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課題・解決手段

本発明は、ミラー、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーを検査するための検査装置および検査方法に関し、検査装置は計算機合成ホログラムCGH)を備え、参照波と計算機合成ホログラムによりミラーの上に指向されるテスト波との干渉重畳によって、ミラーの少なくとも一部分で検査を実行する。ここで、計算機合成ホログラム(CGH)(120,320)は、装置の作動中に、ミラー(101,301)の第1の位置において、参照波との干渉重畳によりミラー(101,301)の第1の部分を検査するための第1のテスト波を与え、かつ、ミラー(101,301)の第2の位置において、参照波との干渉重畳によりミラー(101,301)の第2の部分を検査するための少なくとも第2のテスト波を与えるように設計される。

概要

背景

マイクロリソグラフィは、例えば集積回路又はLCD等の微細構造コンポーネントの製造に用いられる。マイクロリソグラフィプロセスは、照明デバイス及び投影レンズを有するいわゆる投影露光装置内で実行される。この場合、投影レンズによって、感光層フォトレジスト)で被覆され、かつ投影レンズの像平面に配置された基板(例えば、シリコンウェーハ)に、照明デバイスにより照明されたマスクレチクル)の像を投影することで、マスク構造を基板の感光コーティング転写する。

EUV領域用に、すなわち、例えば、約13nm又は約7nmの波長にて設計された投影レンズでは、適当な透光性屈折材料を利用することができないので、結像プロセス用の光学コンポーネントとしてミラーを用いる。米国特許第7,538,856号明細書にて既知のようにEUV用に設計された典型的な投影レンズは、例えば、0.2〜0.3の像側開口数(NA)を有し、(例えば、リングセグメント形状の)物体視野を像平面またはウェーハ平面に結像することができる。

ここで、特に、斜入射で動作するミラーも既知である。(例えば、80%以上の)比較的高い達成可能反射率を考慮して主に使用することが望まれる、斜入射で動作するこのようなミラーは、例えば、EUV放射線反射中に生じ、各面法線に対する反射角が少なくとも65°であるミラーを意味すると理解されたい。このようなミラーは、GI(Grazing Incidence)ミラーとも称される。

像側開口数(NA)の増大やGIミラーを用いた配置の実現により、典型的には、投影露光装置内で使用するミラーのうち所要ミラー領域が拡大してしまう。

特に、計算機合成ホログラムCGH:computer-generated holograms)は、ミラーの高精度な検査用として知られている。

まず、図5は、ミラー501を検査するための従来の干渉検査装置の可能な機能原理を説明する概略図を示す。

図5によれば、参照面510(「フィゾー板」)で反射される参照光参照波)とミラー501で反射される測定光テスト波)との間のインターフェログラムがフィゾー配置で生成される。ここで、測定光から、計算機合成ホログラム(CGH)520によって、所期の距離における「検査対象物形態」(すなわち、関連ミラー501の形態)に数学的に厳密に対応する非球面波形が形成される。第1に、参照面510によって反射され、第2に関連ミラー501または検査対象物によって反射された波面は、コリメータ509、ビームスプリッタ板508、絞り507、接眼レンズ506、及びCCDカメラ504、並びに図6に示す干渉計505用の光源503を有する干渉計505(図6では、その全体な設計に関して概略的に示す)にて互いに干渉する。各ミラーのインターフェログラムは、CCDカメラ504によって記録される。

ミラー、特にGIミラーまたは凹面ミラーの寸法を大きくすることで生じる問題は、 典型的なCGHの寸法は、例えば6インチ(=15.24cm)又は9インチ(=22.86cm)であり、これよりはるかに大きなCGHの実現には限界があるということである。この点に関して、必要となるCGHの寸法を減少するために、異なり、連続するセットのミラー位置に対して複数のCGHを使用することが可能であるが、この場合、さらなる実施上の問題が生じ、特に、全体の検査に必要となる時間が長くなるという問題や上記異なるミラー領域に対して得られた測定結果を正確に結合する必要もあるという問題が生じる。

さらに、同一のミラーを検査するために複数のCGHを使用する場合、CGHに典型的に存在する製造誤差と検査の範囲内で探知されるミラー誤差とを確実に区別することがますます困難になり、その結果、検査の精度が減じることがわかった。複数のCGHを使用する場合、CGHとミラーとの調整(すなわち、距離と相対配向)に関する相対的な自由度から、さらなる困難が生じる。

