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技術 ハイトゲージ

出願人 株式会社ミツトヨ
発明者 矢野龍介
出願日 2018年7月17日 (1年11ヶ月経過) 出願番号 2018-134567
公開日 2020年1月23日 (5ヶ月経過) 公開番号 2020-012712
状態 未査定
技術分野 機械的手段による測長計器
主要キーワード 脱落防止状態 エアー孔 エアー吐出口 浮上用エア エアー噴出孔 浮上停止 定圧機構 速度操作
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(2020年1月23日)のものです。
また、この項目は機械的に抽出しているため、正しく解析できていない場合があります

図面 (14)

課題

正確かつ容易に微小移動可能なハイトゲージを提供する。

解決手段

定盤の定盤面10aに沿って移動可能に載置されるベース11と、ベースに立設された支柱12と、支柱に沿って昇降可能に設けられ測定子13を有するスライダ14と、スライダの高さ方向の変位量を検出する変位センサ45と、ベースから定盤面に向けて浮上用エアーを噴射してベースを定盤面に対して浮上させる浮上用噴射部21を有するエアー噴射手段20と、エアー噴射手段によるエアー噴射を制御する制御部41と、を備えたハイトゲージ1である。このハイトゲージにおいて、エアー噴射手段は、ベースが定盤面に対して浮上している状態で定盤面に向けて方向制御エアーを噴射してベースを定盤面に沿って移動させる方向制御用噴射部22を有する。

概要

背景

定盤の定盤面に載置された対象物の高さを測定するハイトゲージは、定盤面に沿って移動可能に載置されるベースと、このベースに立設された支柱と、この支柱に沿って昇降可能に設けられ測定子を有するスライダと、このスライダの高さ方向の変位量を検出する変位センサとを備える。

ハイトゲージは、測定子を対象物の測定点に近づけるため、定盤面に沿ってベースを移動させる必要がある。例えば、特許文献1には、ベースから定盤上にエアー噴出してベースを定盤に対して浮上させるエアー浮上手段を備えたハイトゲージが開示される。このハイトゲージでは、エアー浮上手段へのエアー供給遮断を制御するスイッチが設けられたハンドルを備えており、測定子と対象物との位置関係を確認しながら、楽な姿勢でハイトゲージを移動させることができる。

概要

正確かつ容易に微小移動可能なハイトゲージを提供する。定盤の定盤面10aに沿って移動可能に載置されるベース11と、ベースに立設された支柱12と、支柱に沿って昇降可能に設けられ測定子13を有するスライダ14と、スライダの高さ方向の変位量を検出する変位センサ45と、ベースから定盤面に向けて浮上用エアーを噴射してベースを定盤面に対して浮上させる浮上用噴射部21を有するエアー噴射手段20と、エアー噴射手段によるエアー噴射を制御する制御部41と、を備えたハイトゲージ1である。このハイトゲージにおいて、エアー噴射手段は、ベースが定盤面に対して浮上している状態で定盤面に向けて方向制御用エアーを噴射してベースを定盤面に沿って移動させる方向制御用噴射部22を有する。

目的

本発明は、正確かつ容易に微小移動可能なハイトゲージを提供する

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
0件

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請求項1

定盤の定盤面に沿って移動可能に載置されるベースと、前記ベースに立設された支柱と、前記支柱に沿って昇降可能に設けられ測定子を有するスライダと、前記スライダの高さ方向の変位量を検出する変位センサと、前記ベースから前記定盤面に向けて浮上用エアーを噴射して前記ベースを前記定盤面に対して浮上させる浮上用噴射部を有するエアー噴射手段と、前記エアー噴射手段によるエアー噴射を制御する制御部と、を備えたハイトゲージであって、前記エアー噴射手段は、前記ベースが前記定盤面に対して浮上している状態で前記定盤面に向けて方向制御エアーを噴射して前記ベースを前記定盤面に沿って移動させる方向制御用噴射部を有する、ことを特徴とするハイトゲージ。

