図面 (/)

技術 流体制御装置

出願人 株式会社フジキン
発明者 張兆宏稲田敏之篠原努
出願日 2018年2月28日 (2年2ヶ月経過) 出願番号 2018-035926
公開日 2019年9月12日 (7ヶ月経過) 公開番号 2019-152234
状態 未査定
技術分野 気相成長(金属層を除く) 分岐管・ベンド等 弁ハウジング
主要キーワード 設置ブロック 継手ブロック 密閉処理 受容機構 うず巻形 メタルジャケット リングジョイント 軟質ガスケット
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(2019年9月12日)のものです。
また、この項目は機械的に抽出しているため、正しく解析できていない場合があります

図面 (20)

課題

組立に必要な締結ボルトの数を大幅に省略できるとともに、隣り合う継手ブロックの間に寸法差異が存在しても流体機器と継手ブロックとの間のシール性を確保できる流体制御装置を提供する。

解決手段

継手ブロック20A,20Bの間に存在する少なくとも高さ方向の寸法差異を受け入れつつ、ガスケット機構40によるシール性を確保する差異受容機構24を備える。具体的には、継手ブロック20A,20Bの上面に形成され、基準平面に対して傾斜するボディの下面11bと継手ブロック20Aまたは20Bとの間に生じる干渉を防ぐための切り欠き部24を有する。

概要

背景

半導体製造プロセス等の各種製造プロセスにおいては、正確に計量したプロセスガスプロセスチャンバに供給するために、開閉バルブレギュレータマスフローコントローラ等の各種の流体機器集積化した流体制御装置が用いられている。
上記のような流体制御装置では、管継手の代わりに、流路を形成した設置ブロック(以下、継手ブロックと呼ぶ)をベースプレート長手方向に沿って配置し、この継手ブロック上に複数の流体機器や管継手が接続される継手ブロック等を含む各種流体機器を設置することで、集積化を実現している(例えば、特許文献1参照)。

概要

組立に必要な締結ボルトの数を大幅に省略できるとともに、隣り合う継手ブロックの間に寸法差異が存在しても流体機器と継手ブロックとの間のシール性を確保できる流体制御装置を提供する。継手ブロック20A,20Bの間に存在する少なくとも高さ方向の寸法差異を受け入れつつ、ガスケット機構40によるシール性を確保する差異受容機構24を備える。具体的には、継手ブロック20A,20Bの上面に形成され、基準平面に対して傾斜するボディの下面11bと継手ブロック20Aまたは20Bとの間に生じる干渉を防ぐための切り欠き部24を有する。A

目的

本発明の一の目的は、組立に必要な締結ボルトの数を大幅に省略できるとともに、隣り合う継手ブロックの間に寸法差異が存在しても流体機器と継手ブロックとの間のシール性を確保できる流体制御装置を提供する

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
0件

この技術が所属する分野

ライセンス契約や譲渡などの可能性がある特許掲載中! 開放特許随時追加・更新中 詳しくはこちら

請求項1

ベースプレートと、流体機器と、前記ベースプレートと前記流体機器との間に介在するブロック状の第1の継手ブロックおよび第2の継手ブロックと、を有する流体制御装置であって、前記第1および第2の継手ブロックは、互いに対向する上面および下面と、当該上面と下面の間で延びる側面と、当該上面で開口する開口部を有する流路とを画定し、前記流体機器は、下面の少なくとも2カ所で開口する第1および第2の開口部を有する流路と、前記開口部の各々の両側に配置された一対のボルト挿入孔とを画定するボディを有し、前記ボディの第1の開口部とこれに突き合わされる前記第1の継手ブロックの開口部、および、前記ボディの第2の開口部とこれに突き合わされる前記第2の継手ブロックの開口部の周囲にそれぞれ配置されるガスケットをさらに有し、前記流体機器のボディと前記ベースプレートとは、締結ボルトが前記流体機器のボディのボルト挿入孔の各々に挿通されかつ前記ベースプレートに形成されたねじ部に螺合することで連結され、前記ガスケットが、前記締結ボルトの締結力により前記流体機器のボディの下面と前記第1および第2の継手ブロックの上面との間で変形することで、前記各開口部との接触面をシールし、前記第1の継手ブロックと第2の継手ブロックの間に存在する少なくとも下面から上面までの高さ方向の寸法の差異受け入れつつ、前記ガスケットによるシール性を確保する差異受容機構を有する、流体制御装置。