さらに、いわゆる複素エンコードCGHによるミラー検査において、CGHの較正が行われることが知られており、そこでは、実際の検査に必要となる「使用機能(use functionality)」(すなわち、検査対象物形態に数学的に対応する波面を形成するためにミラー形態に応じて設計されるCGH構造)に加えて、較正または誤差補正用の参照波面を与えるために、少なくとも1つのさらなる「較正機能(calibration functionality)」が、同一のCGHにて、同じ位置でエンコードされる。

概要

本発明は、ミラー、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーを検査するための検査装置および検査方法に関し、検査装置は計算機合成ホログラム(CGH)を備え、参照波と計算機合成ホログラムによりミラーの上に指向されるテスト波との干渉重畳によって、ミラーの少なくとも一部分で検査を実行する。ここで、計算機合成ホログラム(CGH)(120,320)は、装置の作動中に、ミラー(101,301)の第1の位置において、参照波との干渉重畳によりミラー(101,301)の第1の部分を検査するための第1のテスト波を与え、かつ、ミラー(101,301)の第2の位置において、参照波との干渉重畳によりミラー(101,301)の第2の部分を検査するための少なくとも第2のテスト波を与えるように設計される。

目的

本発明では、比較的大きなミラー表面を確実に検査することを容易にするとともに、上述した問題を少なくとも部分的に回避するミラー検査用の検査装置および検査方法を提供する

効果

実績

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請求項1

ミラー、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーを検査するための検査装置であって、該検査装置は計算機合成ホログラムCGH)を備え、参照波と前記計算機合成ホログラムにより前記ミラーに指向されるテスト波との干渉重畳によって、前記ミラーの少なくとも一部分で検査を実行し、前記計算機合成ホログラム(CGH)(120,320)は、前記装置の作動中に、前記ミラー(101,301)の第1の位置において、参照波との干渉重畳により前記ミラー(101,301)の第1の部分を検査するための第1のテスト波を与え、かつ、前記ミラー(101,301)の第2の位置において、参照波との干渉重畳により前記ミラー(101,301)の第2の部分を検査するための少なくとも第2のテスト波を与えるように設計されることを特徴とする、検査装置。

請求項2

前記第1のテスト波および前記第2のテスト波を与えるための前記計算機合成ホログラム(CGH)(120,320)は、互いに異なる複素エンコードCGH構造を有することを特徴とする、請求項1に記載の検査装置。

請求項3

前記計算機合成ホログラム(CGH)(120,320)は、前記第1のテスト波および前記第2のテスト波の各強度が20%以下、特に10%以下しか互いに異ならないようにさらに設計されることを特徴とする、請求項1または2に記載の検査装置。

請求項4

前記計算機合成ホログラム(CGH)(120,320)は、較正ミラー(302,303,304)で反射した後に参照波と干渉重畳させるための少なくとも1つの較正波を前記装置の作動中に与えるようにさらに設計されることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の検査装置。

請求項5

前記計算機合成ホログラム(CGH)(120,320)は、互いに異なる較正ミラー(302,303,304)で反射した後に参照波と干渉重畳させるための少なくとも2つの較正波、特に少なくとも3つの較正波を前記装置の作動中に与えるようにさらに設計されることを特徴とする、請求項4に記載の検査装置。

請求項6

ミラー、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーを検査するための方法であって、前記方法は、参照波と前記ミラー(101,301)にて反射する第1のテスト波との間の第1のインターフェログラムを記録するステップと、参照波と前記ミラー(101,301)にて反射する第2のテスト波との間の第2のインターフェログラムを記録するステップと、を有し、前記第1のテスト波および前記第2のテスト波は、同じ計算機合成ホログラム(CGH)(120,320)によって前記ミラー(101,301)に指向され、前記ミラー(101,301)の位置が、前記第1のインターフェログラムを記録するステップと前記第2のインターフェログラムを記録するステップとの間に修正される、方法。

請求項7

前記第1のテスト波は、前記ミラーの第1の部分にて反射され、前記第2のテスト波は、前記ミラーのうち前記第1の部分とは異なる第2の部分にて反射されることを特徴とする、請求項6に記載の方法。

