), 7.59(d, 1H), 8.12(d, 1H),

0123

<工程2>
N'−(4−((1−(3,5−ジクロロピリジン−2−イル)ピぺリジン−4−イル)オキシ)−2,5−ジメチルフェニル)−N,N−ジメチルホルムイミダミドの合成

4−((1−(3,5−ジクロロピリジン−2−イル)ピぺリジン−4−イル)オキシ)−2,5−ジメチルアニリン(0.29g,0.79 mmol)とDMF−DMA(0.47g,19.8 mmol)をトルエン(10 mL)中で110℃で3時間加熱撹拌した。減圧下で溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチ = 9:1 〜3:2の濃度勾配)により油状物として0.16g(48%)を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ: 1.93−1.99 (m, 2H), 2.05−2.11 (m, 2H), 2.19(s, 3H), 2.24(s, H), 2.99(s, 3H), 3.19-3.25(m, 2H), 3.57-3.62(m, 2H), 4.38-4.40(m, 1H), 6.56(s, 1H), 6.70 (s, 1H), 7.39(s, 1H), 7.59(d, 1H), 8.12(s, 1H)

0124

本発明の代表化合物を下記表1に例示するが、本発明はこれらの化合物に限定されるもとではない。

0125

表1中及び下記に示す式中、番号は、化合物の番号を示し、「Me」は、メチル基を、「Et」は、エチル基を、「Pr」は、プロピル基を、「i−Pr」は、イソプロピル基を、それぞれ示す。

0126

表1中、物性として示した数値融点(℃)である。これら化合物は、前記合成例の製造方法に基づいて合成することができる。

0127

本発明の代表化合物を、下記表1に例示するが、本発明はこれらの化合物に限定されるもとではない。



表1

0128

物性欄にオイル又はアモルファス表記された化合物については、1H-NMR(400MHz, CDCl3)δを測定した。測定結果を以下の表2に示す。
表2
NMRデータ

0129

化合物No. 102及び103は1H-NMR(DMSO−D6)で測定した。

0130

以下に若干の製剤例を挙げて、本発明の化合物を含有する製剤について具体的に説明するが、本発明の範囲は、使用された化合物、補助成分及びその添加量等の態様によって、何ら限定されるものではない。なお、製剤例において部とあるのは全て質量部を表す。

0131

製剤例1乳剤
本発明の化合物(10部)、キシレン(60部)、N−メチル−2−ピロリドン(20部)、ソルポール3005X(非イオン性界面活性剤アニオン性界面活性剤の混合物、東邦化学工業株式会社、商品名)(10部)を均一に混合溶解して、乳剤を得た。

0132

製剤例2水和剤−1
本発明の化合物(20部)、ニップシールNS−K(ホワイトカーボン、東ソー・シリカ株式会社、商品名)(10部)、カオリンクレーカオリナイト原化学工業株式会社、商品名)(60部)、サンエキスP−252(リグニンスルホン酸ナトリウム、日本製紙株式会社、商品名)(5部)及びルノックスP−65L(アルキルアリルスルホン酸塩、東邦化学工業株式会社、商品名)(5部)をエアーミルにて均一に混合粉砕して、水和剤を得た。

0133

製剤例3水和剤−2
本発明の化合物(20部)、ニップシールNS−K(ホワイトカーボン、東ソー・シリカ株式会社、商品名) (20部)、カオリンクレー(カオリナイト、竹原化学工業株式会社、商品名)(50部)、ルノックス1000C(ナフタレンスルホン酸塩縮合物、東邦化学工業株式会社、商品名)(5部)及びソルポール5276(非イオン性界面活性剤、東邦化学工業株式会社、商品名)(5部)をエアーミルにて均一に混合粉砕して、水和剤を得た。

0134

製造例4顆粒水和剤
本発明の化合物(20部)、デモールN(ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物、花王株式会社、商品名)(5部)、エアロールCT−1L(ジオクチルスルホコハク酸塩、東邦化学工業株式会社、商品名)(1部)、セロゲン701A(カルボキシメチルセルロース、第一工業製薬株式会社)(1部)及びカオリンクレー(カオリナイト、竹原化学工業株式会社、商品名)(73部)をエアーミルにて均一に混合粉砕した。この混合物に水を加えてよく練り合わせた後、押し出し造粒し、乾燥整粒して顆粒水和剤を得た。

