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技術 気体浄化装置、気体浄化方法および基板処理装置

出願人 株式会社SCREENホールディングス
発明者 村元僚山口貴大
出願日 2017年10月25日 (2年1ヶ月経過) 出願番号 2017-206220
公開日 2019年5月23日 (6ヶ月経過) 公開番号 2019-076842
状態 未査定
技術分野 廃ガス処理 吸収による気体分離 ウェットエッチング
主要キーワード 各循環流路 浄化液中 液体配管 捕獲性能 気体配管 排気路内 pH測定 気体浄化装置
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(2019年5月23日)のものです。
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図面 (5)

課題

気体浄化する際に生じる汚染された液体の量を低減し得る技術を提供する。

解決手段

気体浄化装置3は、処理ユニット2からの排気が通過する排気路44a〜44cを形成する浄化槽44a〜44cと、排気路44a〜44c内の排気をそれぞれ出口45a〜45cに向けて移動させるファン36と、排気路44a〜44c内各々の排気を浄化する浄化液吐出する吐出ノズル46a〜46cを備える。また、気体浄化装置3は、浄化槽42a〜42c各々の排液口422a〜422c各々を通過した浄化液を吐出ノズル46a〜46cに戻す循環流路各々を形成する循環部47a〜47cと、各循環流路を通る浄化液中特定成分を除去する酸性液を供給する酸性液供給配管51a、アルカリ性液を供給するアルカリ性液供給配管51b、及び有機物除去部51cを備える。

概要

背景

半導体装置液晶表示装置などの製造工程では、酸性またはアルカリ性などの薬液有機薬液(液状の有機溶剤)が基板の表面に供給される。このため、薬液成分などの汚染物質を含む気体が発生する。このような気体は、スクラバーとも呼ばれる気体浄化装置によって、汚染物質が除去された後、大気に放出される。

例えば、特許文献1には、処理ユニットと処理ユニットからの汚染された排気浄化するスクラバーが開示されている。特許文献1では、排気に含まれる薬液の種類に基づいて、複数の洗浄液のいずれか一つを選択し、選択された洗浄機吐出器から吐出させる。これにより、排気中の汚染物質を除去している。

概要

気体を浄化する際に生じる汚染された液体の量を低減し得る技術を提供する。気体浄化装置3は、処理ユニット2からの排気が通過する排気路44a〜44cを形成する浄化槽44a〜44cと、排気路44a〜44c内の排気をそれぞれ出口45a〜45cに向けて移動させるファン36と、排気路44a〜44c内各々の排気を浄化する浄化液を吐出する吐出ノズル46a〜46cを備える。また、気体浄化装置3は、浄化槽42a〜42c各々の排液口422a〜422c各々を通過した浄化液を吐出ノズル46a〜46cに戻す循環流路各々を形成する循環部47a〜47cと、各循環流路を通る浄化液中特定成分を除去する酸性液を供給する酸性液供給配管51a、アルカリ性液を供給するアルカリ性液供給配管51b、及び有機物除去部51cを備える。

目的

本発明は、気体を浄化する際に生じる汚染された液体の量を低減し得る技術を提供する

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
0件

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請求項1

気体浄化する気体浄化装置であって、浄化対象の気体が通過する第1排気路を形成する第1浄化槽と、前記第1排気路内の前記気体を出口に向けて移動させる圧送部と、前記第1排気路内の前記気体を浄化する浄化液吐出する第1吐出ノズルと、前記第1浄化槽に設けられた第1排液口に接続され、前記第1排液口を通過した前記浄化液を前記第1吐出ノズルに戻す第1循環流路を形成する第1循環部と、前記第1循環部に接続され、前記第1循環流路を通る前記浄化液中特定成分を除去する第1除去部と、を備える、気体浄化装置。

請求項2

請求項1の気体浄化装置であって、前記1除去部は、酸性液源からの酸性液を前記第1循環路内に供給することにより、前記浄化液中のアルカリを除去する、気体浄化装置。

請求項3

請求項2の気体浄化装置であって、前記第1循環部に設けられており、前記第1循環流路を通る前記浄化液のpH値を測定するpH測定部、をさらに備え前記第1除去部は、前記酸性液の供給量を調節する酸性液供給量調整部を有する、気体浄化装置。

請求項4

請求項1から請求項3のいずれか1項の気体浄化装置であって、前記第1浄化槽の前記第1排気路の出口に接続された第2排気路を形成する第2浄化槽と、前記第2排気路内にて前記浄化液を吐出する第2吐出ノズルと、前記第2浄化槽に設けられた第2排液口に接続され、前記第2排液口を通過した前記浄化液を前記第2吐出ノズルに戻す第2循環流路を形成する第2循環部と、前記第2循環部に接続され、前記第2循環流路を通る前記浄化液中の特定成分を除去する第2除去部と、をさらに備える、気体浄化装置。

請求項5

請求項4の気体浄化装置であって、前記第2除去部は、アルカリ性液供給源からのアルカリ性液を前記第2循環流路内に供給することにより、前記浄化液中の酸を除去する、気体浄化装置。

請求項6

請求項5の気体浄化装置であって、前記第2循環部に設けられており、前記第2循環流路を通る前記浄化液のpH値を測定するpH測定部、をさらに備え、前記第2除去部は、前記アルカリ性液の供給量を調整するアルカリ性液供給量調整部を有する、気体浄化装置。

請求項7

請求項2の気体浄化装置であって、前記第2浄化槽の前記第2排気路の出口に接続された第3排気路を形成する第3浄化槽と、前記第3排気路内にて前記浄化液を吐出する第3吐出ノズルと、前記第3浄化槽に設けられた第3排液口に接続され、前記第3排液口を通過した前記浄化液を前記第3吐出ノズルに戻す第3循環流路を形成する第3循環部と、前記第3循環部に接続され、前記第3循環流路を通る前記浄化液中の特定成分を除去する第2除去部と、をさらに備える、気体浄化装置。

請求項8

請求項7の気体浄化装置であって、前記第3除去部は、前記浄化液に接触する活性炭を有する、気体浄化装置。

請求項9

請求項8の気体浄化装置であって、前記第3循環部に接続され、前記第3循環流路を通る前記浄化液中の有機物濃度を測定する有機物濃度測定部、をさらに備える、気体浄化装置。

請求項10

請求項7から請求項9のいずれか1項の気体浄化装置であって、前記第3循環部は、前記第3循環流路に接続され、前記浄化液を貯留する貯留槽と、前記貯留槽に貯留された前記浄化液を排液する排液部と、をさらに備える、気体浄化装置。

請求項11

気体を浄化する気体浄化方法であって、(a)浄化対象の気体を、第1浄化槽が形成する第1排気路内の出口に向けて移動させる移動工程と、(b)前記第1排気路内において前記気体を浄化する浄化液を第1吐出ノズルから吐出する吐出工程と、(c)前記第1排気路内に吐出された前記浄化液を、第1循環流路を通じて前記第1吐出ノズルに戻す循環工程と、(d)前記第1循環路を通る前記浄化液中の特定成分を除去する除去工程と、を含む、気体浄化方法。

請求項12

基板を処理する基板処理装置であって、基板を処理液で処理する処理ユニットと、請求項1から請求項10のいずれか1項の気体浄化装置と、前記処理ユニットと前記気体浄化装置とを接続するダクト部と、を備える、基板処理装置。