請求項8

前記ミラーは、前記第1のインターフェログラムを記録するステップと前記第2のインターフェログラムを記録するステップとの間に変位する、及び/又はねじれることを特徴とする、請求項6または7に記載の方法。

請求項9

前記計算機合成ホログラム(CGH)(120,320)は、前記第1のインターフェログラムを記録するステップ中に、及び前記第2のインターフェログラムを記録するステップ中に、同じ位置に留まることを特徴とする、請求項6〜8のいずれか一項に記載の方法。

関連出願の相互参照

0001

本願は、2015年2月13日出願の独国特許出願DE 10 2015 202 695.7の優先権の利益を主張する。参照により、この独国特許出願の内容を本願に援用する。

技術分野

0002

本発明は、ミラー、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーを検査するための検査装置および検査方法に関する。

背景技術

0003

マイクロリソグラフィは、例えば集積回路又はLCD等の微細構造コンポーネントの製造に用いられる。マイクロリソグラフィプロセスは、照明デバイス及び投影レンズを有するいわゆる投影露光装置内で実行される。この場合、投影レンズによって、感光層フォトレジスト)で被覆され、かつ投影レンズの像平面に配置された基板(例えば、シリコンウェーハ)に、照明デバイスにより照明されたマスクレチクル)の像を投影することで、マスク構造を基板の感光コーティング転写する。

0004

EUV領域用に、すなわち、例えば、約13nm又は約7nmの波長にて設計された投影レンズでは、適当な透光性屈折材料を利用することができないので、結像プロセス用の光学コンポーネントとしてミラーを用いる。米国特許第7,538,856号明細書にて既知のようにEUV用に設計された典型的な投影レンズは、例えば、0.2〜0.3の像側開口数(NA)を有し、(例えば、リングセグメント形状の)物体視野を像平面またはウェーハ平面に結像することができる。

0005

ここで、特に、斜入射で動作するミラーも既知である。(例えば、80%以上の)比較的高い達成可能反射率を考慮して主に使用することが望まれる、斜入射で動作するこのようなミラーは、例えば、EUV放射線反射中に生じ、各面法線に対する反射角が少なくとも65°であるミラーを意味すると理解されたい。このようなミラーは、GI(Grazing Incidence)ミラーとも称される。

0006

像側開口数(NA)の増大やGIミラーを用いた配置の実現により、典型的には、投影露光装置内で使用するミラーのうち所要ミラー領域が拡大してしまう。

0007

特に、計算機合成ホログラムCGH:computer-generated holograms)は、ミラーの高精度な検査用として知られている。

0008

まず、図5は、ミラー501を検査するための従来の干渉検査装置の可能な機能原理を説明する概略図を示す。

0009

図5によれば、参照面510(「フィゾー板」)で反射される参照光参照波)とミラー501で反射される測定光テスト波)との間のインターフェログラムがフィゾー配置で生成される。ここで、測定光から、計算機合成ホログラム(CGH)520によって、所期の距離における「検査対象物形態」(すなわち、関連ミラー501の形態)に数学的に厳密に対応する非球面波形が形成される。第1に、参照面510によって反射され、第2に関連ミラー501または検査対象物によって反射された波面は、コリメータ509、ビームスプリッタ板508、絞り507、接眼レンズ506、及びCCDカメラ504、並びに図6に示す干渉計505用の光源503を有する干渉計505(図6では、その全体な設計に関して概略的に示す)にて互いに干渉する。各ミラーのインターフェログラムは、CCDカメラ504によって記録される。

0010

ミラー、特にGIミラーまたは凹面ミラーの寸法を大きくすることで生じる問題は、 典型的なCGHの寸法は、例えば6インチ(=15.24cm)又は9インチ(=22.86cm)であり、これよりはるかに大きなCGHの実現には限界があるということである。この点に関して、必要となるCGHの寸法を減少するために、異なり、連続するセットのミラー位置に対して複数のCGHを使用することが可能であるが、この場合、さらなる実施上の問題が生じ、特に、全体の検査に必要となる時間が長くなるという問題や上記異なるミラー領域に対して得られた測定結果を正確に結合する必要もあるという問題が生じる。

