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技術 分割露光装置及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法

出願人 エルジーディスプレイカンパニーリミテッド
発明者 リー,ドンヒョン
出願日 2017年4月28日 (2年6ヶ月経過) 出願番号 2017-089244
公開日 2017年11月2日 (2年0ヶ月経過) 公開番号 2017-198990
状態 特許登録済
技術分野
  • -
主要キーワード 照度プロファイル 光照射パターン アライメントキー ブラックカーボン 補助ブレード 白ムラ 非重畳領域 生産準備
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図面 (20)

課題

COT(Color Filter on TFT)構造を有する大型サイズ液晶表示装置において分割露光を用いて1回のマスク工程でRGBWサブ画素フォトアクリル(PAC)層を均一に形成できる分割露光装置及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法を提供する。

解決手段

本発明は、重畳領域の中央では合計照度が120%以上、130%未満となるように調整し、重畳領域のエッジ境界)では合計照度が100%から次第に増加するようにする。こうすることにより、RGBサブ画素とWサブ画素でセルギャップが均一に形成され、ムラが生じないという効果を発揮する。

概要

背景

一般に、液晶表示装置は、マトリクス状に配列された各画素画像情報に応じたデータ信号を個別に供給して各画素の光透過率を調整することにより所望の画像を表示するようにした表示装置である。

よって、液晶表示装置には、画素がマトリクス状に配列された液晶パネルと、各画素を駆動するための駆動部とが備えられる。

液晶パネルは、均一なセルギャップが維持されるように対向して貼り合わせられたアレイ基板及びカラーフィルタ基板と、アレイ基板とカラーフィルタ基板との間のセルギャップ内に形成された液晶層とから構成される。

ここで、アレイ基板とカラーフィルタ基板とが貼り合わせられた液晶パネルには、共通電極画素電極が形成され、液晶層に電界印加する。

よって、共通電極に電圧が印加された状態で画素電極に供給されるデータ信号の電圧を制御すると、液晶層の液晶が共通電極と画素電極間の電界によって誘電方性により回転して画素毎に光を透過又は遮断することにより、文字や画像を表示する。

このような液晶表示装置の製造には複数のパターニング工程(マスク工程)が必要である。パターニング工程は、基板上に所定の薄膜を形成するために、フォトレジストを塗布し、露光装置を用いて露光し、その後、連続した現像及びエッチングを行うことにより、所定のパターンを形成する工程である。

このようなパターニング工程における露光としては、ステッパ(stepper)方式やスキャン(scan)方式が主に用いられている。

ステッパ方式とは、基板上に複数のフィールドを設定しておき、いずれかのフィールドに対して縮小投影レンズの露光領域を用いて露光を行い、引き続き、露光を行っていない他のフィールドに移動して露光を行うステップアンドリピート(step and repeat)方式をいい、等倍投影露光方式の代案として提案されている。

ステッパ方式は、1つのフィールド全体に対して1つのアライメントキーが検出されれば1回の露光で処理することができるので、層間のオーバーレイ精度(overlay accuracy)が高いという利点がある。しかし、複数のフィールドからなる基板全体を露光するためには露光工程を複数回繰り返さなければならないので、生産性が低いという欠点がある。

ステッパ方式が基板とマスクを停止させた状態で基板に照射される光量を調整する方式であるのに対し、ステッパ方式の代案として提案されたスキャン方式は、基板とマスクを所定比率の速度で逆方向に移動させながら露光を行うようにして基板の露光面積を増加させる方式である。

図16は一般的な分割露光方法を説明するための図である。

なお、図16はスキャン方式の分割露光方法をより詳細に説明するための露光パターン図であり、大面積露光のための繰り返し露光におけるマスクステージ及び基板ステージの移動に応じた露光パターンを示す。

図16を参照すると、露光はスキャン1、移動、スキャン2、移動、スキャン3の順序で行われ、それにより、基板の露光面には光照射パターンW1、W2、W3で露光が行われる。

このような駆動により、基板上には、第1露光部(1)、第2露光部(2)、第3露光部(3)の順序で露光パターンが形成され、また、第1露光部(1)と第2露光部(2)の重畳領域である第4露光部(4)及び第2露光部(2)と第3露光部(3)の重畳領域である第5露光部(5)が形成される。

ここで、第4露光部(4)はスキャン1とスキャン2による露光エネルギー重畳領域であり、第5露光部(5)はスキャン2とスキャン3による露光エネルギー重畳領域であり、当該領域に供給される露光エネルギーの総和、すなわち合計照度は第1露光部(1)、第2露光部(2)、第3露光部(3)の非重畳領域の露光エネルギーと同じである。

図17A及び図17Bは図16における各領域での照度及び合計照度を示すグラフである。
なお、図17Aはスキャン1及びスキャン2の個別照度を示し、図17Bはスキャン1及びスキャン2の合計照度を示す。

図17A及び図17Bを参照すると、スキャン1及びスキャン2により形成される第1露光部(1)、第2露光部(2)及び第4露光部(4)は、重畳領域である第4露光部(4)におけるスキャン1及びスキャン2により供給される露光エネルギーの総和が第1露光部(1)、第2露光部(2)の非重畳領域での露光エネルギーと同じである。

このように、重畳領域は照度を0%から100%まで線形に制御して左右の合計照度を100%にして露光するが、基本的なポジ型フォトレジストの場合は、フルトーン(Full Tone; FT)でもハーフトーン(Half Tone;HT)でも特に問題が生じないが、ネガ型フォトアクリル(PAC)の場合は、露光した領域が硬化して残って厚さの差を発生させるので、セルギャップに影響を及ぼす。

すなわち、一般的な分割露光方法において、重畳領域は、左右50%+50%、60%+40%、70%+30%などのように照度重畳となるが、当該領域はフォトレジストやフォトアクリルの特性により100%露光のようには硬化しないので、残るフォトアクリルの厚さが異なるという問題が生じる。当該部分(A)にはレベル7〜8の黒ムラが生じる。

一方、液晶表示装置の製造においては、カラーフィルタ基板とアレイ基板との貼り合わせ過程で貼り合わせ誤差ミスアラインメント)が生じることがあるので、ブラックマトリクスを設計する際に貼り合わせ誤差を考慮して所定のマージンを設ける。

従って、マージンの分だけ開口領域が狭くなって開口率が低下するので、輝度が低くなるという問題が生じる。

また、マージンを超えた貼り合わせ誤差が生じた場合、ブラックマトリクスにより光漏れ領域全体を覆うことができなくなるので、光漏れ不良が発生する。

この場合、外部への光漏れが発生するので、画質が低下するという問題が生じる。

よって、上記問題を解決するための構造として、カラーフィルタ基板に構成していたカラーフィルタとブラックマトリクスをアレイ基板に構成したCOT構造が提案されている。

このようなCOT構造の液晶パネルを図18及び図19に概略的に示す。

図18は一般的な分割露光方法を用いた場合における非重畳領域及び重畳領域でのセル構造の一例を示す概略断面図である。

また、図19は一般的な分割露光方法を用いた場合における非重畳領域及び重畳領域でのセル構造の他の例を示す概略断面図であり、ハーフトーン工程を用いてRGBWサブ画素に同じ工程でPAC層を形成した場合のセル構造を示す。

図18及び図19を参照すると、COT構造の液晶表示装置は、アレイ基板15と、アレイ基板15と貼り合わせられるカラーフィルタ基板5とから構成され、アレイ基板15には、RGBWサブ画素R、G、B、W毎に互いに交差するゲートライン(図示せず)とデータライン(図示せず)が構成される。

詳細には示していないが、ゲートラインとデータラインの交差地点には、ゲート電極アクティブ層及びソースドレイン電極を含む薄膜トランジスタが構成される。

RGBWサブ画素R、G、B、Wのうち、RGBサブ画素R、G、Bには、カラーフィルタ6r、6g、6bがそれぞれ構成され、カラーフィルタ6r、6g、6bの上部及びWサブ画素Wには、フォトアクリル(PAC)からなるPAC層8が構成される。

また、アレイ基板15とカラーフィルタ基板5との間隔を維持するために、柱状スペーサ20が構成される。

このようなCOT構造は、カラーフィルタ6r、6g、6bとブラックマトリクスがアレイ基板15に構成された構造であるので、ブラックマトリクスを設計する際に貼り合わせマージンを設ける必要がない。従って、開口領域が広くなるので輝度が改善されるという利点があり、貼り合わせ誤差による光漏れが発生しないので高輝度を実現できるという利点がある。

もっとも、このようなCOT構造の液晶表示装置の製造においてパターニング工程に用いられるマスク数を削減するためには、RGBWサブ画素R、G、B、Wに同じ工程でPAC層8を形成しなければならないが、その過程でハーフトーン工程が必要である。

ここで、露光装置による1回のスキャンで完成できるパネルサイズの液晶表示装置においては現在のレベルで問題を解決できるが、前述したように、複数回のスキャンで分割露光せざるを得ない大型サイズの液晶表示装置においては分割露光領域、すなわち重畳領域でPAC層8の厚さが減少する現象が発生する。

ハーフトーン工程を用いない図18の場合は、重畳領域のRGBWサブ画素R、G、B、Wが全てフルトーン(FT)領域であるので、重畳領域でPAC層8の厚さがd1だけ減少しても全体的なセルギャップg1は一定である。すなわち、重畳領域と非重畳領域とでセルギャップg1が同じであるので、ムラが生じない。