請求項2

前記差異受容機構は、前記締結ボルトによる締結力を支持しつつ前記寸法差異を受け入れるべく、前記第1の継手ブロックおよび第2の継手ブロックを変位可能に支持する、第1の継手ブロックおよび第2の継手ブロックと前記ベースプレートとの間に介在する弾性部材を含む、請求項1に記載の流体制御装置。

請求項3

前記差異受容機構は、前記流体機器のボディと前記第1の継手ブロックおよび第2の継手ブロックの少なくとも一方に形成され、前記寸法差異に起因して基準平面に対して傾斜する前記流体機器のボディと前記第1の継手ブロックおよび第2の継手ブロックとの間に生じる干渉を防ぐための切り欠き部を有する、請求項1に記載の流体制御装置。

請求項4

請求項2に記載の流体制御装置に使用される継手ブロックであって、前記弾性部材を収容する凹部を有する、継手ブロック。

請求項5

請求項3に記載の流体制御装置に使用される継手ブロックであって、前記上面の前記開口部の各々の周囲には前記ガスケットが圧接される環状の突起が形成され、前記上面の前記開口部の各々の両側には、前記ガスケットを位置決めするための一対の突出部がそれぞれ形成され、前記切り欠き部は、前記一対の突出部を除いて、前記環状の突起に隣接しかつ当該突起よりも低位に形成された平坦面で構成されている、継手ブロック。

請求項6

プロセスガス流量制御に請求項1〜5のいずれかに記載の流体制御装置を用いた流量制御方法

請求項7

密閉された処理チャンバ内においてプロセスガスによる処理工程を要する半導体プロセスにおいて、前記プロセスガスの制御に請求項1〜5のいずれかに記載の流体制御装置を用いた半導体製造方法

請求項8

処理チャンバにプロセスガスを供給するための流体制御装置を有し、前記流体制御装置は、請求項1〜5のいずれかに記載の流体制御装置を含む半導体製造装置

技術分野

0001

本発明は、流体制御装置に関する。

背景技術

0002

半導体製造プロセス等の各種製造プロセスにおいては、正確に計量したプロセスガスプロセスチャンバに供給するために、開閉バルブレギュレータマスフローコントローラ等の各種の流体機器集積化した流体制御装置が用いられている。
上記のような流体制御装置では、管継手の代わりに、流路を形成した設置ブロック(以下、継手ブロックと呼ぶ)をベースプレート長手方向に沿って配置し、この継手ブロック上に複数の流体機器や管継手が接続される継手ブロック等を含む各種流体機器を設置することで、集積化を実現している(例えば、特許文献1参照)。

先行技術

0003

特開2007−3013号公報
特開2013−127312号公報

発明が解決しようとする課題

0004

特許文献1に開示されたような流体制御装置では、ベースプレートに継手ブロックをボルトで固定し、この継手ブロックに各種流体機器を設置しボルトで継手ブロックに流体機器を固定するとともに、継手ブロックと流体機器との間で接続される流路の周囲に設けられたガスケットをボルトの締結力により圧してシールする。このように、流体制御装置の組み立てにおいては、膨大な量のボルトの締付が必要となる。
特許文献2は、ベースプレートに各種流体機器を、継手ブロックを介してボルトで固定する技術を開示している。この技術によれば、継手ブロックをベースプレートにボルトで固定する作業が不要となる。
しかしながら、隣り合う継手ブロックの間で寸法差異が存在すると、流体機器と継手ブロックとの間のシール性を確保できない可能性があった。

