技術 光学デバイス

0001

［関連出願］
本出願は、２０１６年６月２７日に出願された米国仮出願第６２／３５５，１３１号に対する優先権の利益を主張するものであり、その全開示を参照により本明細書に援用する。

0002

本開示は、概して、ホイル、シートおよび／またはフレークの形態の光学デバイスなどの物品に関する。前記光学デバイスは、金属反射体層などの少なくとも１つの反射体（リフレクタ）と、前記少なくとも１つの反射体上に堆積された、着色層または誘電体層などの選択的光変調体層（ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ ｌｉｇｈｔ ｍｏｄｕｌａｔｏｒ ｌａｙｅｒ；ＳＬＭＬ）とを備え得る。前記光学デバイスを製造する方法もまた開示される。

0003

フレークなどの様々な光学デバイスが光学特性を強化したコンシューマ用途のフィーチャとして使用されている。一部のコンシューマ用途では、カラーシフトが少ないかまたは全くない金属効果や光学変化効果が望まれている。残念なことに、現行の製造方法では、十分に有色ではなかったり、かつ／または十分に強力な金属フロップ性が得られない光学デバイスが製造されている。他の方法は多層塗布システムを必要とし、これは製造コストを増加させ、かつ、業界標準の製造設備内では機能できない。

0004

一態様では、第１の表面、前記第１の表面に対向する第２の表面、および、第３の表面を有する反射体と；前記反射体の前記第１の面の外側にある第１の選択的光変調体層と；前記反射体の前記第２の面の外側にある第２の選択的光変調体層とを備え、前記反射体の前記第３の面は開放されている、シートが開示される。

0005

別の一態様では、基板上に第１の選択的光変調体層を堆積させるステップと；前記第１の選択的光変調体層上に少なくとも１つの反射体を堆積させるステップと；前記少なくとも１つの反射体上に第２の光変調体層を堆積させるステップとを含み、前記第１の選択的光変調体層および前記第２の選択的光変調体層のうちの少なくとも１つは液体コーティングプロセスを使用して堆積される、シートの製造方法が開示される。

0006

様々な実施形態の追加の特徴および利点は、部分的には下記発説明に記載されるか、部分的には下記説明の記載から明らかであるか、または、様々な実施形態の実施によって理解することができる。かかる様々な実施形態の目的および他の利点は、本明細書の説明で特に指摘する要素および組み合わせによって実現かつ達成されるであろう。

0007

本開示は、そのいくつかの態様および実施形態において、発明の詳細な説明および添付の図面からより完全に理解することができる。

0008

本明細書および図面を通して、同様の参照番号は同様の要素を識別する。

0009

本開示の一例に係るフレーク形態の物品の断面図である。
本開示の一例に係る、剥離層を有する基板から剥離される前の物品の断面図である。
本開示の一例に係る、誘電体層を堆積する段階を示す液体コーティングプロセスの断面図である。

0010

前述の一般的な説明および以下の詳細な説明は両方とも例示的で説明的なものに過ぎず、本開示の教示の様々な実施形態の説明を提供することを意図していることを理解されたい。本明細書に開示された広範かつ様々な実施形態では、例えば、ホイル、シートおよびフレークの形態の光学デバイスなどの物品、および、前記物品の製造方法が開示される。一例では、前記物品は、反射体と少なくとも１つの選択的光変調体層（ＳＬＭＬ）とを備えるシートであり得る。

0011

いくつかの例では、物品１０は光干渉を示すことができる。あるいは、いくつかの例では、物品１０は光干渉を示すことができない。一態様では、物品１０は干渉を利用して色を生成することができる。別の一態様では、物品１０は干渉を利用して色を生成することができない。例えば、以下で更に詳細に説明するように、色の外観は、添加剤、選択的光変調体粒子（ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ ｌｉｇｈｔ ｍｏｄｕｌａｔｏｒ ｐａｒｔｉｃｌｅ；ＳＬＭＰ）または選択的光変調体分子（ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ ｌｉｇｈｔ ｍｏｄｕｌａｔｏｒ ｍｏｌｅｃｕｌｅ；ＳＬＭＭ）などの選択的光変調体システム（ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ ｌｉｇｈｔ ｍｏｄｕｌａｔｏｒ ｓｙｓｔｅｍ；ＳＬＭＳ）をＳＬＭＬ中に含有させることで発現させることができる。

0012

一態様では、図１に示すように、物品１０は、物体または基板２０上で使用可能なシートの形態とすることができる。別の一態様では、物品１０は、ホイルまたはフレークの形態とすることができる。一態様では、光学デバイスはシートの部分を含むことができる。別の一態様では、物品１０は、光学デバイスおよび液体媒体を含むことができる。別の一態様では、物品１０は、例えば、厚さ１００ｎｍ〜１００μｍ、大きさ１００ｎｍ〜１ｍｍのフレークの形態の光学デバイスである。物品１０は、カラーシフト着色剤とすることができたり、通貨のセキュリティ・フィーチャとして使用することができる。物品１０の使用に共通する属性としては、高色度（すなわち強い色）、観察角度に対する色変化（ゴニオクロマティシティまたは虹彩としても知られている）、および、フロップ性（観察角度が変化するにつれて明度、色相または色度が変化する鏡面的・金属的な外観）などが挙げられる。さらに、物品１０は金属的な色とすることができ、干渉を利用して色を生成することができない。

0013

図１および図２は、第１の表面、第１の表面に対向する第２の表面、および、第３の面を有する反射体１６と；反射体の第１の表面の外側にある第１の選択的光変調体層１４と；反射体の第２の表面の外側にある第２の選択的光変調体層１４’とを備え、反射体の第３の面（反射体１６の左側面および／または右側面）は開放されているシートを図示する。図１および図２は、光学デバイスなどの物品１０をシートの形態で示しているが、本開示の様々な例によれば、光学デバイスなどの物品１０はフレークおよび／またはホイルの形態とすることもできる。図１および図２は、特定の順序で特定の層を示しているが、当業者は、物品１０が任意の数の層を任意の順序で含むことができることを理解するであろう。さらに、任意の特定の層の組成は、他の任意の層の組成と同じでも異なっていてもよい。