技術分野

0001

この発明は、気体浄化する技術に関する。

背景技術

0002

半導体装置液晶表示装置などの製造工程では、酸性またはアルカリ性などの薬液有機薬液(液状の有機溶剤)が基板の表面に供給される。このため、薬液成分などの汚染物質を含む気体が発生する。このような気体は、スクラバーとも呼ばれる気体浄化装置によって、汚染物質が除去された後、大気に放出される。

0003

例えば、特許文献1には、処理ユニットと処理ユニットからの汚染された排気を浄化するスクラバーが開示されている。特許文献1では、排気に含まれる薬液の種類に基づいて、複数の洗浄液のいずれか一つを選択し、選択された洗浄機吐出器から吐出させる。これにより、排気中の汚染物質を除去している。

先行技術

0004

特開2014−175361号公報

発明が解決しようとする課題

0005

しかしながら、特許文献1では、吐出した洗浄液がそのまま排液されてしまう。このため、汚染された洗浄液が大量に発生してしまう。洗浄液は汚染されているために、何らかの処理を施して排液する必要があった。このため、洗浄液が大量に発生すると、その浄化処理が大きな負担となってしまう。

0006

そこで、本発明は、気体を浄化する際に生じる汚染された液体の量を低減し得る技術を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

0007

第1態様は、気体を浄化する気体浄化装置であって、浄化対象の気体が通過する第1排気路を形成する第1浄化槽と、前記第1排気路内の前記気体を出口に向けて移動させる圧送部と、前記第1排気路内の前記気体を浄化する浄化液を吐出する第1吐出ノズルと、前記第1浄化槽に設けられた第1排液口に接続され、前記第1排液口を通過した前記浄化液を前記第1吐出ノズルに戻す第1循環流路を形成する第1循環部と、前記第1循環部に接続され、前記第1循環流路を通る前記浄化液中特定成分を除去する第1除去部とを備える。

0008

第2態様は、第1態様の気体浄化装置であって、前記1除去部は、酸性液源からの酸性液を前記第1循環路内に供給することにより、前記浄化液中のアルカリを除去する。

0009

第3態様は、第2態様の気体浄化装置であって、前記第1循環部に設けられており、前記第1循環流路を通る前記浄化液のpH値を測定するpH測定部、をさらに備え前記第1除去部は、前記酸性液の供給量を調節する酸性液供給量調整部を有する。

0010

第4態様は、第1態様から第3態様のいずれか1つの気体浄化装置であって、前記第1浄化槽の前記第1排気路の出口に接続された第2排気路を形成する第2浄化槽と、前記第2排気路内にて前記浄化液を吐出する第2吐出ノズルと、前記第2浄化槽に設けられた第2排液口に接続され、前記第2排液口を通過した前記浄化液を前記第2吐出ノズルに戻す第2循環流路を形成する第2循環部と、前記第2循環部に接続され、前記第2循環流路を通る前記浄化液中の特定成分を除去する第2除去部とをさらに備える。

0011

第5態様は、第4態様の気体浄化装置であって、前記第2除去部は、アルカリ性液供給源からのアルカリ性液を前記第2循環流路内に供給することにより、前記浄化液中の酸を除去する。

0012

第6態様は、第5態様の気体浄化装置であって、前記第2循環部に設けられており、前記第2循環流路を通る前記浄化液のpH値を測定するpH測定部、をさらに備え、前記第2除去部は、前記アルカリ性液の供給量を調整するアルカリ性液供給量調整部を有する。

0013

第7態様は、第2態様の気体浄化装置であって、前記第2浄化槽の前記第2排気路の出口に接続された第3排気路を形成する第3浄化槽と、前記第3排気路内にて前記浄化液を吐出する第3吐出ノズルと、前記第3浄化槽に設けられた第3排液口に接続され、前記第3排液口を通過した前記浄化液を前記第3吐出ノズルに戻す第3循環流路を形成する第3循環部と、前記第3循環部に接続され、前記第3循環流路を通る前記浄化液中の特定成分を除去する第2除去部とをさらに備える。

0014

第8態様は、第7態様の気体浄化装置であって、前記第3除去部は、前記浄化液に接触する活性炭を有する。

0015

第9態様は、第8態様の気体浄化装置であって、前記第3循環部に接続され、前記第3循環流路を通る前記浄化液中の有機物濃度を測定する有機物濃度測定部をさらに備える。

0016

第10態様は、第7態様から第9態様のいずれか1つの気体浄化装置であって、前記第3循環部は、前記第3循環流路に接続され、前記浄化液を貯留する貯留槽と、前記貯留槽に貯留された前記浄化液を排液する排液部とをさらに備える。

0017

第11態様は、気体を浄化する気体浄化方法であって、(a)浄化対象の気体を、第1浄化槽が形成する第1排気路内の出口に向けて移動させる移動工程と、(b)前記第1排気路内において前記気体を浄化する浄化液を第1吐出ノズルから吐出する吐出工程と、(c)前記第1排気路内に吐出された前記浄化液を、第1循環流路を通じて前記第1吐出ノズルに戻す循環工程と、(d)前記第1循環路を通る前記浄化液中の特定成分を除去する除去工程とを含む。

0018

第12態様は、基板を処理する基板処理装置であって、基板を処理液で処理する処理ユニットと、第1態様から第10態様のいずれか1つの気体浄化装置と、前記処理ユニットと前記気体浄化装置とを接続するダクト部とを備える。

発明の効果

0019

第1態様から第10態様の気体浄化装置によると、浄化液を気体に接触させるため、気体中に含まれる特定成分を捕獲できる。また、捕獲された特定成分を除去しながら浄化液を循環させるため、浄化液の捕獲能力の低下を抑制しつつ、気体の浄化処理を実施できる。また、浄化液を循環して利用するため、汚染された浄化液の発生量を低減することができる。

0020

第2態様の気体浄化装置によると、浄化液中の捕獲されたアルカリ成分を酸性液で中和し、除去することができる。

0021

第3態様の気体浄化装置によると、浄化液を目的のpH値に接近するように酸性液の供給を調節できる。

0022

第4態様の気体浄化装置によると、第2浄化槽を設けることにより、気体に含まれる汚染物質の除去をより一層図ることができる。また、第2循環部において第2除去部により特定成分を除去できるため、浄化液の捕獲性能の低下を抑制できる。

0023

第5態様の気体浄化装置によると、第2浄化槽にて捕獲された酸成分を、アルカリ性液により中和して除去することができる。

0024

第6態様の気体浄化装置によると、浄化液を目的のpH値に近づけるように、アルカリ性液の供給を調節できる。

0025

第7態様の気体浄化装置によると、第3浄化槽を設けることにより、気体に含まれる汚染物質の除去をより一層図ることができる。また、第3循環部において第3除去部により特定成分を除去できるため、浄化液の捕獲性能の低下を抑制できる。

0026

第8態様の気体浄化装置によると、浄化液に活性炭を接触させることにより、浄化液から特定の有機物を除去できる。

0027

第9態様の気体浄化装置によると、有機物濃度を測定することにより、第3除去部の活性炭の交換時期を適切に把握することが可能となる。

0028

第10態様の気体浄化装置によると、第1〜第3浄化槽で循環することによって不純物が増加された浄化液を適宜排液できる。

0029

第11態様の気体浄化方法によると、浄化液を気体に接触させるため、気体中に含まれる特定成分を捕獲できる。また、捕獲された特定成分を除去しながら浄化液を循環させるため、浄化液の捕獲能力の低下を抑制しつつ、気体の浄化処理を実施できる。