請求項2

前記ベースの移動方向の指示を受け付け方向操作部をさらに備え、前記制御部は、前記方向操作部によって受け付けた移動方向の指示に基づき、前記浮上用エアーおよび前記方向制御用エアーのそれぞれの噴射量を制御することを特徴とする請求項1記載のハイトゲージ。

請求項3

前記ベースの移動速度の指示を受け付ける速度操作部をさらに備え、前記制御部は、前記速度操作部によって受け付けた移動速度の指示に基づき、前記方向制御用エアーの噴射量を制御する、ことを特徴とする請求項1または2に記載のハイトゲージ。

請求項4

前記方向制御用噴射部は、互いに異なる4方向へ前記方向制御用エアーを噴射可能な複数の方向制御用噴射孔を有し、前記制御部は、前記複数の方向制御用噴射孔から前記方向制御用エアーを噴射する量のバランスによって前記ベースを所定の方向に移動させる制御を行う、ことを特徴とする請求項1から3のいずれか1つに記載のハイトゲージ。

請求項5

前記方向制御用噴射部によって前記ベースの前記定盤面に沿った移動速度と移動時間とに基づき前記ベースの移動距離演算する移動距離演算部をさらに備えた、請求項1から4のいずれか1つに記載のハイトゲージ。

請求項6

前記制御部は、前記ベースの一連移動動作を記憶したプログラムに従い、前記浮上用エアーおよび前記方向制御用エアーのそれぞれの噴射量および噴射タイミングを制御する、ことを特徴とする請求項1から5のいずれか1つに記載のハイトゲージ。

請求項7

前記ベースと前記定盤面との距離を検知する定盤面センサをさらに備え、前記制御部は、前記距離が一定の閾値を超えたことを前記定盤面センサによって検知した場合、前記ベースの移動を停止すること、報知すること、の少なくともいずれかを行う、ことを特徴とする請求項1から6のいずれか1つに記載のハイトゲージ。

請求項8

前記定盤面センサは、前記ベースにおける前記定盤面との対向面の前記浮上用噴射部よりも前記ベースの縁に近い位置に配置された、請求項7記載のハイトゲージ。

請求項9

前記定盤面センサは、前記定盤面との対向面に3つ以上設けられ、複数の前記定盤面センサを結んで得られる多角形の内側に、全ての前記浮上用噴射部が位置するように配置される、ことを特徴とする請求項7または8に記載のハイトゲージ。

技術分野

0001

本発明は、対象物の高さを測定するハイトゲージに関し、より詳しくは、定盤の定盤面に沿って移動可能なハイトゲージに関するものである。

背景技術

0002

定盤の定盤面に載置された対象物の高さを測定するハイトゲージは、定盤面に沿って移動可能に載置されるベースと、このベースに立設された支柱と、この支柱に沿って昇降可能に設けられ測定子を有するスライダと、このスライダの高さ方向の変位量を検出する変位センサとを備える。

0003

ハイトゲージは、測定子を対象物の測定点に近づけるため、定盤面に沿ってベースを移動させる必要がある。例えば、特許文献1には、ベースから定盤上にエアー噴出してベースを定盤に対して浮上させるエアー浮上手段を備えたハイトゲージが開示される。このハイトゲージでは、エアー浮上手段へのエアー供給遮断を制御するスイッチが設けられたハンドルを備えており、測定子と対象物との位置関係を確認しながら、楽な姿勢でハイトゲージを移動させることができる。

先行技術

0004

特許第4009379号公報

発明が解決しようとする課題

0005

エアー浮上手段を備えたハイトゲージにおいては、ベースが浮上した状態で人手によって定盤上を移動させている。したがって、微細な距離を移動したり、正確な位置で停止させたりすることが難しい。例えば、対象物に設けられた小穴の径を測定する場合、穴径φ3mm、測定子の先端径φ1mmでは、測定子と穴径とのクリアランスは1mmしかない。この条件で穴への測定子の挿入、倣い測定にて前後、左右へ測定子を微細移動するには、人手によるハンドル操作で実現することは非常に困難である。

