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技術 放射線撮影装置、放射線撮影システム、放射線撮影方法、及びプログラム

出願人 キヤノン株式会社
発明者 竹越康治
出願日 2016年6月2日 (5年5ヶ月経過) 出願番号 2016-110660
公開日 2017年12月7日 (3年11ヶ月経過) 公開番号 2017-213296
状態 特許登録済
技術分野 放射線診断機器
主要キーワード 受け入れ試験 試験履歴 照射情報 画像出力値 日常試験 期待値通り 各変換素子 実施履歴
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(2017年12月7日)のものです。
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図面 (7)

課題

異常画素を検出するための試験にかかる作業負荷を軽減することができる。

解決手段

本発明は、放射線情報を検知する複数の画素を有した放射線撮影装置であって、前記複数の画素を含む部分領域を複数設定し、複数の部分領域のうち、画素の試験を実施する部分領域を試験領域として決定する領域決定手段と、前記試験領域に含まれる前記画素を有効化する有効化制御手段と、有効化された前記画素の出力をチェックするチェック手段と、を備える。を備える。

概要

背景

放射線電荷に変換する変換素子薄膜トランジスタなどのスイッチ素子と、配線が設けられた画素アレイと、走査回路読出回路とを組み合わせた検出装置が、放射線2次元検出装置として広く利用されている。近年、検出装置の多機能化の1つとして、自動露出制御(Automatic Exposure Control:AEC)機能の内蔵が検討されている。

これは、検出装置において種々の放射線情報(例えば、放射線源から放射線が照射される照射開始のタイミング、放射線の照射が停止される停止タイミング、及び放射線の瞬間照射量積算照射量など)の取得を可能とするものである。また、この機能により積算照射量を監視し、積算照射量が適正量に達した時点で検出装置が放射線源を制御し照射を終了させることも可能となる。

特許文献1には、AEC試験時のエラーをAECの感度の影響かそれ以外の影響かを判別する技術が開示されている。また、特許文献2には、AEC画素大ブロック小ブロックで分割したうえで、AEC画素を好適に選択決定する技術が開示されている。

また、非特許文献1には、医用画像部門における品質維持の評価及び日常試験方法についてのガイドラインが示されている。

概要

異常画素を検出するための試験にかかる作業負荷を軽減することができる。 本発明は、放射線情報を検知する複数の画素を有した放射線撮影装置であって、前記複数の画素を含む部分領域を複数設定し、複数の部分領域のうち、画素の試験を実施する部分領域を試験領域として決定する領域決定手段と、前記試験領域に含まれる前記画素を有効化する有効化制御手段と、有効化された前記画素の出力をチェックするチェック手段と、を備える。を備える。

目的

本発明は、異常画素を検出するための操作を軽減する放射線撮影装置を提供する

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
0件

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請求項1

放射線情報を検知する複数の画素を有した放射線撮影装置であって、前記複数の画素を含む部分領域を複数設定し、複数の部分領域のうち、画素の試験を実施する部分領域を試験領域として決定する領域決定手段と、前記試験領域に含まれる前記画素を有効化する有効化制御手段と、有効化された前記画素の出力をチェックするチェック手段と、を備えることを特徴とする放射線撮影装置。

請求項2

前記領域決定手段は、前記チェックの結果に応じて、前記画素を含む部分領域に前記試験領域をさらに分割し、さらに分割された複数の前記部分領域のうち前記試験を実施する部分領域を試験領域として決定することを特徴とする請求項1に記載の放射線撮影装置。

請求項3

前記領域決定手段は、前記部分領域のうち前記試験が未実施である前記部分領域を前記試験領域として決定することを特徴とする請求項1又は2に記載の放射線撮影装置。

請求項4

前記領域決定手段は、独立して動作する前記画素を含む部分領域にまで前記対象領域又は前記試験領域を分割することを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の放射線撮影装置。

請求項5

前記画素は、AEC画素であって、AEC検知により前記画素のAEC信号を出力する出力手段と、前記AEC信号に基づいて画像画素データを収集するデータ収集手段とを備え、前記チェック手段は、前記画像画素データを所定の期待値と比較することにより、前記画素の出力をチェックすることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の放射線撮影装置。

請求項6

前記チェックの結果を前記チェックの時間情報とともに記録する画素管理手段を備えることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の放射線撮影装置。