0030

第12態様の基板処理装置によると、処理ユニットから排出される気体を気体浄化装置によって浄化することができる。

図面の簡単な説明

0031

実施形態の基板処理装置1を示す模式図である。
実施形態の処理ユニット2を図解的に示す側面図である。
実施形態の処理ユニット2が実行する基板Wの処理を示すフローチャートである。
実施形態の気体浄化装置3の内部を図解的に示す側面図である。

実施例

0032

以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。なお、この実施形態に記載されている構成要素はあくまでも例示であり、本発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。図面においては、理解容易のため、必要に応じて各部の寸法や数が誇張または簡略化して図示されている場合がある。

0033

<1. 第1実施形態>
図1は、実施形態の基板処理装置1の概略を示す模式図である。図2は、実施形態の処理ユニット2を図解的に示す側面図である。

0034

基板処理装置1は、半導体ウエハなどの円板状の基板Wを1枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置1は、複数の処理ユニット2と、気体浄化装置3と、外壁4と制御装置5とを備えている。

0035

処理ユニット2各々は、基板Wに処理液を供給することにより、基板Wを処理する。気体浄化装置3は、処理ユニット2各々から排出された気体を浄化する。ここでは気体浄化装置3は、複数の処理ユニット2に対して1つだけ設けられている。外壁4は、複数の処理ユニット2と気体浄化装置3とを内部に収容する箱状に形成されている。制御装置5は、基板処理装置1に備えられた各装置の動作およびバルブ開閉を制御する。

0036

図2に示すように、処理ユニット2各々は、基板Wを1枚ずつ処理する枚葉式の装置である。複数の処理ユニット2は、共通の構成を有する。処理ユニット2各々は、チャンバー6、スピンチャック7、酸性薬液ノズル8、アルカリ性薬液ノズル9、有機薬液ノズル10、リンス液ノズル11およびカップ12を備えている。

0037

チャンバー6は、内部空間を有する箱状に形成されている。スピンチャック7は、チャンバー6内で1枚の基板Wを水平姿勢(基板Wが水平面に平行な状態)で保持するとともに、基板Wの中心を通る鉛直な回転軸線A1まわりに基板Wを回転させる。ノズル8〜11は、スピンチャック7に保持されている基板Wに向けて各処理液を吐出する。カップ12は、スピンチャック7を取り囲む筒状に形成されている。

0038

カップ12内の底部には、排出口12aが設けられている。排出口12aは、カップ12の底部において、チャンバー6内の気体を排出する。排出口12aは、ここでは、カップ12の底部に接続されている。排出口12aは、チャンバー6内の気体を、基板処理装置1が設置される工場に設けられた排気設備に向けて案内する。

0039

図2に示すように、チャンバー6は、隔壁13、FFU14(ファンフィルタユニット)を含む。隔壁13は、スピンチャック7やノズル8〜11を内部に収容する箱状に形成されている。FFU14は、隔壁13内の上部(ここでは、天井部)に配設された送風ユニットであり、隔壁13内の上部から隔壁13内にクリーンエア(フィルタで濾過された清浄な空気)を送る。

0040

ここでは、チャンバー6内には、FFU14からのクリーンエアの供給および排出口12aのエア吸引によって、下方に流れるダウンフロー下降流)が形成される。ダウンフローは、基板Wがチャンバー6内に存在する期間中だけでなく、その他の期間も形成され得る。

0041

図2に示すように、スピンチャック7は、スピンベース16と、スピンモータ17とを含む。スピンベース16は、基板Wを水平に保持する円盤状に形成されている。スピンモータ17は、スピンベース16を回転軸線A1まわりに回転させる。スピンチャック7は、基板Wを水平方向に挟むことによって基板Wを水平に保持する挟持式のものであってもよいし、基板Wにおける非デバイス形成面である裏面(ここでは下面)を吸着することにより基板Wを水平姿勢に保持するバキューム式のチャックであってもよい。ここでは、スピンチャック7は、複数のチャックピンによって基板Wを挟持する挟持式のチャックとしている。

0042

カップ12は、スピンベース16を取り囲んでいる。上向きに開いたカップ12の上端部は、スピンベース16よりも上方に配置されている。このため、基板Wが回転することによって基板Wの周囲に飛散した薬液やリンス液などの処理液は、カップ12の内側面によって受け止められ、カップ12の内部で開口する排出口12aから排出される。

0043

酸性薬液ノズル8は、基板Wの上面に向けて酸性の薬液を吐出する。アルカリ性薬液ノズル9は、基板Wの上面に向けてアルカリ性の薬液を吐出する。有機薬液ノズル10は、基板Wの上面に向けて有機薬液を吐出する。リンス液ノズル11は、基板Wの上面に向けてリンス液を吐出する。

0044

ノズル8〜11は、吐出口が静止した状態で基板Wの上面中央部に向けて処理液を吐出する固定ノズルであってもよいし、基板Wの上面に対する処理液の着液位置が中央部と周縁部との間で移動するように移動しながら処理液を吐出するスキャンノズルであってもよい。

0045

図2に示すように、処理ユニット2は、酸性薬液配管18、酸性薬液バルブ19、アルカリ性薬液配管20、アルカリ性薬液バルブ21、有機薬液配管22、有機薬液バルブ23、リンス液配管24およびリンス液バルブ25を含む。

0046

酸性薬液配管18は酸性薬液ノズル8に接続されており、酸性液源から供給された酸性液を酸性薬液ノズル8に送るための流路を形成している。酸性薬液バルブ19は、酸性薬液配管18に介装されている。酸性薬液バルブ19は、酸性薬液配管18内の流路を開閉することにより、酸性薬液ノズル8からの酸性液の吐出のオンオフを制御する。

0047

アルカリ性薬液配管20はアルカリ性薬液ノズル9に接続されており、アルカリ性液源から供給されたアルカリ性液をアルカリ性薬液ノズル9に送るための流路を形成している。アルカリ性薬液バルブ21は、アルカリ性薬液配管20に介装されている。アルカリ性薬液バルブ21は、アルカリ性薬液配管20内の流路を開閉することにより、アルカリ性薬液ノズル9からのアルカリ性液の吐出のオン/オフを制御する。

0048

有機薬液配管22は有機薬液ノズル10に接続されており、有機薬液源から供給された有機薬液を有機薬液ノズル10に送るための流路を形成している。有機薬液バルブ23は、有機薬液配管22に介装されている。有機薬液バルブ23は、有機薬液配管22内の流路を開閉することにより、有機薬液ノズル10からの有機薬液の吐出のオン/オフを制御する。

0049

リンス液配管24はリンス液ノズル11に接続されており、リンス液源から供給されたリンス液をリンス液ノズル11に送るための流路を形成している。リンス液バルブ25は、リンス液配管24に介装されている。リンス液バルブ25は、リンス液配管24内の流路を開閉することにより、リンス液ノズル11からのリンス液の吐出のオン/オフを制御する。

