図面 (/)

技術 レンツトレハロースAの製造方法、並びに前記製造方法に有用な化合物及びその製造方法

出願人 公益財団法人微生物化学研究会
発明者 渡邊匠和田俊一五十嵐雅之張明
出願日 2015年7月30日 (4年7ヶ月経過) 出願番号 2015-150626
公開日 2017年1月5日 (3年2ヶ月経過) 公開番号 2017-002024
状態 特許登録済
技術分野 有機低分子化合物及びその製造 触媒を使用する低分子有機合成反応 糖類化合物
主要キーワード 紫外分光法 ジヒドロキシ化 補正収率 保護体 体重増加抑制作用 エポキシド開 骨強化作用 保護処理
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(2017年1月5日)のものです。
また、この項目は機械的に抽出しているため、正しく解析できていない場合があります

図面 (0)

図面はありません

課題

効率良くレンツトレハロースAを製造することができるレンツトレハロースAの製造方法、並びに前記レンツトレハロースAの製造に有用な中間体、及びその製造方法を提供すること。

解決手段

トレハロースにベンジル基を導入し、構造式4aで表される化合物及び構造式4a’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、構造式4aで表される化合物及び構造式4a’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化し、構造式3aで表される化合物及び構造式3a’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、構造式3aで表される化合物及び構造式3a’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化し、構造式2aで表される化合物及び構造式2a’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、構造式2aで表される化合物及び構造式2a’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、構造式(1)で表される化合物を製造する工程とを含む構造式(1)で表される化合物の製造方法などである。

概要

背景

レンツトレハロースAは、優れた抗腫瘍作用骨強化作用、若しくは体重増加抑制作用を有し、甘味料としても利用可能な非常に有用な化合物である(特許文献1、非特許文献1参照)。

従来、前記レンツトレハロースAは、微生物による生合成により生産されてきた。しかしながら、その生産量は十分とはいえず、合成方法の更なる改良が求められているのが現状である。

概要

効率良くレンツトレハロースAを製造することができるレンツトレハロースAの製造方法、並びに前記レンツトレハロースAの製造に有用な中間体、及びその製造方法を提供すること。トレハロースにベンジル基を導入し、構造式4aで表される化合物及び構造式4a’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、構造式4aで表される化合物及び構造式4a’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化し、構造式3aで表される化合物及び構造式3a’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、構造式3aで表される化合物及び構造式3a’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化し、構造式2aで表される化合物及び構造式2a’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、構造式2aで表される化合物及び構造式2a’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、構造式(1)で表される化合物を製造する工程とを含む構造式(1)で表される化合物の製造方法などである。なし

目的

本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
0件

この技術が所属する分野

ライセンス契約や譲渡などの可能性がある特許掲載中! 開放特許随時追加・更新中 詳しくはこちら

請求項1

下記構造式(1)で表される化合物の製造方法であって、トレハロースベンジル基を導入し、下記構造式4aで表される化合物及び下記構造式4a’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、下記構造式4aで表される化合物及び下記構造式4a’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化し、下記構造式3aで表される化合物及び下記構造式3a’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、下記構造式3aで表される化合物及び下記構造式3a’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化し、下記構造式2aで表される化合物及び下記構造式2a’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、下記構造式2aで表される化合物及び下記構造式2a’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、下記構造式(1)で表される化合物を製造する工程とを含むことを特徴とする方法。ただし、前記構造式4a、前記構造式4a’、前記構造式3a、前記構造式3a’、前記構造式2a、及び前記構造式2a’中、Bnはベンジル基を表わす。

請求項2

下記構造式(1)で表される化合物の製造方法であって、トレハロースにベンジル基を導入し、下記構造式4a’で表される化合物を製造する工程と、下記構造式4a’で表される化合物と、下記構造式Iで表されるエポキシドとを反応させ、下記構造式2a’’で表される化合物を製造する工程と、下記構造式2a’’で表される化合物をパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、下記構造式(1)で表される化合物を製造する工程とを含むことを特徴とする方法。ただし、前記構造式4a’、前記構造式I、及び前記構造式2a’’中、Bnはベンジル基を表わす。

請求項3

下記構造式(1)で表される化合物の製造方法であって、下記構造式2aで表される化合物、下記構造式2a’で表される化合物、及び下記構造式2a’’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させる工程を含むことを特徴とする方法。ただし、前記構造式2a、前記構造式2a’、及び前記構造式2a’’中、Bnはベンジル基を表わす。

請求項4

下記構造式2aで表される化合物及び下記構造式2a’で表される化合物の少なくともいずれかの製造方法であって、下記構造式3aで表される化合物及び下記構造式3a’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化する工程を含むことを特徴とする方法。ただし、前記構造式2a、前記構造式2a’、前記構造式3a、及び前記構造式3a’中、Bnはベンジル基を表わす。

請求項5

下記構造式2a’’で表される化合物の製造方法であって、下記構造式4a’で表される化合物と、下記構造式Iで表されるエポキシドとを反応させる工程を含むことを特徴とする方法。ただし、前記構造式2a’’、前記構造式4a’、及び前記構造式I中、Bnはベンジル基を表わす。

請求項6

下記構造式3a及び下記構造式3a’のいずれかで表される化合物の製造方法であって、下記構造式4aで表される化合物及び下記構造式4a’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化する工程を含むことを特徴とする方法。ただし、前記構造式3a、前記構造式3a’、前記構造式4a、及び前記構造式4a’中、Bnはベンジル基を表わす。

請求項7

下記構造式4a及び下記構造式4a’のいずれかで表される化合物の製造方法であって、トレハロースにベンジル基を導入する工程を含むことを特徴とする方法。ただし、前記構造式4a及び前記構造式4a’中、Bnはベンジル基を表わす。

請求項8

下記構造式2a、下記構造式2a’、及び下記構造式2a’’のいずれかで表されることを特徴とする化合物。ただし、前記構造式2a、前記構造式2a’、及び前記構造式2a’’中、Bnはベンジル基を表わす。

請求項9

下記構造式3a及び下記構造式3a’のいずれかで表されることを特徴とする化合物。ただし、前記構造式3a及び前記構造式3a’中、Bnはベンジル基を表わす。

請求項10

下記構造式4a及び下記構造式4a’のいずれかで表されることを特徴とする化合物。ただし、前記構造式4a及び前記構造式4a’中、Bnはベンジル基を表わす。

技術分野

0001

本発明は、下記構造式(1)で表される化合物(以下、「レンツトレハロースA」と称することがある)の製造方法、並びに前記レンツトレハロースAの製造方法に有用な化合物及びその製造方法に関する。

背景技術

0002

レンツトレハロースAは、優れた抗腫瘍作用骨強化作用、若しくは体重増加抑制作用を有し、甘味料としても利用可能な非常に有用な化合物である(特許文献1、非特許文献1参照)。

0003

従来、前記レンツトレハロースAは、微生物による生合成により生産されてきた。しかしながら、その生産量は十分とはいえず、合成方法の更なる改良が求められているのが現状である。