0135

製剤例5水溶剤−1
本発明の化合物(20部)、ルノックスP−65L(アルキルアリルスルホン酸塩、東邦化学工業株式会社、商品名)(3部)、水溶性担体塩化カリウム(77部)を均一に混合粉砕して、水溶剤を得た。

0136

製剤例6水溶剤−2
本発明の化合物(50部)、ニューカルゲンBX−C(アルキルナフタレンスルホン酸Na、竹本油脂株式会社製、商品名)(5部)水溶性担体塩化カリウム(45部)を均一に混合粉砕して、水溶剤を得た。

0137

製剤例7フロアブル剤−1
予め混合しておいたプロピレングリコール(5部)、ソルポール7933(アニオン性界面活性剤、東邦化学工業株式会社、商品名)(5部)、水(50部)に本発明の化合物(20部)を分散させ、スラリー状混合物とし、次にこのスラリー状混合物を、湿式粉砕した後、予めキサンタンガムケルザン、三晶株式会社、商品名)(0.2部)を水(19.8部)によく混合分散させたものを添加し、フロアブル剤を得た。

0138

製剤例8フロアブル剤−2
本発明の化合物(20部)、ニューカルゲンFS−26(ジオクチルスルホサクシネートとポリオキシエチレントリスチリルフェニルエーテルとの混合物、竹本油脂株式会社、商品名)(5部)、プロピレングリコール(8部)、水(50部)を予め混合しておき、このスラリー状混合物を、湿式粉砕した。次にキサンタンガム(0.2部)を水(16.8部)によく混合分散させゲル状物を作成し、粉砕したスラリーと十分に混合して、フロアブル剤を得た。

0139

製剤例9 EW−1
本発明の化合物(20部)、ソルポールCA−42(非イオン活性剤、東邦化学工業株式会社、商品名)(15部)、及び防腐剤プロキセルGX−L(ロンジャパン株式会社、商品名)(0.1部)を均一に混合させた後、攪拌しながら水(59.6部)を徐々に加えて、分散物を得た。得られた分散物に消泡剤アンチホームE−20(エマルジョン型変性シリコーン系、花王株式会社、商品名)(0.1部)を加え、プロピレングリコール(5.0部)に分散させたキサンタンガム(ケルザン、三晶株式会社、商品名)(0.2部)を添加しエマルション製剤を得た(転相乳化法)。

0140

製剤例10 EW−2
本発明の化合物(10部)をキシレン(10部)に溶解させ、界面活性剤レオドール430V(テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット、花王株式会社、商品名)(24部)と混合させた後、攪拌しながら水(50.6部)を徐々に加えて分散液を得た。得られた分散液に、消泡剤アンチホームE−20(エマルジョン型変性シリコーン系、花王株式会社、商品名)(0.1部)、防腐剤プロキセルGX−L(ロンザジャパン株式会社、商品名)(0.1部)を添加してからホモジナイザーを用いて分散させ、プロピレングリコール(5.0部)に分散させたキサンタンガム(ケルザン、三晶株式会社、商品名)(0.2部)を添加しエマルション製剤を得た(機械乳化法)。

0141

製剤例11 ME剤−1
本発明の化合物(0.01部)及びソルポールCA−42(非イオン活性剤、東邦化学工業株式会社、商品名)(0.1部)を均一に混合した後、攪拌しながら徐々に水(99.79部)を添加した。得られた分散液に防腐剤プロキセルGX−L(ロンザジャパン株式会社、商品名)(0.1部)を添加し、マイクロエマルションを得た。

0142

製剤例12 ME剤−2
本発明の化合物(10部)とニューカルゲンD−945(ポリオキシエチレン(20モル)ソルビタンモノオレート、竹本油脂(株)、商品名)(20部)を混合し均一とした後、攪拌しながら徐々に水(69.9部)を添加した。得られた分散液に防腐剤プロキセルGX−L(ロンザジャパン株式会社、商品名)(0.1部)を添加して、マイクロエマルションを得た。