0005

本発明の一の目的は、組立に必要な締結ボルトの数を大幅に省略できるとともに、隣り合う継手ブロックの間に寸法差異が存在しても流体機器と継手ブロックとの間のシール性を確保できる流体制御装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、上記の流体制御装置を用いた流量制御方法、上記の流体制御装置に適用される継手ブロック、上記の流体制御装置を用いた半導体製造装置および半導体製造方法を提供することにある。

課題を解決するための手段

0006

本発明の流体制御装置は、ベースプレートと、流体機器と、前記ベースプレートと前記流体機器との間に介在するブロック状の第1の継手ブロックおよび第2の継手ブロックとを有する流体制御装置であって、
前記第1および第2の継手ブロックは、互いに対向する上面および下面と、当該上面と下面の間で延びる側面と、当該上面の少なくとも2カ所で開口する開口部を有する流路とを画定し、
前記流体機器は、下面の少なくとも2カ所で開口する第1および第2の開口部を有する流路と、前記開口部の各々の両側にそれぞれ配置された少なくとも一対のボルト挿入孔と、を画定するボディを有し、
前記ボディの第1の開口部とこれに突き合わされる前記第1の継手ブロックの一の開口部、および、前記ボディの第2の開口部とこれに突き合わされる前記第2の継手ブロックの一の開口部の周囲にそれぞれ配置されるガスケットをさらに有し、
前記流体機器のボディと前記ベースプレートとは、締結ボルトが前記流体機器のボディのボルト挿入孔の各々に挿通されかつ前記ベースプレートに形成されたねじ部に螺合することで連結され、前記ガスケットは、前記締結ボルトの締結力により前記流体機器のボディの下面と前記第1および第2の継手ブロックの上面との間で変形して突き合わされる前記開口部の間をシールし、
前記第1の継手ブロックと第2の継手ブロックの間に存在する少なくとも下面から上面までの高さ方向の寸法差異を受け入れつつ、前記ガスケットによるシール性を確保する差異受容機構を有する。

0007

好適には、前記差異受容機構は、前記締結ボルトによる締結力を支持しつつ前記寸法差異を受け入れるべく、前記第1の継手ブロックおよび第2の継手ブロックを変位可能に支持する、第1の継手ブロックおよび第2の継手ブロックと前記ベースプレートとの間に介在する弾性部材を含む、構成を採用できる。
本発明の継手ブロックは、上記の流体制御装置に使用される継手ブロックであって、
前記弾性部材を収容する凹部を有する。

0008

代替的には、前記差異受容機構は、前記流体機器のボディと前記第1の継手ブロックおよび第2の継手ブロックの少なくとも一方に形成され、前記寸法差異に起因して基準平面に対して傾斜する前記流体機器のボディと前記第1の継手ブロックおよび第2の継手ブロックとの間に生じる干渉を防ぐための切り欠き部を有する、構成を採用できる。
本発明の他の継手ブロックは、
上記の流体制御装置に使用される継手ブロックであって、
前記上面の前記開口部の各々の周囲には前記ガスケットが圧接される環状の突起が形成され、
前記上面の前記開口部の各々の両側には、前記ガスケットを位置決めするための一対の突出部がそれぞれ形成され、
前記切り欠き部は、前記一対の突出部を除いて、前記環状の突起に隣接しかつ当該突起よりも低位に形成された平坦面で構成されている。

0009

本発明の流量制御方法は、プロセスガスの流量制御に上記の流体制御装置を用いる。

0010

本発明の半導体製造方法は、密閉された処理チャンバ内においてプロセスガスによる処理工程を要する半導体プロセスにおいて、前記プロセスガスの制御に上記の流体制御装置を用いる。

