図面 (/)

技術 基板処理装置

出願人 株式会社SCREENホールディングス
発明者 中井仁司
出願日 2015年8月3日 (4年6ヶ月経過) 出願番号 2015-153395
公開日 2017年2月9日 (3年0ヶ月経過) 公開番号 2017-032435
状態 特許登録済
技術分野 気密性の調査・試験
主要キーワード 中空状部材 漏洩検出 処理液流 微小流量 ドライエア 処理液配管 流量調整バルブ 表面全域
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(2017年2月9日)のものです。
また、この項目は機械的に抽出しているため、正しく解析できていない場合があります

図面 (7)

課題

簡易な構成でありながら基板処理装置で使用される流体漏洩を正確に検出することが可能な基板処理装置を提供する。

解決手段

漏洩検出部40は、処理液流路が形成された中空状部材41と、この中空状部材41内を処理液配管26から処理液配管27に至る処理液の流れの方向に沿って往復移動可能な可動部材44と、この可動部材44の位置を検出するための投光部51および受光部52より成るセンサとを備える。可動部材44は、球状の形状を有し、中空状部材41内を流れる処理液より比重の大きい材質から構成される。そして、投光部51および受光部52より成るセンサは、可動部材44が移動領域42の下端部にあるか否かを検出するように構成されている。

概要

背景

有機EL表示装置ガラス基板液晶表示装置用ガラス基板太陽電池用パネル基板プラズマディスプレイ用ガラス基板フォトマスク用ガラス基板光ディスク用基板半導体ウエハ等の基板を処理する基板処理装置においては、処理液等の液体不活性ガス等の気体等の各種の流体が使用される。この流体は、バルブ開閉動作により供給を制御される。

このような基板処理装置においては、バルブからの流体の漏洩を検出する必要がある。特許文献1には、サックバック方式により処理液の漏洩を検出する基板処理装置が開示されている。この特許文献1に記載の基板処理装置においては、バルブを閉止した後に吸引装置により処理液配管吸引動作を実行する。そして、液面センサにより処理液を検出するか否かにより、処理液の漏洩を検出する構成を採用している。

概要

簡易な構成でありながら基板処理装置で使用される流体の漏洩を正確に検出することが可能な基板処理装置を提供する。漏洩検出部40は、処理液の流路が形成された中空状部材41と、この中空状部材41内を処理液配管26から処理液配管27に至る処理液の流れの方向に沿って往復移動可能な可動部材44と、この可動部材44の位置を検出するための投光部51および受光部52より成るセンサとを備える。可動部材44は、球状の形状を有し、中空状部材41内を流れる処理液より比重の大きい材質から構成される。そして、投光部51および受光部52より成るセンサは、可動部材44が移動領域42の下端部にあるか否かを検出するように構成されている。

目的

この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、簡易な構成でありながら基板処理装置で使用される流体の漏洩を正確に検出することが可能な基板処理装置を提供する

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
0件

この技術が所属する分野

ライセンス契約や譲渡などの可能性がある特許掲載中! 開放特許随時追加・更新中 詳しくはこちら

請求項1

基板処理装置に使用される流体流路中に配設されたバルブと、当該バルブの下流側に配設され、前記バルブからの前記流体の漏洩を検出する漏洩検出部と、を備えた基板処理装置であって、前記漏洩検出部は、前記流体の流路が形成された中空状部材と、当該中空状部材内を前記流体の流れの方向に沿って往復移動可能な可動部材と、前記可動部材の位置を検出するセンサと、を備え、前記中空状部材は、前記流体の流路の断面積から前記可動部材の断面積を減算した開度が、一定、または、前記流体の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなる移動領域と、前記開度が前記移動領域よりさらに大きい開放領域と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

請求項2

基板処理装置に使用される流体の流路中に配設されたバルブと、当該バルブの下流側に配設され、前記バルブからの前記流体の漏洩を検出する漏洩検出部と、を備えた基板処理装置であって、前記漏洩検出部は、前記流体の流路が形成された中空状部材と、当該中空状部材内を前記流体の流れの方向に沿って往復移動可能な可動部材と、前記可動部材の位置を検出するセンサと、を備え、前記中空状部材は、前記流体の流路の断面積から前記可動部材の断面積を減算した開度が、一定、または、前記流体の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなる移動領域と、前記可動部材が前記流路より退避する退避領域と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