0004

特開2014−227404号公報

先行技術

0005

Wada S et al, Structure and biological properties of lentztrehalose: a novel trehalose analog, J Antibiot (Tokyo). 2014 Apr;67(4):319−22

発明が解決しようとする課題

0006

本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、効率良くレンツトレハロースAを製造することができるレンツトレハロースAの製造方法、並びに前記レンツトレハロースAの製造に有用な中間体、及びその製造方法を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

0007

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
<1> 下記構造式(1)で表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入し、下記構造式4aで表される化合物及び下記構造式4a’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式4aで表される化合物及び下記構造式4a’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化し、下記構造式3aで表される化合物及び下記構造式3a’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式3aで表される化合物及び下記構造式3a’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化し、下記構造式2aで表される化合物及び下記構造式2a’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式2aで表される化合物及び下記構造式2a’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、下記構造式(1)で表される化合物を製造する工程とを含むことを特徴とする方法である。





















ただし、前記構造式4a、前記構造式4a’、前記構造式3a、前記構造式3a’、前記構造式2a、及び前記構造式2a’中、Bnはベンジル基を表わす。
<2> 下記構造式(1)で表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入し、下記構造式4a’で表される化合物を製造する工程と、
下記構造式4a’で表される化合物と、下記構造式Iで表されるエポキシドとを反応させ、下記構造式2a’’で表される化合物を製造する工程と、
下記構造式2a’’で表される化合物をパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、下記構造式(1)で表される化合物を製造する工程とを含むことを特徴とする方法である。












ただし、前記構造式4a’、前記構造式I、及び前記構造式2a’’中、Bnはベンジル基を表わす。
<3> 下記構造式(1)で表される化合物の製造方法であって、
下記構造式2aで表される化合物、下記構造式2a’で表される化合物、及び下記構造式2a’’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させる工程を含むことを特徴とする方法である。












ただし、前記構造式2a、前記構造式2a’、及び前記構造式2a’’中、Bnはベンジル基を表わす。
<4> 下記構造式2aで表される化合物及び下記構造式2a’で表される化合物の少なくともいずれかの製造方法であって、
下記構造式3aで表される化合物及び下記構造式3a’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化する工程を含むことを特徴とする方法である。












ただし、前記構造式2a、前記構造式2a’、前記構造式3a、及び前記構造式3a’中、Bnはベンジル基を表わす。
<5> 下記構造式2a’’で表される化合物の製造方法であって、
下記構造式4a’で表される化合物と、下記構造式Iで表されるエポキシドとを反応させる工程を含むことを特徴とする方法である。









ただし、前記構造式2a’’、前記構造式4a’、及び前記構造式I中、Bnはベンジル基を表わす。
<6> 下記構造式3a及び下記構造式3a’のいずれかで表される化合物の製造方法であって、
下記構造式4aで表される化合物及び下記構造式4a’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化する工程を含むことを特徴とする方法である。












ただし、前記構造式3a、前記構造式3a’、前記構造式4a、及び前記構造式4a’中、Bnはベンジル基を表わす。
<7> 下記構造式4a及び下記構造式4a’のいずれかで表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入する工程を含むことを特徴とする方法である。






ただし、前記構造式4a及び前記構造式4a’中、Bnはベンジル基を表わす。
<8> 下記構造式2a、下記構造式2a’、及び下記構造式2a’’のいずれかで表されることを特徴とする化合物である。









ただし、前記構造式2a、前記構造式2a’、及び前記構造式2a’’中、Bnはベンジル基を表わす。
<9> 下記構造式3a及び下記構造式3a’のいずれかで表されることを特徴とする化合物である。






ただし、前記構造式3a及び前記構造式3a’中、Bnはベンジル基を表わす。
<10> 下記構造式4a及び下記構造式4a’のいずれかで表されることを特徴とする化合物である。






ただし、前記構造式4a及び前記構造式4a’中、Bnはベンジル基を表わす。

発明の効果

0008

本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、効率良くレンツトレハロースAを製造することができるレンツトレハロースAの製造方法、並びに前記レンツトレハロースAの製造に有用な中間体、及びその製造方法を提供することができる。

0009

(構造式4a及び構造式4a’のいずれかで表される化合物、並びにその製造方法)
本発明の下記構造式4a及び下記構造式4a’のいずれかで表される化合物は、前記レンツトレハロースAの製造に有用な中間体であり、本発明の下記構造式4a及び下記構造式4a’のいずれかで表される化合物の製造方法により好適に製造することができる。
以下、本発明の下記構造式4a及び下記構造式4a’のいずれかで表される化合物の製造方法の説明と併せて、本発明の下記構造式4a及び下記構造式4a’のいずれかで表される化合物についても説明する。






ただし、前記構造式4a及び前記構造式4a’中、Bnはベンジル基を表わす。

0010

<構造式4a及び構造式4a’のいずれかで表される化合物の製造方法>
前記構造式4a及び構造式4a’のいずれかで表される化合物の製造方法は、ベンジル基導入工程を少なくとも含み、必要に応じて更にその他の工程を含む。

0011

−ベンジル基導入工程−
前記ベンジル基導入工程は、トレハロースにベンジル基を導入し、前記構造式4a及び構造式4a’のいずれかで表される化合物を製造する工程である。

0012

前記ベンジル基導入工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ベンジリデン保護処理及びベンジル基(以下、「Bn」と称することがある)保護処理を行った後、アセタール位置選択的開裂処理を行うことが好ましい。

0013

前記ベンジリデン保護処理に用いる化合物及びその量、反応条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記構造式4aで表される化合物を主生成物として製造する場合には、前記トレハロース(6.80mmol)、ベンズアルデヒドジメチルアセタール(1当量)、及びパラトルエンスルホン酸(5mol%)をジメチルホルムアミドに溶解し、100℃に加熱後、160mmHgの減圧下で8時間撹拌し、更にベンズアルデヒドジメチルアセタール(1当量)を加え、160mmHgの減圧下で1時間撹拌し、更にベンズアルデヒドジメチルアセタール(0.25当量)を加え、160mmHgの減圧下で4時間撹拌する処理などが挙げられる。

0014

また、例えば、前記構造式4a’で表される化合物を主生成物として製造する場合には、前記トレハロース(10.4mmol)、ベンズアルデヒドジメチルアセタール(1.25当量)、及びパラトルエンスルホン酸(5.0mol%)をジメチルホルムアミドに溶解し、240mmHgの減圧下で20時間撹拌する処理などが挙げられる。

0015

前記Bn保護処理に用いる化合物及びその量、反応条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記構造式4aで表される化合物を主生成物として製造する場合には、前記ベンジリデン保護処理後の生成物テトラヒドロフランに溶解し、水素化ナトリウム(10当量)、ヨウ化テトラブチルアンモニウム(7mol%)、臭化ベンジル(6当量)を氷冷下順次加え、室温下で45時間撹拌する処理などが挙げられる。