0006

本発明は、正確かつ容易に微小移動可能なハイトゲージを提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

0007

本発明の一態様は、定盤の定盤面に沿って移動可能に載置されるベースと、ベースに立設された支柱と、支柱に沿って昇降可能に設けられ測定子を有するスライダと、スライダの高さ方向の変位量を検出する変位センサと、ベースから定盤面に向けて浮上用エアーを噴射してベースを定盤面に対して浮上させる浮上用噴射部を有するエアー噴射手段と、エアー噴射手段によるエアー噴射を制御する制御部と、を備えたハイトゲージである。このハイトゲージにおいて、エアー噴射手段は、ベースが定盤面に対して浮上している状態で定盤面に向けて方向制御用エアーを噴射してベースを定盤面に沿って移動させる方向制御用噴射部を有する、ことを特徴とする。

0008

このような構成によれば、エアー噴射手段の浮上用噴射部から噴射される浮上用エアーによってベースが浮き上がり、方向制御用噴射部から噴射される方向制御用エアーによってベースが定盤面に沿って移動することになる。すなわち、エアーによってベースの浮上とともに定盤面に沿った移動を行うことができる。

0009

上記ハイトゲージにおいて、ベースの移動方向の指示を受け付け方向操作部をさらに備え、制御部は、方向操作部によって受け付けた移動方向の指示に基づき、浮上用エアーおよび方向制御用エアーのそれぞれの噴射量を制御するようにしてもよい。これにより、方向操作部で受け付けた方向へベースを浮上移動させることができる。

0010

上記ハイトゲージにおいて、ベースの移動速度の指示を受け付ける速度操作部をさらに備えていてもよい。この場合、制御部は、速度操作によって受け付けた移動速度の指示に基づき、方向制御用エアーの噴射量を制御する。これにより、速度操作部で受け付けた速度でベースを浮上移動させることができる。

0011

上記ハイトゲージにおいて、方向制御用噴射部は、互いに異なる4方向へ方向制御用エアーを噴射可能な複数の方向制御用噴射孔を有していることが好ましい。この場合、制御部は、複数の方向制御用噴射孔から方向制御用エアーを噴射する量のバランスによってベースを所定の方向に移動させる制御を行う。これにより、ベースを定盤面に沿った所望の方向へ浮上移動させることができる。

0012

上記ハイトゲージにおいて、方向制御用噴射部によってベースの定盤面に沿った移動速度と移動時間とに基づきベースの移動距離演算する移動距離演算部をさらに備えていてもよい。これにより、移動距離演算部によってベースの浮上移動の距離を得ることができる。

0013

上記ハイトゲージにおいて、制御部は、ベースの一連移動動作を記憶したプログラムに従い、浮上用エアーおよび方向制御用エアーのそれぞれの噴射量および噴射タイミングを制御してもよい。これにより、予め設定されたプログラムに従い、ベースを連続的に浮上移動させることができる。

0014

上記ハイトゲージにおいて、ベースと前記定盤面との距離を検知する定盤面センサをさらに備えていてもよい。この場合、制御部は、定盤面との距離が一定の閾値を超えたことを定盤面センサによって検知した場合、ベースの移動を停止すること、報知すること、の少なくともいずれかを行う。これにより、ベースを浮上移動させる際に、ベースが定盤面から脱落しそうになることを防止することができる。

0015

上記ハイトゲージにおいて、定盤面センサは、ベースにおける定盤面との対向面の浮上用噴射部よりもベースの縁に近い位置に配置されていることが好ましい。これにより、ベースを浮上移動させる際に、ベースが定盤面の縁に近づいたことを定盤面センサで検知させることができる。

0016

上記ハイトゲージにおいて、定盤面センサは、定盤面との対向面に3つ以上設けられ、複数の定盤面センサを結んで得られる多角形の内側に、全ての浮上用噴射部が位置するように配置されることが好ましい。これにより、ベースを浮上移動させる際に、浮上用噴射部が定盤面の縁から外方に出てしまう前に、定盤面センサで確実に検知することができる。