それに対し、ハーフトーン工程を用いる図19の場合は、重畳領域においてフルトーン(FT)領域でのPAC層8の厚さの減少(d1)の方がハーフトーン(HT)領域でのPAC層8の厚さの減少(d2)より少ない。すなわち、フルトーン(FT)領域とハーフトーン(HT)領域とでPAC層8の厚さの減少(d1、d2)が異なるので、全体的なセルギャップ(g1、g2)がRGBサブ画素R、G、BとWサブ画素Wとで異なる。この場合、画像検査時にセルギャップの差によるムラが見られる。

つまり、ハーフトーン露光においては、目標とする露光の程度が低くなるほどPAC層8の厚さの差が大きくなる。よって、重畳領域においてフルトーン(FT)領域とハーフトーン(HT)領域とでPAC層8の厚さの差が発生し、1つの画素内でセルギャップ(g1、g2)が異なり、PAC層8の厚さが相対的に薄いハーフトーン(HT)領域に黒ムラが生じる。

概要

COT(Color Filter on TFT)構造を有する大型サイズの液晶表示装置において分割露光を用いて1回のマスク工程でRGBWサブ画素にフォトアクリル(PAC)層を均一に形成できる分割露光装置及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法を提供する。本発明は、重畳領域の中央では合計照度が120%以上、130%未満となるように調整し、重畳領域のエッジ境界)では合計照度が100%から次第に増加するようにする。こうすることにより、RGBサブ画素とWサブ画素でセルギャップが均一に形成され、ムラが生じないという効果を発揮する。B

目的

本発明は、上記課題を解決するためのものであり、COT構造を有する大型サイズの液晶表示装置において分割露光を用いてRGBWサブ画素にPAC層を均一に形成できる分割露光装置及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法を提供する

効果

実績

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請求項1

複数回のスキャンにより光照射パターンの形態で光を照射することで基板分割露光する分割露光装置であって、前記スキャンが重なる重畳領域において前記光照射パターンの一側に配置され、照射される前記光の露光エネルギー照度)を位置別に制御するブレードを含み、それぞれのスキャンにおいて、前記重畳領域は、少なくとも第1領域と第2領域に分けられ、前記第1領域と前記第2領域とが異なる照度増加率を有するように前記光が照射される、分割露光装置。

請求項2

前記重畳領域のエッジ境界)では、一方の照度が100%のとき、他方の照度が0%となるように制御する、請求項1に記載の分割露光装置。

請求項3

前記ブレードは、前記光照射パターンを遮蔽する下端が所定の曲率を有する、請求項1に記載の分割露光装置。

請求項4

前記光照射パターンが前記ブレードの下端に当たる部分が前記重畳領域を構成する、請求項3に記載の分割露光装置。

請求項5

前記ブレードの下端は、前記第2領域では、上方に切り欠かれており、前記第1領域では、前記光照射パターンが前記ブレードの下端に当たる一地点から前記第2領域での前記ブレードの下端に向かって傾斜して切り欠かれて前記第2領域での前記ブレードの下端に当接する、請求項3に記載の分割露光装置。

請求項6

前記第2領域での前記ブレードの下端に向かって傾斜して切り欠かれた部分に対応する形状を有する補助ブレードをさらに含む、請求項3に記載の分割露光装置。

請求項7

前記補助ブレードは、前記第1領域に設けられる、請求項6に記載の分割露光装置。

請求項8

前記重畳領域の中央での合計照度は一定であり、位置が1mm増加するにつれて、スキャン1の個別照度は1%ずつ増加し、前記スキャン1と重なるスキャン2の個別照度は1%ずつ減少する、請求項3に記載の分割露光装置。

請求項9

前記重畳領域のエッジでは、位置が1mm増加するにつれて、前記スキャン1の個別照度は3%ずつ増加し、前記スキャン2の個別照度は1%ずつ減少する、請求項8に記載の分割露光装置。

請求項10

前記スキャン1の個別照度は、位置が1mmから3mmまで1mm増加するにつれて、0.0%から2.0%まで1.0%ずつ増加し、3mmから4mmまでは、2.0%から3.5%まで1.5%増加し、4mmから10mmまで1mm増加するにつれて、3.5%から15.5%まで2.0%ずつ増加し、10mmから12mmまで1mm増加するにつれて、15.5%から20.5%まで2.5%ずつ増加し、12mmから13mmまでは、20.5%から23.5%まで3.0%増加し、13mmから15mmまで1mm増加するにつれて、23.5%から28.5%まで2.5%ずつ増加し、15mmから20mmまで1mm増加するにつれて、28.5%から38.5%まで2.0%ずつ増加し、20mmから21mmまでは、38.5%から40.0%まで1.5%増加する、請求項8に記載の分割露光装置。

請求項11

前記スキャン2の個別照度は、位置が1mmから21mmまで1mm増加するにつれて、100.0%から80.0%まで1.0%ずつ減少する、請求項10に記載の分割露光装置。

請求項12

前記重畳領域のエッジでの合計照度のプロファイルは、100%から120%まで線形又は変曲点のある3次曲線の形態を有する、請求項1に記載の分割露光装置。

請求項13

それぞれのスキャンにおいて、前記重畳領域は、第1−1領域、第1−2領域及び第1−3領域からなる前記第1領域と前記第2領域に分けられ、前記第1−1領域、前記第1−2領域、前記第1−3領域及び前記第2領域での個別照度のプロファイルは、異なる傾きの線形の形態を有する、請求項1に記載の分割露光装置。

請求項14

スキャン1の個別照度は、1mmから11mmまでの前記第1−1領域では、位置が1mm増加するにつれて0.0%から10.0%まで1.0%ずつ増加し、11mmから31mmまでの前記第1−2領域では、位置が1mm増加するにつれて10.0%から40.0%まで1.5%ずつ増加し、31mmから81mmまでの前記第2領域では、位置が1mm増加するにつれて40.0%から90.0%まで1.0%ずつ増加し、81mmから101mmまでの前記第1−3領域では、位置が1mm増加するにつれて90.0%から100.0%まで0.5%ずつ増加する、請求項13に記載の分割露光装置。

請求項15

スキャン2の個別照度は、位置が1mmから21mmまで1mm増加するにつれて、100.0%から90.0%まで0.5%ずつ減少し、21mmから71mmまで1mm増加するにつれて、90.0%から40.0%まで1.0%ずつ減少し、71mmから91mmまで1mm増加するにつれて、40.0%から10.0%まで1.5%ずつ減少し、91mmから101mmまで1mm増加するにつれて、10.0%から0.0%まで1.0%ずつ減少する、請求項14に記載の分割露光装置。

請求項16

位置が1mmから41mmまで1mm増加するにつれて、スキャン1の個別照度は0.0%から40.0%まで1.0%ずつ増加し、スキャン2の個別照度は100.0%から80.0%まで0.5%ずつ減少し、位置が41mから81mmまで1mm増加するにつれて、前記スキャン1の個別照度は40.0%から80.0%まで1.0%ずつ増加し、前記スキャン2の個別照度は80.0%から40.0%まで1.0%ずつ減少し、位置が81mから121mmまで1mm増加するにつれて、前記スキャン1の個別照度は80.0%から100.0%まで0.5%ずつ増加し、前記スキャン2の個別照度は40.0%から0.0%まで1.0%ずつ減少する、請求項1に記載の分割露光装置。

請求項17

COT構造液晶表示装置の製造方法であって、薄膜トランジスタが形成された第2基板のRGBサブ画素にRGBカラーフィルタを形成する段階と、前記RGBカラーフィルタが形成された前記第2基板上にPACを塗布する段階と、ハーフトーンマスクを用いて複数回のスキャンにより前記PACに対して複数の光照射パターンの形態で光を照射して前記RGBカラーフィルタの上部とWサブ画素にPAC層を同時に形成する段階と、前記PAC層が形成された前記第2基板と第1基板とを貼り合わせる段階とを含み、それぞれのスキャンにおいて、前記スキャンが重なる重畳領域は、異なる照度増加率を有する少なくとも第1領域と第2領域に分けられ、前記第1領域と第2領域とが異なる照度増加率を有するように前記光が照射される、液晶表示装置の製造方法。

請求項18

前記重畳領域の中央での合計照度が120%以上、130%未満となるように制御して前記光照射パターンの形態で光を照射する、請求項17に記載の液晶表示装置の製造方法。

請求項19

前記重畳領域の中央での合計照度は一定であり、位置が1mm増加するにつれて、スキャン1の個別照度は1%ずつ増加し、前記スキャン1と重なるスキャン2の個別照度は1%ずつ減少するように制御する、請求項17に記載の液晶表示装置の製造方法。

請求項20

前記重畳領域のエッジ(境界)での合計照度のプロファイルは、100%から120%まで線形又は変曲点のある3次曲線の形態を有するように制御する、請求項17に記載の液晶表示装置の製造方法。

請求項21

複数回のスキャンにより光照射パターンの形態で光を照射することで基板を分割露光する分割露光装置であって、前記スキャンが重なる重畳領域において前記光照射パターンの一側に配置され、照射される前記光の露光エネルギー(照度)を位置別に制御するブレードを含み、前記ブレードは、前記重畳領域の中央での合計照度が120%以上、130%未満となるように制御する、分割露光装置。

請求項22

前記重畳領域のエッジ(境界)では、一方の照度が100%のとき、他方の照度が0%となるように制御する、請求項21に記載の分割露光装置。

請求項23

それぞれのスキャンにおいて、前記重畳領域は、少なくとも第1領域と第2領域に分けられ、前記第1領域と前記第2領域とが異なる照度増加率を有するように前記光が照射される、請求項22に記載の分割露光装置。