0014

シート、フレークまたはホイルの形態の光学デバイスなどの物品１０は、第１のＳＬＭＬ１４、第２のＳＬＭＬ１４’、第３のＳＬＭＬ１４’’、第４のＳＬＭＬ１４’’’などの少なくとも１つの誘電体層を備えることができる。２つ以上のＳＬＭＬ１４，１４’が光学デバイスに存在する場合、各ＳＬＭＬは組成および物性に関して独立していてもよい。例えば、第１のＳＬＭＬ１４は、第１の屈折率を有する組成を有することができるが、同じ光学デバイス内の第２のＳＬＭＬ１４’は、異なる屈折率を有する異なる組成を有することができる。別の例として、第１のＳＬＭＬ１４は、第１の厚さで組成を有することができるが、第２のＳＬＭＬ１４’は、第１の厚さとは異なる第２の厚さで同じ組成を有することができる。追加的または代替的に、フレーク、シートまたはホイルの形態の物品１０は、ＳＬＭＬ１４および／またはＳＬＭＬ１４’の表面上にハードコート、すなわち保護層を備えることもできる。いくつかの例では、これらの層（ハードコート、すなわち保護層）は光学的品質を必要としない。

0015

図１および図２に示すように、反射体１６の少なくとも２つの表面／側面、例えば、図示するような右側および左側の面／側面をＳＬＭＬ１４，１４’フリーとすることができる。一態様では、物品１０がフレークまたはホイルの形態である場合、反射体１６は、図１および図２に例示された４つを超える表面を含むことができる。これらの場合では、例えば、反射体１６の１つ、２つ、３つ、４つ、または５つの表面をＳＬＭＬ１４フリーとすることができる。いくつかの例では、反射体１６の１つ、２つ、３つ、４つ、または５つの表面、よって、物品１０を空気に開放することができる。一例では、開放側面、すなわち外側のＳＬＭＬを含まない反射体表面はフロップ性に対する利点となり得る。

0016

反射体１６は、広帯域反射体、例えば、スペクトルおよびランバート反射体（例えば、白色ＴｉＯ２）とすることができる。反射体１６は、金属、非金属、または金属合金とすることができる。一例では、少なくとも１つの反射体１６の材料は、所望のスペクトル範囲内で反射特性を有する任意の材料を含むことができる。例えば、所望のスペクトル範囲において５％〜１００％の範囲の反射率を有する任意の材料を含むことができる。反射性材料の例は、良好な反射特性を有し、安価であり、薄い層として形成または堆積することが容易なアルミニウムであり得る。アルミニウムの代わりに他の反射材料を使用することもできる。例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、コバルト、ニオブ、クロム、スズ、および、これらの金属もしくは他の金属の組合せまたは合金を反射材料として使用することができる。一態様では、少なくとも１つの反射体１６の材料は、白色または淡色の金属とすることができる。他の例では、反射体１６は、遷移金属、ランタニド金属およびそれらの組み合わせ、ならびに、金属炭化物、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物、それらの組み合わせ、または、金属とこれらの材料の１つ以上との混合物を含むことができるが、これらに限定されない。

0017

少なくとも１つの反射体１６の厚さは、約５ｎｍ〜約５０００ｎｍとすることができるが、この範囲は限定的に解釈すべきではない。例えば、反射体１６が最大透過率０．８を提供するように、より低い厚さ限定を選択することができる。追加的にまたは代替的に、アルミニウムを含む反射体１６の場合、光学密度（ＯＤ）は波長約５５０ｎｍにおいて約０．１〜約４とすることができる。

0018

十分な光学密度を得るためにかつ／または所望の効果を達成するために、反射体１６の組成に応じて、より高いかまたはより低い最小厚さが必要とされ得る。いくつかの例において、上限は、約５０００ｎｍ、約４０００ｎｍ、約３０００ｎｍ、約１５００ｎｍ、約２００ｎｍ、および／または、約１００ｎｍとすることができる。一態様では、少なくとも１つの反射体１６の厚さは、約１０ｎｍ〜約５０００ｎｍの範囲、例えば約１５ｎｍ〜約４０００ｎｍ、約２０ｎｍ〜約３０００ｎｍ、約２５ｎｍ〜約２０００ｎｍ、約３０ｎｍ〜約１０００ｎｍ、約４０ｎｍ〜約７５０ｎｍ、または、約５０ｎｍ〜約５００ｎｍ、例えば、約６０ｎｍ〜約２５０ｎｍもしくは約７０ｎｍ〜約２００ｎｍの範囲とすることができる。

0019

図１および図２のシートなどの形態である物品１０は、第１の選択的光変調体層（ＳＬＭＬ）１４および第２の選択的光変調体層１４’を備えることができる。ＳＬＭＬは、約０．２μｍ〜約２０μｍの範囲の波長を有する電磁放射のスペクトルの様々な選択領域において光強度を変調（吸収および／または放出）することを目的とする複数の光学機能を備える物理層である。

0020

ＳＬＭＬ１４，１４’（および／またはＳＬＭＬ１４，１４’内の材料）は、光を選択的に変調することができる。例えば、ＳＬＭＬは特定の波長における透過量を制御することができる。いくつかの例では、ＳＬＭＬは、特定の波長（例えば、可視領域および／または非可視領域）のエネルギーを選択的に吸収することができる。例えば、ＳＬＭＬ１４，１４’は、「着色層」および／または「波長選択性吸収層」とすることができる。いくつかの例では、吸収された特定の波長は、フレーク形態などの物品１０に特定の色を発現させることができる。例えば、ＳＬＭＬ１４，１４’は人間の目には赤色に見え得る（例えば、ＳＬＭＬは約６２０ｎｍ以下の光の波長を吸収し、したがって赤色に見えるエネルギーの波長を反射または透過することができる）。これは、着色剤（例えば、有機および／または無機顔料および／または染料）であるＳＬＭＰを、ホスト材料、例えば誘電材料など（ポリマーを含むがこれに限定されない）に添加することによって達成することができる。例えば、いくつかの例では、ＳＬＭＬは着色プラスチックとすることができる。