0050

酸性薬液の一例は、フッ酸(フッ化水素酸)であり、アルカリ性薬液の一例は、SC−1(アンモニア過酸化水素水)である。有機薬液の一例は、IPA(イソプロピルアルコール)であり、リンス液の一例は、純水(脱イオン水:Deionized Water)である。酸性薬液は、硫酸塩酸を含む酸性薬液であってもよい。アルカリ性薬液は、TMAHトリメチルフェニルアンモニウムヒドロキシド)などを含むアルカリ性薬液であってもよい。有機薬液は、IPAに限らず、HFE(ハイドロフロロエーテル)などの他の有機薬液であってもよい。リンス液は、純水に限らず、炭酸水電解イオン水水素水オゾン水、および希釈濃度(たとえば、10〜100ppm程度)の塩酸水のいずれかであってもよい。

0051

図2に示すように、処理ユニット2は、処理ユニット2内で発生した混合流体に含まれる気体および液体を分離させる気液分離器26を備えている。気液分離器26は、チャンバー6の外に配置されている。

0052

気液分離器26は、気液分離ボックス27、液体配管28および気体配管29を備えている。気液分離ボックス27は、排出口12aに接続されている。液体配管28は、気液分離ボックス27の内部から気液分離ボックス27の外部に延在している。気体配管29は、気液分離ボックス27の内部から気液分離ボックス27の外部に延在している。

0053

液体配管28の一端部は、気液分離ボックス27の底面において上方に開口する液体排出口30を形成している。気体配管29の一端部は、気液分離ボックス27の底面より上方に突出するように設けられ、気液分離ボックス27の内部で上方に開口する気体排出口31を形成している。気体配管29の一端部が液体配管28の一端部よりも上側になるように、液体配管28および気体配管29が配設されている。気体配管29は、後述する気体浄化装置3の上流排気ダクト32に接続されている。チャンバー6内で発生した汚染物質を含む気体は、気液分離ボックス27および気体配管29を介して気体浄化装置3に向けてチャンバー6から排出される。

0054

処理液が基板Wに供給されると、蒸気ミストを含む気体(厳密には、気体に液体が混合して構成される混合流体)がチャンバー6内に発生する。この気体は、排出口12aを通って、気液分離器26の気液分離ボックス27の内部に流入する。混合流体に含まれる液体成分は、気液分離ボックス27内で液滴に変化して、液体排出口30から排出される。気体排出口31は、液体排出口30よりも上方に配置されていることにより、気液分離ボックス27内の液体が気体排出口31に侵入することが抑制されている。このため、液体成分の残留量が低減された気体が、気体排出口31を通って、気体浄化装置3に排出される。

0055

図3は、実施形態の処理ユニット2が実行する基板Wの処理を示すフローチャートである。基板Wを処理するにあたって、FFU14がクリーンエアをチャンバー6内に供給しており、排出口12aがチャンバー6内の気体を吸引するチャンバー6内にてダウンフローが形成された状態とされる。その状態で、制御装置5は、搬送ロボット(不図示)を制御することにより、基板Wをスピンチャック7上に搬送する。その後、制御装置5は、スピンチャック7を制御することにより、基板Wを回転させる。

0056

続いて、酸性薬液(ここでは、フッ酸)を基板Wに供給する酸性薬液供給工程(ステップS1)が行われる。詳細には、制御装置5が、酸性薬液バルブ19を開くことにより、酸性薬液ノズル8から回転する基板Wの上面中央部に向けて酸性薬液を吐出させる。これにより、酸性薬液が基板Wの上面に供給される。酸性薬液バルブ19が開かれてから所定時間経過すると、制御装置5は、酸性薬液バルブ19を閉鎖することにより、酸性薬液の吐出を停止させる。

0057

酸性薬液ノズル8から吐出されて基板Wの上面中央部に供給された酸性薬液は、基板Wの回転による遠心力を受けて基板Wの上面に沿って外方に広がる。これにより、基板Wの上面全域を覆う酸性薬液の液膜が形成される。すなわち、基板Wの上面全域に、酸性薬液が供給された状態となる。基板Wへのフッ酸の供給や、カップ12の内面に対するフッ酸の衝突に伴って発生した酸性薬液を含む気体は、カップ12の底部から排出口12aを介して排出される。カップ12から排出された酸性排気(酸性薬液を含む気体)は、気体浄化装置3へ送られる。

0058

続いて、リンス液(ここでは、純水)を基板Wに供給する第1中間リンス液供給工程(ステップS2)が行われる。詳細には、制御装置5が、リンス液バルブ25を開くことにより、リンス液ノズル11から回転する基板Wの上面中央部に向けてリンス液を吐出させる。これにより、基板Wの上面全域を覆う酸性薬液がリンス液に置換され、基板W上の酸性薬液がリンス液によって洗い流される。また、基板Wへのリンス液の供給等に伴って発生したリンス液を含む雰囲気は、カップ12の底部から排出口12aを介して排出される。リンス液バルブ25が開かれてから所定時間経過すると、制御装置5は、リンス液バルブ25を閉鎖することにより、リンス液の吐出を停止させる。

0059

続いて、アルカリ性薬液(ここでは、SC−1(アンモニア過酸化水素水混合液))を基板Wに供給するアルカリ性薬液供給工程(ステップS3)が行われる。詳細には、制御装置5が、アルカリ性薬液バルブ21を開くことにより、アルカリ性薬液ノズル9から回転する基板Wの上面中央部に向けてアルカリ性薬液を吐出させる。これにより、基板Wの上面全域を覆う純水の液膜がアルカリ性薬液に置換され、基板Wの上面全域にアルカリ性薬液が供給される。また、基板Wへのアルカリ性薬液の供給等に伴って発生したアルカリ性薬液を含む雰囲気は、カップ12の底部から排出口12aを介して排出される。カップ12から排出されたアルカリ性排気(アルカリ性薬液を含む気体)は、気体浄化装置3へ送られる。アルカリ性薬液バルブ21が開かれてから所定時間経過すると、制御装置5は、アルカリ性薬液バルブ21を閉鎖することにより、アルカリ性薬液の吐出を停止させる。

0060

続いて、リンス液(ここでは、純水)を基板Wに供給する第2中間リンス液供給工程(ステップS4)が行われる。詳細には、制御装置5が、リンス液バルブ25を開くことにより、リンス液ノズル11から回転する基板Wの上面中央部に向けてリンス液を吐出させる。これにより、基板Wの上面全域を覆うアルカリ性薬液がリンス液によって洗い流される。また、基板Wへのリンス液の供給等に伴って発生した純水を含む雰囲気は、カップ12の底部から排出口12aを介して排出される。リンス液バルブ25が開かれてから所定時間経過すると、制御装置5は、リンス液バルブ25を閉鎖することにより、リンス液の吐出を停止させる。

0061

続いて、有機薬液(ここでは、IPA)を基板Wに供給する有機薬液供給工程(ステップS5)が行われる。詳細には、制御装置5が、有機薬液バルブ23を開くことにより、有機薬液ノズル10から回転する基板Wの上面中央部に向けて有機薬液を吐出させる。これにより、基板Wの上面全域を覆うリンス液の液膜が有機薬液に置換され、基板W上のリンス液がIPAによって洗い流される。また、基板Wへの有機薬液の供給等によって発生した有機薬液を含む雰囲気は、カップ12の底部から排出口12aを介して排出される。カップ12から排出された有機排気(有機薬液を含む気体)は、気体浄化装置3へ送られる。有機薬液バルブ23が開かれてから所定時間が経過すると、制御装置5は、有機薬液バルブ23を閉鎖することにより、有機薬液の吐出を停止させる。