技術分野

0001

本発明は、COT(Color Filter on TFT)構造を有する大型サイズ液晶表示装置において分割露光を用いてフォトアクリル(photo acryl; PAC)層を形成するための分割露光装置及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法に関する。

背景技術

0002

一般に、液晶表示装置は、マトリクス状に配列された各画素画像情報に応じたデータ信号を個別に供給して各画素の光透過率を調整することにより所望の画像を表示するようにした表示装置である。

0003

よって、液晶表示装置には、画素がマトリクス状に配列された液晶パネルと、各画素を駆動するための駆動部とが備えられる。

0004

液晶パネルは、均一なセルギャップが維持されるように対向して貼り合わせられたアレイ基板及びカラーフィルタ基板と、アレイ基板とカラーフィルタ基板との間のセルギャップ内に形成された液晶層とから構成される。

0005

ここで、アレイ基板とカラーフィルタ基板とが貼り合わせられた液晶パネルには、共通電極画素電極が形成され、液晶層に電界印加する。

0006

よって、共通電極に電圧が印加された状態で画素電極に供給されるデータ信号の電圧を制御すると、液晶層の液晶が共通電極と画素電極間の電界によって誘電方性により回転して画素毎に光を透過又は遮断することにより、文字や画像を表示する。

0007

このような液晶表示装置の製造には複数のパターニング工程(マスク工程)が必要である。パターニング工程は、基板上に所定の薄膜を形成するために、フォトレジストを塗布し、露光装置を用いて露光し、その後、連続した現像及びエッチングを行うことにより、所定のパターンを形成する工程である。

0008

このようなパターニング工程における露光としては、ステッパ(stepper)方式やスキャン(scan)方式が主に用いられている。

0009

ステッパ方式とは、基板上に複数のフィールドを設定しておき、いずれかのフィールドに対して縮小投影レンズの露光領域を用いて露光を行い、引き続き、露光を行っていない他のフィールドに移動して露光を行うステップアンドリピート(step and repeat)方式をいい、等倍投影露光方式の代案として提案されている。

0010

ステッパ方式は、1つのフィールド全体に対して1つのアライメントキーが検出されれば1回の露光で処理することができるので、層間のオーバーレイ精度(overlay accuracy)が高いという利点がある。しかし、複数のフィールドからなる基板全体を露光するためには露光工程を複数回繰り返さなければならないので、生産性が低いという欠点がある。

0011

ステッパ方式が基板とマスクを停止させた状態で基板に照射される光量を調整する方式であるのに対し、ステッパ方式の代案として提案されたスキャン方式は、基板とマスクを所定比率の速度で逆方向に移動させながら露光を行うようにして基板の露光面積を増加させる方式である。

0012

図16は一般的な分割露光方法を説明するための図である。

0013

なお、図16はスキャン方式の分割露光方法をより詳細に説明するための露光パターン図であり、大面積露光のための繰り返し露光におけるマスクステージ及び基板ステージの移動に応じた露光パターンを示す。

0014

図16を参照すると、露光はスキャン1、移動、スキャン2、移動、スキャン3の順序で行われ、それにより、基板の露光面には光照射パターンW1、W2、W3で露光が行われる。

0015

このような駆動により、基板上には、第1露光部(1)、第2露光部(2)、第3露光部(3)の順序で露光パターンが形成され、また、第1露光部(1)と第2露光部(2)の重畳領域である第4露光部(4)及び第2露光部(2)と第3露光部(3)の重畳領域である第5露光部(5)が形成される。

0016

ここで、第4露光部(4)はスキャン1とスキャン2による露光エネルギー重畳領域であり、第5露光部(5)はスキャン2とスキャン3による露光エネルギー重畳領域であり、当該領域に供給される露光エネルギーの総和、すなわち合計照度は第1露光部(1)、第2露光部(2)、第3露光部(3)の非重畳領域の露光エネルギーと同じである。

0017

図17A及び図17B図16における各領域での照度及び合計照度を示すグラフである。
なお、図17Aはスキャン1及びスキャン2の個別照度を示し、図17Bはスキャン1及びスキャン2の合計照度を示す。

0018

図17A及び図17Bを参照すると、スキャン1及びスキャン2により形成される第1露光部(1)、第2露光部(2)及び第4露光部(4)は、重畳領域である第4露光部(4)におけるスキャン1及びスキャン2により供給される露光エネルギーの総和が第1露光部(1)、第2露光部(2)の非重畳領域での露光エネルギーと同じである。

0019

このように、重畳領域は照度を0%から100%まで線形に制御して左右の合計照度を100%にして露光するが、基本的なポジ型フォトレジストの場合は、フルトーン(Full Tone; FT)でもハーフトーン(Half Tone;HT)でも特に問題が生じないが、ネガ型フォトアクリル(PAC)の場合は、露光した領域が硬化して残って厚さの差を発生させるので、セルギャップに影響を及ぼす。

0020

すなわち、一般的な分割露光方法において、重畳領域は、左右50%+50%、60%+40%、70%+30%などのように照度重畳となるが、当該領域はフォトレジストやフォトアクリルの特性により100%露光のようには硬化しないので、残るフォトアクリルの厚さが異なるという問題が生じる。当該部分(A)にはレベル7〜8の黒ムラが生じる。

0021

一方、液晶表示装置の製造においては、カラーフィルタ基板とアレイ基板との貼り合わせ過程で貼り合わせ誤差ミスアラインメント)が生じることがあるので、ブラックマトリクスを設計する際に貼り合わせ誤差を考慮して所定のマージンを設ける。

0022

従って、マージンの分だけ開口領域が狭くなって開口率が低下するので、輝度が低くなるという問題が生じる。

0023

また、マージンを超えた貼り合わせ誤差が生じた場合、ブラックマトリクスにより光漏れ領域全体を覆うことができなくなるので、光漏れ不良が発生する。

0024

この場合、外部への光漏れが発生するので、画質が低下するという問題が生じる。

0025

よって、上記問題を解決するための構造として、カラーフィルタ基板に構成していたカラーフィルタとブラックマトリクスをアレイ基板に構成したCOT構造が提案されている。

0026

このようなCOT構造の液晶パネルを図18及び図19に概略的に示す。

0027

図18は一般的な分割露光方法を用いた場合における非重畳領域及び重畳領域でのセル構造の一例を示す概略断面図である。

0028

また、図19は一般的な分割露光方法を用いた場合における非重畳領域及び重畳領域でのセル構造の他の例を示す概略断面図であり、ハーフトーン工程を用いてRGBWサブ画素に同じ工程でPAC層を形成した場合のセル構造を示す。

0029

図18及び図19を参照すると、COT構造の液晶表示装置は、アレイ基板15と、アレイ基板15と貼り合わせられるカラーフィルタ基板5とから構成され、アレイ基板15には、RGBWサブ画素R、G、B、W毎に互いに交差するゲートライン(図示せず)とデータライン(図示せず)が構成される。

0030

詳細には示していないが、ゲートラインとデータラインの交差地点には、ゲート電極アクティブ層及びソースドレイン電極を含む薄膜トランジスタが構成される。

0031

RGBWサブ画素R、G、B、Wのうち、RGBサブ画素R、G、Bには、カラーフィルタ6r、6g、6bがそれぞれ構成され、カラーフィルタ6r、6g、6bの上部及びWサブ画素Wには、フォトアクリル(PAC)からなるPAC層8が構成される。

0032

また、アレイ基板15とカラーフィルタ基板5との間隔を維持するために、柱状スペーサ20が構成される。

0033

このようなCOT構造は、カラーフィルタ6r、6g、6bとブラックマトリクスがアレイ基板15に構成された構造であるので、ブラックマトリクスを設計する際に貼り合わせマージンを設ける必要がない。従って、開口領域が広くなるので輝度が改善されるという利点があり、貼り合わせ誤差による光漏れが発生しないので高輝度を実現できるという利点がある。

0034

もっとも、このようなCOT構造の液晶表示装置の製造においてパターニング工程に用いられるマスク数を削減するためには、RGBWサブ画素R、G、B、Wに同じ工程でPAC層8を形成しなければならないが、その過程でハーフトーン工程が必要である。

0035

ここで、露光装置による1回のスキャンで完成できるパネルサイズの液晶表示装置においては現在のレベルで問題を解決できるが、前述したように、複数回のスキャンで分割露光せざるを得ない大型サイズの液晶表示装置においては分割露光領域、すなわち重畳領域でPAC層8の厚さが減少する現象が発生する。

0036

ハーフトーン工程を用いない図18の場合は、重畳領域のRGBWサブ画素R、G、B、Wが全てフルトーン(FT)領域であるので、重畳領域でPAC層8の厚さがd1だけ減少しても全体的なセルギャップg1は一定である。すなわち、重畳領域と非重畳領域とでセルギャップg1が同じであるので、ムラが生じない。

0037

それに対し、ハーフトーン工程を用いる図19の場合は、重畳領域においてフルトーン(FT)領域でのPAC層8の厚さの減少(d1)の方がハーフトーン(HT)領域でのPAC層8の厚さの減少(d2)より少ない。すなわち、フルトーン(FT)領域とハーフトーン(HT)領域とでPAC層8の厚さの減少(d1、d2)が異なるので、全体的なセルギャップ(g1、g2)がRGBサブ画素R、G、BとWサブ画素Wとで異なる。この場合、画像検査時にセルギャップの差によるムラが見られる。