請求項7

前記チェックの結果の履歴を管理する前記画素管理部を備え、前記領域決定部は、前記履歴に基づいて前記試験領域を決定することを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載の放射線撮影装置。

請求項8

前記領域決定手段は、前記試験の試験最終時間が最も古い前記画素が最も多い前記部分領域を前記試験領域として決定することを特徴とする請求項1乃至7の何れか1項に記載の放射線撮影装置。

請求項9

前記領域決定手段は、所定の数の前記画素を含む部分領域にまで前記対象領域又は前記試験領域を分割することを特徴とする請求項8に記載の放射線撮影装置。

請求項10

前記領域決定手段は、前記部分領域の中心から所定の範囲内に前記画素が存在するまで前記対象領域又は前記試験領域を分割することを特徴とする請求項8に記載の放射線撮影装置。

請求項11

対象領域の放射線情報を検知する複数の画素を試験する放射線撮影システムであって、前記画素を含む部分領域に前記対象領域を分割し、複数の部分領域のうち前記試験を実施する部分領域を試験領域として決定する領域決定手段と、前記試験領域に含まれる前記画素を有効化する有効化制御手段と、有効化された前記画素に放射線照射する放射線発生手段と、有効化された前記画素の出力をチェックするチェック手段と、を備えることを特徴とする放射線撮影システム。

請求項12

対象領域の放射線情報を検知する複数の画素を試験する放射線撮影方法であって、前記画素を含む部分領域に前記対象領域を分割し、複数の部分領域のうち前記試験を実施する部分領域を試験領域として決定する工程と、前記試験領域に含まれる前記画素を有効化する工程と、有効化された前記画素の出力をチェックする工程と、を備えることを特徴とする放射線撮影方法。

請求項13

コンピュータを請求項1乃至10の何れか1項に記載の放射線撮影装置の各手段として機能させるためのプログラム

技術分野

0001

本発明は、放射線撮影装置放射線撮影システム放射線撮影方法、及びプログラムに関し、特に、自動露出制御の検知画素試験する放射線撮影装置、放射線撮影システム、放射線撮影方法、及びプログラムに関する。

背景技術

0002

放射線電荷に変換する変換素子薄膜トランジスタなどのスイッチ素子と、配線が設けられた画素アレイと、走査回路読出回路とを組み合わせた検出装置が、放射線2次元検出装置として広く利用されている。近年、検出装置の多機能化の1つとして、自動露出制御(Automatic Exposure Control:AEC)機能の内蔵が検討されている。

0003

これは、検出装置において種々の放射線情報(例えば、放射線源から放射線が照射される照射開始のタイミング、放射線の照射が停止される停止タイミング、及び放射線の瞬間照射量積算照射量など)の取得を可能とするものである。また、この機能により積算照射量を監視し、積算照射量が適正量に達した時点で検出装置が放射線源を制御し照射を終了させることも可能となる。

0004

特許文献1には、AEC試験時のエラーをAECの感度の影響かそれ以外の影響かを判別する技術が開示されている。また、特許文献2には、AEC画素を大ブロック小ブロックで分割したうえで、AEC画素を好適に選択決定する技術が開示されている。

0005

また、非特許文献1には、医用画像部門における品質維持の評価及び日常試験方法についてのガイドラインが示されている。

先行技術

0006

特許第4875523号公報
特開2014−52191号公報
「JISハンドブック2011放射線(能)」,JIS Z 4752−3−1:2004,日本規格協会

発明が解決しようとする課題

0007

AEC機能を内蔵した検出装置において、自動露出制御画素(AEC画素)の有効無効を自由に切り替えて放射線を検知する。この場合、AEC機能の受け入れ試験や日常試験を実施する際には、AEC画素の組み合わせの最小単位に対して放射線の照射を伴う試験をしておく必要があり、AEC画素の数によっては試験にかかる作業負荷が高いものとなる。

0008

また、AEC画素に異常画素がある場合、どのAEC画素が異常であるかを特定する作業負荷も高い。そこで、本発明は、異常画素を検出するための操作を軽減する放射線撮影装置を提供する。