0021

いくつかの例では、吸収される特定の波長の一部または全部を可視範囲内にすることができる（例えば、ＳＬＭＬは可視領域全体にわたって吸収するが、赤外領域は通過し得る）。フレーク形態などの得られた物品１０は黒く見えるが、赤外領域の光を反射する。上述のいくつかの例では、物品１０および／またはＳＬＭＬ１４，１４’の吸収波長（および／または特定の可視色）は、少なくとも部分的にＳＬＭＬ１４，１４’の厚さに依存し得る。追加的または代替的に、ＳＬＭＬ１４，１４’によって吸収されるエネルギーの波長（および／またはこれらの層および／またはフレークに現れる色）は、ＳＬＭＬに添加するものに部分的に依存し得る。特定の波長のエネルギーを吸収することに加えて、ＳＬＭＬ１４，１４’は、劣化に対して反射体１６を補強すること；基板からの剥離を可能にすること；サイジングを可能にすること；反射体１６に使用されるアルミニウムまたは他の金属および材料の酸化などの、環境劣化に対する若干の耐性を提供すること；および、ＳＬＭＬ１４，１４’の組成および厚さに基づく、高い光の透過性能、反射性能および吸収性能、のうちの少なくとも１つを達成することができる。

0022

いくつかの例では、特定波長のエネルギーおよび／または可視光の波長を選択的に吸収するＳＬＭＬ１４，１４’に加えて、またはこれに代えて、シート形態などの物品１０のＳＬＭＬ１４，１４’は、屈折率を制御することができるか、かつ／または、屈折率を制御することができるＳＬＭＰを含むことができる。ＳＬＭＬ１４，１４’の屈折率を制御することができるＳＬＭＰは、吸収制御ＳＬＭＰ（例えば、着色剤）に加えて、またはこれに代えて、ホスト材料に含有させることができる。いくつかの例では、ＳＬＭＬ１４，１４’中、ホスト材料に吸収制御ＳＬＭＰおよび屈折率制御ＳＬＭＰの両方を組み合わせることができる。いくつかの例では、同じＳＬＭＰが吸収および屈折率の両方を制御することができる。

0023

ＳＬＭＬ１４，１４’の性能は、ＳＬＭＬ１４，１４’に存在する材料の選択に基づいて決定することができる。一態様では、ＳＬＭＬ１４，１４’は、物品１０内の任意の他の層（例えば、反射体１６）のフレークハンドリング性、腐食、位置合わせ、および、環境性能のうちの少なくとも１つの性質を改善することができる。

0024

第１および第２のＳＬＭＬ１４，１４’は、それぞれ独立して、ホスト材料のみを、または選択的光変調体システム（ＳＬＭＳ）と組み合わされたホスト材料を含むことができる。一態様では、第１のＳＬＭＬ１４および第２のＳＬＭＬ１４’のうちの少なくとも１つがホスト材料を含む。別の一態様では、第１のＳＬＭＬ１４および第２のＳＬＭＬ１４’のうちの少なくとも１つがホスト材料およびＳＬＭＳを含む。ＳＬＭＳは、選択的光変調体分子（ＳＬＭＭ）、選択的光変調体粒子（ＳＬＭＰ）、添加剤、またはそれらの組み合わせを含むことができる。

0025

ＳＬＭＬ１４，１４’の組成物は、約０．０１％〜約１００％、例えば約０．０５％〜約８０％、また更なる例として約１％〜約３０％の範囲の固形分を有することができる。いくつかの態様では、固形分は３％よりも大きくすることができる。いくつかの態様では、ＳＬＭＬ１４，１４’の組成物は、約３％〜約１００％、例えば約４％〜５０％の範囲の固形分を有することができる。

0026

第１および／または第２のＳＬＭＬ１４，１４’の各々のホスト材料は、独立して、コーティング液として塗布され、かつ、光学的・構造的な機能を果たすフィルム形成材料とすることができる。ホスト材料は、追加の光変調特性を物品１０に付与するために選択的光変調体システム（ＳＬＭＳ）などのゲストシステムを必要に応じて導入するためのホスト（マトリックス）として使用することができる。

0027

ホスト材料は誘電材料とすることができる。追加的または代替的に、ホスト材料は、有機ポリマー、無機ポリマー、および、複合材料のうちの少なくとも１つとすることができる。有機ポリマーの非限定的な例には、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、アクリル、アクリレート、ポリビニルエステル、ポリエーテル、ポリチオール、シリコーン、フルオロカーボン、および、それらの種々のコポリマーなどの熱可塑性プラスチック；エポキシ、ポリウレタン、アクリレート、メラミンホルムアルデヒド、尿素ホルムアルデヒド、フェノールホルムアルデヒドなどの熱硬化性樹脂；および、アクリレート、エポキシ、ビニル、ビニルエステル、スチレン、シランなどのエネルギー硬化性材料が含まれる。無機ポリマーの非限定的な例には、シラン、シロキサン、チタン酸塩、ジルコン酸塩、アルミン酸塩、ケイ酸塩、ホスファザン、ポリボラジレン、ポリチアジルが含まれる。

0028

第１および第２のＳＬＭＬ１４，１４’は、それぞれ、約０．００１重量％〜約１００重量％のホスト材料を含むことができる。一態様では、ホスト材料は、ＳＬＭＬの約０．０１重量％〜約９５重量％、例えば約０．１重量％〜約９０重量％、また更なる例として、約１重量％〜約８７重量％の範囲の量でＳＬＭＬ中に存在することができる。

0029

ＳＬＭＳは、ホスト材料と共にＳＬＭＬ１４，１４’で使用するために、選択的光変調体粒子（ＳＬＭＰ）、選択的光変調体分子（ＳＬＭＭ）、添加剤、または、それらの組み合わせをそれぞれ独立して含むことができる。ＳＬＭＳは他の材料を含むこともできる。ＳＬＭＳは、選択領域または対象の全スペクトル範囲（０．２μｍ〜２０μｍ）において電磁放射の振幅を（吸収、反射、蛍光などにより）変調することができる。

0030

第１および第２のＳＬＭＬ１４，１４’は、それぞれ独立してＳＬＭＳ中にＳＬＭＰを含むことができる。ＳＬＭＰは、ホスト材料と組み合わされて光変調を選択的に制御する任意の粒子とすることができ、限定されないが、カラーシフト粒子、染料、着色剤が含まれ、着色剤は染料、顔料、反射顔料、カラーシフト顔料、量子ドット、および、選択的反射体の１つ以上を含む。ＳＬＭＰの非限定的な例としては、有機顔料、無機顔料、量子ドット、ナノ粒子（選択的に反射および／または吸収するもの）、ミセルなどが挙げられる。ナノ粒子は、高屈折率（波長約５５０ｎｍにおいてｎ＞１．６）の有機材料および金属有機材料；ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ、ＳｎＯ２、ＦｅｘＯｙ（ｘおよびｙはそれぞれ独立して０より大きい整数）、ＷＯ３などの金属酸化物；ＺｎＳ、ＣｕｘＳｙ（ｘおよびｙはそれぞれ独立して０より大きい整数である）などの金属硫化物；カルコゲニド、量子ドット、金属ナノ粒子；カーボネート；フッ化物；および、それらの混合物を含むことができるが、これらに限定されない。