0038

つまり、ハーフトーン露光においては、目標とする露光の程度が低くなるほどPAC層8の厚さの差が大きくなる。よって、重畳領域においてフルトーン(FT)領域とハーフトーン(HT)領域とでPAC層8の厚さの差が発生し、1つの画素内でセルギャップ(g1、g2)が異なり、PAC層8の厚さが相対的に薄いハーフトーン(HT)領域に黒ムラが生じる。

発明が解決しようとする課題

0039

このように、PAC層以外の層においては、分割露光が問題なく用いられるが、PAC層においては、現在の照度プロファイルではハーフトーン工程で発生するPAC層の厚さの差(段差)を克服するのに限界がある。

0040

本発明は、上記課題を解決するためのものであり、COT構造を有する大型サイズの液晶表示装置において分割露光を用いてRGBWサブ画素にPAC層を均一に形成できる分割露光装置及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。

0041

本発明のさらに他の目的及び特徴は、後述する発明の構成及び特許請求の範囲で説明される。

課題を解決するための手段

0042

上記目的を達成するために、本発明の一実施の形態による分割露光装置は、スキャンが重なる重畳領域において光照射パターンの一側に配置され、照射される光の露光エネルギー(照度)を位置別に制御するブレードを含み、それぞれのスキャンにおいて、前記重畳領域は、少なくとも第1領域と第2領域に分けられ、前記第1領域と前記第2領域とが異なる照度増加率を有するように光が照射される。

0043

前記重畳領域のエッジ境界)では、一方の照度が100%のとき、他方の照度が0%となるように制御してもよい。

0044

前記ブレードは、前記光照射パターンを遮蔽する下端が所定の曲率を有するようにしてもよい。

0045

前記光照射パターンが前記ブレードの下端に当たる部分が前記重畳領域を構成するようにしてもよい。

0046

前記ブレードの下端は、前記第2領域では、上方に切り欠かれており、前記第1領域では、前記光照射パターンが前記ブレードの下端に当たる一地点から前記第2領域での前記ブレードの下端に向かって傾斜して切り欠かれて前記第2領域での前記ブレードの下端に当接するようにしてもよい。

0047

前記分割露光装置は、前記第2領域での前記ブレードの下端に向かって傾斜して切り欠かれた部分に対応する形状を有する補助ブレードをさらに含んでもよい。

0048

前記補助ブレードは、前記第1領域に設けられてもよい。

0049

前記重畳領域のエッジでの合計照度のプロファイルは、100%から120%まで線形又は変曲点のある3次曲線の形態を有するようにしてもよい。

0050

それぞれのスキャンにおいて、前記重畳領域は、第1−1領域、第1−2領域及び第1−3領域からなる前記第1領域と前記第2領域に分けられ、前記第1−1領域、前記第1−2領域、前記第1−3領域及び前記第2領域での個別照度のプロファイルは、異なる傾きの線形の形態を有するようにしてもよい。

0051

本発明の他の実施の形態による分割露光装置は、スキャンが重なる重畳領域において光照射パターンの一側に配置され、照射される光の露光エネルギー(照度)を位置別に制御するブレードを含み、前記ブレードは、前記重畳領域の中央での合計照度が120%以上、130%未満となるように制御する。

0052

本発明の一実施の形態による液晶表示装置の製造方法は、薄膜トランジスタが形成された第2基板のRGBサブ画素にRGBカラーフィルタを形成する段階と、前記RGBカラーフィルタが形成された前記第2基板上にPACを塗布する段階と、ハーフトーンマスクを用いて複数回のスキャンにより前記PACに対して複数の光照射パターンの形態で光を照射して前記RGBカラーフィルタの上部とWサブ画素にPAC層を同時に形成する段階と、前記PAC層が形成された前記第2基板と第1基板とを貼り合わせる段階とを含む。

0053

それぞれのスキャンにおいて、前記スキャンが重なる重畳領域は、少なくとも第1領域と第2領域に分けられ、前記第1領域と前記第2領域とが異なる照度増加率を有するように前記光が照射されるようにしてもよい。

0054

前記重畳領域の中央での合計照度が120%以上、130%未満となるように制御して前記光照射パターンの形態で光を照射するようにしてもよい。

0055

前記重畳領域の中央での合計照度は一定であり、位置が1mm増加するにつれて、スキャン1の個別照度は1%ずつ増加し、前記スキャン1と重なるスキャン2の個別照度は1%ずつ減少するように制御してもよい。

0056

前記重畳領域のエッジでの合計照度のプロファイルは、100%から120%まで線形又は変曲点のある3次曲線の形態を有するように制御してもよい。

発明の効果

0057

本発明の一実施の形態による分割露光装置及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法は、1回のマスク工程でRGBWサブ画素にPAC層を均一に形成することができ、マスク数の削減により生産容量を向上させるという効果がある。

0058

また、RGBサブ画素とWサブ画素でセルギャップが均一に形成され、ムラが生じないという効果がある。

0059

さらに、分割露光装置のブレードの形状を改善し、各製品に同一のブレードを使用できるようにすることにより、ブレードの形状の作成による生産準備を排除することができ、製品を変更する度に発生するムラのリスクを除去することができるという効果がある。

図面の簡単な説明

0060

本発明による分割露光装置を説明するための図である。
本発明による分割露光方法を説明するための図である。
本発明の第1の実施の形態による分割露光方法における各領域での照度を示すグラフである。
本発明の第1の実施の形態による分割露光方法における各領域での合計照度を示すグラフである。
本発明の第2の実施の形態による分割露光方法における各領域での照度を示すグラフである。
本発明の第2の実施の形態による分割露光方法における各領域での合計照度を示すグラフである。
本発明の第2の実施の形態による分割露光方法における重畳領域での位置に応じたスキャン1及びスキャン2の個別照度及び合計照度を示す表である。
本発明による分割露光方法を用いた場合における非重畳領域及び重畳領域でのセル構造の一例を示す概略断面図である。
本発明の第2の実施の形態による分割露光装置におけるブレードの構造の一例を示す概略平面図である。
本発明の第2の実施の形態による分割露光装置におけるブレードの構造の他の例を示す概略平面図である。
本発明の第3の実施の形態による分割露光方法における各領域での照度を示すグラフである。
本発明の第3の実施の形態による分割露光方法における各領域での合計照度を示すグラフである。
本発明の第3の実施の形態による分割露光方法における重畳領域での位置に応じたスキャン1及びスキャン2の個別照度及び合計照度を示す表である。
本発明の第3の実施の形態による分割露光装置におけるブレードの構造の一例を示す概略平面図である。
本発明の第3の実施の形態による分割露光装置におけるブレードの構造の他の例を示す概略平面図である。
本発明の第4の実施の形態による分割露光方法における各領域での照度を示すグラフである。
本発明の第4の実施の形態による分割露光方法における各領域での合計照度を示すグラフである。
本発明の第4の実施の形態による分割露光方法における重畳領域での位置に応じたスキャン1及びスキャン2の個別照度及び合計照度を示す表である。
本発明の第5の実施の形態による分割露光方法における各領域での照度を示すグラフである。
本発明の第5の実施の形態による分割露光方法における各領域での合計照度を示すグラフである。
本発明の第5の実施の形態による分割露光方法における重畳領域での位置に応じたスキャン1及びスキャン2の個別照度及び合計照度を示す表である。
本発明の第5の実施の形態による分割露光装置におけるブレードの構造の一例を示す概略平面図である。
本発明の第5の実施の形態による分割露光装置におけるブレードの構造の他の例を示す概略平面図である。
一般的な分割露光方法を説明するための図である。
図16における各領域での照度を示すグラフである。
図16における各領域での合計照度を示すグラフである。
一般的な分割露光方法を用いた場合における非重畳領域及び重畳領域でのセル構造の一例を示す概略断面図である。
一般的な分割露光方法を用いた場合における非重畳領域及び重畳領域でのセル構造の他の例を示す概略断面図である。

実施例

0061

以下、本発明の好ましい実施の形態による分割露光装置及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法について添付図面を参照して詳細に説明する。

0062

本発明の利点及び特徴、並びにそれらを達成する方法は、後述する発明の詳細な説明及び添付の図面によりさらに明確になるであろう。しかし、本発明は、以下に開示される実施の形態に限定されるものではなく、様々な形態で実現することができる。ただし、本実施の形態は、本発明の技術思想の理解を容易にし、本発明のカテゴリーを明確にするためのものであり、本発明の権利範囲は、添付の特許請求の範囲により定められるべきである。明細書全体にわたって同一の構成要素には同一の符号を付す。図面において、層及び領域の大きさ及び相対的な大きさは説明を明瞭にするために誇張されることもある。

0063

ある素子又は層が他の素子又は層「上に」又は「の上方に」配置されるという表現は、ある素子又は層が他の素子又は層の直上に配置される場合と、中間にさらに他の素子又は層が介在する場合とを含む。それに対して、ある素子又は層が他の素子又は層「上に直接」又は「の直上に」配置されるという表現は、中間にさらに他の素子又は層が介在しないことを示す。

0064

空間的に相対的な用語である「下方」、「下部」、「上方」、「上部」などは、図示のように1つの素子又は構成要素と他の素子又は構成要素との相関関係を容易に記載するために用いられる。空間的に相対的な用語は、図面に示されている方向に加え、使用時又は動作時の素子又は構成要素の様々な方向を含む用語と理解されるべきである。例えば、図面に示されている素子をひっくり返した場合、他の素子の「下方」又は「下部」に配置されると記載された素子は、他の素子の「上方」又は「上部」に配置されることになる。よって、例示的な用語である「下方」は、下方と上方の両方を含むといえる。