課題を解決するための手段

0009

本発明は、放射線情報を検知する複数の画素を有した放射線撮影装置であって、前記複数の画素を含む部分領域を複数設定し、複数の部分領域のうち、画素の試験を実施する部分領域を試験領域として決定する領域決定手段と、前記試験領域に含まれる前記画素を有効化する有効化制御手段と、有効化された前記画素の出力をチェックするチェック手段と、を備える。

発明の効果

0010

本発明により、受け入れ試験や日常試験の際に異常画素があると検出された場合にどの画素に異常があるのかを確認することができるようになる。この結果、異常画素を検出するための試験にかかる作業負荷を軽減することができる。

図面の簡単な説明

0011

検出装置の断面の一例を示した図である。
検出装置の等価回路図の一例を示した図である。
放射線撮影システムの構成の一例を示すブロック図である。
第1の実施形態に係る放射線撮影装置の処理の一例を示すフローチャートである。
対象領域を部分領域に分割することを説明する図である。
第1の実施形態に係る放射線撮影装置の処理の一例を示すフローチャートである。

実施例

0012

本発明の概要を示す。図1(a)及び(b)は、検出装置全体の断面模式図である。検出装置は、対象領域の放射線情報を検知する複数の画素(検知画素)を試験する放射線撮影装置である。

0013

図1(a)において、放射線源1は、被写体2に向かってX線3を放射する。検出装置4は、基板100上に2次元行列状に配列された複数の変換素子12を有している。検出装置4と対向してシンチレータ190が配置され、シンチレータ190は、X線の強度に応じて異なる強度の可視光を放つ。光電変換により、各変換素子には各点における光強度に応じて異なる量の信号が蓄積される。これを後述の方法で読み出すことで、X線画像を形成する。

0014

図2は、検出装置4の模式的等価回路図である。撮影領域90には、通常画素11及び検知画素111が、2次元行列的に配置されている。以下、通常画素及び検知画素をあわせて画素と呼ぶものとする。

0015

検出装置4は、1000個×1000個から3000個×3000個程度の画素を有するが、図2(a)に示すように、本実施形態では簡単のために12個×12個の画素を有するとする。通常画素11は、診断に用いられる2次元画像を構成するために、撮影領域90全体にわたって配列されている。図2(b)に示すように、通常画素11は、変換素子12とスイッチ素子13とを含む。

0016

変換素子12は、バイアス配線19によってバイアス電源50に接続され、変換素子12が光電変換動作を行うための電圧印加される。信号配線16は、列方向に複数配置され、複数の画素のスイッチ素子のソース電極に共通に接続される。制御配線15は、行方向に複数配置され、複数の画素のスイッチ素子のゲート電極に共通に接続される。制御配線15は走査回路20に接続され、信号配線16は読出回路30に接続される。

0017

スイッチ素子13が導通状態となると、画素の変換素子12の信号が、信号配線16を通じて読出回路30で読み出される。検知画素111は、照射情報(放射線の照射開始情報、照射終了情報、瞬間照射量、及び積算照射量など)を取得するために設けられている。本実施形態では、12×12画素中に9個の検知画素111が含まれている。

0018

図2(c)に示すように、検知画素111は、変換素子121とスイッチ素子131とを含む。変換素子121は、バイアス配線19によってバイアス電源50に接続され、光電変換動作を行うための電圧が印加される。検知配線161は、検知画素111のスイッチ素子131のソース電極に共通に接続される。本実施形態では、検知画素111が、1本の検知配線161に3個ずつ接続されている。

0019

制御配線15の代わりに、検知画素用の制御配線411が、検知画素のスイッチ素子のゲート電極に共通に接続される。走査回路20、読出回路30、検知画素用の走査回路41、及び検知画素用の読出回路40は、制御部49に接続されている。制御部49は、これらの回路を制御し、種々の動作を行わせる。バイアス配線19に所定の電圧を印加した状態で、検知画素用の制御配線411を1本ずつ駆動させることで、検知配線161に検知画素111の信号が読み出される。

0020

各検知配線161に接続された複数の検知画素用の制御配線411が互いに電気的に接続されていない。それにより、1本の検知配線161に接続された複数の検知画素111を個別に駆動でき、検知画素111の自由な組み合わせで検知信号を読み出すことができる。