0062

続いて、基板Wを乾燥させる乾燥工程(ステップS6)が行われる。詳細には、制御装置5は、基板Wの回転を加速させることにより、酸性液供給工程(ステップS1)から有機薬液供給工程(ステップS6)までの回転速度よりも速い高回転速度(例えば、2000〜3000rpm)で基板Wを回転させる。これにより、大きな遠心力が基板Wの液体に加わり、基板Wに付着している液体が基板Wの周囲に振り切られる。このように基板Wから液体が除去されることにより、基板Wが乾燥される。そして、基板Wの高速回転が開始されてから所定時間が経過すると、制御装置5は、スピンチャック7を制御することにより、基板Wの回転を停止させる。その後、処理済みの基板Wが搬送ロボットによってスピンチャック7から搬出される。

0063

図4は、実施形態の気体浄化装置3の内部を図解的に示す側面図である。気体浄化装置3は、上流排気ダクト32と、排気浄化ボックス38と、下流排気ダクト35とを含む。

0064

排気浄化ボックス38は、内部空間を有する箱状に形成されたハウジング39を備えている。ハウジング39の長手方向一方側の側壁部390に上流排気ダクト32が接続されており、ハウジング39の長手方向他方側の側壁部392に下流排気ダクト35が接続されている。

0065

ハウジング39の内部には、上流排気ダクト32を介して、複数の処理ユニット2から排出された排気が流入する。ハウジング39の内部に流入した排気はハウジング39の内部に形成された流路(後述する排気路44a〜44c)を通過することにより浄化され、下流排気ダクト35を介してハウジング39の外部へ排出される。

0066

下流排気ダクト35の内部に、ファン36が設けられている。ファン36は、ハウジング39の内部から下流排気ダクト35に向けて気流を発生させることにより、ハウジング39内部の排気を圧送する。ファン36は、圧送部の一例である。なお、圧送部は、ファン36に限定されるものではない。例えば、圧送部を、下流排気ダクト35に接続されたバキューム装置吸引装置)としてもよい。

0067

ハウジング39の内部には、仕切壁部40a〜40cおよび仕切壁部41a〜41cが設けられている。仕切壁部40a〜40cは、ハウジング39内部の底部から立設する板状に形成された部材である。仕切壁部40a〜40cは、この順で、ハウジング39の長手方向に間隔をあけて配設されている。仕切壁部40aは、ハウジング39の側壁部390の内面に対向している。仕切壁部41aは、側壁部390と仕切壁部40aの間に設けられている。

0068

仕切壁部41aは、上流排気ダクト32に対向する位置に設けられている。ハウジング39は、その内部が仕切壁部40a〜40cによって、複数の区画(浄化槽42a、浄化槽42b、浄化槽42cおよび貯留槽43)に仕切られている。

0069

詳細には、ハウジング39において、側壁部390と仕切壁部40aとに挟まれる区画が浄化槽42aであり、仕切壁部40a,40bに挟まれる区画が浄化槽42bであり、仕切壁部40b,40cに挟まれる区画が浄化槽42cであり、仕切壁部40cと側壁部392とに挟まれる区画が貯留槽43である。

0070

浄化槽42a〜42cおよび貯留槽43は、底部に浄化液を貯留することが可能に構成されている。

0071

貯留槽43の側壁部392の底部寄りの部分には、流入口431が形成されている。流入口431は、清浄な浄化液を貯留槽43に導く供給配管4311が接続されている。供給配管4311には、供給配管4301から貯留槽43への浄化液の供給を制御するためのバルブ4312が介装されている。バルブ4312が開放されることにより、所定の供給源からの清浄な浄化液が貯留槽43へ供給される。

0072

浄化液は、例えば、水(工業用水)である。また、清浄な浄化液とは、少なくともハウジング39の内部に貯留されている浄化液よりも清浄な状態の浄化液をいう。また、「清浄な状態」とは、その浄化液中の処理ユニット2などで発生し得る汚染物質の濃度が相対的に低い状態をいう。

0073

<浄化槽42a(第1浄化槽)>
浄化槽42aは、上流排気ダクト32からハウジング39の内部に流入した排気が最初に通過する区画である。上流排気ダクト32から浄化槽42aに流入した排気は、正面に配された仕切壁部41aにより下方に案内され、側壁部390と仕切壁部41aに挟まれる空間を通過する。そして、その排気は、仕切壁部41aの下端より下側の空間を通過した後、正面に配された仕切壁部40aにより上方に案内され、仕切壁部40aと仕切壁部41aとに挟まれた空間を通過する。

0074

浄化槽42aにおいて、側壁部390と仕切壁部41aとに挟まれる空間、および、仕切壁部41aと仕切壁部40aとに挟まれる空間は、排気が通過する排気路44a(第1排気路)となっている。

0075

排気路44aを通過した排気は、排気路44aの出口45aを通過して、次の浄化槽42bに流入する。出口45aは、ここでは、仕切壁部40aの上端の縁部と、ハウジング39の天井部との間の隙間である。出口45aは、浄化槽42bから見れば、排気が浄化槽42b内部に流れ込む入口でもある。

0076

<吐出ノズル46a(第1吐出ノズル)>
吐出ノズル46aは、浄化槽42aの排気路44a内部において、排気を浄化する浄化液を吐出する。ここでは、吐出ノズル46aは、仕切壁部40aと仕切壁部41aとに挟まれた空間内に配設されており、その空間内において吐出口から下方に向けて霧状の浄化液を吐出する。また、吐出ノズル46aは、排気路44aにおいて、高さが異なる複数箇所(ここでは3箇所)から浄化液を吐出する。なお、吐出ノズル46aの形態はこのようなものに限定されるものではなく、排気路44aを通過する排気に浄化液を接触させることが可能な形態であればどのような形態であってもよい。吐出ノズル46aから吐出された霧状の浄化液が、排気路44aを通過する排気に接触することにより、排気に含まれる汚染物質が捕獲される。

0077

供給配管49bが浄化槽42aの排気路44aまで延びて、かつ、吐出ノズル46aが排気路44aに設けられることにより、吐出ノズル46aから吐出された浄化液が、浄化槽42bに落下することを抑制できる。

0078

<循環部47a(第1循環部)>
吐出ノズル46aが吐出する浄化液は、循環部47aによって循環される浄化液である。循環部47aは、接続配管48aと、供給配管49aと、循環ポンプ50aとを備える。

0079

接続配管48aは、浄化槽42aの底部に設けられた排液口422aと、浄化槽42bの底部に設けられた流入口420bとに接続されている。接続配管48aにより、浄化槽42a,42bに貯留された浄化液が行き来可能とされている。接続配管48aには、引込ポンプ481aが介装されている。引込ポンプ481aは、浄化槽42a内の浄化液を接続配管48a内に引き込むとともに、その浄化液を浄化槽42bの流入口420bに向けて圧送する。