0065

本明細書で用いられる用語は、実施の形態を説明するためのものであり、本発明を限定するものではない。本明細書において、単数の表現は、特に断らない限り、複数の表現を含む。本明細書において、「含む」や「有する」などの用語は、本明細書に記載された構成要素、段階、動作及び/又は素子が存在することを指定しようとするもので、1つ又はそれ以上の他の構成要素、段階、動作及び/又は素子の存在や付加可能性を排除するものではない。

0066

図1は本発明による分割露光装置を説明するための図である。

0067

図1を参照すると、本発明によるスキャン方式の分割露光装置150は、所定の波長を有する光を発生する照明系151と、マスク152が載置されるマスクステージ153と、照明系151から発生した光を縮小投影する投影光学系154と、基板155が載置される基板ステージ156と、それらを制御するための制御装置157、158、159とを含んでもよい。

0068

制御装置157、158、159は、マスクステージ153のスキャン速度及び位置合わせを制御するマスクステージ制御装置157と、基板ステージ156のスキャン速度及び位置合わせを制御する基板ステージ制御装置159と、マスクステージ制御装置157及び基板ステージ制御装置159を制御する主制御装置158とからなるようにしてもよい。

0069

分割露光装置150は、分割露光のために投影光学系154と基板ステージ156間に設けられる所定のブレード(図示せず)をさらに含んでもよい。ブレードは、スキャンが重なる重畳領域に照射される露光エネルギーを位置別に制御する役割を果たす。

0070

また、分割露光装置150は、分割露光時に重畳領域のエッジに照射される露光エネルギーをより精密に制御するための補助ブレード(図示せず)をさらに含んでもよい。補助ブレードは、重畳幅によって、投影光学系154と基板ステージ156間だけでなく、マスクステージ153と基板ステージ156間に設けられてもよい。

0071

以下、このようなスキャン方式の分割露光装置150の作動構成について説明する。
まず、照明系151から発生したスリット状の光が照明系151の下方に配置されたマスクステージ153上のマスク152に照射されると、マスク152が載置されたマスクステージ153はY方向に駆動され、それにより、照明系151からの光がマスク152に形成された薄膜パターンの形態でマスク152の下方に転写される。

0072

転写された光は、投影光学系154を経て、投影光学系154の下方で基板155が載置されてマスクステージ153とは逆方向(−Y方向)に駆動される基板ステージ156に転写され、基板ステージ156上の基板155がスキャン方式で露光されることにより、基板155の露光工程が行われる。

0073

ただし、本発明が前述した分割露光装置及びその駆動方式に限定されるものではない。

0074

65インチ以上の大型サイズの液晶表示装置の製造には分割露光が用いられ、ネガ型フォトレジストの場合、露光した領域が硬化して残り、マスク工程が行われる。すなわち、現在、超大型テレビ製品群は、露光装置による1回のショット又はスキャンで液晶パネルを製作することができないので、複数回のショット又はスキャンで分割露光する。

0075

なお、一般的な分割露光方法において、重畳領域は、(露光装置の照度領域を遮蔽する左右のブレードの位置によって)左右50%+50%、60%+40%、70%+30%などのように照度重畳となるが、当該領域はフォトレジストの特性により100%露光のようには硬化しないので、PACの厚さが異なるという問題が生じる。

0076

ただし、前述したように、フルトーン(FT)の場合は、重畳領域と非重畳領域とでセルギャップが同じであるので、ムラが生じない。それに対し、ハーフトーン(HT)の場合は、目標とする露光の程度(例えば、FTの透過率:100%、HTの透過率:30%〜40%)が低くなるほどPACの厚さの差が大きくなる。よって、重畳領域においてWサブ画素のFT領域とWサブ画素以外のRGBサブ画素のHT領域とでPACの厚さの差が発生し、1つの画素内でセルギャップが異なり、黒ムラが生じる。

0077

ネガ型PACを用いるPAC層は重畳露光に特に敏感な層であり、PAC層のマスクが100%開放されるか又は100%遮蔽された場合は、非重畳領域に対する重畳領域のPACの厚さの差が小さく、ムラに対するマージンが大きいので、量産が可能である。それに対し、透過率を調整して製作されるハーフトーンマスクにおいては、非重畳領域に対する重畳領域のPACの厚さの差の変化が大きいので、ムラが生じることがある。

0078

重畳領域において、FTの厚さの減少よりHTの厚さの減少の方が大きい場合は黒ムラが生じ、FTの厚さの減少よりHTの厚さの減少の方が小さい場合は白ムラが生じる。
よって、本発明は、重畳領域での合計照度がFTの100%より高く、好ましくは120%以上、130%未満となるように照度を調整することを特徴とする。ただし、本発明がこれに限定されるものではなく、重畳領域での合計照度は、PAC材料の光に対する感度によって異なり、100%以上、140%未満となるようにしてもよい。

0079

図2は本発明による分割露光方法を説明するための図である。

0080

なお、図2はスキャン方式の分割露光方法をより詳細に説明するための露光パターン図であり、大面積露光のための繰り返し露光におけるマスクステージ及び基板ステージの移動に応じた露光パターンを示す。

0081

図2を参照すると、露光はスキャン1、移動、スキャン2、移動、スキャン3の順序で行われ、それにより、基板の露光面には曲線状の光照射パターンW1、W2、W3で露光が行われる。

0082

このような駆動により、基板上には、第1露光部(1)、第2露光部(2)、第3露光部(3)の順序で露光パターンが形成され、また、第1露光部(1)と第2露光部(2)の重畳領域である第4露光部(4)及び第2露光部(2)と第3露光部(3)の重畳領域である第5露光部(5)が形成される。

0083

ここで、第4露光部(4)はスキャン1とスキャン2による露光エネルギー重畳領域であり、第5露光部(5)はスキャン2とスキャン3による露光エネルギー重畳領域であり、ブレード160a、160bにより露光エネルギーを位置別に制御することができる。すなわち、ブレード160a、160bは、光照射パターンW1、W2、W3の両側に配置され、スキャンが重なる重畳領域に照射される露光エネルギーを位置別に制御する役割を果たす。

0084

左側のブレード160aと右側のブレード160bとは、光照射パターンW1、W2、W3の中心を基準として対称となるようにしてもよい。

0085

それぞれのブレード160a、160bは、光照射パターンW1、W2、W3と斜めに交差する下端161a、161bを備える。それぞれの下端161a、161bは、所定の曲率を有し、光照射パターンW1、W2、W3が下端161a、161bに当たる部分が露光エネルギーの重畳領域である第4露光部(4)及び第5露光部(5)を構成する。

0086

本発明は、重畳領域に供給される露光エネルギーの総和、すなわち合計照度を第1露光部(1)、第2露光部(2)、第3露光部(3)の非重畳領域の露光エネルギーより大きい値に設定することを特徴とする。

0087

特に、前述したように、本発明は、重畳領域でのムラレベルを改善するために、合計照度を120%以上、130%未満に設定することを特徴とする。
図3A及び図3Bは本発明の第1の実施の形態による分割露光方法における各領域での照度及び合計照度を示すグラフである。

0088

なお、図3Aはスキャン1及びスキャン2の個別照度を示し、図3Bはスキャン1及びスキャン2の合計照度を示す。

0089

図3A及び図3Bに示す本発明の第1の実施の形態による分割露光方法は、ブレードの位置を光照射パターンの上側(左右側)に移動(〜13mm)させてブレードにより遮蔽される光照射パターンの領域を減少させることで左右の合計照度を増加させた場合を例示する。

0090

図3A及び図3Bを参照すると、本発明の第1の実施の形態による分割露光方法においては、スキャン1及びスキャン2により形成される第1露光部(1)、第2露光部(2)及び第4露光部(4)は、重畳領域である第4露光部(4)におけるスキャン1及びスキャン2により供給される露光エネルギーの総和が第1露光部(1)、第2露光部(2)の非重畳領域での露光エネルギーより大きい値となるように設定される。

0091

実際に分割露光装置のブレードの位置を変化させて評価を行った結果、例えば、左右の合計照度を50%+50%から63%+63%に増加させた場合、重畳領域の中央(A’)での黒ムラが従来のレベル7〜8からレベル1〜2に改善された。すなわち、重畳領域での個別照度が0%から100%まで線形に増加し、かつ重畳領域の中央(A’)での合計照度が126%となるように既存より13mm先に開放されるように設定してもよい。

0092

よって、左右の照度を合計した照度量の組み合わせに応じて黒ムラレベルが決定されることが分かる。

0093

本発明は、重畳領域の中央(A’)での合計照度を120%以上、130%未満に設定することを特徴とする。重畳領域の中央(A’)での合計照度が120%未満の場合は黒ムラが生じ、重畳領域の中央(A’)での合計照度が130%以上の場合は白化現象高明度化)が発生することが確認された。

0094

ただし、この場合は、重畳領域のエッジ(境界)(B)でレベル5の白ムラ(白帯)が観察された。これは、露光装置の露光工程で境界には100%+αの露光が行われるからである。すなわち、白ムラが生じるのは、露光量がさらに増加し、FTの厚さの減少よりHTの厚さの減少の方が小さいからである。

0095

よって、重畳領域のエッジでの照度プロファイルをより微細に制御する必要があり、それについては以下の本発明の第2〜第5の実施の形態において詳細に説明する。すなわち、重畳領域のエッジでは、一方の照度が100%のとき、他方の照度が0%となるように制御し、重畳領域の中央とは異なる照度プロファイルを適用する。