0021

また、制御部49は、検知画素用の読出回路40からの照射情報を一時的に保持し、照射情報を用いた種々の演算や、照射情報に基づく種々の判断を行う。例えば、制御部49は、放射線源1から放射線3が照射される照射開始のタイミングの判断、放射線3の照射が停止される停止タイミングの判断、放射線の瞬間照射量の判断、及び放射線の積算照射量の判断などを行うことができる。

0022

さらに、制御部49は、放射線源1と有線または無線で電気的に接続され、放射線源1の開始・停止信号を受け取ったり、後述するように放射線源1に対して放射線照射開始又は停止を制御したりできるようにしてもよい。なお、図2では、読出回路30と検知画素用の読出回路40を別の回路で示したが、これらは一体形成されてもよい。

0023

(第1の実施形態)
本発明の第1の実施形態について説明する。本実施形態では、上記の検出装置4の受け入れ試験や日常試験において異常画素を検出するための手段を、図3及び図4を用いて説明する。図3は、本実施形態に係る放射線撮影装置を含む放射線撮影システムの構成の一例を示すブロック図である。図4は、本実施形態に係る放射線撮影装置の処理の一例を示すフローチャートである。

0024

上記と共通する部分の説明は省略する。放射線撮影装置は、放射線情報を検知する複数の画素を有する。放射線撮影装置は、対象領域の放射線情報を検知する複数の画素(検知画素)を試験する。本実施形態では、画素(検知画素)は自動露出制御画素(AEC画素)である。

0025

放射線撮影装置は、試験開始指示部301、領域決定部302、有効化制御部303、出力部304、X線発生部(放射線発生部)305、データ収集部306、チェック部307、及び画素管理部308を備える。領域決定部302は、複数の画素を含む部分領域を複数設定し、複数の部分領域のうち、画素の試験を実施する部分領域を試験領域として決定する。有効化制御部303は、試験領域に含まれる画素を有効化する。チェック部307は、有効化された画素の出力をチェックする。

0026

テップS401において、試験開始指示部301は、異常画素を検出するための試験(異常画素検出試験)の開始を指示する。例えば、異常画素検出試験を開始するためのボタンなどが選択されることで、異常画素検出試験の開始が指示されてもよいし、検出装置4のキャリブレーションをすることで、異常画素検出試験の開始が指示されてもよい。また、通常撮影において画像に異常を検知した場合に異常画素検出試験の開始が指示されてもよい。異常画素検出試験の開始が指示されると、異常画素検知フローが開始される。

0027

ステップS402において、AEC画素(検知画素)を全て有効にするように、検知画素用の操作回路41及び検知画素用の読出回路40が制御部49により制御される。領域決定部302が、AEC画素の全てを試験領域として決定し、有効化制御部303が、AEC画素の全てを有効化する。

0028

ステップS403において、X線発生装置(放射線発生部)305が有効化されたAEC画素に放射線を照射する。放射線源1から照射された放射線3は検出領域90に照射される。検知画素111にも放射線3が照射されるので、AEC画素が有効に動作する。このとき、AEC画素に何らかの異常があり、通常想定しているよりも早く自動露出制御信号を出力することがある。このように早く自動露出制御信号を出力すると、放射線源1は放射線3の照射を停止してしまう。

0029

この場合、検出装置4で検出したデータに基づく放射線画像が、想定よりも少ない放射線量で画像化されることとなり、所望の画像が得られないおそれがある。そのため、想定より早く自動露出制御信号を出力するAEC画素を異常画素として特定し、対策を講ずる必要がある。

0030

ステップS404において、画像出力値がチェックされる。チェック部307は、画像画素データを所定の期待値と比較することにより、AEC画素の出力をチェックする。ここで、非特許文献1によれば、撮影された画像は、撮影用フイルム現像後、濃度計で撮影用フイルムの指定した部分の光学的濃度使用者の期待に合うようにならなければならない。通常画素11により撮像された画像データが使用者の期待に合うような値(期待値)であるかを確認する。

0031

ただし、フイルムに現像せずとも、画像データの値により検証可能である。IHE(Integrating the Healthcare Enterprise)のテクカルフレームワークのCPI(Consistent Presentation of Image)などにも規定されている通り、画像データと表示の一貫性が保たれている。