図面の簡単な説明

0017

第1実施形態に係るハイトゲージを例示する斜視図である。
(a)および(b)は、本実施形態に係るハイトゲージを例示する部分拡大斜視図である。
ベースの下面の模式図である。
ベースの模式断面図である。
本実施形態に係るハイトゲージのブロック図である。
ハイトゲージの移動方向の定義を例示する模式図である。
ベースの移動処理を例示するフローチャートである。
ベースの停止処理を例示するフローチャートである。
(a)および(b)は、ベースの移動について説明する模式図である。
第2実施形態に係るハイトゲージのブロック図である。
定盤面センサの配置を例示する模式図である。
脱落防止処理を例示するフローチャートである。
(a)および(b)は、脱落防止状態を例示する模式断面図である。

実施例

0018

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、以下の説明では、同一の部材には同一の符号を付し、一度説明した部材については適宜その説明を省略する。

0019

〔第1実施形態〕
図1は、第1実施形態に係るハイトゲージを例示する斜視図である。
図2(a)および(b)は、本実施形態に係るハイトゲージを例示する部分拡大斜視図である。
本実施形態に係るハイトゲージ1は、定盤10上に載置された対象物の高さを測定する測定機である。ハイトゲージ1は、定盤10の定盤面10aに沿って移動可能に載置されるベース11と、ベース11に立設された支柱12と、支柱12に沿って昇降可能に設けられ測定子13を有するスライダ14と、スライダ14の高さ方向の変位量を検出する変位センサ45と、ベース11から定盤面10aに向けて浮上用エアーを噴射してベース11を定盤面10aに対して浮上させる浮上用噴射部21を有するエアー噴射手段20と、エアー噴射手段20によるエアー噴射を制御する制御部41と、を備える。

0020

また、ベース11上における支柱12の裏面側にはグリップ部15が設けられる。このグリップ部15 の上面に旋回可能に設けられ表面にLCDなどの表示装置16およびキー入力部17を有する表示操作部18が設けられる。

0021

このようなハイトゲージ1において、浮上用噴射部21は、ベース11の下面(定盤面10aとの対向面)に設けられエアー噴出孔を有する複数のエアーパッド21Aと、このエアーパッド21Aにエアーを供給するコンプレッサ(図示していないが、グリップ部15の下部に設置)などを備える。浮上用噴射部21は、コンプレッサを駆動するモータ回転数を変化させることによって、ベース11から定盤面10aに向けてエアーを噴出し、ベース11を定盤面10aに対して所定の隙間を有して浮上させる。

0022

エアー噴射手段20は、浮上用噴射部21に加え、方向制御用噴射部22を有する。方向制御用噴射部22は、ベース11が定盤面10aに対して浮上している状態で定盤面10aに向けて方向制御用エアーを噴射する。この方向制御用エアーの噴射によって、ベース11を定盤面10aに沿って移動させる。ベース11の浮上および移動によって、ハイトゲージ1の全体が定盤面10aに沿って移動可能となる。

0023

図2(a)に示すように、ハイトゲージ1は、ベース11の移動方向の指示を受け付ける方向操作部31を備える。また、ハイトゲージ1は、ベース11の移動速度の指示を受け付ける速度操作部32を備えていてもよい。方向操作部31や速度操作部32は、例えばベース11の上面に設けられる。

0024

図2(b)に示すように、例えば、方向操作部31は移動方向を矢印で示す複数のボタン31Aを備える。所望の移動方向に対応した矢印の示されているボタン31Aを選択することで、ベース11をその矢印の方向に移動させることができる。また、移動を停止させるため、停止(ストップ)を指示するボタン31Aも設けられており、また、速度操作部32は、例えばスライドレバー32Aを備える。スライドレバー32Aの位置に応じて移動速度を設定することができる。例えば、スライドレバー32Aを左に移動させるほど移動速度が遅くなり、右に移動させるほど移動速度が速くなる。