技術分野

0001

この発明は、基板処理装置に使用される流体漏洩の検出を行う基板処理装置に関する。

背景技術

0002

有機EL表示装置ガラス基板液晶表示装置用ガラス基板太陽電池用パネル基板プラズマディスプレイ用ガラス基板フォトマスク用ガラス基板光ディスク用基板半導体ウエハ等の基板を処理する基板処理装置においては、処理液等の液体不活性ガス等の気体等の各種の流体が使用される。この流体は、バルブ開閉動作により供給を制御される。

0003

このような基板処理装置においては、バルブからの流体の漏洩を検出する必要がある。特許文献1には、サックバック方式により処理液の漏洩を検出する基板処理装置が開示されている。この特許文献1に記載の基板処理装置においては、バルブを閉止した後に吸引装置により処理液配管吸引動作を実行する。そして、液面センサにより処理液を検出するか否かにより、処理液の漏洩を検出する構成を採用している。

先行技術

0004

特許第5030767号公報

発明が解決しようとする課題

0005

特許文献1に記載の基板処理装置においては、処理液の漏洩を防止するときに処理液配管の吸引動作を実行する必要があることから、吸引に要する時間が必要となるばかりではなく、処理液配管内の処理液が無駄に消費されるという問題が生ずる。

0006

一方、このような処理液の供給路には、一般的に、流量計が配設されていることが多く、この流量計を利用して処理液の漏洩を検出することも不可能ではない。しかしながら、処理液のわずかな漏洩を検知するためには、微小流量を検出しうる高価な流量計を使用する必要がある。また、処理液が一定量流れているときには、流量計により流量を正確に検出することが可能であるが、処理液流れを停止した状態においては、処理液における発泡により、流量計が誤検知を起こす場合がある。

0007

この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、簡易な構成でありながら基板処理装置で使用される流体の漏洩を正確に検出することが可能な基板処理装置を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

0008

請求項1に記載の発明は、基板処理装置に使用される流体の流路中に配設されたバルブと、当該バルブの下流側に配設され、前記バルブからの前記流体の漏洩を検出する漏洩検出部と、を備えた基板処理装置であって、前記漏洩検出部は、前記流体の流路が形成された中空状部材と、当該中空状部材内を前記流体の流れの方向に沿って往復移動可能な可動部材と、前記可動部材の位置を検出するセンサと、を備え、前記中空状部材は、前記流体の流路の断面積から前記可動部材の断面積を減算した開度が、一定、または、前記流体の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなる移動領域と、前記開度が前記移動領域よりさらに大きい開放領域と、を備えることを特徴とする。

0009

請求項2に記載の発明は、基板処理装置に使用される流体の流路中に配設されたバルブと、当該バルブの下流側に配設され、前記バルブからの前記流体の漏洩を検出する漏洩検出部と、を備えた基板処理装置であって、前記漏洩検出部は、前記流体の流路が形成された中空状部材と、当該中空状部材内を前記流体の流れの方向に沿って往復移動可能な可動部材と、前記可動部材の位置を検出するセンサと、を備え、前記中空状部材は、前記流体の流路の断面積から前記可動部材の断面積を減算した開度が、一定、または、前記流体の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなる移動領域と、前記可動部材が前記流路より退避する退避領域と、を備えることを特徴とする。

発明の効果

0010

請求項1および請求項2に記載の発明によれば、センサにより可動部材の位置を検出することにより、流体の漏洩を正確に検出することが可能となる。

図面の簡単な説明

0011

この発明に係る基板処理装置の構成を説明するための概要図である。
第1実施形態に係る漏洩検出部40を開閉バルブ23とともに示す概要図である。
この基板処理装置における主要な制御系を示すブロック図である。
第2実施形態に係る漏洩検出部40を開閉バルブ23とともに示す概要図である。
第3実施形態に係る漏洩検出部40を開閉バルブ23とともに示す概要図である。
第4実施形態に係る漏洩検出部40を開閉バルブ23とともに示す概要図である。