0031

ＳＬＭＭの例には、有機染料、無機染料、ミセル、および、発色団を含む他の分子系が含まれるが、これらに限定されない。

0032

いくつかの態様では、第１および第２のＳＬＭＬ１４，１４’それぞれのＳＬＭＳは、硬化剤、および、コーティング助剤などの少なくとも１つの添加剤を含むことができる。

0033

硬化剤は、ホスト材料の硬化、ガラス化、架橋または重合を開始することができる化合物または材料とすることができる。硬化剤の非限定的な例としては、溶媒、ラジカル発生剤（エネルギーまたは化学物質による）、酸発生剤（エネルギーまたは化学物質による）、縮合開始剤、および、酸／塩基触媒が挙げられる。

0034

コーティング助剤の非限定的な例としては、レベリング剤、湿潤剤、消泡剤、接着促進剤、酸化防止剤、ＵＶ安定剤、硬化阻害緩和剤、防汚剤、腐食防止剤、光増感剤、二次架橋剤、および、赤外線乾燥の強化のための赤外線吸収剤が挙げられる。一態様では、酸化防止剤は、ＳＬＭＬ１４，１４’の組成物中に約２５ｐｐｍ〜約５重量％の範囲の量で存在することができる。

0035

第１および第２のＳＬＭＬ１４，１４’は、それぞれ独立して、溶媒を含むことができる。溶媒の非限定的な例には、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチルなどの酢酸エステル；アセトン；水；ジメチルケトン（ＤＭＫ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ｓｅｃ−ブチルメチルケトン（ＳＢＭＫ）、ｔｅｒｔ−ブチルメチルケトン（ＴＢＭＫ）、シクロペンタノン、アニソールなどのケトン；プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートなどのグリコールおよびグリコール誘導体；イソプロピルアルコール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；マロン酸エステルなどのエステル；ｎ−メチルピロリドンなどの複素環式溶媒；トルエン、キシレンなどの炭化水素；グリコールエーテルなどの凝集溶媒；および、それらの混合物が挙げられる。一態様では、溶媒は、第１および第２のＳＬＭＬ１４，１４’のそれぞれにおいて、ＳＬＭＬ１４，１４’の総重量に対して、約０重量％〜約９９．９重量％、例えば約０．００５重量％〜約９９重量％、また更なる例として約０．０５重量％〜約９０重量％の範囲の量で存在することができる。

0036

いくつかの例では、第１および第２のＳＬＭＬ１４，１４’は、それぞれ、（ｉ）光開始剤、（ｉｉ）酸素阻害緩和組成物、（ｉｉｉ）レベリング剤、および（ｉｖ）消泡剤のうちの少なくとも１つを有する組成物を含むことができる。

0037

酸素阻害緩和組成物は、フリーラジカル物質の酸素阻害を緩和するために使用することができる。分子状酸素は、光開始剤／増感剤の三重項状態を消滅させたり、フリーラジカルを捕捉することができるため、コーティング特性の低減および／または未硬化液体表面が生じる。酸素阻害緩和組成物は、酸素阻害を低減させ、ＳＬＭＬ１４，１４’のいずれの硬化を改善することができる。

0038

酸素阻害組成物は、２つ以上の化合物を含むことができる。酸素阻害緩和組成物は、少なくとも１つのアクリレート、例えば少なくとも１つのアクリレートモノマーおよび少なくとも１つのアクリレートオリゴマーを含むことができる。一態様では、酸素阻害緩和組成物は、少なくとも１つのアクリレートモノマーおよび２つのアクリレートオリゴマーを含むことができる。酸素阻害緩和組成物に使用するためのアクリレートの非限定的な例としては、アクリレート；メタクリレート；変性エポキシアクリレートなどのエポキシアクリレート；酸官能性ポリエステルアクリレート、４官能性ポリエステルアクリレート、変性ポリエステルアクリレート、および、生物由来ポリエステルアクリレートなどのポリエステルアクリレート；アミン官能性アクリレート共開始剤および第３級アミン共開始剤を含む、アミン変性ポリエーテルアクリレートなどのポリエーテルアクリレート；芳香族ウレタンアクリレート、変性脂肪族ウレタンアクリレート、脂肪族ウレタンアクリレート、脂肪族アロファネート系ウレタンアクリレートなどのウレタンアクリレート；および、それらのモノマーおよびオリゴマーが挙げられる。一態様では、酸素阻害緩和組成物は、少なくとも１つのアクリレートオリゴマー、例えば２つのオリゴマーを含むことができる。少なくとも１つのアクリレートオリゴマーは、メルカプト変性ポリエステルアクリレートおよびアミン変性ポリエーテルテトラアクリレートなどの、ポリエステルアクリレートおよびポリエーテルアクリレートから選択することができる。酸素阻害緩和組成物はまた、１，６−ヘキサンジオールジアクリレートなどの少なくとも１つのモノマーを含むことができる。酸素阻害緩和組成物は、第１および／または第２のＳＬＭＬ１４，１４’中、ＳＬＭＬ１４，１４’の総重量に対して、約５重量％〜約９５重量％、例えば約１０重量％〜約９０重量％、また更なる例として約１５重量％〜約８５重量％の量で存在することができる。

0039

いくつかの例では、ＳＬＭＬ１４，１４’のホスト材料は、カチオン系などの非ラジカル硬化系を使用することができる。カチオン系は、フリーラジカルプロセスの酸素阻害の緩和の影響を受けにくいため、酸素阻害緩和組成物を必要としなくてよい。一例では、モノマーである３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタンの使用は酸素緩和組成物を必要としない。

0040

一態様では、第１および第２のＳＬＭＬ１４，１４’は、それぞれ独立して、少なくとも１つの光開始剤を含むことができ、例えば、２つまたは３つの光開始剤を含むことができる。光開始剤は、短波長用に使用することができる。光開始剤は、化学線波長に対して活性であり得る。光開始剤は、タイプＩ光開始剤またはタイプＩＩ光開始剤とすることができる。ＳＬＭＬ１４，１４’は、タイプＩ光開始剤のみを、タイプＩＩ光開始剤のみを、または、タイプＩ光開始剤およびタイプＩＩ光開始剤の両方の組み合わせを含むことができる。光開始剤は、ＳＬＭＬ１４，１４’の組成物の総重量に対して、約０．２５重量％〜約１５重量％、例えば約０．５重量％〜約１０重量％、また更なる例として約１重量％〜約５重量％の範囲の量で、ＳＬＭＬ１４，１４’の組成物中に存在することができる。