0025

図3は、ベースの下面の模式図である。
図4は、ベースの模式断面図である。図4には、図3のA−A線断面図が示される。
図3に示すように、ベース11の下面には浮上用噴射部21の3つのエアーパッド21Aが設けられる。3つのエアーパッド21Aは、ベース11の下面において直線上に並ばない位置に配置される。また、ベース11の下面に中央部分(3つのエアーパッド21Aで囲まれる領域内)には方向制御用噴射部22のエアー吐出口22Aが複数設けられる。

0026

図4に示すように、エアーパッド21Aはベース11を定盤面10aに対して浮上させるために浮上用エアーA1を吐出する。一方、エアー吐出口22Aは、定盤面10aに対して斜めに方向制御用エアーA2を吐出する。複数のエアー吐出口22Aは、互いに異なる4方向へ方向制御用エアーA2を噴射できるようになっている。具体的には、前方噴射用、後方噴射用、左噴射用および右噴射用の4方向のエアー吐出口22Aが設けられる。これにより、それぞれのエアー吐出口22Aから噴射される方向制御用エアーA2の量のバランスによってベース11の移動方向が決まる。

0027

例えば、複数のエアー吐出口22Aから図4における左側に多くの方向制御用エアーA2を噴射すると、ベース11は右方向へ移動することになる。すなわち、ベース11を移動させたい方向とは反対側に多くの方向制御用エアーA2を噴射することで、ベース11を定盤面10aに沿って所望の方向へ平行移動させることができる。

0028

図5は、本実施形態に係るハイトゲージのブロック図である。
ハイトゲージ1の制御部41は、CPU42とメモリ43とを有する。
CPU42には、キー入力部17、方向操作部31のボタン31A、速度操作部32のスライドレバー32A、表示装置16、エアー噴射手段20が接続される。

0029

エアー噴射手段20の浮上用噴射部21は、ポンプ211と流速調節部212とを有する。ポンプ211はCPU42の指示に基づく電圧V1によって駆動する。ポンプ211の駆動によって加圧されたエアーは流速調節部212のバルブ(1)〜(3)から浮上用エアーA1として噴射される。バルブ(1)〜(3)は常に開いており、浮上用エアーA1の量は電圧V1に基づくポンプ211からエアー吐出量によって調整される。

0030

エアー噴射手段20の方向制御用噴射部22は、ポンプ221と流速調節部222とを有する。ポンプ221はCPU42の指示に基づく電圧V2によって駆動する。ポンプ221の駆動によって加圧されたエアーは流速調節部222のバルブ(前/後/左/右)によって流速が調整され、方向制御用エアーA2として噴射される。

0031

このほかに、CPU42には、スライダ14を支柱12に沿って昇降させる昇降駆動手段44、昇降駆動手段44によって昇降されるスライダ14の高さ方向の変位量を検出する変位センサ45が接続される。

0032

昇降駆動手段44は、上下動モータ44Aと、この上下動モータ44Aの出力軸に設けられた定圧機構44Bとを含む。定圧機構44Bは、上下動モータ44Aの回転をベルトなどの伝達手段を介してスライダ14に伝達してスライダ14を昇降させるとともに、スライダ14に一定以上の負荷がかかったときに空転する機能を備える。

0033

変位センサ45は、支柱12に沿って設けられた光学格子を有するスケールと、このスケールに対向してスライダ14に配置された検出器とを含み、この両者の協働によって支柱12上におけるスライダ14の高さ方向の変位量を電気的信号として検出する。

0034

メモリ43には、各種測定項目についての測定手順プログラムが記憶されているとともに、その各測定手順プログラムの各ステップに対応して、測定項目の内容を表すシンボル文字データ、各ステップを表すシンボルと文字データ、操作ガイダンス情報、各ステップの完了を知らせる音声情報などが記憶されている。また、測定データが記憶されるとともに、これらの測定データを演算して得られた演算結果データが記憶されるようになっている。