0080

供給配管49aの一端部は、浄化槽42bに貯留された浄化液に浸水可能な高さ位置に設けられている。供給配管49aは、その一端部から浄化槽42bにおける仕切壁部40aと仕切壁部41bとに挟まれる空間、および、出口45aを通過して、浄化槽42aの排気路44aに配された吐出ノズル46aに接続されている。

0081

循環ポンプ50aは、供給配管49a上に設けられており、供給配管49a内の浄化液を吐出ノズル46aに向けて圧送する。ここでは、循環ポンプ50aが駆動されることにより、浄化槽42bに貯留された浄化液が、供給配管49a内に吸い上げられ、吐出ノズル46aから吐出される。吐出ノズル46aから吐出された浄化液は、落下して浄化槽42aの底部に貯留される。浄化槽42aに貯留された浄化液は、接続配管48aを通過して浄化槽42bに移動し、再び供給配管49aに吸い上げられる。このようにして、浄化液が循環ポンプ50aにより循環される。接続配管48aおよび供給配管49aは、浄化液が通過する第1循環流路を形成している。

0082

<酸性液供給配管51a>
接続配管48aには、酸性液供給配管51aが接続されている。酸性液供給配管51aは、第1循環流路である接続配管48a内部に、酸性液(ここでは、硫酸)を供給する。酸性液供給配管51aには、酸性液供給配管51aの内部を開閉する供給バルブ52aが介装されている。接続配管48aに供給される酸性液は、接続配管48aを通過する浄化液に中に含まれるアルカリ成分と反応して中和させる。これにより、浄化液中に含まれるアルカリ成分が除去される。酸性液供給配管51a、供給バルブ52aは、除去部の一例である。

0083

接続配管48aには、pH測定部53aが設けられている。pH測定部53aは、接続配管48aのうち、酸性液供給配管51aが接続する部分よりも下流側(すなわち、浄化槽42bの流入口420b側)に設けられている。このため、pH測定部53aは、酸性液が混合された後の浄化液のpH(水素イオン指数)を測定する。制御装置5は、pH測定部53aの測定結果に基づき、供給バルブ52aの開閉を制御する。詳細には、浄化液のpHが基準値(例えば、中性を示す7.0)よりも大きい場合(すなわち、浄化液がアルカリ性の場合)、制御装置5は供給バルブ52aを開放して酸性液を供給するとよい。供給バルブ52aは、酸性液の供給量を調節する酸性液供給量調整部の一例である。

0084

なお、供給バルブ52aが制御装置5によって自動的に開閉制御されることは必須ではない。pH測定部53aの測定結果を作業者が確認し、その測定結果に応じて作業者が手作業で供給バルブ52aを開閉してもよい。

0085

ファン36から受ける力により、浄化対象の排気(気体)を、浄化槽42aが形成する排気路44a内を出口45aに向けて移動させる工程は、移動工程に相当する。また、排気路44a内において排気を浄化する浄化液を吐出ノズル46aから吐出する工程は、吐出工程に相当する。さらに、排気路44aに吐出された浄化液を、接続配管48aおよび供給配管49aを含む第1循環流路を通じて吐出ノズル46aに戻す工程は、循環工程に相当する。また、酸性液供給配管51aから第1循環流路の接続配管48aを通過する浄化液中に酸性液を供給することによってアルカリ成分を中和し除去する工程は、除去工程に相当する。

0086

<浄化槽42b(第2浄化槽)>
浄化槽42bは、排気が浄化槽42aの次に通過する区画である。出口45aを通過して浄化槽42bに流入した排気は、正面に配された仕切壁部41bにより下方に案内され、仕切壁部40aと仕切壁部41bに挟まれた空間を通過する。その後、その排気は、仕切壁部41bより下側の空間を通過した後、正面に配された仕切壁部40bにより上方に案内され、仕切壁部40bと仕切壁部41bとに挟まれた空間を通過する。

0087

浄化槽42bにおいて、仕切壁部40aと仕切壁部41bとに挟まれた空間、および、仕切壁部41bと仕切壁部40bとに挟まれた空間は、排気が通過する排気路44b(第2排気路)となっている。

0088

排気路44bを通過した排気は、排気路44bの出口45bを通過して、次の浄化槽42cに流入する。出口45bは、ここでは、仕切壁部40bの上端の縁部と、ハウジング39の天井部との間の隙間である。出口45bは、浄化槽42cから見れば、排気が浄化槽42c内部に流れ込む入口でもある。

0089

<吐出ノズル46b(第2吐出ノズル)>
吐出ノズル46bは、浄化槽42bの排気路44b内部において、排気を浄化する浄化液を吐出する。ここでは、吐出ノズル46bは、仕切壁部41bと仕切壁部40bとに挟まれた空間に配設されており、その空間内において吐出口から下方に向けて霧状の浄化液を吐出する。また、吐出ノズル46bは、高さ異なる複数箇所(ここでは、3箇所)から浄化液を吐出する。なお、吐出ノズル46bの形態は、このようなものに限定されるものではなく、排気路44bを通過する排気に浄化液を接触させることが可能であればどのような形態であってもよい。吐出ノズル46bから吐出された霧状の浄化液が、排気路44bを通過する排気に接触することにより、排気に含まれる汚染物質が捕獲される。

0090

<循環部47b(第2循環部)>
吐出ノズル46bが吐出する浄化液は、循環部47bによって循環される浄化液である。循環部47bは、接続配管48bと、供給配管49bと、循環ポンプ50bとを備える。

0091

接続配管48bは、浄化槽42bの底部に設けられた排液口422bと、浄化槽42cの底部に設けられた流入口420cとに接続されている。接続配管48bにより、浄化槽42b,42cに貯留された浄化液が行き来可能とされている。接続配管48bには、引込ポンプ481bが介装されている。引込ポンプ481bは、浄化槽42b内の浄化液を接続配管48b内に引き込むとともに、その浄化液を浄化槽42cの流入口420cに向けて圧送する。

0092

供給配管49bの一端部は、浄化槽42cに貯留された浄化液に浸水可能な高さ位置に設けられている。供給配管49bは、その一端部から浄化槽42cにおける仕切壁部40bと仕切壁部41cとに挟まれる空間、および、出口45bを通過して、浄化槽42bの排気路44bに配された吐出ノズル46bに接続されている。

0093

循環ポンプ50bは、供給配管49b上に設けられており、供給配管49b内の浄化液を吐出ノズル46bに向けて圧送する。ここでは、循環ポンプ50bが駆動されることにより、浄化槽42cに貯留された浄化液が、供給配管49b内に吸い上げられ、吐出ノズル46bから吐出される。吐出ノズル46bから吐出された浄化液は、落下して浄化槽42bの底部に貯留される。浄化槽42bに貯留された浄化液は、接続配管48bを通過して浄化槽42cに移動し、再び供給配管49bに吸い上げられる。このようにして、浄化液が循環ポンプ50bにより循環される。接続配管48bおよび供給配管49bは、浄化液が通過する第2循環流路を形成している。

0094

<アルカリ性液供給配管51b>
接続配管48bには、アルカリ性液供給配管51bが接続されている。アルカリ性液供給配管51bは、第2循環流路である接続配管48b内部に、アルカリ性液(ここでは、苛性ソーダ)を供給する。アルカリ性液供給配管51bには、アルカリ性液供給配管51b内部を開閉する供給バルブ52bが介装されている。接続配管48bに供給されるアルカリ性液は、接続配管48bを通過する浄化液に中に含まれる酸成分と反応して中和させる。これにより、浄化液中に含まれる酸成分が除去される。アルカリ性液供給配管51b、供給バルブ52bは、除去部の一例である。