0032

例えば、自動露出制御した結果の画像では、規定の体圧を模したファントムを被検体とした放射線撮影において、画素値が2000〜3000の間にあることなどのように、期待値を設定することができる。したがって、ステップS404において、画像出力値を判定した結果が期待値通りであれば、異常画素はないと判断され、本処理フローが終了する。画像出力値を判定した結果が期待値と異なる場合は、ステップS4の処理フローが実施される。

0033

ステップS4は、領域決定部302により開始され、本処理フローで再帰的に呼び出されることを表す。この処理が開始されると、ステップS405の処理が実施される。

0034

ステップS405で対象としている撮影領域90の部分領域が指定されて処理を実施する。このフローが初回に呼び出される場合、領域決定部302は、撮影領域90全面を対象領域とするのが一般的である。

0035

このステップでは、領域決定部302は、対象領域に対して部分領域に分割可能であるかどうかを判断する。例えば、図2の撮影領域90の12画素x12画素の中にAEC画素が9個存在し、12画素x12画素を6画素(列)x12画素(行)の領域と6画素(列)x12画素(行)の領域のように左右に2分割することが可能である。左右に2分割した場合は、AEC画素は左側の領域に6個、右側の領域に3個存在する形で分割されることになる。

0036

図5は、撮影領域90を部分領域に分割することを説明する図である。撮影領域90は撮影領域601で表され、AEC画素は画素602で表される。12画素x12画素の撮影領域601は、中央線603を境に左右に分割することができる。左右に2分割したのは一例であり、領域の分割方法は公知の技術により自由に分割することが可能である。本実施形態では、図5に示すように、撮影領域601は4つの部分領域604,605,606,607に分割される。

0037

ただし、分割する際にはAEC画素602を含む領域を分割することが重要であり、AEC画素602のない領域を分割してもこの場合は意味がない。そのため、領域決定部302は、AEC画素602を含む最小単位に分割できるかを判断するものである。

0038

なお、場合によっては、各AEC画素が独立して動作できずに、グループで動作する場合がある。制御配線15や制御部49の製造方法によっては、ラインごとに読み出し可能であるが、画素ごとには読み出しできないような場合もある。この場合は、領域決定部302は、各ラインに包含されるAEC画素602の組み合わせを1つのグループとして認識する。領域決定部302は、そのグループを包含した形で、領域の分割が可能であるかどうかを判別する。

0039

例えば、公知の4分木分割をした場合、撮影領域601は4つの部分領域604,605,606,607に分割される。部分領域604には、AEC画素602が2つ包含され、部分領域605にはAEC画素602が1つ包含され、部分領域606にはAEC画素602が4つ包含される。

0040

さらに、部分領域606を4分木分割すると、部分領域608,609,610,611に分割される。それぞれの部分領域608,609,610,611にはAEC画素602が1つ包含される。このAEC画素が個別に動作可能であれば、部分領域608,609,610,611が最小単位となる。

0041

後述するステップS410で画像出力値が期待値と異なると判定された場合、ステップS4が再帰的に呼び出される。部分領域への分割とAEC画素のチェックが繰り返されることにより、領域決定部302は、独立して動作するAEC画素を含む部分領域(最小単位)にまで対象領域又は試験領域を分割する。

0042

ステップS404もしくは後述するステップS410で画像出力値が期待値と異なると判定され、ステップS405で部分領域(最小単位)に分割できない場合、ステップS407へ進む。ステップS407では、対象領域に含まれるAEC画素による動作が不良であるので、その対象領域に含まれるAEC画素を不良と判定する。

0043

ステップS404もしくは後述するステップS410で画像出力値が期待値と異なると判定され、ステップS405で部分領域に分割できる場合、ステップS406へ進む。ステップS406では、領域決定部302が、AEC画素を含む部分領域に対象領域を分割する。本実施形態では、ステップS405でAEC画素602が駆動できる最小単位に分割可能であると判別されたので、対象領域を部分領域に分割する。

0044

ステップS408では、領域決定部302が、複数の部分領域のうち試験を実施する部分領域を試験領域として決定する。また、有効化制御部303が、試験領域に含まれるAEC画素(検知画素)を有効化する。有効化制御部303が、ステップS406で設定した部分領域におけるAEC画素を有効にするように制御部49を制御する。