0035

また、メモリ43には、ベース11の一連の移動動作を記憶したプログラムが格納されていてもよい。CPU42は、このプログラムに従い、浮上用エアーおよび方向制御用エアーのそれぞれの噴射量および噴射タイミングを制御する。これにより、ベース11を予めプログラムした通りに連続的に浮上移動させることができる。

0036

CPU42は、移動時間カウンタ421と、移動距離演算部422と、浮上エアー演算部423と、バルブ開閉指令部424と、移動エアー演算部425とを含む。
ベース11を浮上させるタイミングおよび浮上量はCPU42によって判断される。浮上エアー演算部423は、ベース11の浮上量を演算し、浮上量に応じた電圧V1をポンプ211へ出力する。電圧V1によりポンプ211のエアー吐出量を大/小させ、ベース11の浮上量を増/減させる。

0037

ハイトゲージ1の方向操作は、方向操作部31の操作結果によりCPU42で操舵方向を演算することによって行われる。具体的には、方向制御用エアー孔の内部にあるバルブ(前/後/左/右)の開閉をバルブ開閉指令部424にて制御する。右に移動する場合、バルブ(左)のみ開とし、その他バルブは閉とする。

0038

ハイトゲージ1の速度操作は、速度操作部32の操作結果によりCPU42で移動速度を演算することによって行われる。具体的には、移動エアー演算部425でベース11の移動速度を演算し、移動速度に応じた電圧V2をポンプ221へ出力する。電圧V2によりポンプ221のエアー吐出量を大/小させ、移動速度を高/低させる。

0039

移動時間カウンタ421は、方向操作部31によって受け付けた移動指示トリガーとして、ベース11を浮上移動させている時間を計数する。移動距離演算部422は、速度操作部32によって受け付けた速度Vの情報と、移動時間カウンタ421で計数した移動時間とに基づき、移動距離Sを演算する。これにより、ベース11を浮上移動させた際の移動距離Sを得ることができる。移動距離Sは、例えば表示装置16のLCDに表示される。また、移動距離Sの情報はCPU42に送られ、CPU42によるベース11の移動制御に用いられる。

0040

次に、ハイトゲージ1の動作について説明する。
図6は、ハイトゲージの移動方向の定義を例示する模式図である。
以下の説明では、ハイトゲージ1の測定子13が延出する方向を「前」、その反対方向を「後」、前後方向と直交し定盤面10aに沿った方向の一方を「左」、他方を「右」と言うことにする。

0041

図7は、ベースの移動処理を例示するフローチャートである。
図8は、ベースの停止処理を例示するフローチャートである。
図9(a)および(b)は、ベースの移動について説明する模式図である。
先ず、図7および図9(a)に沿ってベース11の移動処理について説明する。なお、ここでは、「右」への移動指示が出された場合を例として説明する。

0042

先ず、図7のステップS101に示すように、方向操作部31の右矢印のボタン31Aが押下されると、ボタン31Aによる移動開始および移動方向の情報がCPU42に送られる。

0043

次に、図7のステップS102に示すように、浮上用エアーA1を連続噴射する。すなわち、方向操作部31から移動開始および移動方向の情報がCPU42に送られると、CPU42は、浮上用噴射部21の流速調節部212を制御して、3つのエアーパッド21Aから浮上用エアーA1を噴出させる。これにより、ベース11が定盤面10aに対して浮き上がる状態となる。

0044

次に、ベース11が浮上した状態で、図7のステップS103に示すように、左側エアーを連続噴射する。すなわち、CPU42は、浮上用噴射部21による浮上用エアーA1の噴出によるベース11の浮上を行った状態で、方向制御用噴射部22の流速調節部222を制御して、エアー吐出口22Aから左側に向けて方向制御用エアーA2を噴射する。図9(a)に示すように、複数のエアー吐出口22Aのうち左側のエアー吐出口22Aから左側に向けて方向制御用エアーA2を噴射する。これにより、浮上しているベース11は方向制御用エアーA2によって右方向へ浮上移動することになる。