0143

製剤例13 ME剤−3
本発明の化合物(0.01部)を溶媒ソルベッソ200(エクソンモービル,商品名)(0.08部)とニューカルゲンST−30(ポリオキシエチレンアリールフェニルエーテルホルムアルデヒド縮合物ポリオキシアルキレンアリールフェニルエーテルアルキルベンゼンスルホン酸塩とキシレンの混合物、竹本油脂株式会社、商品名)(0.12部)に溶解させた後、界面活性剤と均一に混合し、攪拌しながら水(99.69部)を徐々に加えた。得られた分散液に、防腐剤プロキセルGX−L(ロンザジャパン株式会社、商品名)(0.1部)を添加して、マイクロエマルションを得た。

0144

製剤例14粒剤−1
本発明の化合物(15部)、サンエキスP−252(リグニンスルホン酸ナトリウム、日本製紙株式会社、商品名)(5部)、ルノックスP—65L(アルキルアリルスルホン酸塩、東邦化学工業株式会社、商品名)(2部)、佐渡ベントナイト(関東ベントナイト工業株式会社)(20部)及びカオリンクレー(カオリナイト、竹原化学工業株式会社、商品名)(58部)をエアーミルにて均一に混合粉砕した。この混合物に水を加えてよく練り合わせた後、押し出し造粒し、乾燥整粒して粒剤を得た。

0145

製剤例15粒剤−2
転動造粒機珪砂(90部)を入れ、含水させた後、予め粉砕混合しておいた本発明の化合物(5部)、サンエキスP−252(リグニンスルホン酸ナトリウム、日本製紙株式会社、商品名)(4部)、予め水に溶かしたゴーセノールGL05(ポリビニルアルコール、日本合成化学工業株式会社、商品名)(0.5部)及びニップシールNS−K(ホワイトカーボン、東ソー・シリカ株式会社、商品名)(0.5部)を入れ、コーティングした後、乾燥整粒して粒剤を得た。

0146

製剤例16粒剤−3
転動型造粒機に石川ライト(石川ライト工業株式会社、商品名)(89部)を入れ含水させた後、予め粉砕混合しておいた本発明の化合物(5部)、サンエキスP−252(リグニンスルホン酸ナトリウム、日本製紙株式会社、商品名)(3部)、エアロールCT−1L(ジオクチルスルホコハク酸塩、東邦化学工業株式会社、商品名)(0.5部)、ソルポール5276(非イオン活性剤、東邦化学工業株式会社、商品名)(2部)及び予め水に溶かしたゴーセノールGL05(ポリビニルアルコール、日本合成化学工業株式会社、商品名)(0.5部)を入れ、コーティングした後、乾燥整粒して粒剤を得た。

0147

製剤例17微粒剤−1
本発明の化合物(2部)を溶剤で希釈し、石川ライト(石川ライト工業株式会社、商品名)(98部)に希釈液をスプレーしながら混合した。得られた粒状組成物を乾燥した後、い分けして微粒剤を得た。

0148

製剤例18微粒剤−2
本発明の化合物(5部)をエアーミル粉砕する。粉末状原体増量剤である6号珪砂(宇部サンド工業株式会社、商品名)(85部)を均一混合した後、溶剤で希釈した結合剤トキサノンGR−31A(ポリカルボン酸型アニオン界面活性剤水溶液、三洋化成工業株式会社、商品名)(10部)をスプレーしながら混合し、得られた粒状組成物を乾燥した後、篩い分けして微粒剤を得た。

0149

製剤例19粉剤
本発明の化合物(2部)、ニップシールNS−K(ホワイトカーボン、東ソー・シリカ株式会社、商品名)(10部)及びカオリンクレー(カオリナイト、竹原化学工業株式会社、商品名)(88部)をエアーミルにて均一に混合粉砕して、粉剤を得た。

0150

製剤例20 DL粉剤
本発明の化合物(5部)、プロピレングリコール(0.5部)、及びDLクレー(昭和KDE株式会社、商品名)(94.5部)を均一に混合粉砕して、粉剤を得た。

0151

製剤例21 種子コーティング粉剤
本発明の化合物(10部)、サンエキスP−252(リグニンスルホン酸ナトリウム、日本製紙株式会社、商品名)(6部)、ゴーセノールGL05(ポリビニルアルコール、日本合成化学工業株式会社、商品名)(1部)及びクレー(日本タルク(株)商品名)(83部)を均一に混合粉砕して調製した粉剤と、予め湿らせた種子とを混合し、風乾させコーティング種子を得た。