0011

さらに、同一のミラーを検査するために複数のCGHを使用する場合、CGHに典型的に存在する製造誤差と検査の範囲内で探知されるミラー誤差とを確実に区別することがますます困難になり、その結果、検査の精度が減じることがわかった。複数のCGHを使用する場合、CGHとミラーとの調整(すなわち、距離と相対配向)に関する相対的な自由度から、さらなる困難が生じる。

0012

さらに、いわゆる複素エンコードCGHによるミラー検査において、CGHの較正が行われることが知られており、そこでは、実際の検査に必要となる「使用機能(use functionality)」(すなわち、検査対象物形態に数学的に対応する波面を形成するためにミラー形態に応じて設計されるCGH構造)に加えて、較正または誤差補正用の参照波面を与えるために、少なくとも1つのさらなる「較正機能(calibration functionality)」が、同一のCGHにて、同じ位置でエンコードされる。

0013

米国特許第7,936,521号明細書
米国特許第8,089,634号明細書

先行技術

0014

Beyerlein, M.; Lindlein, N.; Schwider, J.: “Dual-wave-front computer-generated holograms for quasi-absolute testing of aspherics”, Appl. Opt. (USA) 41, page 2440 (2002)

0015

上述した背景技術に対して、本発明では、比較的大きなミラー表面を確実に検査することを容易にするとともに、上述した問題を少なくとも部分的に回避するミラー検査用の検査装置および検査方法を提供することを目的とする。

0016

この目的は、独立項の特徴により達成される。

0017

ミラー、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーを検査するための本発明による検査装置では、検査装置は計算機合成ホログラム(CGH)を備え、参照波と計算機合成ホログラムによりミラーの上に指向されるテスト波との干渉重畳によって、ミラーの少なくとも一部分で検査を実行し、 計算機合成ホログラム(CGH)(120,320)は、装置の作動中に、ミラーの第1の位置において、参照波との干渉重畳によりミラーの第1の部分を検査するための第1のテスト波を与え、かつ、ミラーの第2の位置において、参照波との干渉重畳によりミラーの第2の部分を検査するための少なくとも第2のテスト波を与えるように設計される。

0018

特に、本発明は、ミラー検査用に使用される同一のCGH内で、複数の「使用機能」を結合させるという概念に基づいており、上記使用機能は、それぞれ測定対象のミラー上の異なる形状領域(すなわち、各検査配置にあるミラー又は検査対象物の異なる測定位置)に割り当てられる。その際、「使用機能」という用語は、本段落および以下では、それぞれ、特定の領域における「検査対象物形態」または検査対象のミラーの特定の部分に対応し、それ故、ミラーのこの領域の干渉検査に適する各波面を形成する(例えば、空間的に変化するライン格子の形態での)CGH構造を意味すると理解されたい。

0019

ここで、同一のCGHにおいて上述した使用機能を結合することは、複素エンコードの概念を用いて実現することができ、これ自体は既知であるが、導入部分にて既述した従来の複素エンコードCGHに対して、本発明によれば、複数の異なる使用機能が、(同一のミラー領域を検査する際の較正目的だけではなく)異なるミラー領域のために使用される。

0020

換言すれば、本発明によれば、検査対象のミラーのCGHに対する位置に応じて、テスト波は、ミラー表面の第1の領域(例えば、「ミラーの左部分」)のために使用され、あるいは、テスト波は、ミラー表面の第2の領域(例えば、「ミラーの右部分」)のために使用され、これら2つのテスト波は、適切な方法で複素エンコードされたCGHによって正確に与えられる。

0021

本発明によれば、検査対象のミラーのうち異なる形状領域に割り当てられる複数の使用機能を同一のCGHにて結合するので、 大きな凹面ミラー又は大きなGIミラーの場合でも、CGHを交換することなく、関連ミラー又は検査対象物を移動させるだけで、CGHの位置を変化させないままで検査を実現することができ、その結果、重複領域において、異なるミラー領域に対して得られ、各使用機能に割り当てられる測定結果は、検査対象物の調整に関する自由度だけしか相違しない。

0022

特に、本発明は、比較的大きなミラー表面を検査する場合でも、たった1つのCGHしか必要とせず、さらにこのCGHは同じ位置に留まるという利点を有し、その結果、検査配置の範囲内で異なるミラー位置に対して繰り返してCGHを調整することが省略される。