0041

光開始剤はホスフィンオキシドとすることができる。ホスフィンオキシドは、モノアシルホスフィンオキシドおよびビスアシルホスフィンオキシドを含むことができるが、これらに限定されない。モノアシルホスフィンオキシドは、ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシドとすることができる。ビスアシルホスフィンオキシドは、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシドとすることができる。一態様では、少なくとも１つのホスフィンオキシドがＳＬＭＬ１４，１４’の組成物中に存在することができる。例えば、２つのホスフィンオキシドがＳＬＭＬ１４，１４’の組成物中に存在することができる。

0042

増感剤がＳＬＭＬ１４，１４’の組成物中に存在することができ、タイプＩ光開始剤および／またはタイプＩＩ光開始剤の増感剤として作用することができる。増感剤はタイプＩＩ光開始剤としても作用することができる。一態様では、増感剤は、ＳＬＭＬ１４，１４’の組成物の総重量に対して、約０．０５重量％〜約１０重量％、例えば約０．１重量％〜約７重量％、また更なる例として約１重量％〜約５重量％の量で、ＳＬＭＬ１４，１４’の組成物中に存在できる。増感剤は、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントンなどのチオキサントンとすることができる。

0043

一態様では、ＳＬＭＬ１４，１４’はレベリング剤を含むことができる。レベリング剤はポリアクリレートとすることができる。レベリング剤は、ＳＬＭＬ１４，１４’組成物のクレーター化を排除することができる。レベリング剤は、ＳＬＭＬ１４，１４’の組成物の総重量に対して、約０．０５重量％〜約１０重量％の範囲、例えば約１重量％〜約７重量％、また更なる例では約２重量％〜約５重量％の範囲の量で、ＳＬＭＬ１４，１４’の組成物中に存在することができる。

0044

ＳＬＭＬ１４，１４’は消泡剤を含むこともできる。消泡剤は表面張力を低下させることができる。消泡剤はシリコーンを含まない液状有機ポリマーとすることができる。消泡剤は、ＳＬＭＬ１４，１４’の組成物の総重量に対して、約０．０５重量％〜約５重量％、例えば約０．２重量％〜約４重量％、また更なる例として約０．４重量％〜約３重量％の範囲の量で、ＳＬＭＬ１４，１４’の組成物中に存在することができるである。

0045

第１および第２のＳＬＭＬ１４，１４’は、それぞれ独立して、約１．５より大きいかまたは小さい屈折率を有することができる。例えば、各ＳＬＭＬ１４，１４’は、約１．５の屈折率を有することができる。各ＳＬＭＬ１４，１４’の屈折率は、必要とされるカラートラベル度が得られるように選択することができる。カラートラベルは、Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間において測定される色相角の観察角度による変化として定義することができる。いくつかの例では、各ＳＬＭＬ１４，１４’は、約１．１〜約３．０、約１．０〜約１．３、または、約１．１〜約１．２の範囲の屈折率を有することができる。いくつかの例では、各ＳＬＭＬ１４，１４’の屈折率は、約１．５未満、約１．３未満、または、約１．２未満とすることができる。いくつかの例では、ＳＬＭＬ１４および１４’は、実質的に等しい屈折率、または、互いに異なる屈折率を有することができる。

0046

第１及び第２のＳＬＭＬ１４，１４’は、それぞれ独立して、約１ｎｍ〜約１００００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約１０００ｎｍ、約２０ｎｍ〜約５００ｎｍ、約１ｎｍ〜約１００ｎｍ、約１０ｎｍ〜約１０００ｎｍ、約１ｎｍ〜約５０００ｎｍの厚さを有することができる。一態様では、光学デバイスなどの物品１０は、１：１〜１：５０のアスペクト比（厚さ：幅）を有することができる。

0047

しかしながら、本明細書に記載の物品１０の利点の１つは、いくつかの例では、光学的効果が、厚さの変動に対して比較的非感受的であると思われることである。したがって、いくつかの態様では、各ＳＬＭＬ１４，１４’は、独立して、約５％未満の光学厚さ変動を有し得る。一態様では、各ＳＬＭＬ１４，１４’は、独立して、層全体で約３％未満の光学厚さ変動を有し得る。一態様では、各ＳＬＭＬ１４，１４’は、独立して、厚さ約５０ｎｍの層全体で約１％未満の光学厚さ変動を有し得る。

0048

一態様では、フレーク、ホイルまたはシートの形態の光学デバイスなどの物品１０は、図２に示すように、基板２０および剥離層２２を備えることもできる。一態様では、剥離層２２は、基板２０と第１のＳＬＭＬ１４との間に配置することができる。

0049

本明細書で説明される光学デバイスなどの物品１０は、任意の手法で製造することができる。例えば、シート（例えば、図１および図２の物品１０）を製造し、次いで、分離、破壊、粉砕等して、光学デバイスを形成するより小さな断片にすることができる。いくつかの例では、シート（例えば、図１および図２の物品１０）は、下記および／または図３を参照して説明するプロセスなどの液体コーティングプロセスによって製造することができるが、これらのプロセスに限定されない。

0050

本明細書に記載するように、シート、フレークまたはホイル形態などの物品１０の製造方法が開示される。本方法は、基板上に第１のＳＬＭＬを堆積させるステップと；第１のＳＬＭＬ上に少なくとも１つの反射体を堆積させるステップと；少なくとも１つの反射体上に第２のＳＬＭＬを堆積させるステップとを含むことができ、第１のＳＬＭＬおよび第２のＳＬＭＬの少なくとも１つは、液体コーティングプロセスを使用して堆積される。