0045

ステップS409では、有効化されたAEC画素に放射線3が照射される。放射線3の照射はステップS403と同様であるが、ステップS408ではAEC画素が限定された状態での放射線照射となる。AEC画素の出力値が所定の値を超えると、出力部304は、自動露出制御検知(AEC検知)によりAEC画素の自動露出制御信号(AEC信号)を出力する。出力部304からX線発生装置305にAEC信号が出力される。

0046

ステップS410では、チェック部307が、有効化されたAEC画素の出力をチェックする。データ収集部306が、AEC信号に基づいて画像画素データを収集し、データ収集部306で収集された画像画素データの値を、チェック部307がチェックする。チェックは、ステップS404と同様である。チェック部307は、画像画素データを所定の期待値と比較することにより、画素の出力をチェックする。

0047

画像チェックの結果が期待値と異なる場合は、チェックされた部分領域を対象領域としてステップS406に戻り、ステップS4のフローが再帰的に実施される。つまり、領域決定部302は、チェックの結果に応じて、AEC画素を含む部分領域に試験領域をさらに分割し、さらに分割された複数の部分領域のうち試験を実施する部分領域を試験領域として決定する。この場合、領域決定部302は、独立して動作するAEC画素を含む部分領域にまで対象領域又は試験領域を分割する。

0048

画像チェックの結果が期待値通りの結果であれば、次の部分領域の試験を判定するためにステップS411に進む。試験の結果は、画素管理部308で記録管理される。画素管理部308は、チェックの結果をチェックの時間情報とともに記録する。

0049

ステップS411では、ステップS406で分割された部分領域でステップS408からステップS410までのフローを実施した領域以外の部分領域で試験の未実施の領域があるかどうかを判定する。未実施の部分領域がある場合は、その部分領域に関してステップS408からの処理が実施される。

0050

領域決定部302は、部分領域のうち試験が未実施である部分領域を試験領域として決定する。次の試験領域の決定方法は、公知の技術でよく、例えば、公知のモート順序などを用いて選択すればよい。図5でモートン順序を用いると、領域606の対象領域を部分領域608,609,610,611の順番で選択していく。

0051

以上のようなフローを実施することで、1つ又は複数の異常画素を検出することが可能となる。

0052

(第2の実施形態)
以下では、本発明の第2の実施形態を記す。実施形態1と共通する部分の説明は省略する。実施形態1に記載の検出装置4において、AEC画素の日常試験を行う実施形態を図6のフローチャートを用いて説明する。

0053

ステップS501において、日常試験の開始指示を行う。例えば、撮影装置の操作画面上の開始ボタンなどを押すことで処理が開始される。また、試験開始指示部301が、日常試験(異常画素検出試験)の開始を指示してもよい。

0054

ステップS502において、日常試験の履歴情報から最終試験日のAEC画素をチェックする。日常試験は、実施履歴データベースなどにAEC画素と試験日を記憶しておくことで履歴管理される。画素管理部308が、チェックの結果の履歴を管理してもよい。

0055

例えば、検出装置4の新規購入時には、最終試験日は全て同一日となっている。その後、試験を実施すると最終試験日が更新される。検出装置4のAEC画素全ての履歴情報が保持される。また、電気的に駆動可能なAEC画素の組み合わせの最小単位ごとに、日常試験が行われ、履歴管理されてもよい。

0056

ステップS5は、本処理フローで再帰的に呼び出されることを表す。この処理が開始されると、ステップS503の処理が実施される。通常、最初に処理する場合は検出装置4の全面を対象領域として開始する。

0057

ステップS503において、対象領域内に最終試験日が最も古い画素が複数存在するかどうかが判定される。通常、最初に処理する場合は、検出装置4の全面が対象領域となるため、全てのAEC画素の中で最終試験日が最も古い画素の数が調べられることになる。

0058

最も古い画素が複数存在しない場合、すなわち1つの場合は、ステップS504が実行され、1つのAEC画素が試験画素として決定される。試験される画素(試験画素)を決定したら、ステップS5の処理フローは終了する。なお、AEC画素の数が0の場合は、処理は終了する。このように、領域決定部302は、対象領域に所定の数のAEC画素を含むか否かを判定する。

0059

ステップS503において、最も古い画素が複数存在すると判定された場合は、その中から試験する画素(又は、試験領域)を特定するためにステップS505が実行される。領域決定部302は、履歴に基づいて試験領域を決定する。後述するように、本実施形態では、領域決定部302は、試験の試験最終時間が最も古い画素が最も多い部分領域を試験領域として決定する。ここで、試験最終時間には、試験時間の代わりに試験日が用いられてもよい。