0016

また、例えば、前記構造式4a’で表される化合物を主生成物として製造する場合には、前記ベンジリデン保護処理を行った混合溶液に、水素化ナトリウム(15当量)、ヨウ化テトラブチルアンモニウム(7mol%)、臭化ベンジル(9当量)を氷冷下順次加え、室温下で12時間撹拌する処理などが挙げられる。

0017

前記アセタールの位置選択的開裂処理に用いる化合物及びその量、反応条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記構造式4aで表される化合物を主生成物として製造する場合には、前記Bn保護処理の生成物を塩化メチレンに溶解し、0℃にてトリエチルシラン(15当量)とトリフルオロ酢酸(15当量)とを加えそのまま3時間撹拌する処理などが挙げられる。

0018

また、例えば、前記構造式4a’で表される化合物を主生成物として製造する場合には、前記Bn保護処理の生成物を塩化メチレンに溶解し、0℃にてトリエチルシラン(7.5当量)とトリフルオロ酢酸(7.5当量)とを加えそのまま2.5時間撹拌する処理などが挙げられる。

0019

−その他の工程−
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トレハロース調製工程、精製工程などが挙げられる。
前記トレハロースの調製方法としては、特に制限はなく、公知の方法を適宜選択することができる。前記トレハロースは、市販品を使用してもよい。
前記構造式4a及び前記構造式4a’のいずれかで表される化合物を精製する方法としては、特に制限はなく、公知の方法を適宜選択することができる。

0020

<構造式4a及び構造式4a’のいずれかで表される化合物>
−構造式4aで表される化合物−
構造式4aで表される化合物の融点比旋光度、1HNMRスペクトル、13C NMRスペクトル、及びHRMS(ESI)分析の結果は以下の通りである。
融点 : 101℃−103℃(dec.)
比旋光度 : [α]25D=79 (c=1.3, CHCl3)
1H NMR(400MHz, CDCl3) : δ7.38−7.33(m, 8H), 7.30−7.23(m, 22H), 5.23(d, J=3.6Hz, 2H), 5.00(d, J=11.4Hz, 2H), 4.79(d, J=11.4Hz, 2H), 4.69 (d, J= 12.1Hz, 2H), 4.63(d, J=12.1Hz, 2H), 4.50(d, J=12.1Hz, 2H), 4.44(d, J=12.1Hz, 2H), 4.13−4.10(m, 2H), 3.87(t, J=9.6Hz, 2H), 3.59(t, J=9.6Hz, 2H), 3.56(dd, J=9.6Hz, J=3.6Hz, 2H), 3.53−3.45(m, 4H), 2.38(bs, 2H)
13C NMR(100MHz, CDCl3) : δ138.9, 138.1, 138.0, 128.7, 128.5, 128.5, 128.1, 127.9, 127.8, 127.8, 127.6, 94.3, 81.1, 79.0, 75.4, 73.7, 72.5, 70.8, 70.7, 69.3
HRMS(ESI)分析 : calcd. for C54H58O11K m/z 921.3611 [M+K]+, found 921.3598

0021

−構造式4a’で表される化合物−
構造式4a’で表される化合物の比旋光度、1HNMRスペクトル、13C NMRスペクトル、及びHRMS(ESI)分析の結果は以下の通りである。
比旋光度 : [α]25D=88(c=1.0, CHCl3)
1H NMR(400MHz, CDCl3) : δ7.37−7.20(m, 33H), 7.13−7.11(m, 2H), 5.24(d, J=3.4Hz, 1H), 5.23(d, J=3.4Hz, 1H), 5.00(d, J=11.4Hz, 1H), 4.99(d, J=11.0Hz, 1H), 4.86(d, J=11.0Hz, 1H), 4.81(d, J=10.5Hz, 1H), 4.79(d, J=11.4Hz, 1H), 4.71−4.64(m, 4H), 4.54(d, J=12.4Hz, 1H), 4.50(d, J=12.4Hz, 1H), 4.45(d, J=10.5Hz, 1H), 4.43(d, J=12.4Hz, 1H), 4.37(d, J=12.4Hz, 1H), 4.17−4.11(m, 2H), 4.03(t, J=9.4Hz, 1H), 3.87(t, J=9.4Hz, 1H), 3.68(t, J=9.6Hz, 2H), 3.59(dd, J=9.6Hz, J=3.2Hz, 1H), 3.56(dd, J=9.8Hz, J=3.4Hz, 1H), 3.53−3.44(m, 3H), 3.36(d, J=10.1Hz, 1H), 2.38(d, J=2.3Hz, 1H)
13C NMR(100MHz, CDCl3) : δ138.9, 138.9, 138.4, 138.2, 138.1, 138.0, 137.9, 128.6, 128.5, 128.4, 128.1, 128.0, 128.0, 127.8, 127.8, 127.8, 127.7, 127,7, 127.6, 127.6, 127.4, 94.5, 94.4, 81.9, 81.1, 79.4, 79.1, 77.7, 75.7, 75.4, 75.2, 73.7, 73.6, 72.8, 72.5, 70.9, 70.7, 70.6, 69.2, 68.2
HRMS(ESI)分析 : calcd. for C61H64O11K m/z 1101.4080 [M+K]+, found 1101.4067

0022

化合物が、前記構造式4a若しくは前記構造式4a’で表される構造を有するか否かは、適宜選択した各種の分析方法により確認することができ、例えば、質量分析法紫外分光法赤外分光法プロトン核磁気共鳴分光法炭素13核磁気共鳴分光法等の分析方法などが挙げられる。なお、前記各分析方法による測定値には、多少の誤差が生じることがあるが、当業者であれば、化合物が前記構造式4a若しくは前記構造式4a’で表される構造を有することは容易に同定することが可能である。

0023

(構造式3a及び構造式3a’のいずれかで表される化合物、並びにその製造方法)
本発明の下記構造式3a及び下記構造式3a’のいずれかで表される化合物は、前記レンツトレハロースAの製造に有用な中間体であり、本発明の下記構造式3a及び下記構造式3a’のいずれかで表される化合物の製造方法により好適に製造することができる。
以下、本発明の下記構造式3a及び下記構造式3a’のいずれかで表される化合物の製造方法の説明と併せて、本発明の下記構造式3a及び下記構造式3a’のいずれかで表される化合物についても説明する。






ただし、前記構造式3a及び前記構造式3a’中、Bnはベンジル基を表わす。

0024

<構造式3a及び構造式3a’のいずれかで表される化合物の製造方法>
前記構造式3a及び前記構造式3a’のいずれかで表される化合物の製造方法は、プレニル化工程を少なくとも含み、必要に応じて更にその他の工程を含む。

0025

−プレニル化工程−
前記プレニル化工程は、前記構造式4aで表される化合物及び前記構造式4a’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化し、前記構造式3a及び前記構造式3a’のいずれかで表される化合物を製造する工程である。