0051

図１及び図２に示す態様に関して、第１のＳＬＭＬ１４を基板２０上に堆積させることによって、フレーク、シートまたはホイルの形態の光学デバイスなどの物品１０を製造することができる。基板２０は、剥離層２２を備えることができる。一態様では、図２に示すように、本方法は、剥離層２２を有する基板２０上に第１のＳＬＭＬ１４を堆積させるステップと、第１のＳＬＭＬ１４上に少なくとも１つの反射体１６を堆積させるステップとを含むことができる。本方法は更に、少なくとも１つの反射体１６上に第２のＳＬＭＬ１４’を堆積させるステップを含む。いくつかの例では、少なくとも１つの反射体１６は、物理蒸着法、化学蒸着法、薄膜堆積法、原子層堆積法などの任意の既知の従来の堆積プロセスによって各層に付与することができ、これは、プラズマ増強したものや流動床などの改良技術を含む。

0052

基板２０は可撓性材料で作製することができる。基板２０は、堆積された層を受容できる任意の適切な材料とすることができる。適切な基板材料の非限定的な例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などのポリマーウェブ、ガラスホイル、ガラスシート、ポリマーホイル、ポリマーシート、金属ホイル、金属シート、セラミックホイル、セラミックシート、イオン性液体、紙、シリコンウェーハなどが挙げられる。基板２０の厚さは変動し得るが、例えば、約２μｍ〜約１００μｍ、また更なる例として約１０μｍ〜約５０μｍの範囲とすることができる。

0053

第１のＳＬＭＬ１４は、スロットダイプロセスなどの液体コーティングプロセスによって基板２０上に堆積させることができる。第１のＳＬＭＬ１４を堆積および硬化させたら、上述の任意の従来の堆積プロセスを使用して、第１のＳＬＭＬ１４上に少なくとも１つの反射体１６を堆積させることができる。少なくとも１つの反射体１６を第１のＳＬＭＬ１４上に堆積させた後、スロットダイ装置などの液体コーティング装置を介して、少なくとも１つの反射体１６上に第２のＳＬＭＬ１４’を堆積させることができる。液体コーティングプロセスには、スロットビードコーティング、スライドビードコーティング、スロットカーテンコーティング、スライドカーテンコーティング、単層・多層コーティング、引張りウェブスロットコーティング、グラビアコーティング、ロールコーティングなどの液体コーティングプロセスおよび印刷プロセスが含まれるが、これらに限定されない。これらのプロセスでは、液体を基板上に塗布して液体層またはフィルムを形成し、その後、乾燥および／または硬化して最終的なＳＬＭＬ層とする。

0054

次いで、例えば図１に示されるように、物品１０を製造するために、基板２０を堆積層から剥離することができる。一態様では、基板２０を冷却して剥離層２２を脆化することができる。他の一態様では、例えば、加熱および／または光子もしくは電子ビームエネルギーによる硬化によって架橋度を高くして剥離層２２を脆化することができ、これにより剥離が可能となる。次に、表面を鋭利に曲げたりブラッシングするなどして、堆積された層を機械的に剥がすことができる。剥離された層を既知の技術を用いて切断し、フレーク、ホイル、またはシートの形態の光学デバイスなどの物品１０とすることができる。

0055

別の一態様では、堆積層を基板２０から別の表面に移送することができる。堆積層は、打ち抜きまたは切断して、十分に規定された大きさおよび形状を有する大きなフレークを製造することができる。

0056

上述したとおり、第１および第２のＳＬＭＬ１４，１４’は、それぞれ、スロットダイプロセスなどの液体コーティングプロセスによって堆積させることができる。しかしながら、スロットダイプロセスなどの液体コーティングプロセスは、例えば約５０ｎｍ〜約７００ｎｍの光学厚さでは安定稼働できないと以前は考えられていた。特に、薄いウェットフィルムは、溶媒が蒸発するにつれて固体が毛細管力によって周囲の薄い領域から吸い取られてなる厚い領域の島部を一般的に形成する。この網状外観は光学コーティングに適合しない。厚さが変動すると広範囲の光路長（広範囲の色など）となる可能性があり、斑点／凹凸外観となることや、光学コーティングの色均一性が低下したり色度が低下するからである。

0057

本開示の一態様では、ＳＬＭＬ１４，１４’は、スロットダイプロセスなどの液体コーティングプロセスを使用して形成することができる。一態様では、液体コーティングプロセスには、スロットビードコーティング、スライドビードコーティング、スロットカーテンコーティング、スライドカーテンコーティング、単層・多層コーティング、引張りウェブスロットコーティング、グラビアコーティング、ロールコーティングなどの液体コーティングプロセスおよび印刷プロセスが含まれるが、これらに限定されない。これらのプロセスでは、液体を基板上に塗布して液体層またはフィルムを形成し、その後、乾燥および／または硬化して最終的なＳＬＭＬ層とする。液体コーティングプロセスは、蒸着法などの他の堆積技術と比較して、より速い速度でＳＬＭＬ１４，１４’組成物の移送を可能とすることができる。

0058

さらに、液体コーティングプロセスによれば、シンプルな装置セットアップでより多様な材料をＳＬＭＬ１４，１４’に使用することができる。開示された液体コーティングプロセスを使用して形成されたＳＬＭＬ１４，１４’は、改善された光学性能を示すことができると考えられる。

0059

図３は、液体コーティングプロセスを使用したＳＬＭＬ１４，１４’の形成を示す。ＳＬＭＬの組成物（液体コーティング組成物）はスロットダイ３２０に挿入され、次いで基板３４０上に堆積されて、ウェットフィルムが得られる。上述のプロセスを参照すると、基板３４０は、剥離層２２を有するか有さない基板２０を備えることができるか；基板３４０は、剥離層２２を有するまたは有さない基板２０、第１のＳＬＭＬ１４、および、少なくとも１つの反射体１６を備えることができるか；または、基板３４０は、基板２０、剥離層２２、および、堆積層の任意の組合せを備えることができる。スロットダイ３２０の底部から基板３４０までの距離は、スロットギャップＧである。図３からわかるように、液体コーティング組成物は、ドライフィルム厚Ｈよりも大きいウェットフィルム厚Ｄで堆積させることができる。ＳＬＭＬ１４，１４’のウェットフィルムを基板３４０上に堆積させた後、ＳＬＭＬ１４，１４’のウェットフィルム中に存在する全ての溶媒を蒸発させることができる。液体コーティングプロセスは、ＳＬＭＬ１４，１４’のウェットフィルムの硬化が続き、正しい光学厚さＨ（約３０ｎｍ〜約７００ｎｍの範囲）を有する硬化された自己平坦化ＳＬＭＬ１４，１４’が得られる。ＳＬＭＬ１４，１４’の自己平坦化能により、層全体で光学厚さの変動が低減した層が得られると考えられる。最終的に、自己平坦化されたＳＬＭＬ１４，１４’を備える、光学装置などの物品１０は、向上した光学精度を示すことができる。理解を容易にするために、「ウェットフィルム」および「ドライフィルム」という用語は、ＳＬＭＬ１４，１４’を生じる液体コーティングプロセスの様々な段階での組成物を指すために使用される。