0045

なお、上記では右矢印のボタン31Aが押下され、ベース11を「右」へ移動する場合の動作を説明したが、他の方向でも同様である。例えば、左矢印のボタン31Aが押下された場合には、ベース11を浮上した後、エアー吐出口22Aから右側に向けて方向制御用エアーA2を噴射する。前方向のボタン31Aが押下された場合には、ベース11を浮上した後、エアー吐出口22Aから後ろ側に向けて方向制御用エアーA2を噴射する。後ろ方向のボタン31Aが押下された場合には、ベース11を浮上した後、エアー吐出口22Aから前側に向けて方向制御用エアーA2を噴射する。それぞれ、ベース11を移動させる方向とは反対側に方向制御用エアーA2を噴射すればよい。

0046

次に、図8および図9(b)に沿ってベース11の停止処理について説明する。
図8のステップS201に示すように、方向操作部31の右矢印のボタン31Aの押下が解除されるか、停止ボタンが押下されると、停止処理が実行される。

0047

停止処理は、先ず、図8のステップS202に示すように、移動方向とは反対の右側エアーを連続噴射する。すなわち、CPU42は、方向制御用噴射部22の流速調節部222を制御して、エアー吐出口22Aから右側に向けて方向制御用エアーA2を噴射する。この際、エアー吐出口22Aから左側に向けて噴射される方向制御用エアーA2と同じ流量で右側に向けて方向制御用エアーA2を噴射する。

0048

図9(b)に示すように、ベース11を右方向に移動させるためエアー吐出口22Aから左側に方向制御用エアーA2を噴射している状態で、これと同じ流量でエアー吐出口22Aから右側に方向制御用エアーA2を噴射する。これにより、ベース11の右方向への移動は徐々に停止することになる。

0049

次に、図8のステップS203に示すように、停止待ち時間を経過したか否かの判断を行う。CPU42は、右側エアーの噴射開始から予め設定された停止待ち時間を経過するまで右側エアーの噴射を継続する。

0050

停止待ち時間が経過した後は、図8のステップS204に示すように、左側および右側のエアーの噴射を同時に停止する。その後、図8のステップS205に示すように、浮上用エアーA1の噴射を停止する。これにより、ベース11の右方向への移動が止まるとともに、ベース11の浮上が解除され、定盤面10aに接地することになる。

0051

このように、方向操作部31のボタン31Aの操作によって、ベース11を浮上させた状態でハイトゲージ1を定盤面10aに沿って平行移動させることができる。ボタン31Aの操作だけで微小な距離であっても容易に移動可能である。また、移動距離Sを表示装置16に表示させることで、ボタン31Aの操作で正確な距離だけハイトゲージ1を移動させることも可能となる。

0052

また、CPU42は、メモリ43に記憶されたプログラムに従い、上記のような所望の方向への移動処理および停止処理を連続的に行うようにしてもよい。これにより、方向操作部31によって移動開始を指示するだけで、予め設定された方向および移動量だけハイトゲージ1を自動的に移動させることができる。また、測定子13による対象物の測定プログラム連動して自動的な移動処理を行うようにしてもよい。これにより、対象物の測定と、ハイトゲージ1の移動とを連動させて自動的な測定を行うことが可能となる。

0053

〔第2実施形態〕
図10は、第2実施形態に係るハイトゲージのブロック図である。
図10に示すように、本実施形態に係るハイトゲージ1Bは、第1実施形態に係るハイトゲージ1の構成に加え、定盤面センサ51とスピーカ61とを備えている。

0054

定盤面センサ51は、ベース11と定盤面10aとの距離を検知するセンサである。定盤面センサ51は、接触式でも非接触式でもよい。図11は、定盤面センサの配置を例示する模式図である。図11に示すように、定盤面センサ51は、例えばベース11の下面(定盤面10aとの対向面)に設けられる。定盤面センサ51は、浮上用噴射部21よりもベース11の縁11aに近い位置に配置されることが好ましく、全ての定盤面センサ51を結んで得られる多角形(図11の例では7角形)の内側に、全ての浮上用噴射部21が位置するように配置されることがより好ましい。