0023

さらなる利点は、比較的大きなミラー表面を検査するのに必要となる時間をかなり減少させることができることであり、この利点は、CGHの交換、調整ステップなど、これに付随する従来のプロセスを省略することができることから直接生じるものである。

0024

本発明の実施形態では、第2のテスト波は、第1のテスト波とは異なる。さらに、ミラーは、ミラーの第2の部分が対称操作によって(例えば、ミラーに回転対称性が存在する場合)ミラーの第1の部分から生じないように構成することができる。従って、計算機合成ホログラム(CGH)によって、異なるテスト波が互いに異なる表面領域またはミラー表面に与えられ、この表面領域またはミラー表面には、これらのテスト波のうちの1つがそれぞれ割り当てられるので、本発明によれば、固有対称性を有しない自由形状のミラー表面を検査することが容易になる。

0025

一実施形態によれば、第1のテスト波および第2のテスト波を与えるための計算機合成ホログラム(CGH)は、互いに異なる複素エンコードCGH構造を有する。

0026

一実施形態によれば、計算機合成ホログラム(CGH)は、第1のテスト波および第2のテスト波の各強度が20%以下、特に10%以下しか互いに異ならないようにさらに設計される。

0027

一実施形態によれば、計算機合成ホログラム(CGH)は、較正ミラーで反射した後に参照波と干渉重畳させるための少なくとも1つの較正波を装置の作動中に与えるようにさらに設計される。

0028

一実施形態では、計算機合成ホログラム(CGH)は、互いに異なる較正ミラーで反射した後に参照波と干渉重畳させるための少なくとも2つの較正波、特に少なくとも3つの較正波を装置の作動中に与えるようにさらに設計される。

0029

本発明は、さらに、ミラー、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーを検査するための方法に関し、この方法は、
参照波とミラーにて反射する第1のテスト波との間の第1のインターフェログラムを記録するステップと、
参照波とミラーにて反射する第2のテスト波との間の第2のインターフェログラムを記録するステップと、
を有し、
第1のテスト波および第2のテスト波は、同じ計算機合成ホログラム(CGH)によってミラーに指向され、
ミラーの位置が、第1のインターフェログラムを記録するステップと第2のインターフェログラムを記録するステップとの間に修正される。

0030

一実施形態によれば、第1のテスト波は、ミラーの第1の部分にて反射され、第2のテスト波は、ミラーのうち第1の部分とは異なる第2の部分にて反射される。

0031

一実施形態によれば、ミラーが、第1のインターフェログラムを記録するステップと第2のインターフェログラムを記録するステップとの間に、所定の軸(例えば、用途に応じて、重力軸)の周り変位する、及び/又はねじれる。

0032

一実施形態では、計算機合成ホログラム(CGH)は、第1のインターフェログラムを記録するステップ中に、及び第2のインターフェログラムを記録するステップ中に、同じ位置に留まる。

0033

本発明のさらなる構成は、詳細な説明および従属項から寄せ集めることができる。

0034

以下、添付の図面に示される例示的な実施形態に基づいて、本発明を詳細に説明する。

図面の簡単な説明

0035

本発明の例示的な実施形態を説明する概略図である。
本発明の例示的な実施形態を説明する概略図である。
本発明の例示的な実施形態を説明する概略図である。
本発明の例示的な実施形態を説明する概略図である。
ミラーの検査用の干渉検査装置の従来の機能原理を説明する概略図である。
ミラーの検査用の干渉検査装置の従来の機能原理を説明する概略図である。
EUVでの動作用に設計された投影露光装置の概略図である。

実施例

0036

最初に、図7は、EUVでの動作用に設計された、本発明による方法によって検査可能なミラーを備える例示的な投影露光装置の概略図を示す。

0037

図7に示すように、EUV用に設計された投影露光装置10の照明デバイスは、視野ファセットミラー3及び瞳ファセットミラー4を備える。プラズマ光源1とコレクタミラー2を含む光源ユニットからの光は、視野ファセットミラー3へ指向される。第1の望遠鏡ミラー5及び第2の望遠鏡ミラー6が、瞳ファセットミラー4の下流の光路に配置される。偏向ミラー7が光路の下流に配置され、上記偏向ミラーは、これに入射する放射線を6個のミラー21〜26を含む投影レンズの物体平面の物体視野に指向させる。反射構造担持マスク31がマスクステージ30上の物体視野の位置に配置され、上記マスクは、投影レンズを用いて像平面に結像され、像平面には、感光層(フォトレジスト)で被覆された基板41がウェーハステージ40上に位置する。