0011

本発明の半導体製造装置は、処理チャンバにプロセスガスを供給するための流体制御装置を有し、
前記流体制御装置は、上記の流体制御装置を含む。

発明の効果

0012

本発明によれば、第1および第2の継手ブロックを締結ボルトでベースプレートに締結しないことに加えて、第1および第2の継手ブロックの間の少なくとも高さ方向の寸法差異を受け入れ可能であるので、装置の組み立てが容易となり、製造コストを低減できる。

図面の簡単な説明

0013

本発明の一実施形態に係る流体制御装置の外観斜視図。
図1の流体制御装置の開閉バルブをA1方向から見た側面図。
図1の流体制御装置の開閉バルブをB1方向から見た側面図。
図1の流体制御装置の開閉バルブと2つの継手ブロックとベースプレートとの関係を示す一部に断面を含む図。
図3Aの円A内の拡大断面図。
ガスケット機構の上面図。
図4Aの4B−4B線に沿った断面図。
継手ブロックの上面図。
図5Aの継手ブロックの正面図。
図5Aの継手ブロックの側面図。
図5Aの継手ブロックの断面図。
切り欠き部の無い継手ブロックの一例の上面図。
図6Aの6B−6B線に沿った断面図。
本発明の第2実施形態に係る流体制御装置の一のバルブ装置と2つの継手ブロックとベースプレートとの関係を示す一部に断面を含む図。
図7Aの円B内の拡大断面図。
第2実施形態に係る継手ブロックの上面図。
図8Aの継手ブロックの正面図。
図8Aの継手ブロックの下面図。
図8Aの継手ブロックの8D−8D線に沿った断面図。
本発明の第2実施形態に係る継手ブロックに締結力が作用する前の状態を示す図。
本発明の第2実施形態に係る継手ブロックに締結力が作用した状態を示す図。
本発明の一実施形態に係る半導体製造装置の概略構成図。

実施例

0014

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、本明細書および図面においては、機能が実質的に同様の構成要素には、同じ符号を使用することにより重複した説明を省略する。
第1実施形態
図1は本発明の一実施形態に係る流体制御装置1を示している。
図1において、矩形状の外形を有するベースプレート50の長手方向を矢印A1,A2で示し、ベースプレート50の幅方向を矢印B1、B2で示している。
図1において、ベースプレート50には、長手方向A1,A2に沿って各種流体機器10A〜10Hが配列されている。なお、説明の便宜上、流体機器10A〜10Hは一列のみ配列されているが、実際には複数列配列される。
流体機器10A〜10Hは、開閉バルブ、マスフローコントローラ、三方バルブ、レギュレータ等が含まれるが、これらに限定されるわけではない。
ここで、本発明における「流体機器」とは、流体の流れや流量を制御する流体制御装置に使用される機器であって、流路を画定するボディを備え、この流路がボディの下面(表面)で開口する少なくとも2カ所の開口部を有する機器である。

0015

図2Aおよび図2Bに、流体機器としての開閉バルブ10D、継手ブロック20(20A,20B)、ベースプレート50、および、締結ボルトBTの関係を示す。
開閉バルブ10Dは、アクチュエータ部10aと金属製のボディ11とを有する。ボディ11は、その下面11bから下方に向けて延在する4本の脚部11aを有し、脚部11aの各々に締結ボルトBTが挿通するボルト挿入孔が形成されている。締結ボルトBTは、ボディ11を通じてベースプレート50に形成されたねじ穴51(図1参照)に螺合する。なお、脚部11aを設けない構成も採用可能である。
図2Aおよび図2Bから分かるように、ボディ11の脚部11aの下端部は、ベースプレート50の上面から離れた位置に配置される。
図3に示すように、ボディ11には、流路12,13が形成されており、これらの流路12,13はボディ11の下面11bでそれぞれ開口する開口部12a、13aを有している。
ボディ11は、図示しないダイヤフラム弁体)を内蔵し、このダイヤフラムを、アクチュエータ部10aに内蔵された空気圧等を駆動源とするアクチュエータによって操作することにより、流路12と流路13との間を開閉可能になっている。
幅方向B1,B2において、ボディ11の対向する脚部11aの間に2つの継手ブロック20A,20Bが配置されている。ボディ11は、長手方向A1,A2において、2つの継手ブロック20A,20B上に配置される。
図3Aおよび図3B示すように、2つの継手ブロック20A,20Bには、V状の流路21が形成され、流路21は継手ブロック20A,20Bの上面の2箇所で開口する開口部21a,21bを有する。なお、継手ブロック20(20A,20B)の詳細な構造は後述する。