0095

接続配管48bには、pH測定部53bが設けられている。pH測定部53bは、接続配管48bのうち、アルカリ性液供給配管51bが接続されている部分よりも下流側(すなわち、浄化槽42cの流入口420c側)に設けられている。このため、pH測定部53aは、アルカリ性液が混合された後の浄化液のpHを測定する。制御装置5は、pH測定部53bの測定結果に基づき、供給バルブ52bの開閉を制御する。詳細には、浄化液のpHが基準値(例えば、中性を示す7.0)よりも小さい場合(すなわち、浄化液が酸性の場合)、制御装置5は供給バルブ52bを開放してアルカリ性液を供給するとよい。

0096

なお、供給バルブ52bが制御装置5によって開閉制御されることは必須ではない。pH測定部53aの測定結果を作業者が確認し、その測定結果に応じて作業者が手作業で供給バルブ52bを開閉してもよい。

0097

<浄化槽42c(第3浄化槽)>
浄化槽42cは、排気が浄化槽42bの次に通過する区画である。出口45bを通過して浄化槽42cに流入した排気は、正面に配された仕切壁部41cにより下方に案内され、仕切壁部41bと仕切壁部40aの間を通過する。その後、その排気は、仕切壁部41cの下端の縁部より下側の空間を通過して正面の仕切壁部40cにより上方に案内され、仕切壁部40cと仕切壁部41cに挟まれた空間を通過する。浄化槽42cにおいて、仕切壁部40bと仕切壁部41cとに挟まれた空間、および、仕切壁部41cと仕切壁部40cとに挟まれた空間は、排気が通過する排気路44c(第3排気路)となっている。

0098

排気路44cを通過した排気は、排気路44cの出口45cを通過して次の貯留槽43に流入する。この出口45cは、ここでは、仕切壁部40cの上端の縁部と、ハウジング39の天井部との間の隙間である。出口45cは、貯留槽43から見れば、排気が貯留槽43内部に流れ込む入口でもある。

0099

<吐出ノズル46c(第3吐出ノズル)>
吐出ノズル46cは、浄化槽42cの排気路44c内部において、排気を浄化する浄化液を吐出する。ここでは、吐出ノズル46cは、仕切壁部41cと仕切壁部40cとに挟まれた空間に配設されており、その空間内において吐出口から下方に向けて霧状の浄化液を吐出する。また、吐出ノズル46cは、高さ異なる複数箇所(ここでは、3箇所)から浄化液を吐出する。なお、吐出ノズル46cの形態は、このようなものに限定されるものではなく、排気路44cを通過する排気に浄化液を接触させることが可能であればどのような形態であってもよい。吐出ノズル46cから吐出された霧状の浄化液が、排気路44cを通過する排気に接触することにより、排気に含まれる汚染物質が捕獲される。

0100

<循環部47c(第2循環部)>
吐出ノズル46cが吐出する浄化液は、循環部47cによって循環される浄化液である。循環部47cは、接続配管48cと、供給配管49cと、循環ポンプ50cとを備える。

0101

接続配管48cは、浄化槽42cの底部に設けられた排液口422cと、貯留槽43の底部に設けられた流入口430とに接続されている。接続配管48cにより、浄化槽42cと貯留槽43とに貯留された浄化液が行き来可能とされている。接続配管48cには、引込ポンプ481cが介装されている。引込ポンプ481cは、浄化槽42c内の浄化液を接続配管48c内へ引き込むとともに、その浄化液を貯留槽43の流入口430に向けて圧送する。

0102

供給配管49cの一端部は、貯留槽43に貯留された浄化液に浸水可能な高さ位置に設けられている。供給配管49cは、その一端部から貯留槽43、および、出口45cを通過して、浄化槽42cの排気路44cに配された吐出ノズル46cに接続されている。

0103

循環ポンプ50cは、供給配管49c上に設けられており、供給配管49c内の浄化液を吐出ノズル46cに向けて圧送する。ここでは、循環ポンプ50cが駆動されることにより、貯留槽43に貯留された浄化液が、供給配管49c内に吸い上げられ、吐出ノズル46cから吐出される。吐出ノズル46cから吐出された浄化液は、落下して浄化槽42cの底部に貯留される。浄化槽42cに貯留された浄化液は、接続配管48cを通過して貯留槽43に移動し、再び供給配管49cに吸い上げられる。このようにして、浄化液が循環ポンプ50cにより循環される。接続配管48cおよび供給配管49cは、浄化液が通過する第3循環流路を形成している。

0104

有機物除去部51c>
接続配管48cには、有機物除去部51cが接続されている。有機物除去部51cは、接続配管48cを通過する浄化液に含まれる有機物を除去する。有機物除去部51cは、ここでは、着脱交換可能に設置される活性炭フィルタ510を含む。活性炭フィルタ510は、接続配管48cを通過する浄化液を濾過することによって、有機物を除去する。有機物は、具体的には、処理ユニット2で使用された有機薬液(ここでは、IPA)が、排気とともに気体浄化装置3へ送られてくる。そして、その排気がハウジング39内の排気路44a〜44cを通過する際に、吐出ノズル46a〜46cから吐出される浄化液に捕獲されることにより、ハウジング39の下部に貯留される。その貯留された浄化液が有機物除去部51cを通過することにより、浄化液中の有機物が除去される。

0105

接続配管48cにおける有機物除去部51cよりも下流側(すなわち、接続配管48cの貯留槽43の流入口430に接続される側)に、有機物濃度測定部53cが設けられている。有機物濃度測定部53cは、有機物除去部51cを通過する浄化液中の有機物濃度を測定する。有機物濃度測定部53cは、例えば、吸光度を測定するもの等である。

0106

有機物濃度測定部53cを設けることにより、浄化液中の有機物濃度を監視できるため、異常を容易に検出することができる。また、有機物濃度測定部53cが有機物除去部51cの下流側近傍に設けられている。このため、有機物除去部51cの有機物除去能力の低下を検出できる。例えば、有機物除去能力の低下を判定するための濃度基準値をしきい値として定めておくことにより、有機物除去部51cの部品(活性炭フィルタ510)の交換時期を適切に把握できる。

0107

この実施形態では、有機物除去部51cが接続配管48cに設けられているが、これは必須ではない。有機物除去部51cは、浄化液が循環する経路の任意の位置に設けられ得る。例えば、有機物除去部51cは、接続配管48a,48b、供給配管49a〜49cに設けられ得る。また、有機物濃度測定部53cについても、浄化液が循環する経路上の任意の位置に設けられ得る。

0108

<貯留槽43>
貯留槽43は、排気が浄化槽42cの次に通過する区画である。出口45cから流入した貯留槽43に流入した排気は、下流排気ダクト35を通過して、貯留槽43から排出される。ここでは、出口45cと下流排気ダクト35とが、貯留槽43の内部において、水平方向に重なる位置にて開口している。このため、貯留槽43では、排気が、出口45cから下流排気ダクト35に向けて、直進的に移動する。側壁部392と仕切壁部40cとの間の底部に浄化液を貯留する。