0026

前記プレニル化に用いる化合物及びその量、反応条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記構造式3aで表される化合物を製造する場合には、前記構造式4aで表される化合物(0.119mmol)をジメチルホルムアミドに溶解し、水素化ナトリウム(2.5当量)、ヨウ化テトラブチルアンモニウム(5mol%)、臭化プレニル(1.1当量)を氷冷下順次加え、室温で12時間撹拌する方法などが挙げられる。

0027

また、例えば、前記構造式3a’で表される化合物を製造する場合には、前記構造式4a’で表される化合物(0.109mmol)をジメチルホルムアミドに溶解し、ヨウ化テトラブチルアンモニウム(10mol%)、水素化ナトリウム(2当量)、臭化プレニル(5当量)を氷冷下順次加え、室温で12時間撹拌する方法などが挙げられる。

0028

−その他の工程−
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、上述した前記構造式4aで表される化合物及び前記構造式4a’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程、精製工程などが挙げられる。
前記構造式3a及び前記構造式3a’のいずれかで表される化合物を精製する方法としては、特に制限はなく、公知の方法を適宜選択することができる。

0029

<構造式3a及び構造式3a’のいずれかで表される化合物>
−構造式3aで表される化合物−
構造式3aで表される化合物の比旋光度、1HNMRスペクトル、13C NMRスペクトル、及びHRMS(ESI)分析の結果は以下の通りである。
比旋光度 : [α]25D=88(c=1.0, CHCl3)
1H NMR(400MHz, CDCl3) : δ7.31−7.12(m, 30H), 5.19−5.16(m, 1H), 5.13(bs, 2H), 4.93(d, J=11.2Hz, 1H), 4.90(d, J=11.2Hz, 1H), 4.79(d, J=11.2Hz, 1H), 4.70(d, J=11.2Hz, 1H), 4.62−4.54(m, 4H), 4.47(d, J=12.2Hz, 1H), 4.41(d, J=12.2Hz, 1H), 4.36(d, J=12.2Hz, 1H), 4.34(d, J=12.2Hz, 1H), 4.24−4.19(m, 1H), 4.08−4.03(m, 2H), 3.95−3.88(m, 2H), 3.77(t, J=9.4Hz, 1H), 3.59(t, J=9.4Hz, 1H), 3.48−3.39(m, 5H), 3.37−3.12(m, 2H), 2.30(bs, 1H), 1.62(s, 3H), 1.46(s, 3H)
13C NMR(100MHz, CDCl3) : δ139.0, 138.9, 138.3, 138.1, 138.0, 138.0, 137.1, 128.6, 128.4, 128.0, 127.9, 127.9, 127.8, 127.7, 127.6, 127.6, 127.6, 127.5, 121.2, 94.7, 94.6, 81.8, 81.3, 79.3, 79.0, 75.6, 75.5, 73.6, 73.6, 72.8, 72.4, 70.9, 70.8, 70.5, 69.7, 69.2, 68.4, 25.9, 18.0
HRMS(ESI)分析 : calcd. for C59H66O11K m/z 989.4237 [M+K]+, found 989.4210

0030

−構造式3a’で表される化合物−
構造式3a’で表される化合物の比旋光度、1HNMRスペクトル、13C NMRスペクトル、及びHRMS(ESI)分析の結果は以下の通りである。
比旋光度 : [α]25D=87(c=1.6, CHCl3)
1H NMR(400MHz, CDCl3) : δ7.38−7.20(m, 33H), 7.12−7.09(m, 2H), 5.26−5.24(m, 1H), 5.21−5.20(m, 2H), 4.99(d, J=10.8Hz, 1H), 4.97(d, J=11.0Hz, 1H), 4.86(d, J=10.8Hz, 1H), 4.84(d, J=11.0Hz, 1H), 4.80(d, J=10.5Hz, 1H), 4.70−4.62(m, 4H), 4.56(d, J=12.1Hz, 1H), 4.54(d, J=12.2Hz, 1H), 4.44(d, J=12.1Hz, 1H), 4.43(d, J=10.5Hz, 1H), 4.35(d, J=12.2Hz, 1H), 4.33−4.27(m, 1H), 4.17−4.13(m, 2H), 3.99(t, J=9.4Hz, 2H), 3.96(t, J=9.4Hz, 1H), 3.69−3.65(m, 1H), 3.58−3.47(m, 5H), 3.41(d, J=10.8Hz, 1H), 3.33(d, J=10.8Hz, 1H), 1.69(s, 3H), 1.53(s, 3H)
13C NMR(100MHz, CDCl3) : δ139.1, 139.0, 138.4, 138.4, 138.3, 138.0, 138.0, 137.2, 128.5, 128.5, 128.4, 128.4, 128.1, 128.1, 128.0, 128.0, 127.8, 127.7, 127.6, 127.6, 127.6, 127.5, 121.3, 94.8, 82.0, 81.8, 79.4, 79.4, 77.7, 77.5, 77.4, 75.8, 75.7, 75.2, 73.6, 72.8, 72.7, 70.8, 70.6, 69.7, 68.4, 68.1, 25.9, 18.1
HRMS(ESI)分析 : calcd. for C66H72O11Na m/z 1063.4967 [M+Na]+, found 1063.4945

0031

化合物が、前記構造式3a若しくは前記構造式3a’で表される構造を有するか否かは、適宜選択した各種の分析方法により確認することができ、例えば、質量分析法、紫外分光法、赤外分光法、プロトン核磁気共鳴分光法、炭素13核磁気共鳴分光法等の分析方法などが挙げられる。なお、前記各分析方法による測定値には、多少の誤差が生じることがあるが、当業者であれば、化合物が前記構造式3a若しくは前記構造式3a’で表される構造を有することは容易に同定することが可能である。

0032

(構造式2a、構造式2a’、及び構造式2a’’のいずれかで表される化合物、並びにその製造方法)
本発明の下記構造式2a、下記構造式2a’、及び下記構造式2a’’のいずれかで表される化合物は、前記レンツトレハロースAの製造に有用な中間体であり、本発明の、下記構造式2aで表される化合物及び下記構造式2a’で表される化合物の少なくともいずれかの製造方法、若しくは下記構造式2a’’で表される化合物の製造方法により好適に製造することができる。
以下、本発明の下記構造式2aで表される化合物及び下記構造式2a’で表される化合物の少なくともいずれかの製造方法、並びに下記構造式2a’’で表される化合物の製造方法の説明と併せて、本発明の下記構造式2a、下記構造式2a’、及び下記構造式2a’’のいずれかで表される化合物についても説明する。









ただし、前記構造式2a、前記構造式2a’、及び前記構造式2a’’中、Bnはベンジル基を表わす。

0033

<構造式2a及び構造式2a’のいずれかで表される化合物の製造方法>
前記構造式2a及び構造式2a’のいずれかで表される化合物の製造方法は、シャープレス不斉ジヒドロキシ化工程を少なくとも含み、必要に応じて更にその他の工程を含む。