0060

ステップS505において、対象領域の中心から所定の範囲内にAEC画素があるかどうかを確認する。最終試験日が同日のAEC画素が複数存在する場合に、対象領域の中心部を優先的に試験するためである。本実施の形態では、対象領域の中心部のAEC画素を優先的に試験するが、中心部のAEC画素を優先的に試験しない場合は、この処理ステップをスキップしてもよい。

0061

対象領域の中心から所定の範囲内にAEC画素が存在する場合は、ステップS506が実行される。なお、対象領域の中心とAEC画素が数学的に完全一致している必要はなく、対象領域の中心から数画素程度の誤差許容するようにしてもよい。

0062

ステップS506において、対象領域の中心から所定の範囲内のAEC画素を試験画素(試験領域)として、ステップS5の処理フローは終了する。

0063

ステップS507において、第1の実施形態と同様に、部分領域に分割する処理が実施される。ステップS508において、ステップS507で部分領域に分割した結果、部分領域の中で最終試験日が最も古いAEC画素が最も多い部分領域を試験領域とする。このように、領域決定部302は、AEC画素を含む部分領域に対象領域を分割し、複数の部分領域のうち試験を実施する部分領域を試験領域として決定する。

0064

領域決定部302は、試験の試験最終時間が最も古い画素が最も多い部分領域を試験領域として決定する。例えば、図5に示すように、部分領域604,605,606,607に分割した場合であって、全てのAEC画素の最終試験日が同じであると仮定する。この場合、部分領域606が4つのAEC画素を包含しており、AEC画素の数が最も多いので、部分領域606が試験領域として決定される。部分領域606を対象領域としてステップS5のフローを再帰的に実行する。

0065

ステップS5が再帰的に呼び出され、部分領域への分割が繰り返されることにより、試験画素が特定される。例えば、ステップS503を再帰的に繰り返すことにより、領域決定部302は、所定の数のAEC画素を含む部分領域にまで対象領域又は試験領域を分割する。また、ステップS505を再帰的に繰り返すことにより、領域決定部302は、部分領域の中心から所定の範囲内にAEC画素が存在するまで対象領域又は試験領域を分割する。

0066

ステップS5のフローを再帰的に実行することで、試験画素が特定される。ステップS509において、特定された試験画素を有効にするために、検知画素用の走査回路41及び検知画素用の読出回路40が制御部49により制御されて動作し、放射線源1が放射線3を照射する。有効化制御部303が、試験領域に含まれるAEC画素(検知画素)を有効化する。X線発生装置(放射線発生部)305が有効化されたAEC画素に放射線を照射する。

0067

ステップS510において、第1の実施形態と同様に、AEC画像の有効性を判断し、試験履歴に記録する。チェック部307は、画像画素データを所定の期待値と比較することにより、AEC画素の出力をチェックする。画素管理部308は、チェックの結果をチェックの時間情報とともに記録する。

0068

ステップS511において、他のAEC画素に対しても日常試験を継続するかどうかを判断し、処理を継続する場合はステップS510で更新した最新の日常試験履歴を用いてステップS502が実行される。継続の判断は、ユーザーの指示により判断されてもよいし、予め決められた固定数に達したか否かで判断されてもよい。

0069

以上のようなフローを実施することで、部分領域ごとに優先度に応じて、1つ又は複数の異常画素を検出する日常試験を実施することが可能となる。

0070

なお、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではなく、請求項に記載された範囲内において変更・変形することが可能である。

0071

本発明は、上記の実施形態の機能を実現するソフトウェア(プログラム)をネットワーク又は各種記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、システム又は装置のコンピュータ(CPUやMPUなど)がプログラムを読み出すことにより実行されてもよい。また、本発明は、システム又は装置のコンピュータにおける1つ以上のプロセッサーがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能であり、1以上の機能を実現する回路(例えば、ASIC)によっても実現可能である。

0072

1放射線源
4検出装置
11通常画素
111 検知画素
301試験開始指示部
302領域決定部
303 有効化制御部
304 出力部
305X線発生装置(放射線発生部)
306データ収集部
307チェック部
308画素管理部

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