0016

図3Bに示すように、開閉バルブ10Dの流路13の開口部13aは継手ブロック20Bの流路21の開口部21aと突き合わされている。図示しないが、開閉バルブ10Dの流路12の開口部12aは継手ブロック20Aの流路21の開口部21bと突き合わされている。開口部12aと開口部21bとの間および開口部13aと開口部21aとの間には、ガスケット機構40がそれぞれ介在している。

0017

ガスケット機構40は、円筒状に形成されたガイド41と、ガイド41の内周に嵌る環状に形成されたガスケット42とを有する。ガスケット42は、開閉バルブ10Dのボディ11の円環状の突起14により変形を受ける上側端面42aと、継手ブロック20の円環状の突起22により変形を受ける下側端面42bと、互いに接続される2つの流路の間を接続する内周面42cとを有する。
ガスケット42としては、金属製又は樹脂製などのガスケットを挙げることが出来る。ガスケットしては、軟質ガスケットセミメタルガスケットメタルガスケットなどが挙げられる。具体的には、以下のものが好適に使用される。
(1)軟質ガスケット
ゴムリング
ゴムシート(全面座用)
ジョイントシート
膨張黒鉛シート
PTFEシート
PTFジャケット
(2)セミメタルガスケット
うず巻形ガスケット(Spiral−wound gaskets)
メタルジャケットガスケット
(3)メタルガスケット
金属平形ガスケット
メタル中空Oリング
・リングジョイント

0018

図3Bに示すように、開閉バルブ10Dのボディ11の開口部13aの周囲には、保持凹部11cが形成され、これにガスケット機構40が嵌る。なお、開口部12aの周囲にも保持凹部が同様に形成されている。
開口部13aの周囲には、上記したように、ガスケット42の形成材料よりも高硬度に形成された円環状の突起14が形成されている。図示しないが、開口部12aの周囲にも円環状の突起が形成されている。
図3B図5Aおよび図5Dに示すように、継手ブロック20の開口部21a、21bの周囲には、ガスケット42の形成材料よりも高硬度に形成された円環状の突起22が形成されている。
上記した締結ボルトBTは、幅方向B1,B2において、突起14および突起22の両側に配置されるとともに、長手方向A1,A2において、突起14および突起22の中心位置が締結ボルトBTの挿通孔の中心位置とほぼ一致する。各締結ボルトBTをベースプレートに螺合させて締め付けると、開閉バルブ10Dのボディ11とベースプレート50との間に介在する継手ブロック20には、締結ボルトBTの締め付け力が作用し、突起14および突起22がガスケット42に食い込むことで、ボディ11の流路12,13の開口部12a,13aと継手ブロック20の流路21の開口部21a,21bとの間がシールされる。
ボディ11の流路12,13の開口部12a,13aと継手ブロック20の流路21の開口部21a,21bとの間のシール性を確保するためには、締付トルクが規定以上となるように各締結ボルトBTが締め付けられる。