0034

−シャープレス不斉ジヒドロキシ化工程−
前記シャープレス不斉ジヒドロキシ化工程は、前記構造式3aで表される化合物及び前記構造式3a’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化し、前記構造式2a及び前記構造式2a’のいずれかで表される化合物を製造する工程である。

0035

前記シャープレス不斉ジヒドロキシ化に用いる化合物及びその量、反応条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記構造式2aで表される化合物を製造する場合には、前記構造式3aで表される化合物(45μmol)をt−ブタノール、水、アセトン混合溶媒(1:1:1)に溶解し、AD−mix−α(118mg)、ビスジヒドロキニニルフタラジン(0.25当量)、及びメタンスルホンアミド(2当量)と共に0℃にて66時間撹拌する方法などが挙げられる。

0036

また、例えば、前記構造式2a’で表される化合物を製造する場合には、前記構造式3a’で表される化合物(45μmol)をt−ブタノール、水、アセトンの混合溶媒(1:1:1)に溶解し、AD−mix−α(124mg)、ビス(ジヒドロキニニル)フタラジン(0.25当量)、及びメタンスルホンアミド(2当量)と共に0℃にて72時間撹拌する方法などが挙げられる。

0037

−その他の工程−
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、上述した前記構造式3aで表される化合物及び前記構造式3a’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程、精製工程などが挙げられる。
前記構造式2a及び前記構造式2a’のいずれかで表される化合物を精製する方法としては、特に制限はなく、公知の方法を適宜選択することができる。

0038

<構造式2a及び構造式2a’のいずれかで表される化合物>
−構造式2aで表される化合物−
構造式2aで表される化合物の比旋光度、1HNMRスペクトル、13C NMRスペクトル、及びHRMS(ESI)分析の結果は以下の通りである。
比旋光度 : [α]25D=88(c=1.6, CHCl3)
1H NMR(400MHz, CDCl3) : δ7.40−7.22(m, 30H), 5.22(d, J=3.7Hz, 1H), 5.20(d, J=3.9Hz, 1H), 5.03(d, J=11.2Hz, 1H), 5.02(d, J=11.0Hz, 1H), 4.83(d, J=11.2Hz, 1H), 4.78(d, J=11.0Hz, 1H), 4.70(d, J=11.9Hz, 1H), 4.70−4.66(m, 2H), 4.62(d, J=11.9Hz, 1H), 4.52(d, J=12.1Hz, 1H), 4.51(d, J=12.1Hz, 1H), 4.44(d, J=12.1Hz, 1H), 4.40(d, J=12.1Hz, 1H), 4.12(br dt, J=9.8Hz, 3.4Hz, 1H), 4.04(br dt, J=10.0Hz, 2.5Hz, 1H), 3.95−3.92(m, 1H), 3.90−3.87(m, 1H), 3.83(dd, J=10.0Hz, 2.3Hz, 1H), 3.73−3.67(m, 1H), 3.60−3.56(m, 2H), 3.55−3.53(m, 1H), 3.51−3.47(m, 3H), 3.44−3.39(m, 2H), 3.33(dd, J=11.0Hz, 2.1Hz, 1H), 3.00(d, J=3.9Hz, 1H), 2.44(d, J=2.5Hz, 1H), 2.42(bs, 1H), 1.10(s, 3H), 0.99(s, 3H)
13C NMR(100MHz, CDCl3) : δ138.8, 138.5, 138.1, 138.0, 137.6, 128.7, 128.5, 128.5, 128.5, 128.1, 128.0, 127.9, 127.9, 127.8, 127.8, 127.8, 127.6, 127.4, 94.4, 94.2, 81.3, 81.2, 79.6, 79.2, 78.1, 76.3, 75.7, 75.4, 73.8, 73.7, 73.7, 72.7, 72.7, 71.3, 70.9, 70.7, 70.6, 69.3, 68.5, 26.6, 24.6
HRMS(ESI)分析 : calcd. for C59H68O13Na m/z 1007.4552 [M+Na]+, found 1007.4525

0039

−構造式2a’で表される化合物−
構造式2a’で表される化合物の1HNMRスペクトル、13C NMRスペクトル、及びHRMS(ESI)分析の結果は以下の通りである。
1H NMR(400MHz, CDCl3) : δ7.38−7.13(m, 33H), 7.12−7.09(m, 2H), 5.20(d, J=3.4Hz, 1H), 5.19(d, J=3.4Hz, 1H), 5.02(d, J=10.8Hz, 1H), 5.01(d, J=10.8Hz, 1H), 4.89(d, J=10.8Hz, 1H), 4.81(d, J=10.5Hz, 1H), 4.77(d, J=10.8Hz, 1H), 4.72(d, J=12.1Hz, 1H), 4.68−4.61(m, 2H), 4.64(d, J=12.1Hz, 1H), 4.54(d, J=12.1Hz, 1H), 4.53(d, J=12.1Hz, 1H), 4.45(d, J=10.5Hz, 1H), 4.40(d, J=12.1Hz, 1H), 4.37(d, J=12.1Hz, 1H), 4.15(br dt, J=9.8Hz, 3.4Hz, 1H), 4.14−06(m, 2H), 3.91(t, J=9.4Hz, 1H), 3.82(dd, J=9.4Hz, 2.3Hz, 1H), 3.69(t, J=9.4Hz, 1H), 3.60(dd, J=9.6Hz, 3.4Hz, 1H), 3.54(dd, J=9.4Hz, 3.6Hz, 1H), 3.52(dd, J=9.4Hz, 3.6Hz, 1H), 3.49(dd, J=9.6Hz, 8.0Hz, 2H), 3.44−3.41(m, 1H), 3.41−3.39(m, 1H), 3.37(dd, J=10.8Hz, 1.8Hz, 1H), 3.32(dd, J=10.8Hz, 2.3Hz, 1H), 3.00(d, J=3.9Hz, 1H), 2.40(s, 1H), 1.10(s, 3H), 0.98(s, 3H)
13C NMR(100MHz, CDCl3) : δ138.9, 138.6, 138.4, 138.3, 138.1, 137.9, 137.7, 128.5, 128.5, 128.5, 128.1, 128.1, 128.0, 127.9, 127.9, 127.8, 127.8, 127.8, 127.8, 127.7, 127.5, 127.5, 94.6, 94.4, 82.0, 81.3, 79.6, 79.6, 78.2, 77.8, 76.3, 75.7, 75.7, 75.3, 73.8, 73.7, 73.6, 73.0, 72.6, 71.3, 70.8, 70.5, 68.5, 68.2, 26.6, 24.6
HRMS(ESI)分析 : calcd. for C66H74O13Na m/z 1097.5022 [M+Na]+, found 1097.4999