実施例

0012

以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図1は、この発明に係る基板処理装置の構成を説明するための概要図である。

0013

この基板処理装置は、半導体ウエハ等の円形の基板100に処理液を供給することにより、この基板100を処理するためのものである。この基板処理装置は、基板100を端縁で支持する支持ピン11を備え、基板100とともに鉛直方向を向く軸を中心に回転するスピンチャック12を備える。

0014

また、この基板処理装置は、基板100に対して処理液を供給するための処理液ノズル15を備える。この処理液ノズル15は、回転軸13に連結された揺動アーム14により支持されており、揺動アーム14とともに、回転軸13を中心として揺動する。また、この処理液ノズル15は、処理液供給機構20と接続されている。この処理液ノズル15の先端を、スピンチャック12に保持された基板100の回転中心および端縁を含む円弧形状の軌跡を描いて移動させることにより、基板100の表面をスキャンしながらその表面全域に対して処理液を供給することが可能となる。

0015

また、この基板処理装置は、基板100に対して処理液を塗布する前に、処理液ノズル15内の処理液をプリディスペンスするためのプリディスペンスポッド31を備える。このプリディスペンスポッド31は、排液管32を介して、図示を省略した処理液の回収部と接続されている。

0016

処理液供給機構20は、処理液を貯留した処理液タンク21から処理液ノズル15に対して処理液を送液するための処理液配管26、27を備える。処理液配管26には、処理液タンク21内の処理液を圧送するためのポンプ22と、処理液の供給および停止を行うための開閉バルブ23と、処理液ノズル15に供給される処理液の流量を調整するための流量調整バルブ24および流量計25とが配設されている。

0017

また、処理液配管26と処理液配管27との間には、処理液の漏洩を検出するためのこの発明の特徴部分である漏洩検出部40が配設されている。この基板処理装置において、開閉バルブ23の不具合により処理液の漏洩が生じた場合には、処理液ノズル15から処理液が流出することになる。このため、この基板処理装置においては、処理液の漏洩を検知するために、開閉バルブ23の下流側である開閉バルブ23と処理液ノズル15との間に、漏洩検出部40が配設されている。

0018

図2は、第1実施形態に係る漏洩検出部40を開閉バルブ23とともに示す概要図である。図2においては、図1に示す流量調整バルブ24および流量計25の図示を省略している。なお、図2(a)は処理液の漏洩が生じていない状態を示し、図2(b)は処理液の漏洩が生じた状態を示している。

0019

この漏洩検出部40は、処理液の流路が形成された中空状部材41と、この中空状部材41内を処理液配管26から処理液配管27に至る処理液の流れの方向に沿って往復移動可能な可動部材44と、この可動部材44の位置を検出するための投光部51および受光部52より成るセンサ53(後述する図3参照)とを備える。

0020

上記中空状部材41は、その下端部に配置された処理液の入口となる開口部45と、移動領域42と、開放領域43と、その上端部に配置された処理液の出口となる開口部46とから構成される。移動領域42は、中空状部材41のうち、処理液の流路の断面積から可動部材44の断面積を減算した開度が、処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなる領域である。また、開放領域43は、中空状部材41のうち、処理液の流路の断面積から可動部材44の断面積を減算した開度が移動領域42よりさらに大きい領域である。

0021

また、上記可動部材44は、球状の形状を有し、中空状部材41内を流れる処理液より比重の大きい材質から構成される。そして、上記投光部51および受光部52より成るセンサ53は、可動部材44が移動領域42の下端部にあるか否かを検出するように構成されている。

0022

図3は、この基板処理装置における主要な制御系を示すブロック図である。なお、この図においては、漏洩検出に係る制御系のみを示している。

0023

この基板処理装置は、論理演算を実行するCPU、装置の制御に必要な動作プログラムが格納されたROM、制御時にデータ等が一時的にストアされるRAM等を備え、装置全体を制御する制御部50を備える。この制御部50は、上述した開閉バルブ23と、投光部51および受光部52より成るセンサ53とに接続されている。また、この制御部50は、警告表示警告音を発生させる警告表示部59とも接続されている。