0096

図4A及び図4Bは本発明の第2の実施の形態による分割露光方法における各領域での照度及び合計照度を示すグラフである。

0097

なお、図4Aは各位置でのスキャン1及びスキャン2の個別照度(L、R)を示し、図4Bはスキャン1及びスキャン2の個別照度(L、R)を合計した合計照度を示す。

0098

図4A及び図4Bに示す本発明の第2の実施の形態による分割露光方法は、重畳領域、すなわち第4露光部(4)でそれぞれのスキャンの個別照度プロファイルを少なくとも2つの領域、すなわち第1領域と第2領域に分けて微細に制御した場合を例示する。本例示においては、重畳領域の幅が80mm、第1領域が10mm、第2領域が70mmに設定されるが、本発明がこれに限定されるものではない。

0099

また、図5は本発明の第2の実施の形態による分割露光方法における重畳領域での位置に応じたスキャン1及びスキャン2の個別照度(L、R)及び合計照度を示す表である。

0100

図4A図4B及び図5は重畳領域、すなわち第4露光部(4)の一側を基準として位置が1mmから81mmに増加するとスキャン1の個別照度(L)が0%から100%に増加する場合を例示するが、これは説明の便宜のためのものであり、本発明がこれに限定されるものではない。

0101

図4A及び図4Bを参照すると、本発明の第2の実施の形態による分割露光方法においては、スキャン1及びスキャン2により形成される第1露光部(1)、第2露光部(2)及び第4露光部(4)は、重畳領域である第4露光部(4)におけるスキャン1及びスキャン2により供給される露光エネルギーの総和が第1露光部(1)、第2露光部(2)の非重畳領域での露光エネルギーより大きい値となるように設定される。

0102

重畳領域の中央(C)での左右の合計照度を100%から120%に増加させると、重畳領域の中央(C)での黒ムラレベルが従来のレベル7〜8からレベル1〜2に改善される。ここで、位置が12mmから70mmまで1mm増加するにつれて、スキャン1の個別照度(L)は31%から89%まで1%ずつ増加し、スキャン2の個別照度(R)は89%から31%まで1%ずつ減少する。よって、重畳領域の中央(C)での合計照度は120%で一定になる。

0103

また、本発明の第2の実施の形態においては、重畳領域のエッジ(E)での白ムラを防止するために、重畳領域のエッジ(E)に重畳領域の中央(C)とは異なる照度プロファイルを適用する。すなわち、位置が1mmから12mmまで1mm増加するにつれて、スキャン1の個別照度(L)は1mmの位置を除いて1%から31%まで3%ずつ増加し、スキャン2の個別照度(R)は100%から89%まで1%ずつ減少する。よって、重畳領域のエッジ(E)での合計照度は1、2mmの位置を除いて102%から120%まで線形に増加する。

0104

このように、重畳領域でそれぞれのスキャンの個別照度プロファイルを少なくとも2つの領域、例えば第1領域と第2領域に分け、第1領域での照度増加率が第2領域での照度増加率より大きい値となるように照度プロファイルを設定すると、重畳領域のエッジ(E)での白ムラを防止することができる。すなわち、重畳領域の中央(C)での合計照度は120%で一定に維持すると共に、重畳領域のエッジ(E)での合計照度は100%から120%に緩やかに増加するように照度プロファイルを設定してもよい。

0105

この場合、全体的なセルギャップがRGBサブ画素とWサブ画素とで異なるという従来の問題を解決することができる。

0106

図6は本発明による分割露光方法を用いた場合における非重畳領域及び重畳領域でのセル構造の一例を示す概略断面図であり、ハーフトーン工程を用いてRGBWサブ画素に同じ工程でPAC層を形成した場合のセル構造を示す。

0107

なお、図6にはCOT構造の液晶パネルが示されている。

0108

図6を参照すると、本発明によるCOT構造の液晶表示装置は、上部基板としての第1基板105と下部基板としてのカラーフィルタアレイ基板である第2基板115とが所定間隔をおいて貼り合わせられて構成される。

0109

詳細には示していないが、第2基板115は、一面に規定された複数のRGBWサブ画素R、G、B、Wの一側とそれに交差する方向の他側にそれぞれゲートラインとデータラインが構成され、ゲートラインとデータラインの交差地点毎にゲート電極、アクティブ層及びソース/ドレイン電極を含む薄膜トランジスタが構成される。

0110

また、RGBWサブ画素R、G、B、Wのうち、RGBサブ画素R、G、Bには、それぞれカラーフィルタ106r、106g、106bが構成され、カラーフィルタ106r、106g、106bの上部及びWサブ画素Wには、フォトアクリル(PAC)からなるPAC層108が構成される。

0111

カラーフィルタ106r、106g、106bは様々な形態で配列される。

0112

一例として、縦方向に配置されたRGBサブ画素R、G、Bに同じカラーフィルタが形成された形態であるストライプパターンで構成されてもよい。

0113

また、第1基板105と第2基板115との間隔を維持するために、柱状スペーサ120が構成される。

0114

ここで、柱状スペーサ120は、ブラックカラムスペーサ(Black Column Spacer; BCS)で構成され、ブラックマトリクスを代替するようにしてもよい。この場合、ブラックカラムスペーサは、第2基板115の全面にボールスペーサ(Ball Spacer;BS)を含むブラック樹脂を塗布してパターニングすることにより形成してもよい。

0115

ここで、ブラックカラムスペーサは、ブラックカラーにするために、ポリマーブラックカーボンピグメント(black carbon pigment)を混合して厚く塗布し、それをマスク工程でパターニングする方法により形成してもよい。

0116

その他に、ブラックカラムスペーサは、インクジェット方法により形成してもよい。この場合、所望の位置にインクジェット装置ヘッドからポリマーを落下させる方法を用いてもよい。

0117

TN(Twisted Nematic)モードの場合は、第1基板105の内面に液晶層を介して画素電極に対向する共通電極が備えられる。それに対し、液晶分子を基板に対して水平な方向に駆動して視野角を向上させたIPS(In Plane Switching)モードの場合は、共通電極が画素電極と共に第2基板115内に形成される。ただし、本発明は、これらに限定されるものではなく、VA(Vertical Alignment)モード、FFS(Fringe Field Switching)モード、Super−IPSモード、reverse TN IPSモードの液晶表示装置にも適用することができる。

0118

このようなCOT構造は、カラーフィルタ106r、106g、106bがカラーフィルタアレイ基板である第2基板115に構成された構造であり、特に本発明は、ブラックマトリクスが除去されたCOT構造であるので、ブラックマトリクスの貼り合わせマージンを設ける必要がない。従って、開口領域が広くなるので輝度が改善されるという利点があり、貼り合わせ誤差による光漏れが発生しないので高輝度を実現できるという利点がある。

0119

また、本発明によるCOT構造の液晶表示装置は、大型サイズで、RGBWサブ画素R、G、B、Wにハーフトーンマスクを用いて同じ工程でPAC層108を形成する際に、分割露光領域、すなわち重畳領域でPAC層108の厚さが減少(d1)する現象が発生しても、重畳領域のフルトーン(FT)領域とハーフトーン(HT)領域とでPAC層108の厚さの減少(d1)に差がない。

0120

フルトーン(FT)領域とハーフトーン(HT)領域とでPAC層108の厚さの減少(d1)に差がないのは、前述したように、重畳領域での合計照度を120%以上、130%未満に設定したからである。

0121

こうすることにより、全体的なセルギャップ(g1)がRGBサブ画素R、G、BとWサブ画素Wで均一になり、画像検査時にセルギャップの差によるムラが見られない。

0122

図7A及び図7Bは本発明の第2の実施の形態による分割露光装置におけるブレードの構造を示す概略平面図であり、光照射パターン(W)の一側に設けられたブレードを例示する。

0123

図7Aを参照すると、本発明の第2の実施の形態による分割露光装置におけるブレード260は、スキャンが重なる重畳領域に照射される露光エネルギーを位置別に制御するために、光照射パターンWを遮蔽する縁部が所定の曲率を有する。すなわち、ブレード260は、光照射パターンWと斜めに交差する下端261を備える。下端261は、所定の曲率を有し、光照射パターンWが下端261に当たる部分が露光エネルギーの重畳領域を構成する。

0124

説明の便宜上、図7Aには本発明の第1の実施の形態による分割露光装置におけるブレードの縁部の曲率を基準線として示す。

0125

なお、光照射パターンWが下端261に当たる一地点を0とした場合、本発明の第1の実施の形態による分割露光装置においては、各位置で100mmの重畳露光幅を維持する。

0126

それに対し、本発明の第2の実施の形態による分割露光装置においては、位置毎に重畳領域を変化させることができ、第2領域では、ブレード260の下端261が実質的に基準線と同じ曲率を有するが、基準線より上方に約20mm切り欠かれている。

0127

下端261は、第1領域では、光照射パターンWが下端261に当たる一地点0から、上方に切り欠かれた第2領域での下端261に向かって急激に傾斜して切り欠かれ、第2領域での下端261に当接する。第1領域の幅は、約10mmであり、照度グラフにおいて重畳領域のエッジに対応する。

0128

以上のように、本発明の第2の実施の形態による分割露光装置におけるブレード260は、特定のモデルに最適化して形状を改造することができるが、様々なモデルに対応するためには各モデル毎に最適化された形状のものに交換しなければならないという不便がある。

0129

これを解決するために、図7Bを参照すると、本発明の第2の実施の形態による分割露光装置は、基準線と同じ下端261’を備えると共に、第1領域には図7Aに示す第2領域での下端261に向かって急激に傾斜して切り欠かれた部分に対応する補助ブレード265をさらに備えてもよい。