0055

定盤面センサ51は、ベース11の下面と定盤面10aとの距離が一定の閾値を超えた場合に制御部41のCPU42に信号を送る。CPU42は定盤面センサ51から送られた信号を受けると、ハイトゲージ1の浮上を停止すること、報知すること、の少なくともいずれかを行う。本実施形態では、ハイトゲージ1の浮上停止処理を行うとともに、スピーカ61から警告音を出力する。これにより、ハイトゲージ1を浮上移動させる際に、ベース11が定盤面10aから脱落しそうになることを防止することができる。

0056

ここで、脱落防止処理について説明する。
図12は、脱落防止処理を例示するフローチャートである。
図13(a)および(b)は、脱落防止状態を例示する模式断面図である。図13には、図11のB−B線断面図が示される。
先ず、図12のステップS301に示すように、ハイトゲージ1が浮上中か否かを判断する。これは、CPU42の制御によって浮上用噴射部21から浮上用エアーA1を噴出しているか否かによって判断される。

0057

ハイトゲージ1が浮上中の場合、図12のステップS302に示すように、脱落兆候を検知したか否かを判断する。ベース11が浮上している間、定盤面センサ51によって定盤面10aの検知を行う。そして、図13(a)に示すように、定盤面センサ51によって定盤面10aが検知されている場合(ベース11の下面と定盤面10aとの距離が一定に閾値を超えていない場合)、定盤面10aを検知しているとして、ハイトゲージ1の浮上移動を継続する。

0058

一方、図13(b)に示すように、ハイトゲージ1が定盤10の端部近傍まで移動して、定盤面センサ51の検知エリアから定盤10が外れると、ベース11の下面と定盤面10aとの距離が一定に閾値を超えたと判断し、定盤面センサ51からCPU42に信号が送られる。CPU42が定盤面センサ51から送られる信号を受けると、脱落兆候を検知したとして、図12のステップS303に示す停止処理を行う。これにより、ハイトゲージ1が定盤10から脱落する前にハイトゲージ1の浮上が解除され、定盤面10aに着地することになる。

0059

次に、図12のステップS304に示すように、浮上停止したことを通知する。例えば、スピーカ61から警告音を出力する。これにより、ハイトゲージ1が定盤10から脱落しそうになり、浮上を解除したことを作業者に通知することができる。

0060

以上説明したように、実施形態によれば、正確かつ容易に微小移動可能なハイトゲージ1,1Bを提供することが可能となる。

0061

〔実施形態の変形〕
なお、上記に本実施形態を説明したが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。例えば、方向操作部31や速度操作部32はハイトゲージ1,1Bの本体から離れて設けられていてもよい。例えば、方向操作部31のボタン31Aや速度操作部32のスライドレバー32Aをリモートコントローラとして設けておき、遠隔操作できるようにしてもよい。また、前述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、設計変更を行ったものや、各実施形態の特徴を適宜組み合わせたものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含有される。

0062

以上のように、本発明は、対象物の高さの測定のほか、表面形状を測定する装置に好適に利用できる。

0063

1,1B…ハイトゲージ
10…定盤
10a…定盤面
11…ベース
11a…縁
12…支柱
13…測定子
14…スライダ
15…グリップ部
16…表示装置
17…キー入力部
18…表示操作部
20…エアー噴射手段
21…浮上用噴射部
21A…エアーパッド
22…方向制御用噴射部
22A…エアー吐出口
31…方向操作部
31A…ボタン
32…速度操作部
32A…スライドレバー
41…制御部
42…CPU
43…メモリ
44…昇降駆動手段
44A…上下動モータ
44B…定圧機構
45…変位センサ
51…定盤面センサ
61…スピーカ
211…ポンプ
212…流速調節部
221…ポンプ
222…流速調節部
421…移動時間カウンタ
422…移動距離演算部
423…浮上エアー演算部
424…バルブ開閉指令部
425…移動エアー演算部
A1…浮上用エアー
A2…方向制御用エアー
S…移動距離

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