0060

液体コーティングプロセスは、所定の厚さＤを有するウェットフィルムを達成するために、コーティング速度およびスロットギャップＧの少なくとも１つを調整するステップを含むことができる。ＳＬＭＬ１４，１４’は、約０．１μｍ〜約５００μｍ、例えば約０．１μｍ〜約５μｍの範囲のウェットフィルム厚Ｄで堆積できる。開示された範囲内のウェットフィルム厚Ｄで形成されたＳＬＭＬ１４，１４’は、誘電層など、安定した（すなわち、畝織り模様やスジなどの破損や欠陥がない）ＳＬＭＬ層をもたらすことができる。一態様では、ウェットフィルムは、最大約１００ｍ／分のコーティング速度のスロットダイビードモードを使用して安定したウェットフィルムを得る場合、約１０μｍの厚さを有することができる。別の一態様では、ウェットフィルムは、最大約１２００ｍ／分のコーティング速度のスロットダイカーテンモードを使用して安定したウェットフィルムを得る場合、約６μｍ〜７μｍの厚さを有することができる。

0061

液体コーティングプロセスでは、約０．１〜約１０００ｍ／分の速度において、ウェットフィルム厚Ｄに対するスロットギャップＧの比を約１〜約１００とすることができる。一態様では、当該比は約１００ｍ／分のコーティング速度において約９である。一態様では、当該比は約５０ｍ／分のコーティング速度において約２０とすることができる。液体コーティングプロセスでは、スロットギャップＧを約０μｍ〜約１０００μｍの範囲とすることができる。スロットギャップＧを小さくすると、ウェットフィルムの厚さを低減することができる。スロットビードモードでは、１０μｍよりも大きいウェットフィルム厚さでより速いコーティング速度を達成することができる。

0062

液体コーティングプロセスでは、コーティング速度を約０．１〜約１０００ｍ／分、例えば約２５ｍ／分〜約９５０ｍ／分、例えば約１００ｍ／分〜約９００ｍ／分、また更なる例として約２００ｍ／分〜約８５０ｍ／分とすることができる。一態様では、コーティング速度は約１５０ｍ／分よりも速く、更なる例では約５００ｍ／分よりも速い。

0063

一態様では、ビードモード液体コーティングプロセスのコーティング速度は、約０．１ｍ／分〜約６００ｍ／分、例えば約５０〜約１５０ｍ／分の範囲とすることができる。別の一態様では、カーテンモード液体コーティングプロセスのコーティング速度は、約２００ｍ／分〜約１５００ｍ／分の範囲、例えば、約３００ｍ／分〜約１２００ｍ／分とすることができる。

0064

図３に示すように、例えばウェットフィルムの硬化前に、ウェットフィルムから溶媒を蒸発させることができる。一態様では、ＳＬＭＬ１４，１４’の硬化前に、溶媒の約１００％、例えば約９９．９％を、また更なる例としては約９９．８％を、ＳＬＭＬ１４，１４’の組成物から蒸発させることができる。更なる一態様では、微量の溶媒が硬化／乾燥ＳＬＭＬ１４，１４’中に存在することができる。一態様では、溶媒がより多く残存したウェットフィルムは、フィルム厚Ｈが低減したドライフィルムをもたらすことができる。特に、高い重量パーセントの溶媒を有し、かつ、大きいウェットフィルム厚Ｄで堆積されたウェットフィルムからは、ドライフィルム厚Ｈが小さいＳＬＭＬ１４，１４’が得られる。なお、溶媒蒸発後は、ウェットフィルムは液体のままであり、そのため、皮張り（スキニング）や、液体コーティングプロセスにおけるその後の硬化ステップ中の島形成などの問題が回避される。

0065

ウェットフィルムの動的粘度は、約０．５〜約５０ｃＰ、例えば約１〜約４５ｃＰの範囲、また更なる例として約２〜約４０ｃＰの範囲とすることができる。粘度測定温度は２５℃であり、レオロジーは、０．０２５ｍｍのギャップ設定で角度０．３°の直径４０ｍｍのコーン／プレートを使用した、溶媒トラップを備えたＡｎｔｏｎ ＰａａｒＭＣＲ１０１レオメーターで測定した。

0066

一態様では、ＳＬＭＬ１４，１４’の組成および溶媒は、液体コーティングプロセスを使用してＳＬＭＬを精密コーティングするために、ウェットフィルムがニュートン挙動を示すように選択することができる。ウェットフィルムは、最大１０，０００ｓ−１以上のニュートン挙動せん断速度を示すことができる。一態様では、液体コーティングプロセスのせん断速度は、最大２５ｍ／分のコーティング速度では１０００ｓ−１、例えば、最大１００ｍ／分のコーティング速度では３９００ｓ−１、また更なる例として最大２００ｍ／分のコーティング速度では７９００ｓ−１とすることができる。厚さ１μｍなど、非常に薄いウェットフィルム上で最大せん断速度が生じ得ることが理解されるであろう。

0067

ウェットフィルムの厚さが増加するにつれて、せん断速度は減少すると予想され、例えば１０μｍのウェットフィルムでは１５％減少、また更なる例として２０μｍのウェットフィルムでは３０％減少すると予想される。

0068

ウェットフィルムからの溶媒の蒸発は、擬塑性挙動への粘度挙動の変化を引き起こすことができ、これは、精密ＳＬＭＬを得るのに有益であり得る。溶媒蒸発後の堆積された第１および第２のＳＬＭＬ１４，１４’の動的粘度は、約１０ｃＰ〜約３０００ｃＰ、例えば約２０ｃＰ〜約２５００ｃＰ、また更なる例として約３０ｃＰ〜約２０００ｃＰの範囲とすることができる。溶媒が存在する場合、ウェットフィルムから蒸発させると、擬塑性挙動まで粘度が増加し得る。擬塑性挙動はウェットフィルムの自己平坦化を可能にすることができる。