0152

製剤例22 油性懸濁製剤
本発明の化合物(20部)、ニューカルゲンC120(POEトリスチリルフェニルエーテル、竹本油脂株式会社、商品名)(5部)、レオドールTW−O120V(POEソルビタンモノオレエート、花王株式会社、商品名)(10部)、オレイン酸メチルエステル(関東化学株式会社、試薬)(62部)、エスベンNZ(有機ベントナイト、株式会社ホージュン、商品名)(3部)を十分に混合分散し、このスラリー状分散物を湿式粉砕して、油性懸濁製剤を得た。

0153

次に、本発明の化合物の作用効果有用性を、具体的実施例を挙げて説明する。比較対照に用いた化合物は下記の化合物記号で示す。
比較化合物A(特許文献1に記載の化合物)

0154

試験例1:キュウリ灰色かび病に対する予防試験
播種8日後のきゅうり苗(品種:相模半白節成)の胚軸を2cm程度残して子葉部分を切り取った。32cm×24cm×4.5cm(たて×よこ×高さ)のプラスチックケースの底部に水で十分に湿らせたペーパータオルを敷き、ペーパータオルの上に網を置いた。この網の上に、上記の切り取った子葉を胚軸切断面が湿らせたペーパータオルに接触するように並べた。その子葉の中心部に、胞子懸濁液胞子濃度:10×106個/ml)を50μlずつ滴下し、直径8mmのペーパーディスクを乗せた。製剤例1に準じて調製した乳剤の水希釈液希釈率250倍)をペーパーディスクの上から50μlずつ滴下した。プラスチックケースに蓋をしてビニールテープ密閉した後、室温20℃で72時間保持した。その後、以下の基準に従い発病の程度を発病度別に調査し、下記の式に基づき防除価を算出した。

0155

発病度0(無発病)
発病度6.25(わずかに侵入痕がみられる)
発病度12.5(ペーパーディスク内直径5〜8mm程度病斑伸展
発病度25(ペーパーディスクの周り2mm程度まで病斑伸展)
発病度50(ペーパーディスクの周り5mm以上10mm未満病斑伸展)
発病度100(ペーパーディスクの周り10mm以上病斑伸展)

0156

防除価(%)= [1−(処理区発病度/無処理区発病度)]×100

0157

化合物番号1、2、4、6、7、8、9、10、12、13、14、15、18、19、21、22、23、24、25、26、27、28、29、30、32、33、34、35、36、37、38、39、41、42、44、45、46、47、48、49、50、51、52、53、55、56、58、59、60、61、62、64、65、66、68、69、70、71、72、73、74、75、76、77、79、80、83、84、86、87、89、90、91、92、93、94、95、96、97、99、100、101、103、104、105及び106の化合物は、400ppmで防除価90以上の防除効果を示した。
一方、比較剤Aは、400ppmの濃度で防除75であった。

0158

試験例2:キュウリうどんこ病に対する予防試験
前述した方法で所定濃度に調製した薬液をきゅうり苗(約1.5葉期幼苗)全体に5ml/ポットの割合でスプレーガンを用いて散布した。散布翌日、所定濃度の胞子懸濁液(胞子濃度:10×105個/ml)を第1本葉の葉表に噴霧接種した。接種後はガラス温室静置し、接種12日後に発病度を下記の病斑面積率に基づき調査し、下式に基づき、防除価を算出した。
発病度0(病斑面積率:0%)、発病度6.25(病斑面積率:0〜6.3%未満)、発病度12.5(病斑面積率:6.3〜12.5%未満)、発病度25(病斑面積率:12.5〜25%未満)、発病度50(病斑面積率:25〜50%未満)、発病度100(病斑面積率:50%以上)
防除価(%)= [1−(処理区発病度/無処理区発病度)]×100

0159

化合物番号1、2、3、4、6、7、8、9、10、12、13、14、15、16、17、19、20、21、22、23、24、25、26、27、28、29、30、32、33、34、35、36、37、38、39、40、41、42、44、45、47、48、49、50、51、52、53、55、56、58、59、60、61、62、63、64、65、66、67、68、69、70、72、71、73、74、75、76、77、79、80、81、83、84、85、86、87、89、90、91、92、93、94、95、96、97、98、100、102、103、104、105、106の化合物は、400ppmで防除価90以上の防除効果を示した。
一方、比較剤Aは、400ppmの濃度で防除0であった。