0019

図5A図5Dに示すように、継手ブロック20は、流路21が開口する上面に、開口部21a,21bを挟むように、一対の突出部23がそれぞれ形成されている。これら突出部23は、図5B等から明らかなように、突起22よりも高く突出している。これら突出部23の円弧状の湾曲面23aは、上記のガスケット機構40に保持されたガスケット42を突起22に対して位置決めするために設けられている。
継手ブロック20の開口部21a,21bの配列方向において、開口部21a側の端部、開口部21a,21bの間、および、開口部21b側の端部には、
切り欠き部24が形成されている。
この切り欠き部24は、円環状の突起22に隣接しかつ当該突起22よりも低位に形成された平坦面で構成されている。

0020

図6Aおよび図6Bに、比較のために、切り欠き部24が形成されていない継手ブロック220を示す。
継手ブロック220は、継手ブロック20と同様に、V状の流路221を有し、この流路221は、上面224において開口部221a,221bを有する。開口部221a,221bの周囲には、円環状の突起222が形成され、さらにこの外周には、ガスケット機構40を保持するための保持凹部223が形成されている。上面224は、突起222よりも高い位置に存在する。
継手ブロック20の切り欠き部24は、上記した継手ブロック220の上面224の一部を切削加工等により除去したものである。

0021

次に、継手ブロック20の切り欠き部24の役割について説明する。
2つの継手ブロック20A,20Bは、同じ高さ寸法(下面から上面までの距離)に設計されているが、実際には製造上の寸法差異が存在する。このような寸法差異は、高さに限らず他の寸法においても存在するが、本実施形態では、高さ寸法についてのみ説明する。
図3Aに示したように、継手ブロック20Aの高さをH1、継手ブロック20Bの高さをH2とする。図3Aにおいては図示していない各締結ボルトBTをベースプレート50のねじ穴51に螺合させて締め付けていくと、上記したように、各ガスケット42は変形する。高さH1が高さH2よりも大きい場合には、開閉バルブ10D(のボディ11)はC2方向に傾斜することになる。高さH1が高さH2よりも小さい場合には、開閉バルブ10D(のボディ11)はC1方向に傾斜することになる。
ボディ11の下面11bと継手ブロック20A,20Bの上面とが接近している、すなわち、切り欠き部24が存在しないと、ボディ11の傾斜方向および傾斜の度合いに応じて、ボディ11の下面11bと継手ブロック20A,20Bの上面とが干渉する可能性がある。
本実施形態では、継手ブロック20A,20Bに切り欠き部24を形成することで、ボディ11と継手ブロック20A,20Bとの干渉の発生を確実に防ぐ。切り欠き部24は、継手ブロック20A,20Bの間の寸法差異を受け入れつつ、ガスケット42によるシール性を確保する差異受容機構を構成している。

0022

以上のように、本実施形態によれば、継手ブロック20A,20Bの締結ボルトによるベースプレートへの締結作業を省略できることに加えて、開閉バルブ10Dと継手ブロック20A,20Bとの間の確実なシールを確保することができる。
なお、本実施形態では、切り欠き部24を継手ブロック20A,20Bに設けた場合を例示したが、切り欠き部24を開閉バルブ10Dのボディ11の下面11bに設けてもよいし、継手ブロック20A,20Bおよびボディ11の双方に設けてもよい。
また、図3Aに示したようなC1,C2方向だけでなく、C1,C2方向とは異なる方向の傾斜によるボディ11と継手ブロック20A,20Bとの干渉を回避するように切り欠き部を設けることもできる。
本実施形態では、本発明を開閉バルブ10Dと継手ブロック20A,20Bに適用した場合を例示したが、他の流体機器と継手ブロックにも当然適用可能である。