0024

以上のような構成を有する基板処理装置の漏洩検出部40においては、開閉バルブ23が閉止しており、処理液が開閉バルブ23において遮断されているときには、可動部材44の比重が処理液より大きいことから、図2(a)に示すように、可動部材44は中空状部材41における移動領域42の下端部に配置されている。このときには、図2(a)において矢印で示すように、センサ53における投光部51から照射された光が可動部材44により遮断され、受光部52には到達しない。制御部50は、開閉バルブ23が閉止されており、かつ、センサ53が可動部材44を検出している(すなわち、投光部51からの光が受光部52に到達していない)状態においては、処理液の漏洩が生じていないものと判断する。

0025

一方、開閉バルブ23の閉止中に漏洩が生じた場合には、処理液が中空状部材41における開口部45から中空状部材41内に流入する。そして、この処理液の流れにより、図2(b)に示すように、可動部材44が図2(a)に示す中空状部材41における移動領域42の下端部から上方に浮上する。すなわち、移動領域42においては、処理液の流路の断面積から可動部材44の断面積を減算した開度が、処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなっていることから、小さい流量の処理液が中空状部材41内に流入した場合においても、可動部材44が上方に浮上することになる。

0026

可動部材44が浮上した場合においては、図2(b)において矢印で示すように、センサ53における投光部51から照射された光が、可動部材44により遮断されることなく、そのまま受光部52に到達する。制御部50は、開閉バルブ23が閉止されており、かつ、センサ53が可動部材44を検出していない(すなわち、投光部51からの光が受光部52に到達している)状態においては、処理液の漏洩が生じたものと判断する。そして、制御部50は、警告表示部59に対して、警告表示を行うための信号を送信する。

0027

なお、開閉バルブ23の閉止直後においては、少量の処理液が中空状部材41内を通過している可能性がある。このため、開閉バルブ23が閉止されてから一定時間経過後に、漏洩の判断を行うようにしてもよい。

0028

処理液ノズル15から基板100に処理液を供給するために開閉バルブ23が開放されている状態においては、多量の処理液が中空状部材41に流入する。このときには、図2(b)において仮想線で示すように、可動部材44は、処理液の流路の断面積から可動部材44の断面積を減算した開度が処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなる移動領域42から、この開度が移動領域42よりさらに大きい開放領域43まで浮上する。この開放領域43においては、処理液の流路の断面積から可動部材44の断面積を減算した開度が十分大きくなるように設計されていることから、可動部材44が処理液の供給に支障をきたすことはない。

0029

このような構成を有する漏洩検出部40によれば、上述した特許文献1に記載の基板処理装置のように、漏洩を検出するために処理液配管26、27の吸引動作を実行する必要はなく、また、流量計を利用して漏洩を検出する場合のように、処理液の発泡による誤動作心配もない。また、センサ53における投光部51と受光部52との高さ位置を調整することにより、漏洩を検出するための処理液の流量を変更することが可能となる。

0030

次に、この発明の他の実施形態について説明する。図4は、第2実施形態に係る漏洩検出部40を開閉バルブ23とともに示す概要図である。ここで、上述した第1実施形態と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。図4においては、図1に示す流量調整バルブ24および流量計25の図示を省略している。なお、図4(a)は処理液の漏洩が生じていない状態を示し、図4(b)は処理液の漏洩が生じた状態を示している。

0031

上述した第1実施形態に係る漏洩検出部40においては、センサ53における投光部51と受光部52とを、処理液の漏洩が生じていないときに可動部材44を検出するとともに、漏洩が生じたときに可動部材44を検出しない高さ位置に配設している。これに対して、この第2実施形態に係る漏洩検出部40においては、センサ53における投光部51と受光部52とを、処理液の漏洩が生じたときに可動部材44が移動する側の高さ位置に配設している点が、上述した第1実施形態とは異なる。