0040

化合物が、前記構造式2a若しくは前記構造式2a’で表される構造を有するか否かは、適宜選択した各種の分析方法により確認することができ、例えば、質量分析法、紫外分光法、赤外分光法、プロトン核磁気共鳴分光法、炭素13核磁気共鳴分光法等の分析方法などが挙げられる。なお、前記各分析方法による測定値には、多少の誤差が生じることがあるが、当業者であれば、化合物が前記構造式2a若しくは前記構造式2a’で表される構造を有することは容易に同定することが可能である。

0041

<構造式2a’’で表される化合物の製造方法>
前記構造式2a’’で表される化合物の製造方法は、エポキシド開環工程を少なくとも含み、必要に応じて更にその他の工程を含む。

0042

−エポキシド開環工程−
前記エポキシド開環工程は、前記構造式4a’で表される化合物と、下記構造式Iで表されるエポキシドとを反応させ、前記構造式2a’’で表される化合物を製造する工程である。



ただし、前記構造式I中、Bnはベンジル基を表わす。

0043

前記エポキシド開環に用いる化合物及びその量、反応条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記構造式4a’で表される化合物(25.1μmol)をジメチルホルムアミドに溶解し、水素化ナトリウム(2.5当量)、15−crown−5(2.6当量)、前記構造式Iで表されるエポキシド(2.5当量)を氷冷下順次加え、70℃にて18時間撹拌する方法などが挙げられる。

0044

−その他の工程−
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、上述した前記構造式4a’で表される化合物を製造する工程、精製工程などが挙げられる。
前記構造式2a’’で表される化合物を精製する方法としては、特に制限はなく、公知の方法を適宜選択することができる。

0045

<構造式2a’’で表される化合物>
構造式2a’’で表される化合物の1HNMRスペクトル、及びHRMS(ESI)分析の結果は以下の通りである。
1H NMR(400MHz, CDCl3) : δ7.41−7.24(m, 36H), 7.14−7.11(m, 2H), 5.21(d, J=3.4Hz, 2H), 5.02(d, J=11.0Hz, 1H), 5.00(d, J=10.5Hz, 1H), 4.88(d, J=11.0Hz, 1H), 4.87(d, J=10.5Hz, 1H), 4.82(d, J=10.5Hz, 1H), 4.71−4.64(m, 4H), 4.55(d, J=12.1Hz, 1H), 4.49(d, J=11.9Hz, 1H), 4.47(d, J=10.5Hz, 1H), 4.44−4.42(m, 2H), 4.42(d, J=11.9Hz, 1H), 4.37(d, J=12.1Hz, 1H), 4.18−4−4.06(m, 2H), 4.03(t, J=9.4Hz, 1H), 4.00(t, J=9.4Hz, 1H), 3.97−3.93(m, 1H), 3.85(dd, J=10.3Hz, 1.6Hz, 1H), 3.75−3.63(m, 3H), 3.58−3.46(m, 5H), 3.42−3.34(m, 2H), 1.15(s, 3H), 1.11(s, 3H)
HRMS(ESI)分析 : calcd. for C73H80O13Na m/z 1187.5491 [M+Na]+, found 1187.5476

0046

化合物が、前記構造式2a’’で表される構造を有するか否かは、適宜選択した各種の分析方法により確認することができ、例えば、質量分析法、紫外分光法、赤外分光法、プロトン核磁気共鳴分光法、炭素13核磁気共鳴分光法等の分析方法などが挙げられる。なお、前記各分析方法による測定値には、多少の誤差が生じることがあるが、当業者であれば、化合物が前記構造式2a’’で表される構造を有することは容易に同定することが可能である。

0047

(レンツトレハロースAの製造方法)
本発明のレンツトレハロースAの製造方法の態様は、前記構造式2aで表される化合物、前記構造式2a’で表される化合物、及び前記構造式2a’’で表される化合物の少なくともいずれかを出発物質とする態様(以下、「第1の態様」と称することがある)、若しくは前記トレハロースを出発物質とする態様(以下、「第2の態様」と称することがある)である。

0048

<第1の態様>
前記第1の態様は、脱ベンジル基工程を少なくとも含み、必要に応じて更にその他の工程を含む。

0049

−脱ベンジル基工程−
前記脱ベンジル基工程は、前記構造式2aで表される化合物、前記構造式2a’で表される化合物、及び前記構造式2a’’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、レンツトレハロースAを製造する工程である。

0050

前記脱ベンジル基に用いる化合物及びその量、反応条件としては、パラジウム触媒の存在下で水素と反応させる限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記構造式2aで表される化合物を用いる場合には、前記構造式2aで表される化合物(28.4μmol)を2mLのメタノールに溶解し、10%パラジウム炭素(Pd/C)を20mg添加し、水素雰囲気化で24時間撹拌する方法などが挙げられる。

0051

また、例えば、前記構造式2a’で表される化合物を用いる場合には、前記構造式2a’で表される化合物(28.4μmol)を1.5mLのメタノールに溶解し、ここに10% Pd/Cを15mg添加し、水素雰囲気化で24時間撹拌する方法などが挙げられる。

0052

また、例えば、前記構造式2a’’で表される化合物を用いる場合には、前記構造式2a’’で表される化合物(7.29μmol)を1mLのメタノールに溶解し、ここに10% Pd/Cを7.0mg添加し、水素雰囲気化で24時間撹拌する方法などが挙げられる。

0053

−その他の工程−
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、上述した前記構造式2aで表される化合物、前記構造式2a’で表される化合物、及び前記構造式2a’’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程、精製工程などが挙げられる。
前記レンツトレハロースAを精製する方法としては、特に制限はなく、公知の方法を適宜選択することができる。

0054

<第2の態様>
前記第2の態様は、プレニル化工程及びシャープレス不斉ジヒドロキシ化工程を含む態様(以下、「第2の態様−1」と称することがある)、若しくはエポキシド開環工程を含む態様(以下、「第2の態様−2」と称することがある)である。

0055

<<第2の態様−1>>
前記第2の態様−1は、ベンジル基導入工程と、プレニル化工程と、シャープレス不斉ジヒドロキシ化工程と、脱ベンジル基工程とを少なくとも含み、必要に応じて更にその他の工程を含む。

0056

−ベンジル基導入工程−
前記ベンジル基導入工程は、トレハロースにベンジル基を導入し、前記構造式4aで表される化合物及び前記4a’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程であり、上記した<構造式4a及び構造式4a’のいずれかで表される化合物の製造方法>における−ベンジル基導入工程−の項目に記載のものと同様である。

0057

−プレニル化工程−
前記プレニル化工程は、前記構造式4aで表される化合物及び前記構造式4a’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化し、前記構造式3aで表される化合物及び前記構造式3a’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程であり、上記した<構造式3a及び構造式3a’のいずれかで表される化合物の製造方法>における−プレニル化工程−の項目に記載のものと同様である。

0058

−シャープレス不斉ジヒドロキシ化工程−
前記シャープレス不斉ジヒドロキシ化工程は、前記構造式3aで表される化合物及び前記構造式3a’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化し、前記構造式2aで表される化合物及び前記構造式2a’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程であり、上記した<構造式2a及び構造式2a’のいずれかで表される化合物の製造方法>における−シャープレス不斉ジヒドロキシ化工程−の項目に記載のものと同様である。