0023

第2実施形態
図7A図9Bを参照して、本発明の第2の実施形態について説明する。なお、図7A図9Bにおいて上記実施形態と同様の構成部分には同一の符号を使用している。
図7Aにおいて、上記実施形態と異なる点は、継手ブロック120(120A,120B)の構造である。
継手ブロック120は、上記した継手ブロック20,220と同様に、V状の流路121を備え、この流路121は、上面120aの2箇所で開口する開口部121a、121bを有する。開口部121a、121bの周囲には、ガスケット42に圧接される円環状の突起122が形成され、その外周にはガスケット機構40を保持するための保持凹部123が形成されている。継手ブロック120の上面120aには切り欠き部は存在せず、図7Bから分かるように、開閉バルブ10Dのボディ11の下面11bと継手ブロック120の上面120aとの間には若干の隙間が形成される。
継手ブロック120の下面120bには、開口部121a、121bに略対応する位置に、ピン穴125が形成されている。ピン穴125内には弾性部材としてのコイルばね160と支持ピン150が設けられている。支持ピン150の一部は、下面120bから突出している。後述するように、支持ピン150およびコイルばね160は、継手ブロック120A,120Bの間の寸法差異を受け入れつつ、ガスケット42によるシール性を確保する差異受容機構を構成する。

0024

支持ピン150は、図9Aおよび図9Bに示すように、ベースプレート50の上面に配置され、継手ブロック120A,120Bを、コイルばね160を介して支持する。
図9Aに示すように、継手ブロック120Aの高さをH1、継手ブロック120Bの高さをH2とし、高さH2は高さH1よりも大きいものとする。継手ブロック120A,120Bに締結ボルトBTの締結力が作用していない状態では、継手ブロック120Bの上面120aは、継手ブロック120Aの上面120aよりもベースプレート50の上面から高い位置にある。
各締結ボルトBTを締め付けていくと、図9Bに示すように、継手ブロック120Aにはボディ11から力F1が印可され、継手ブロック120Bにはボディ11から力F2が印可される。力F1,F2は、ガスケット42による必要なシール性能が得られるトルク値まで締結ボルトBTを締め付けた際に継手ブロック120A,120Bに作用する力である。継手ブロック120A,120Bの高さが理想的に等しい場合には、力F1,F2はほぼ同じ大きさとなるはずである。高さH2と高さH1との間に差異が存在すると、力F1,F2は互いに異なり、この差異に応じて継手ブロック120Aのコイルばね160に作用する力と継手ブロック120Bに作用する力の大きさは異なることになる。継手ブロック120A,120Bの上面120aの高さ位置が略等しくなるように締結ボルトBTを締め付けると、図9Bに示すように、一方の継手ブロック120Bのベースプレート50側への変位が他方の継手ブロック120Aの変位よりも大きくなる。これにより、ボディ11の下面11bも基準平面であるベースプレート50の上面に対して略平行に配置される。

0025

本実施形態によれば、継手ブロック120A,120Bの締結ボルトによるベースプレート50への締結作業を省略できることに加えて、開閉バルブ10Dをベースプレート50に対して傾斜させることなく開閉バルブ10Dと継手ブロック120A,120Bとの間の確実なシールを確保することができる。
本実施形態では、本発明を開閉バルブ10Dと継手ブロック120A,120Bに適用した場合を例示したが、他の流体機器と継手ブロックにも当然適用可能である。
本実施形態では、弾性部材としてコイルばね160を用いたが、これに限定されるわけではなく、皿ばね等の他の要素を用いてもよい。また、支持ピン150を省略することも可能である。

0026

次に、図10を参照して、上記した流体制御装置1の適用例について説明する。
図10に示す半導体製造装置1000は、ALD法による半導体製造プロセスを実行するための装置であり、300はプロセスガス供給源、400はガスボックス、500はタンク、600は制御部、700は処理チャンバ、800は排気ポンプ、900は開閉バルブを示している。
ALD法による半導体製造プロセスでは、処理ガスの流量を精密に調整する必要があるとともに、基板大口径化により、処理ガスの流量をある程度確保する必要もある。
ガスボックス400は、正確に計量したプロセスガスを処理チャンバ700に供給するために、開閉バルブ、レギュレータ、マスフローコントローラ等の各種の流体機器を集積化してボックスに収容した上記の流体制御装置1を内蔵している。
タンク500は、ガスボックス400から供給される処理ガスを一時的に貯留するバッファとして機能する。
開閉バルブ900は、ガスボックス400で計量されたガスの流量を制御する。
制御部600は、開閉バルブ900を制御して流量制御を実行する。
処理チャンバ700は、ALD法による基板への膜形成のための密閉処理空間を提供する。
排気ポンプ800は、処理チャンバ700内を真空引きする。