0032

この第2実施形態においては、多光軸タイプのセンサ53(図4においては説明の便宜上3軸のものを図示している)を使用している。そして、可動部材44が移動することにより可動部材44により遮断される光軸の数が変化することにより、処理液の漏洩を検出している。すなわち、漏洩が生じていないときには、図4(a)に示すように、一本の光軸が可動部材44により遮断されている。一方、漏洩が生じたときには、図4(b)に示すように、全ての光軸が可動部材44により遮断される。このように、可動部材44により遮断される光軸の数の変化を検出することにより、可動部材44の移動距離が小さい場合においても、可動部材44の移動を精度よく検出することが可能となる。なお、このような多軸タイプのセンサ53を使用するにあたり、漏洩が生じていないときには、全ての光軸が可動部材44により遮断されることがない構成を採用してもよい。

0033

この第2実施形態に係る漏洩検出部40におけるその他の構成および漏洩の検出動作等は、上述した第1実施形態と同様である。

0034

次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図5は、第3実施形態に係る漏洩検出部40を開閉バルブ23とともに示す概要図である。ここで、上述した第1実施形態および第2実施形態と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。図5においては、図1に示す流量調整バルブ24および流量計25の図示を省略している。なお、図5(a)は処理液の漏洩が生じていない状態を示し、図5(b)は処理液の漏洩が生じた状態を示している。

0035

上述した第1実施形態および第2実施形態に係る漏洩検出部40においては、可動部材44として、中空状部材41内を流れる処理液よりも比重が大きい材質のものを使用し、処理液の漏洩により可動部材44が浮上することをセンサ53により検出する構成を採用している。これに対して、この第3実施形態に係る漏洩検出部40においては、可動部材44として、中空状部材41内を流れる処理液よりも比重が小さい材質のものを使用し、処理液の漏洩により可動部材44が沈下することをセンサ53により検出する構成を採用している。

0036

この第3実施形態に係る漏洩検出部40は、処理液の流路が形成された中空状部材41と、この中空状部材41内を処理液配管26から処理液配管27に至る処理液の流れの方向に沿って往復移動可能な可動部材44と、この可動部材44の位置を検出するための投光部51および受光部52より成るセンサ53とを備える。

0037

上記中空状部材41は、その上端部に配置された処理液の入口となる開口部45と、移動領域42と、開放領域43と、その下端部に配置された処理液の出口となる開口部46とから構成される。移動領域42は、中空状部材41のうち、処理液の流路の断面積から可動部材44の断面積を減算した開度が、処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなる領域である。また、開放領域43は、中空状部材41のうち、処理液の流路の断面積から可動部材44の断面積を減算した開度が移動領域42よりさらに大きい領域である。

0038

また、上記可動部材44は、球状の形状を有し、中空状部材41内を流れる処理液より比重の小さい材質から構成される。そして、上記投光部51および受光部52より成るセンサ53は、可動部材44が移動領域42の上端部にあるか否かを検出するように構成されている。

0039

この第3実施形態に係る基板処理装置の漏洩検出部40においては、開閉バルブ23が閉止しており、処理液が開閉バルブ23において遮断されているときには、可動部材44の比重が処理液より小さいことから、図5(a)に示すように、可動部材44は中空状部材41における移動領域42の上端部に配置されている。このときには、図5(a)において矢印で示すように、センサ53における投光部51から照射された光が可動部材44により遮断され、受光部52には到達しない。制御部50は、開閉バルブ23が閉止されており、かつ、センサ53が可動部材44を検出している(すなわち、投光部51からの光が受光部52に到達していない)状態においては、処理液の漏洩が生じていないものと判断する。

0040

一方、開閉バルブ23の閉止中に漏洩が生じた場合には、処理液が中空状部材41における開口部45から中空状部材41内に流入する。そして、この処理液の流れにより、図5(b)に示すように、可動部材44が図5(a)に示す中空状部材41における移動領域42の下端部から下方に沈下する。すなわち、移動領域42においては、処理液の流路の断面積から可動部材44の断面積を減算した開度が、処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなっていることから、小さい流量の処理液が中空状部材41内に流入した場合においても、可動部材44が下方に沈下することになる。