0130

この場合、ブレード260の下端261’は本発明の第1の実施の形態による分割露光装置の基準線に一致し、第1領域には補助ブレード265が設けられる。すなわち、補助ブレード265が適用される部分は、重畳領域のエッジに対応する第1領域であり、傾斜した部分が約10mmの幅を有する。

0131

図8A及び図8Bは本発明の第3の実施の形態による分割露光方法における各領域での照度及び合計照度を示すグラフである。
なお、図8Aは各位置でのスキャン1及びスキャン2の個別照度(L、R)を示し、図8Bはスキャン1及びスキャン2の個別照度(L、R)を合計した合計照度を示す。

0132

図8A及び図8Bに示す本発明の第3の実施の形態による分割露光方法は、重畳領域、すなわち第4露光部(4)でそれぞれのスキャンの個別照度プロファイルを少なくとも2つの領域、すなわち第1領域と第2領域に分けて微細に制御した場合を例示する。本例示においては、重畳領域の幅が80mm、第1領域が20mm、第2領域が60mmに設定されるが、本発明がこれに限定されるものではない。

0133

本発明の第3の実施の形態による分割露光方法は、第1領域が線形ではなく曲線の形態を有することを特徴とし、本発明の第2の実施の形態による分割露光方法に比べて第1領域の幅が広いことを特徴とする。

0134

また、図9は本発明の第3の実施の形態による分割露光方法における重畳領域での位置に応じたスキャン1及びスキャン2の個別照度(L、R)及び合計照度を示す表である。

0135

図8A図8B及び図9は重畳領域、すなわち第4露光部(4)の一側を基準として位置が1mmから81mmに増加するとスキャン1の個別照度(L)が0%から100%に増加する場合を例示するが、これは説明の便宜のためのものであり、本発明がこれに限定されるものではない。

0136

図8A及び図8Bを参照すると、本発明の第3の実施の形態による分割露光方法においては、スキャン1及びスキャン2により形成される第1露光部(1)、第2露光部(2)及び第4露光部(4)は、重畳領域である第4露光部(4)におけるスキャン1及びスキャン2により供給される露光エネルギーの総和が第1露光部(1)、第2露光部(2)の非重畳領域での露光エネルギーより大きい値となるように設定される。

0137

重畳領域の中央(C’)での左右の合計照度を100%から120%に増加させると、重畳領域の中央(C’)での黒ムラレベルが従来のレベル7〜8からレベル1〜2に改善される。ここで、位置が21mmから61mmまで1mm増加するにつれて、スキャン1の個別照度(L)は40%から80%まで1%ずつ増加し、スキャン2の個別照度(R)は80%から40%まで1%ずつ減少する。よって、重畳領域の中央(C’)での合計照度は120%で一定になる。

0138

また、本発明の第3の実施の形態においては、重畳領域のエッジ(E’)での白ムラを防止するために、重畳領域のエッジ(E’)に重畳領域の中央(C’)とは異なる照度プロファイルを適用する。

0139

すなわち、スキャン1の個別照度(L)は、位置が1mmから3mmまで1mm増加するにつれて、0.0%から2.0%まで1.0%ずつ増加し、3mmから4mmまでは、2.0%から3.5%まで1.5%増加し、4mmから10mmまで1mm増加するにつれて、3.5%から15.5%まで2.0%ずつ増加する。また、スキャン1の個別照度(L)は、位置が10mmから12mmまで1mm増加するにつれて、15.5%から20.5%まで2.5%ずつ増加し、12mmから13mmまでは、20.5%から23.5%まで3.0%増加し、13mmから15mmまで1mm増加するにつれて、23.5%から28.5%まで2.5%ずつ増加する。さらに、スキャン1の個別照度(L)は、位置が15mmから20mmまで1mm増加するにつれて、28.5%から38.5%まで2.0%ずつ増加し、20mmから21mmまでは、38.5%から40.0%まで1.5%増加する。

0140

それに対し、スキャン2の個別照度(R)は、位置が1mmから21mmまで1mm増加するにつれて、100.0%から80.0%まで1.0%ずつ減少する。
よって、重畳領域のエッジ(E’)での合計照度は、100%から120%まで変曲点のある3次曲線に類似した形状で増加する。

0141

このように、重畳領域でそれぞれのスキャンの個別照度プロファイルを少なくとも2つの領域、例えば第1領域と第2領域に分け、第1領域での照度増加率が第2領域での照度増加率より大きい値となるように照度プロファイルを設定すると、重畳領域のエッジ(E’)での白ムラを防止することができる。すなわち、重畳領域の中央(C’)での合計照度は120%で一定に維持すると共に、重畳領域のエッジ(E’)での合計照度は100%から120%に3次曲線に類似した形状で緩やかに増加するように照度プロファイルを設定してもよい。

0142

図10A及び図10Bは本発明の第3の実施の形態による分割露光装置におけるブレードの構造を示す概略平面図であり、光照射パターン(W)の一側に設けられたブレードを例示する。

0143

図10Aを参照すると、本発明の第3の実施の形態による分割露光装置におけるブレード360は、スキャンが重なる重畳領域に照射される露光エネルギーを位置別に制御するために、光照射パターンWを遮蔽する縁部が所定の曲率を有する。すなわち、ブレード360は、光照射パターンWと斜めに交差する下端361を備える。下端361は、所定の曲率を有し、光照射パターンWが下端361に当たる部分が露光エネルギーの重畳領域を構成する。

0144

説明の便宜上、図10Aには本発明の第1の実施の形態による分割露光装置におけるブレードの縁部の曲率を基準線として示す。

0145

なお、光照射パターンWが下端361に当たる一地点を0とした場合、本発明の第1の実施の形態による分割露光装置においては、各位置で100mmの重畳露光幅を維持する。
それに対し、本発明の第3の実施の形態による分割露光装置においては、位置毎に重畳領域を変化させることができ、第2領域では、ブレード360の下端361が実質的に基準線と同じ曲率を有するが、基準線より上方に約20mm切り欠かれている。

0146

下端361は、第1領域では、光照射パターンWが下端361に当たる一地点0から、上方に切り欠かれた第2領域での下端361に向かって急激に傾斜して切り欠かれ、第2領域での下端361に当接する。第1領域の幅は、約20mmであり、照度グラフにおいて重畳領域のエッジに対応する。

0147

以上のように、本発明の第3の実施の形態による分割露光装置におけるブレード360は、特定のモデルに最適化して形状を改造することができるが、様々なモデルに対応するためには各モデル毎に最適化された形状のものに交換しなければならないという不便がある。

0148

これを解決するために、図10Bを参照すると、本発明の第3の実施の形態による分割露光装置は、基準線と同じ下端361’を備えると共に、第1領域には図10Aに示す第2領域での下端361に向かって急激に傾斜して切り欠かれた部分に対応する補助ブレード365をさらに備えてもよい。

0149

この場合、ブレード360の下端361’は本発明の第1の実施の形態による分割露光装置の基準線に一致し、第1領域には補助ブレード365が設けられる。すなわち、補助ブレード365が適用される部分は、重畳領域のエッジに対応する第1領域であり、傾斜した部分が約20mmの幅を有する。

0150

以上、重畳領域の幅が80mmの場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。以下の本発明の第4の実施の形態においては、重畳領域の幅が100mmの場合を例に挙げて詳細に説明する。

0151

図11A及び図11Bは本発明の第4の実施の形態による分割露光方法における各領域での照度及び合計照度を示すグラフである。

0152

なお、図11Aは各位置でのスキャン1及びスキャン2の個別照度(L、R)を示し、図11Bはスキャン1及びスキャン2の個別照度(L、R)を合計した合計照度を示す。

0153

図11A及び図11Bに示す本発明の第4の実施の形態による分割露光方法は、重畳領域、すなわち第4露光部(4)でそれぞれのスキャンの個別照度プロファイルを少なくとも4つの領域、すなわち第1−1領域、第1−2領域、第1−3領域、第2領域に分けて微細に制御した場合を例示する。本例示においては、重畳領域の幅が100mm、第1−1領域、第1−2領域及び第1−3領域がそれぞれ10mm、20mm、20mm、第2領域が50mmに設定されるが、本発明がこれに限定されるものではない。

0154

本発明の第4の実施の形態による分割露光方法は、第1−1領域、第1−2領域、第1−3領域、第2領域が異なる傾きの線形の形態を有することを特徴とし、本発明の第2、第3の実施の形態による分割露光方法に比べて重畳領域の幅が広いことを特徴とする。

0155

また、図12は本発明の第4の実施の形態による分割露光方法における重畳領域での位置に応じたスキャン1及びスキャン2の個別照度(L、R)及び合計照度を示す表である。

0156

図11A図11B及び図12は重畳領域、すなわち第4露光部(4)の一側を基準として位置が1mmから101mmに増加するとスキャン1の個別照度(L)が0%から100%に増加する場合を例示するが、これは説明の便宜のためのものであり、本発明がこれに限定されるものではない。

0157

図11A及び図11Bを参照すると、本発明の第4の実施の形態による分割露光方法においては、スキャン1及びスキャン2により形成される第1露光部(1)、第2露光部(2)及び第4露光部(4)は、重畳領域である第4露光部(4)におけるスキャン1及びスキャン2により供給される露光エネルギーの総和が第1露光部(1)、第2露光部(2)の非重畳領域での露光エネルギーより大きい値となるように設定される。