0059

−脱ベンジル基工程−
前記脱ベンジル基工程は、前記構造式2aで表される化合物及び前記構造式2a’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、前記構造式(1)で表される化合物を製造する工程であり、上記した<第1の態様>における−脱ベンジル基工程−の項目に記載のものと同様である。

0060

−その他の工程−
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トレハロース調製工程、レンツトレハロースA精製工程などが挙げられる。

0061

<<第2の態様−2>>
前記第2の態様−2は、ベンジル基導入工程と、エポキシド開環工程と、脱ベンジル基工程とを少なくとも含み、必要に応じて更にその他の工程を含む。

0062

−ベンジル基導入工程−
前記ベンジル基導入工程は、トレハロースにベンジル基を導入し、前記構造式4a’で表される化合物を製造する工程であり、上記した<構造式4a及び構造式4a’のいずれかで表される化合物の製造方法>における−ベンジル基導入工程−の項目に記載のものと同様である。

0063

−エポキシド開環工程−
前記エポキシド開環工程は、前記構造式4a’で表される化合物と、前記構造式Iで表されるエポキシドとを反応させ、前記構造式2a’’で表される化合物を製造する工程であり、上記した<構造式2a’’で表される化合物の製造方法>の−エポキシド開環工程−の項目に記載のものと同様である。

0064

−脱ベンジル基工程−
前記脱ベンジル基工程は、前記構造式2a’’で表される化合物をパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、前記構造式(1)で表される化合物を製造する工程であり、上記した<第1の態様>における−脱ベンジル基工程−の項目に記載のものと同様である。

0065

−その他の工程−
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トレハロース調製工程、レンツトレハロースA精製工程などが挙げられる。

0066

<構造式(1)で表される化合物>
構造式(1)で表される化合物の1HNMRスペクトル、13C NMRスペクトル、及びHRMS(ESI)分析の結果は以下の通りである。
1H NMR(400MHz, CD3OD) : δ5.10(d, J=3.8Hz, 1H), 5.08(d, J=3.9Hz, 1H), 4.02(dd, J=10.5Hz, 2.7Hz, 1H), 3.90(t, J=9.4Hz, 1H), 3.84(br dt, J=9.4Hz, 2.8Hz, 1H), 3.80−3.76(m, 5H), 3.67(dd, J=11.7Hz, 4.4Hz, 1H), 3.66−3.63(m, 1H), 3.54(dd, J=7.8Hz, 2.5Hz, 1H), 3.49(dd, J=9.6Hz, 3.8Hz, 1H), 3.46(dd, J=9.6Hz, 3.8Hz, 1H), 3.31(t, J=9.4Hz, 1H), 3.28(t, J=9.4Hz, 1H), 1.19(s, 3H), 1.17(s, 3H)
13C NMR(100MHz, CDCl3) : δ95.1, 95.0, 80.4, 78.1, 74.7, 74.5, 74.4, 73.8, 73.4, 73.2, 72.8, 72.7, 71.9, 62.6, 62.1, 26.5, 25.4
HRMS(ESI)分析 : calcd. for C17H32O13Na m/z 467.1735 [M+Na]+, found 467.1725

0067

化合物が、前記構造式(1)で表される構造を有するか否かは、適宜選択した各種の分析方法により確認することができ、例えば、質量分析法、紫外分光法、赤外分光法、プロトン核磁気共鳴分光法、炭素13核磁気共鳴分光法等の分析方法などが挙げられる。なお、前記各分析方法による測定値には、多少の誤差が生じることがあるが、当業者であれば、化合物が前記構造式(1)で表される構造を有することは容易に同定することが可能である。

0068

以下に本発明の実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
なお、以下の実施例において、「PhCH(OMe)2」はベンズアルデヒドジメチルアセタールを表し、「p−TsOH」はパラトルエンスルホン酸を表し、「DMF」はジメチルホルムアミドを表し、「BnBr」は臭化ベンジルを表し、「NaH」は水素化ナトリウムを表し、「TBAI」はヨウ化テトラブチルアンモニウムを表し、「THF」はテトラヒドロフランを表し、「Et3SiH」はトリエチルシランを表し、「TFA」はトリフルオロ酢酸を表し、「CH2Cl2」は塩化メチレンを表し、「Bn」はベンジル基を表し、「(DHQ)2PHAL」はビス(ジヒドロキニニル)フタラジンを表し、「MeSO2NH2」はメタンスルホンアミドを表し、「t−BuOH」はt−ブタノールを表し、「Pd/C」はパラジウム炭素を表し、「MeOH」はメタノールを表す。

0069

(実施例1:構造式4aで表される化合物を経由するレンツトレハロースAの合成)
<構造式4aで表される化合物及び構造式4a’で表される化合物の合成>

0070

1)トレハロース(2.33g, 6.80mmol)、ベンズアルデヒドジメチルアセタール1.02mL(1当量)、及びp−TsOH 59mg(5mol%)をDMF30mLに溶解し、100℃に加熱した。20分間経過した後、反応系を160mmHgに減圧し、20分間撹拌した。更に、ここにベンズアルデヒドジメチルアセタールを1.02mL(1.0当量)加え、160mmHgの減圧下で、1時間同条件で撹拌した。更に0.25mL(0.25当量)のベンズアルデヒドジメチルアセタールを添加し、160mmHgの減圧下で4時間撹拌を継続した。反応系を室温まで冷却した後、減圧下濃縮し、トリエチルアミンを用いて中和を行った。得られた粗生成物を精製することなくそのまま次の反応に利用した。

0071

2) 上記粗生成物を全量テトラヒドロフラン70mLに溶解し、水素化ナトリウム2.72g(60%流動パラフィン分散(以下全ての水素化ナトリウムで同じ)、10当量)、TBAI176mg(7mol%)、臭化ベンジル4.85mL(6当量)を氷冷下順次加え、室温下45時間撹拌した。反応液氷水(40mL)の中に注ぎ、クエンチした後、有機層を分離した。水層エーテル(30mL×3)により抽出し、得た有機層を合わせて、塩酸水溶液(1N、20mL)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(40mL)により洗い、芒硝乾燥を行った。溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーヘキサン酢酸エチル=6:1)にて精製し、ベンジル保護体4.89gを得た。

0072

3) 上記ベンジル保護体は塩化メチレン300mLに溶解し、0℃にてトリエチルシラン11.7mL(15当量)とトリフルオロ酢酸5.61mL(15当量)とを加えそのまま3時間撹拌した。100mLの飽和NaHCO3水溶液を加え、5分間撹拌した後、有機層を分離し、飽和食塩水により洗った。水層を塩化メチレン 100mLにより抽出し、得た有機層を飽和食塩水により洗い、芒硝乾燥した後、溶媒を留去し、得られたクルードシロップをシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し(ヘキサン:酢酸エチル=4:1から3:1)、構造式4aで表される化合物(3.11g、3.52mmol、3工程で52%)と、構造式4a’で表される化合物(337mg、0.346mmol、3工程で5%)をそれぞれ白色紛体と無色シロップとして得た。