0038

本発明の範囲内で検査されるミラーは、例えば、投影露光装置10における任意のミラーとすることができ、例として投影レンズのミラー21,22、あるいは照明デバイスのミラー7とすることができる。

0039

まず、図1及び図2の概略図を参照して、本発明の基礎をなす原理を以下では詳細に説明する。

0040

図5に基づいて既述したフィゾー配置に続き図1は、最初に、参照面110(「フィゾー板」)で反射される参照光と検査対象物のミラー101で反射される測定光とを用いたミラー101の検査を説明する概略図である。ここで、測定光は、所期の距離における「検査形態」(すなわち、関連ミラー101の形態)に数学的に厳密に対応する波面を作るように、計算機合成ホログラム(CGH)120によって形成される。第1に、参照面110で反射される波面は、第2に、対応するミラー101、すなわち検査対象物によって、干渉計105にて互いに干渉し、図6に基づいて既述のように、例えば全体構造を有することができる。

0041

本発明によれば、ミラー101は、検査対象のミラー101のミラー表面全体に対して同一のCGH120を用いて検査され、そのためミラー101は(図1二重矢印で示すように)検査装置内の異なる位置を移動する。図1では、単に概略的に、2つの異なる位置を「A」及び「B」として示してある。

0042

各場合において、(想定する大きなミラー表面の観点から)ミラー表面全体のうちの一部分のみが、これらの異なるミラー位置「A」及び「B」にて検査装置内で検査され、CGH120は、図2に示す概略図に準拠して、この検査用に複数の異なるCGH構造または使用機能を備える。図2に示すように、これらのCGH構造または使用機能は、典型的には、異なる方向または格子周期を有する(局所的に変化する)ライン格子とすることができる。

0043

換言すれば、CGH120は、第1のミラー領域(ミラー101が位置「A」にある場合)を検査するために適切な第1のCGH構造または使用機能、及び第2のミラー領域(ミラー101の位置「B」に対応)を検査するために適切なCGH構造または使用機能の両方を有する。

0044

これらのCGH構造または使用機能は、既知の複素エンコード法によってCGH120にて実現される。ここで、各CGH構造またはライン格子は、(振幅および位相を有する)位相関数によってそれぞれ記述することができ、関連項を任意の異なる重みで追加することができる。このようにして、同様に二値化される複素関数が生じ、これによって例えば図2の右部分のCGH上の特定の点に対して単に概略的に記述されるCGH120の構造が結果として得られる。

0045

ここで、特に、図2の右部分に概略的に示す関連する結果として生じるCGH120の全体構造は、既述の複素エンコードの結果として、同一の検査対象物、すなわちミラーに対して与えられた多数のテスト波によって区別され、これらのテスト波は、ミラーのうち互いに異なる部分に割り当てられる。すなわち、同一のCGH120を用いる場合でも、CGH120に対してミラー101を変位させることによって、それぞれの部分から結合される比較的大きなミラー表面さえも干渉検査することが容易になる。

0046

以下の表1a及び表1bでは、上述した個々のCGH構造の考えられる重みに対する例示的な実施形態を明示する。

0047

表1a及び表1bのそれぞれの場合からわかるように、使用機能(すなわち、ミラー101の異なる部分を検査するためのCGH構造)のうち(「格子1」及び「格子2」と称する)ライン格子は、ここでは(「格子3」〜「格子5」と称する)較正機能に比べて比較的強く重み付けられ、さらに、2つの使用機能、すなわち「格子1」と「格子2」の互いに対する重みは一致している(あるいは、さらなる実施形態において、それぞれをより強く重み付ける点では、互いにほんのわずか、例えば20%未満、特に10%未満だけしかずれない)。例示的な実施形態(表1a及び表1bにおける格子3、格子4、及び格子5)では、上述した2つの使用機能またはCGH構造に加えて、さらなる(使用あるいは較正)機能がCGH120上でエンコードされる。