0158

重畳領域の中央(C’’)での左右の合計照度を100%から120%に増加させると、重畳領域の中央(C’’)での黒ムラレベルが従来のレベル7〜8からレベル1〜2に改善される。ここで、位置が31mmから71mmまで1mm増加するにつれて、スキャン1の個別照度(L)は40%から80%まで1%ずつ増加し、スキャン2の個別照度(R)は80%から40%まで1%ずつ減少する。よって、重畳領域の中央(C’’)での合計照度は120%で一定になる。

0159

また、本発明の第4の実施の形態においては、重畳領域のエッジ(E’’)での白ムラを防止するために、重畳領域のエッジ(E’’)に重畳領域の中央(C’’)とは異なる照度プロファイルを適用する。特に、本発明の第4の実施の形態においては、第1−1領域、第1−2領域及び第1−3領域に異なる照度プロファイルを適用する。

0160

すなわち、スキャン1の個別照度(L)は、1mmから11mmまでの第1−1領域では、位置が1mm増加するにつれて0.0%から10.0%まで1.0%ずつ増加し、11mmから31mmまでの第1−2領域では、位置が1mm増加するにつれて10.0%から40.0%まで1.5%ずつ増加する。また、スキャン1の個別照度(L)は、31mmから81mmまでの第2領域では、位置が1mm増加するにつれて40.0%から90.0%まで1.0%ずつ増加し、81mmから101mmまでの第1−3領域では、位置が1mm増加するにつれて90.0%から100.0%まで0.5%ずつ増加する。

0161

それに対し、スキャン2の個別照度(R)は、スキャン1の個別照度(L)と対称となる変化を示す。すなわち、スキャン2の個別照度(R)は、位置が1mmから21mmまで1mm増加するにつれて、100.0%から90.0%まで0.5%ずつ減少し、21mmから71mmまで1mm増加するにつれて、90.0%から40.0%まで1.0%ずつ減少する。また、スキャン2の個別照度(R)は、位置が71mmから91mmまで1mm増加するにつれて、40.0%から10.0%まで1.5%ずつ減少し、91mmから101mmまで1mm増加するにつれて、10.0%から0.0%まで1.0%ずつ減少する。

0162

よって、重畳領域のエッジ(E’’)での合計照度は、100%から120%まで変曲点のある3次曲線に類似した形状で増加する。

0163

図13A及び図13Bは本発明の第5の実施の形態による分割露光方法における各領域での照度及び合計照度を示すグラフである。

0164

なお、図13Aは各位置でのスキャン1及びスキャン2の個別照度(L、R)を示し、図13Bはスキャン1及びスキャン2の個別照度(L、R)を合計した合計照度を示す。

0165

図13A及び図13Bに示す本発明の第5の実施の形態による分割露光方法は、重畳領域、すなわち第4露光部(4)でそれぞれのスキャンの個別照度プロファイルを少なくとも2つの領域、すなわち第1領域と第2領域に分けて微細に制御した場合を例示する。本例示においては、重畳領域の幅が120mm、第1領域が40mm、第2領域が80mmに設定されるが、本発明がこれに限定されるものではない。

0166

本発明の第5の実施の形態による分割露光方法は、スキャン1の個別照度(L)において第1領域が第2領域の後段に位置することを特徴とし、本発明の第2、第3、第4の実施の形態による分割露光方法に比べて重畳領域の幅が広いことを特徴とする。

0167

また、図14は本発明の第5の実施の形態による分割露光方法における重畳領域での位置に応じたスキャン1及びスキャン2の個別照度(L、R)及び合計照度を示す表である。

0168

図13A図13B及び図14は重畳領域、すなわち第4露光部(4)の一側を基準として位置が1mmから121mmに増加するとスキャン1の個別照度(L)が0%から100%に増加する場合を例示するが、これは説明の便宜のためのものであり、本発明がこれに限定されるものではない。

0169

図13A及び図13Bを参照すると、本発明の第5の実施の形態による分割露光方法においては、スキャン1及びスキャン2により形成される第1露光部(1)、第2露光部(2)及び第4露光部(4)は、重畳領域である第4露光部(4)におけるスキャン1及びスキャン2により供給される露光エネルギーの総和が第1露光部(1)、第2露光部(2)の非重畳領域での露光エネルギーより大きい値となるように設定される。

0170

重畳領域の中央(C’’’)での左右の合計照度を100%から120%に増加させると、重畳領域の中央(C’’’)での黒ムラレベルが改善される。ここで、位置が41mmから81mmまで1mm増加するにつれて、スキャン1の個別照度(L)は40%から80%まで1%ずつ増加し、スキャン2の個別照度(R)は80%から40%まで1%ずつ減少する。よって、重畳領域の中央(C’’’)での合計照度は120%で一定になる。

0171

また、本発明の第5の実施の形態においては、重畳領域のエッジ(E’’’)での白ムラを防止するために、重畳領域のエッジ(E’’’)に重畳領域の中央(C’’’)とは異なる照度プロファイルを適用する。

0172

すなわち、図14を参照すると、位置が1mmから41mmまで1mm増加するにつれて、スキャン1の個別照度(L)は0.0%から40.0%まで1.0%ずつ増加し、スキャン2の個別照度(R)は100.0%から80.0%まで0.5%ずつ減少する。また、位置が41mから81mmまで1mm増加するにつれて、スキャン1の個別照度(L)は40.0%から80.0%まで1.0%ずつ増加し、スキャン2の個別照度(R)は80.0%から40.0%まで1.0%ずつ減少する。さらに、位置が81mから121mmまで1mm増加するにつれて、スキャン1の個別照度(L)は80.0%から100.0%まで0.5%ずつ増加し、スキャン2の個別照度(R)は40.0%から0.0%まで1.0%ずつ減少する。

0173

よって、重畳領域のエッジ(E’’’)での合計照度は、100%から120%まで線形に増加するか、又は120%から100%まで線形に減少する。

0174

このように、重畳領域でそれぞれのスキャンの個別照度プロファイルを少なくとも2つの領域、例えば第1領域と第2領域に分け、第1領域での照度増加率が第2領域での照度増加率より小さい値となるように照度プロファイルを設定すると、重畳領域のエッジ(E’’’)での白ムラを防止することができる。すなわち、重畳領域の中央(C’’’)での合計照度は120%で一定に維持すると共に、重畳領域のエッジ(E’’’)での合計照度は例えば100%から120%に緩やかに増加するように照度プロファイルを設定してもよい。

0175

図15A及び図15Bは本発明の第5の実施の形態による分割露光装置におけるブレードの構造を示す概略平面図であり、光照射パターン(W’)の一側に設けられたブレードを例示する。

0176

図15Aを参照すると、本発明の第5の実施の形態による分割露光装置におけるブレード560は、スキャンが重なる重畳領域に照射される露光エネルギーを位置別に制御するために、光照射パターンW’を遮蔽する縁部が所定の曲率を有する。すなわち、ブレード560は、光照射パターンW’と斜めに交差する下端561を備える。下端561は、所定の曲率を有し、光照射パターンW’が下端561に当たる部分が露光エネルギーの重畳領域を構成する。

0177

説明の便宜上、図15Aには本発明の第1の実施の形態による分割露光装置におけるブレードの縁部の曲率を基準線として示す。

0178

なお、光照射パターンW’が下端561に当たる一地点を0とした場合、本発明の第5の実施の形態による分割露光装置においては、位置毎に重畳領域を変化させることができ、第2領域では、ブレード560の下端561が実質的に基準線と同じ曲率を有するが、基準線より上方に切り欠かれている。

0179

第1領域では、光照射パターンW’が下端561に当たる他の一地点から第2領域での下端561に向かって急激に傾斜して切り欠かれている。第1領域の幅は、約40mmであり、照度グラフにおいて重畳領域のエッジに対応する。

0180

以上のように、本発明の第5の実施の形態による分割露光装置におけるブレード560は、切欠位置が本発明の第2、第3、第4の実施の形態による分割露光装置におけるブレードとは異なり、本発明の第2、第3、第4の実施の形態とは逆方向、すなわち前方から加工が開始される。これは、重畳幅が100mmを超えるように設計するための1つの方法であり、重畳幅を大きくすれば、第1領域の照度増加率をさらに緩やかにすることができるので、ムラの防止にさらに効果的である。

0181

また、前述したように、本発明の第5の実施の形態による分割露光装置におけるブレード560は、特定のモデルに最適化して形状を改造することができるが、様々なモデルに対応するためには各モデル毎に最適化された形状のものに交換しなければならないという不便がある。

0182

これを解決するために、図15Bを参照すると、本発明の第5の実施の形態による分割露光装置は、基準線と同じ下端561’を備えると共に、第1領域には図15Aに示す第2領域での下端561に向かって急激に傾斜して切り欠かれた部分に対応する補助ブレード565をさらに備えてもよい。

0183

この場合、ブレード560の下端561’は本発明の第1の実施の形態による分割露光装置の基準線に一致し、第1領域には補助ブレード565が設けられる。すなわち、補助ブレード565が適用される部分は、重畳領域のエッジに対応する第1領域であり、傾斜した部分が約40mmの幅を有する。

0184

以上の説明に多くの事項が具体的に記載されているが、これは発明の範囲を限定するものではなく、好ましい実施の形態の例示として解釈されるべきである。よって、本発明の範囲は、前述した実施の形態によって定められるのでなく、特許請求の範囲とその均等物によって定められるべきである。

0185

160a、160b、260、360、560ブレード
161a、161b、261、361、561下端
265、365、565 補助ブレード

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