0027

上記適用例では、流体制御装置1をALD法による半導体製造プロセスに用いる場合について例示したが、これに限定されるわけではなく、本発明は、例えば原子層エッチング法ALE:Atomic Layer Etching 法)等、精密な流量調整が必要なあらゆる対象に適用可能である。

0028

1流体制御装置
10A〜10H流体機器
10aアクチュエータ部
10D開閉バルブ(流体機器)
11 ボディ
11a 脚部
11b 下面
11c 保持凹部
12,13流路
12a,13a 開口部
14突起
20,20A,20B継手ブロック
21 流路
21a,21b 開口部
22 突起
23 突出部
23a湾曲面
24切り欠き部
40ガスケット機構
41ガイド
42a、42b 上側端面
42c内周面
50ベースプレート
51ねじ穴
120 継手ブロック
121 流路
122 突起
123 保持凹部
150支持ピン
160コイルばね(弾性部材)
220 継手ブロック
221 流路
221a、221b 開口部
224 上面
BT締結ボルト
A1、A2長手方向
B1、B2 幅方向

ページトップへ

この技術を出願した法人

この技術を発明した人物

ページトップへ

関連する挑戦したい社会課題

関連する公募課題

該当するデータがありません

ページトップへ

技術視点だけで見ていませんか?

この技術の活用可能性がある分野

分野別動向を把握したい方- 事業化視点で見る -

ページトップへ

おススメ サービス

おススメ astavisionコンテンツ

新着 最近 公開された関連が強い技術

  • TOTO株式会社の「 静電チャック」が 公開されました。( 2020/02/13)

    【課題】RF応答性を高めつつ、プラズマ密度の面内均一性を高めることができる静電チャックを提供する。【解決手段】吸着の対象物が載置される第1主面と、前記第1主面とは反対側の第2主面と、を有するセラミック... 詳細

  • TOTO株式会社の「 静電チャック」が 公開されました。( 2020/02/13)

    【課題】プラズマ密度の面内均一性を高めつつ、RF応答性も高めることができる静電チャックを提供する。【解決手段】第1主面と第2主面とを有するセラミック誘電体基板と、ベースプレートと、セラミック誘電体基板... 詳細

  • 株式会社相浦機械の「 分配弁及びデッキクレーンの給油装置」が 公開されました。( 2020/02/13)

    【課題】スプール収容部と連通路との流通性を向上させるとともに、両者の間の流通量の変動幅を小さくして安定した流通を確保できるデッキクレーンの給油装置用の分配弁を提供すること。【解決手段】分配弁44には、... 詳細

この 技術と関連性が強い人物

関連性が強い人物一覧

この 技術と関連する社会課題

関連する挑戦したい社会課題一覧

この 技術と関連する公募課題

該当するデータがありません

astavision 新着記事

サイト情報について

本サービスは、国が公開している情報(公開特許公報、特許整理標準化データ等)を元に構成されています。出典元のデータには一部間違いやノイズがあり、情報の正確さについては保証致しかねます。また一時的に、各データの収録範囲や更新周期によって、一部の情報が正しく表示されないことがございます。当サイトの情報を元にした諸問題、不利益等について当方は何ら責任を負いかねることを予めご承知おきのほど宜しくお願い申し上げます。

主たる情報の出典

特許情報…特許整理標準化データ(XML編)、公開特許公報、特許公報、審決公報、Patent Map Guidance System データ