0069

一態様では、上記方法は、既知の技術を用いてウェットフィルム中に存在する溶媒を蒸発させるステップを含むことができる。溶媒の蒸発に要する時間は、ウェブ／基板の速度および乾燥機の能力に依存し得る。一態様では、乾燥機（図示せず）の温度は、約１２０℃未満、例えば約１００℃未満、また更なる例として約８０℃未満とすることができる。

0070

液体コーティングプロセスを用いて堆積されたウェットフィルムは、既知の技術を用いて硬化させることができる。一態様では、ウェットフィルムは、紫外線、可視光線、赤外線、および、電子ビームのうちの少なくとも１つを利用する硬化剤を使用して硬化させることができる。硬化は、不活性または周囲雰囲気中で進行することができる。一態様では、硬化ステップは、波長約３９５ｎｍの紫外線光源を利用する。紫外線光源は、約２００ｍＪ／ｃｍ２〜約１０００ｍＪ／ｃｍ２、例えば約２５０ｍＪ／ｃｍ２〜約９００ｍＪ／ｃｍ２、また更なる例としてｍＪ／ｃｍ２〜約８５０ｍＪ／ｃｍ２の範囲の線量でウェットフィルムに適用することができる。

0071

ウェットフィルムは公知の技術によって架橋することができる。非限定的な例としては、フリーラジカル重合、分光増感光誘起フリーラジカル重合、光誘起カチオン重合、分光増感光誘起カチオン重合、光誘起付加環化などの光誘起重合；電子ビーム誘起フリーラジカル重合、電子ビーム誘起カチオン重合、電子ビーム誘起付加環化などの電子ビーム誘起重合；および、熱誘起カチオン重合などの熱誘起重合が挙げられる。

0072

液体コーティングプロセスを使用して形成されたＳＬＭＬ１４，１４’は改善された光学性能を示すことができる。すなわち、ＳＬＭＬ１４，１４’は精密ＳＬＭＬであり得る。いくつかの例では、精密ＳＬＭＬ１４，１４’は、層全体で約３％未満、約５％未満、または、約７％未満の光学厚さ変動を有するＳＬＭＬを意味すると理解することができる。

0073

一態様では、液体コーティングプロセスは、約５〜約１００ｍ／分の速度および約５０μｍ〜約１００μｍのコーティングギャップの少なくとも１つを調整して、所定の厚さ約５００ｎｍ〜約１５００ｎｍである選択的光変調体層の約２μｍ〜１０μｍのウェットフィルムを堆積させるステップを含むことができる。さらなる一態様において、当該プロセスでは、３０ｍ／分の速度、７５μｍのギャップ、１０μｍのウェットフィルム、ドライフィルム厚さ１．２５μｍとすることができる。

0074

一例では、ＳＬＭＬは、ＳＬＭＭとして溶剤染料を使用する脂環式エポキシ樹脂ホストを含み、反射体はアルミニウムを含む。

0075

一例では、ＳＬＭＬは、ＳＬＭＰとしてジケトピロロピロール不溶性赤色染料を使用する脂環式エポキシ樹脂ホストを含み、反射体はアルミニウムを含む。

0076

一例では、ＳＬＭＬは、ＳＬＭＰとして白色顔料（チタニア）を使用するアクリレートオリゴマー樹脂ホストを含む。

0077

一例では、ＳＬＭＬは、ＳＬＭＬとして黒色の赤外線（ＩＲ）透過顔料を使用するアクリレートオリゴマー樹脂ホストを含み、反射体はアルミニウムを含む。

0078

請求項１に記載のシートの部分を含む光学デバイス。請求項１８に記載の光学デバイスと液体媒体とを含む物品。前記光学デバイスがフレークである、請求項１８に記載の光学デバイス。前記フレークが１００ｎｍ〜１００μｍの厚さで１００ｎｍ〜１ｍｍの大きさである、請求項２０に記載の光学デバイス。アスペクト比が１：１〜１：５０（厚さ：幅）である、請求項１８に記載の光学デバイス。

0079

基板上に第１の選択的光変調体層を堆積させるステップと、第１の選択的光変調体層上に少なくとも１つの反射体を堆積させるステップと、少なくとも１つの反射体上に第２の選択的光変調体層を堆積させるステップとを含み、第１の選択的光変調体層および第２の選択的光変調体層のうちの少なくとも１つは、液体コーティングプロセスを使用して堆積される、シートの製造方法。

0080

前記少なくとも１つの反射体の少なくとも１つの側面には選択的光変調体層がない、請求項２３に記載の方法。前記少なくとも１つの反射体は金属製である、請求項２３に記載の方法。前記液体コーティングプロセスは、約５〜約１００ｍ／分の速度および約５０μｍ〜約１００μｍのコーティングギャップの少なくとも１つを調整して、所定の厚さ約５００ｎｍ〜約１５００ｎｍである選択的光変調体層の約２μｍ〜１０μｍのウェットフィルムを堆積させるステップを含む、請求項２３に記載の方法。前記液体コーティングプロセスは、約０．１〜約１０００ｍ／分の速度で前記第１の光変調体層および前記第２の光変調体層のそれぞれを堆積させるステップを含む、請求項２３に記載の方法。

0081

前述の説明から、当業者は、本教示が様々な形態で実施できることを理解することができる。したがって、これらの教示は、特定の実施形態およびその実施例に関連して説明したが、本教示の真の範囲はそれに限定されるべきではない。本明細書の教示の範囲から逸脱することなく、様々な変更および修正を行うことができる。

0082

この範囲の開示は、広く解釈されるべきである。本開示は、本明細書で開示されるデバイス、活動および機械的動作を達成するための均等物、手段、システムおよび方法を開示することを意図する。開示された各デバイス、物品、方法、手段、機械的要素または機構について、本開示はまた、その開示および教示において、本明細書に開示される多くの態様、機構およびデバイスを実施する均等物、手段、システムおよび方法を教示することが意図される。さらに、本開示は、コーティングおよびその多くの態様、特徴および要素に関する。このようなデバイスは、その使用および動作において動的であり得るが、本開示は、当該デバイスおよび／または光学デバイスならびにその多くの態様の均等物、手段、システムおよびその使用方法、ならびに、本明細書に開示した説明および作用・機能の精神と一致する多くのその態様を包含する。本出願の特許請求の範囲も同様に広義に解釈されるべきである。本発明の多くの実施形態の説明は、事実上単なる例示であり、したがって、本発明の要旨を逸脱しない変形形態は、本発明の範囲内にあることが意図される。そのような変形は、本発明の精神および範囲からの逸脱と見なすべきではない。