0048

0049

0050

図2の例示的な実施形態では、CGH120は、複素エンコードの結果、全部で5つの異なる機能、すなわちCGH構造を有しており、単に例示的な方法で、これらのCGH構造のうち2つは、(ミラー101を、図1に基づいて説明したミラー位置「A」及び「B」に位置付けする際)異なるミラー領域を検査するために用いられ、残りの3つのCGH構造は、較正機能として用いることができる。

0051

図3は、これを示す概略図であり、図1に対して類似するか、又は実質的に同じ機能を有する構成要素は、「200」を足した参照符号で示す。図3による検査装置は、全部で3つの較正ミラー302、303、304を有しており、これらのそれぞれには、CGH320のうち上述した較正機能の1つが割り当てられる。既述のように、ミラー301は、異なるミラー領域を検査するために、(図3の二重矢印によって示すように)検査装置内の異なる位置を移動し、それぞれのミラー領域に応じて設計され、又はそれぞれのミラー領域に割り当てられるCGH320のうち使用機能は、検査のために使用される。

0052

本発明のさらなる態様によれば、同一のCGHを用いて(そして、このCGHに対してミラー位置を移動させるか、あるいは変位させて)ミラーを検査することにより、検査結果から望まれない外乱反射(disturbing reflections)の影響を減らす、又はかなり取り除くこともできる。このような外乱反射は、典型的には、各CGH構造での回折によってミラー表面に衝突し、当該ミラー表面によって反射される所望のテスト波に加えて、検査中に望まれない高次回折も、ランダムに、あるいはCGH構造内の不可避的誤差に起因して、ミラー表面での反射後に所望のテスト波と同様に同じ経路戻り、当該高次回折も同様に生成するインターフェログラムに寄与し得るという事実の結果生じる。

0053

ここで、この問題を克服するために、又は減らすために、本発明によれば、例えば、互いに対して回転した又はわずかに変位した2つのミラー位置に対して、同一のCGHを用いて干渉測定を実行することが可能であり、図4に示すように、2つの得られたインターフェログラム450、460の「OR演算」が続いて実行され、その結果、このOR演算によって生じる分布470には、外乱反射(「まだら模様」)の影響が少なくとも大部分で存在しない。

0054

従って、上述した例示的な実施形態では、CGHに対する2つの異なるミラー位置と併せて同一のCGHを応用として有利に使用することもでき、そこでは、サイズや設計がどのようなものであっても、たった1つのステップで(すなわち、ミラーの異なる部分に対して部分的なステップなしで)CGHによってミラー表面全体を直接検査することが容易になる。

0055

複数の使用機能を有するCGHを複素エンコードする本発明によるさらなる有利な面は、CGH上の同一の位置に異なる使用機能をエンコードすることができ、又は異なるライン格子を書き込むことができることを利用して、(例えば、図2に示すような)CGHにより(固有の対称性を有しない)自由形状のミラー表面を検査することが容易になるということである。

0056

本発明によって与えられる、CGHの同一の位置上の少なくとも2つの使用機能は、ミラーの異なる部分を測定する替わりに、異なるミラー形状の測定にもさらに使用することができ、この場合、個々の使用機能またはCGH構造は、この場合における同一のミラーの異なる部分に割り当てられるのではなく、異なるミラーに割り当てられる。

0057

さらに、少なくとも2つの使用機能をCGHの表面全体に与える必要はなく、従って、使用機能がそれぞれの場合においてCGHの一部分に書き込まれるだけの場合もある。この場合、任意に存在してよい較正機能は、使用機能のそれぞれの部分を含まなければならない。

0058

さらに、本発明は、上述の実施形態に対応する特定数の使用機能または特定数の較正機能に制限されず、従って、特に、それぞれの場合においてミラーの複数の部分の1つに割り当てることができる3つ以上の使用機能またはCGH構造も可能である。

0059

本発明を特定の実施形態に基づいて説明してきたが、例えば、個々の実施形態の特徴の組合せ及び/又は交換によって、多くの変形形態および代替実施形態が可能であることは当業者に明らかである。従って、そのような変形形態および代替実施形態が本発明に付随して包含されるのは当業者には言うまでもなく、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲およびその等価物の意味の範囲内でのみ制限される。

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