0160

試験例3:キュウリ炭疽病に対する予防試験
前述した方法で所定濃度に調製した薬液をきゅうり苗(約1.5葉期の幼苗)全体に5ml/ポットの割合でスプレーガンを用いて散布した。散布翌日、所定濃度の胞子懸濁液(胞子濃度:10×105個/ml) を第1本葉の葉裏に噴霧接種した。接種後は温度20℃、湿度100%のインキュベータ内で48時間保持し、その後ガラス温室で静置した。接種7日後に発病度を下記の病斑面積率に基づき調査し、下式に基づき、防除価を算出した。

0161

発病度0(病斑面積率:0%)、発病度6.25(病斑面積率:0〜6.3%未満)、発病度12.5(病斑面積率:6.3〜12.5%未満)、発病度25(病斑面積率:12.5〜25%未満)、発病度50(病斑面積率:25〜50%未満)、発病度100(病斑面積率:50%以上)
防除価(%)= [1−(処理区発病度/無処理区発病度)]×100

0162

化合物番号1、2、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、19、21、23、24、25、26、27、28、29、30、32、33、34、36、37、38、40、41、42、44、45、48、49、52、55、56、59、60、61、62、64、65、66、67、68、69、70、72、74、75、76、77、83、84、85、86、89、90、91、92、97、98、99、100、101、103、104、105及び106の化合物は400ppmで防除価90以上の防除効果を示した。
一方、比較剤Aは、400ppmの濃度で防除価0であった。

0163

試験例4:トマト疫病に対する予防試験
前述した方法で所定濃度に調製した薬液をトマト苗(約2.5葉期の幼苗)全体に5ml/ポットの割合でスプレーガンを用いて散布した。散布翌日、所定濃度の遊走子嚢懸濁液(胞子濃度:10×105個/ml)を第1及び第2本葉の葉表に噴霧接種した。接種後は温度20℃、湿度100%のインキュベータ内で24時間保持し、その後ガラス温室で静置した。接種5日後に発病度を下記の病斑面積率に基づき調査し、下式に基づき、防除価を算出した。
発病度0(病斑面積率:0%)、発病度6.25(病斑面積率:0〜6.3%未満)、発病度12.5(病斑面積率:6.3〜12.5%未満)、発病度25(病斑面積率:12.5〜25%未満)、発病度50(病斑面積率:25〜50%未満)、発病度100(病斑面積率:50%以上)
防除価(%)= [1−(処理区発病度/無処理区発病度)]×100

0164

化合物番号25、45及び72の化合物は、400ppmの濃度で防除価90以上の防除効果を示した。
一方、比較剤Aは、400ppmの濃度で防除価0であった。

0165

試験例5:コムギ赤さび病に対する予防効果
前述した方法で所定濃度に調製した薬液を小麦苗(1葉期の幼苗)全体に5ml/ポットの割合でスプレーガンを用いて散布した。散布翌日、所定濃度の胞子懸濁液(胞子濃度:10×105個/ml)を第1葉に噴霧接種した。接種後は温度20℃、湿度100%のインキュベータ内で48時間保持し、その後ガラス温室で静置した。接種8日後に発病度を下記の病斑面積率に基づき調査し、下式に基づき、防除価を算出した。
発病度0(病斑面積率:0%)、発病度6.25(病斑面積率:0〜6.3%未満)、発病度12.5(病斑面積率:6.3〜12.5%未満)、発病度25(病斑面積率:12.5〜25%未満)、発病度50(病斑面積率:25〜50%未満)、発病度100(病斑面積率:50%以上)
防除価(%)= [1−(処理区発病度/無処理区発病度)]×100

0166

化合物番号15、23、24、25、37、38及び39の化合物は400ppmの濃度で防除価90以上の防除効果を示した。
一方、比較剤Aは、400ppmの濃度で防除価0であった。

実施例

0167

上記の通り、本発明の化合物(I)は、各種植物病原菌に対しても高い防除効果を示し、更に、低薬量で効果を奏し、従って、残留毒性や環境汚染等の問題が軽減された安全性の高い農園芸用殺菌剤用の化合物を提供することにある。

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