0041

可動部材44が沈下した場合においては、図5(b)において矢印で示すように、センサ53における投光部51から照射された光が、可動部材44により遮断されることなく、そのまま受光部52に到達する。制御部50は、開閉バルブ23が閉止されており、かつ、センサ53が可動部材44を検出していない(すなわち、投光部51からの光が受光部52に到達している)状態においては、処理液の漏洩が生じたものと判断する。そして、制御部50は、警告表示部59に対して、警告表示を行うための信号を送信する。

0042

処理液ノズル15から基板100に処理液を供給するために開閉バルブ23が開放されている状態においては、多量の処理液が中空状部材41に流入する。このときには、図5(b)において仮想線で示すように、可動部材44は、処理液の流路の断面積から可動部材44の断面積を減算した開度が処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなる移動領域42から、この開度が移動領域42よりさらに大きい開放領域43まで沈下する。この開放領域43においては、第1実施形態に係る漏洩検出部40と同様、処理液の流路の断面積から可動部材44の断面積を減算した開度が十分大きくなるように設計されていることから、可動部材44が処理液の供給に支障をきたすことはない。

0043

次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図6は、第4実施形態に係る漏洩検出部40を開閉バルブ23とともに示す概要図である。ここで、上述した第1実施形態および第2実施形態と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。図6においては、図1に示す流量調整バルブ24および流量計25の図示を省略している。なお、図6(a)は処理液の漏洩が生じていない状態を示し、図6(b)は処理液の漏洩が生じた状態を示している。

0044

この第4実施形態に係る漏洩検出部40は、処理液の流路が形成された中空状部材61と、この中空状部材61内を処理液の流れの方向に沿って往復移動可能な可動部材64と、可動部材64の位置を検出する投光部51および受光部52より成るセンサ53とを備える。

0045

上記中空状部材61は、その下端部に配置された処理液の入口となる開口部65と、移動領域62と、退避領域63と、その側部に配置された処理液の出口となる開口部66とから構成される。移動領域62は、中空状部材61のうち、処理液の流路の断面積から可動部材64の断面積を減算した開度が一定となる領域である。また、退避領域63は、中空状部材61のうち、可動部材64が処理液の流路より退避する領域である。

0046

なお、図6においては図示を省略しているが、退避領域63には、処理開始時に中空状部材41内を処理液で充満させるための処理液の供給管路が接続されている。

0047

また、上記可動部材64は、その直径が移動領域62の内径よりわずかに小さい球状の形状を有し、中空状部材61内を流れる処理液より比重の大きい材質から構成される。そして、上記投光部51および受光部52より成るセンサ53は、可動部材64が移動領域62の下端部にあるか否かを検出するように構成されている。

0048

以上のような構成を有する第4実施形態に係る基板処理装置の漏洩検出部40においては、開閉バルブ23が閉止しており、処理液が開閉バルブ23において遮断されているときには、可動部材64の比重が処理液より大きいことから、図6(a)に示すように、可動部材64は中空状部材61における移動領域62の下端部に配置されている。このときには、図6(a)において矢印で示すように、センサ53における投光部51から照射された光が可動部材64により遮断され、受光部52には到達しない。図2に示す制御部50は、開閉バルブ23が閉止されており、かつ、センサ53が可動部材64を検出している(すなわち、投光部51からの光が受光部52に到達していない)状態においては、処理液の漏洩が生じていないものと判断する。

0049

一方、開閉バルブ23の閉止中に漏洩が生じた場合には、処理液が中空状部材61における開口部65から中空状部材61内に流入する。そして、この処理液の流れにより、可動部材64が図6(a)に示す中空状部材61における移動領域62の下端部から上方に浮上する。すなわち、移動領域62においては、処理液の流路の断面積から可動部材64の断面積を減算した開度が極めて小さいことから、小さい流量の処理液が中空状部材41内に流入した場合においても、可動部材64が上方に浮上することになる。