0109

貯留槽43の側壁部392の底部寄りの部分には、流出口432が形成されている。流出口432は、貯留槽43に貯留された浄化液を外部に導く排液配管4321が接続されている。排液配管4321には、貯留槽43から排液配管4321への浄化液の排出を制御するためのバルブ4322が介装されている。バルブ4322が開放されることにより、貯留槽43から浄化液が排出される。流出口432及び排液配管4321、及び、バルブ4322は、排液部の一例である。

0110

この実施形態では、ハウジング39に注入された浄化液は、循環部47a〜47cにより、酸性液、アルカリ性液などが添加されながら循環する。このため、浄化液中の不純物が次第に増大することになる。そこで、定期的に、バルブ4202を開放することによってハウジング39に対して清浄な浄化液が供給されるとともに、バルブ4322を開放することによってハウジング39内の不純物を含む浄化液が排出される。バルブ4202,4322の開閉は、制御装置5の制御下で行われてもよいし、作業者の手作業によって行われてもよい。

0111

本実施形態では、浄化液を排出する排液部(排液配管4321およびバルブ4322)が貯留槽43に設けられているが、これは必須ではない。例えば、当該排液部を貯留槽43に設ける代わりに、浄化槽42a〜42c各々に設け、浄化槽42a〜42c各々から個別に浄化液を排出可能としてもよい。

0112

<効果>
このように、気体浄化装置3によれば、浄化液を処理ユニット2からの排気に接触させるため、排気中に含まれる特定成分を捕獲できる。また、捕獲された特定成分を除去しながら浄化液を循環させるため、浄化液の捕獲能力の低下を抑制しつつ、気体の浄化処理を実施できる。また、浄化液を循環して利用するため、汚染された浄化液の発生量を低減することができる。さらに、浄化液に含まれる汚染物質は、酸性液供給配管51aからの酸性液、アルカリ性液供給配管51bからのアルカリ性液、及び、有機物除去部51cにより適宜除去されるため、排気される浄化液中の汚染物質濃度を低減できる。

0113

また、排気に様々な汚染物質が含まれていた場合に、その気体が浄化槽42a〜42c各々を順に通過することにより、気体からアルカリ、酸、有機物を含む汚染物質が順次除去されていく。複数台の処理ユニット2を稼働させた場合、処理ユニット2各々が異なる処理を行うことにより、様々な汚染物質を含む気体が発生し得る。気体浄化装置3によれば、このような異なる種類の汚染物質が気体に含まれる場合でも、その気体を浄化することができる。

0114

処理ユニット2において発生する汚染物質は、排気が最初に通過する浄化槽42aの排気路44aにおいて、主に吐出ノズル46aから吐出される浄化液に捕獲される。この実施形態では、汚染物質として、処理液として使用されるSC−1からアルカリ性を示すアンモニアが大量に発生する。このため、浄化槽42aにおいては、浄化液によってアンモニアが大量に捕獲されることになる。これに対して、この実施形態では、循環部47a(詳細には、接続配管48c)において、この浄化液に酸性液(硫酸)が添加されることにより、アンモニアが中和され、除去される。したがって、供給配管49aに導かれて排気路44aに再び吐出される浄化液のアンモニア捕獲能力を高レベルに維持できる。

0115

また、最初の浄化槽42aにおいて大量のアンモニアが除去されるため、次の浄化槽42bおよび浄化槽42cにおいて、排気から他の汚染物質(酸、有機物)の除去を好適に行うことができる。

0116

<2. 変形例>
以上、実施形態について説明してきたが、本発明は上記のようなものに限定されるものではなく、様々な変形が可能である。

0117

例えば、上記実施形態では、接続配管48aに酸性液が、接続配管48bにアルカリ性液が供給されるが、接続配管48aにアルカリ性液が、接続配管48bに酸性液が供給されてもよい。また、接続配管48aに有機物除去部51を設け、その代わりに、接続配管48cに酸性液を供給するようにしてもよい。同様に、接続配管48bに有機物除去部51を設け、その代わりに接続配管48cにアルカリ性液を供給するようにしてもよい。

0118

また、上記実施形態では、貯留槽43が設けられているが、貯留槽43を設けることは必須では内。この場合、詳細な図示は省略するが、図3に示す流入口430と供給配管49cの吸水口直接接続することにより、浄化槽42cに貯留された浄化液を循環部47cにより循環させるとよい。また、出口45cに下流排気ダクト35の吸口を接続するとよい。

0119

また、上記実施形態の気体浄化装置3では、ハウジング39が3つの浄化槽42a〜42cを含んでいる。しかしながら、ハウジング39が、2つ以下の浄化槽または4つ以上の浄化槽を含んでいてもよい。例えば、ハウジング39が、1つの浄化槽42aのみを備えている場合も想定される。この場合、図示を省略するが、図3に示す接続配管48aの流入口420bを供給配管49aの吸水口に直接接続させるとよい。また、出口45aに下流排気ダクト35の吸口を接続するとよい。この場合、循環部47aにおいて、アルカリ成分を除去できる。さらに、この場合において、供給配管49aにアルカリ性液供給配管51bを接続することにより、供給配管49aを通過する浄化液中の酸性成分を除去できる。またさらに、供給配管49aに有機物除去部51cを設けることにより、浄化液中の有機物を除去することもできる。

0120

また、本実施形態では、ハウジング39の内部が、仕切壁部40a〜40cで仕切られることにより、浄化槽42a〜42cおよび貯留槽43に区画されている。しかしながら、浄化槽42a〜42cおよび貯留槽43を個別の箱状部材により形成されていてもよい。

0121

基板処理装置1の処理対象となる基板は、半導体ウエハに限定されるものではなく、フォトマスク用ガラス基板液晶用またはプラズマディスプレイ用ガラス基板磁気光ディスク用のガラスまたはセラミック基板、有機EL用ガラス基板太陽電池用ガラス基板またはシリコン基板、その他フレキシブル基板およびプリント基板などの電子機器向けの各種被処理基板であってもよい。

0122

この発明は詳細に説明されたが、上記の説明は、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。上記各実施形態および各変形例で説明した各構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わせたり、省略したりすることができる。

0123

1基板処理装置
2処理ユニット
3気体浄化装置
5制御装置
8酸性薬液ノズル
9アルカリ性薬液ノズル
10有機薬液ノズル
11リンス液ノズル
12a 排出口
18 酸性薬液配管
19 酸性薬液バルブ
20 アルカリ性薬液配管
21 アルカリ性薬液バルブ
22 有機薬液配管
23 有機薬液バルブ
24リンス液配管
25 リンス液バルブ
32上流排気ダクト(ダクト部)
35 下流排気ダクト
36ファン(圧送部)
38排気浄化ボックス
39ハウジング
390,392側壁部
40a〜40c仕切壁部
41a〜41c 仕切壁部
42a〜42c浄化槽
420b,420c,430,431 流入口
422a〜422c,432排液口
43貯留槽
4321排液配管
4322 バルブ
44a〜44c排気路
45a〜45c 出口
46a〜46c吐出ノズル
47a〜47c循環部
48a〜48c接続配管
49a〜49c供給配管
50a〜50c循環ポンプ
51a酸性液供給配管
51bアルカリ性液供給配管
51c有機物除去部
510活性炭フィルタ
52a,52b供給バルブ
53a,53bpH測定部
53c有機物濃度測定部
W 基板

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