0050

可動部材64が浮上した場合においては、センサ53における投光部51から照射された光が、可動部材64により遮断されることなく、そのまま受光部52に到達する。制御部50は、開閉バルブ23が閉止されており、かつ、センサ53が可動部材64を検出していない(すなわち、投光部51からの光が受光部52に到達している)状態においては、処理液の漏洩が生じたものと判断する。そして、制御部50は、警告表示部59に対して、警告表示を行うための信号を送信する。

0051

処理液ノズル15から基板100に処理液を供給するために開閉バルブ23が開放されている状態においては、多量の処理液が中空状部材61に流入する。このときには、図6(b)に示すように、可動部材64は、移動領域62から退避領域63まで浮上する。これにより、可動部材64が処理液の流路より退避することになり、可動部材64が処理液の供給に支障をきたすことはない。

0052

なお、この第4実施形態に係る基板処理装置の漏洩検出部40において、上述した第1実施形態と第2実施形態との関係のようにセンサ53の配置を変更する構成や、第1実施形態と第3実施形態との関係のように上下関係を逆とする構成を採用してもよい。

0053

上述した実施形態においては、いずれも、基板処理装置に使用される流体としての処理液にこの発明を適用した場合について説明したが、その他の液体にこの発明を適用してもよい。また、基板の乾燥に使用する不活性ガスやドライエア等の気体に、この発明を適用してもよい。

0054

また、上述した実施形態においては、いずれも、可動部材44、64として球状のものを使用しているが、円錐状や円柱状のものを使用してもよい。

0055

また、上述した実施形態においては、いずれも、センサ53として透過型のものを使用しているが、反射型のものを使用してもよい。また、センサ53としては、光学式のものに限らず、静電容量により可動部材44、64の位置を識別するセンサ等、その他の方式のセンサを使用してもよい。

0056

上述した第1実施形態〜第3実施形態においては、移動領域42として、処理液の流路の断面積から可動部材44の断面積を減算した開度が、処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなる形状のものを採用しているが、この開度が一定である形状が筒状の移動領域を採用してもよい。この場合においては、必要に応じ、可動部材44に対して補助部材付設することにより、開放領域43から移動領域に対して可動部材44を案内すればよい。

0057

また、上述した第1実施形態〜第3実施形態においては、開放領域43として、処理液の流路の上流側から下流側まで一定の断面積を有するものを採用しているが、処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって断面積が増加していてもよい。この開放領域43は、移動領域42と比較して、開度の変化量が有意に増大していればよい。

0058

上述した第4実施形態においては、移動領域62として、開度が一定であるものを採用しているが、この移動領域62として、開度が処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなる形状のものを採用してもよい。

0059

12スピンチャック
15処理液ノズル
20処理液供給機構
23開閉バルブ
26処理液配管
27 処理液配管
40漏洩検出部
41中空状部材
42 移動領域
43開放領域
44可動部材
45 開口部
46 開口部
50 制御部
51投光部
52受光部
53センサ
59警告表示部
61 中空状部材
62 移動領域
63退避領域
64 可動部材
65 開口部
66 開口部
100 基板

ページトップへ

この技術を出願した法人

この技術を発明した人物

ページトップへ

関連する挑戦したい社会課題

関連する公募課題

ページトップへ

おススメ サービス

おススメ astavisionコンテンツ

新着 最近 公開された関連が強い技術

この 技術と関連性が強い人物

関連性が強い人物一覧

この 技術と関連する社会課題

関連する挑戦したい社会課題一覧

この 技術と関連する公募課題

関連する公募課題一覧

astavision 新着記事

サイト情報について

本サービスは、国が公開している情報(公開特許公報、特許整理標準化データ等)を元に構成されています。出典元のデータには一部間違いやノイズがあり、情報の正確さについては保証致しかねます。また一時的に、各データの収録範囲や更新周期によって、一部の情報が正しく表示されないことがございます。当サイトの情報を元にした諸問題、不利益等について当方は何ら責任を負いかねることを予めご承知おきのほど宜しくお願い申し上げます。

主たる情報の出典

特許情報…特許整理標準化データ(XML編)、公開特許公報、特許公報、審決公報、Patent Map Guidance System データ