0073

−構造式4aで表される化合物−
構造式4aで表される化合物の融点、比旋光度、1HNMRスペクトル、13C NMRスペクトル、及びHRMS(ESI)分析の結果を以下に示す。
融点 : 101℃−103℃(dec.)
比旋光度 : [α]25D=79 (c=1.3, CHCl3)
1H NMR(400MHz, CDCl3) : δ7.38−7.33(m, 8H), 7.30−7.23(m, 22H), 5.23(d, J=3.6Hz, 2H), 5.00(d, J=11.4Hz, 2H), 4.79(d, J=11.4Hz, 2H), 4.69 (d, J= 12.1Hz, 2H), 4.63(d, J=12.1Hz, 2H), 4.50(d, J=12.1Hz, 2H), 4.44(d, J=12.1Hz, 2H), 4.13−4.10(m, 2H), 3.87(t, J=9.6Hz, 2H), 3.59(t, J=9.6Hz, 2H), 3.56(dd, J=9.6Hz, J=3.6Hz, 2H), 3.53−3.45(m, 4H), 2.38(bs, 2H)
13C NMR(100MHz, CDCl3) : δ138.9, 138.1, 138.0, 128.7, 128.5, 128.5, 128.1, 127.9, 127.8, 127.8, 127.6, 94.3, 81.1, 79.0, 75.4, 73.7, 72.5, 70.8, 70.7, 69.3
HRMS(ESI)分析 : calcd. for C54H58O11K m/z 921.3611 [M+K]+, found 921.3598

0074

−構造式4a’で表される化合物−
構造式4a’で表される化合物の比旋光度、1HNMRスペクトル、13C NMRスペクトル、及びHRMS(ESI)分析の結果を以下に示す。
比旋光度 : [α]25D=88(c=1.0, CHCl3)
1H NMR(400MHz, CDCl3) : δ7.37−7.20(m, 33H), 7.13−7.11(m, 2H), 5.24(d, J=3.4Hz, 1H), 5.23(d, J=3.4Hz, 1H), 5.00(d, J=11.4Hz, 1H), 4.99(d, J=11.0Hz, 1H), 4.86(d, J=11.0Hz, 1H), 4.81(d, J=10.5Hz, 1H), 4.79(d, J=11.4Hz, 1H), 4.71−4.64(m, 4H), 4.54(d, J=12.4Hz, 1H), 4.50(d, J=12.4Hz, 1H), 4.45(d, J=10.5Hz, 1H), 4.43(d, J=12.4Hz, 1H), 4.37(d, J=12.4Hz, 1H), 4.17−4.11(m, 2H), 4.03(t, J=9.4Hz, 1H), 3.87(t, J=9.4Hz, 1H), 3.68(t, J=9.6Hz, 2H), 3.59(dd, J=9.6Hz, J=3.2Hz, 1H), 3.56(dd, J=9.8Hz, J=3.4Hz, 1H), 3.53−3.44(m, 3H), 3.36(d, J=10.1Hz, 1H), 2.38(d, J=2.3Hz, 1H)
13C NMR(100MHz, CDCl3) : δ138.9, 138.9, 138.4, 138.2, 138.1, 138.0, 137.9, 128.6, 128.5, 128.4, 128.1, 128.0, 128.0, 127.8, 127.8, 127.8, 127.7, 127,7, 127.6, 127.6, 127.4, 94.5, 94.4, 81.9, 81.1, 79.4, 79.1, 77.7, 75.7, 75.4, 75.2, 73.7, 73.6, 72.8, 72.5, 70.9, 70.7, 70.6, 69.2, 68.2
HRMS(ESI)分析 : calcd. for C61H64O11K m/z 1101.4080 [M+K]+, found 1101.4067

0075

<構造式3aで表される化合物の合成>

0076

前記構造式4aで表される化合物(105mg、0.119mmol)をDMF2mLに溶解し、水素化ナトリウム12.0mg(2.5当量)、TBAI2.0mg(5mol%)、臭化プレニル15.1μL(1.1当量)を氷冷下順次加え、室温で12時間撹拌した。メタノール0.1mLを加え、5分間撹拌した後、蒸留水10mLと塩化メチレン10mLとを加えた。有機層を分離し、塩酸水溶液(1N、5mL)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(5mL)にて洗浄後、芒硝乾燥を行った。溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=5:1)にて精製し、構造式3aで表される化合物を50.0mg(52.6μmol、収率44%)得た。なお、27.0mg(30.6μmol)の原料回収され、これを考慮した補正収率は65%となった。

0077

−構造式3aで表される化合物−
構造式3aで表される化合物の比旋光度、1HNMRスペクトル、13C NMRスペクトル、及びHRMS(ESI)分析の結果を以下に示す。
比旋光度 : [α]25D=88(c=1.0, CHCl3)
1H NMR(400MHz, CDCl3) : δ7.31−7.12(m, 30H), 5.19−5.16(m, 1H), 5.13(bs, 2H), 4.93(d, J=11.2Hz, 1H), 4.90(d, J=11.2Hz, 1H), 4.79(d, J=11.2Hz, 1H), 4.70(d, J=11.2Hz, 1H), 4.62−4.54(m, 4H), 4.47(d, J=12.2Hz, 1H), 4.41(d, J=12.2Hz, 1H), 4.36(d, J=12.2Hz, 1H), 4.34(d, J=12.2Hz, 1H), 4.24−4.19(m, 1H), 4.08−4.03(m, 2H), 3.95−3.88(m, 2H), 3.77(t, J=9.4Hz, 1H), 3.59(t, J=9.4Hz, 1H), 3.48−3.39(m, 5H), 3.37−3.12(m, 2H), 2.30(bs, 1H), 1.62(s, 3H), 1.46(s, 3H)
13C NMR(100MHz, CDCl3) : δ139.0, 138.9, 138.3, 138.1, 138.0, 138.0, 137.1, 128.6, 128.4, 128.0, 127.9, 127.9, 127.8, 127.7, 127.6, 127.6, 127.6, 127.5, 121.2, 94.7, 94.6, 81.8, 81.3, 79.3, 79.0, 75.6, 75.5, 73.6, 73.6, 72.8, 72.4, 70.9, 70.8, 70.5, 69.7, 69.2, 68.4, 25.9, 18.0
HRMS(ESI)分析 : calcd. for C59H66O11K m/z 989.4237 [M+K]+, found 989.4210

0078

<構造式2aで表される化合物の合成>

0079

42.8mg(45μmol)の構造式3aで表される化合物をt−ブタノール、水、アセトンの混合溶媒(1:1:1)に溶解し、118mgのAD−mix−α、8.8mgの(DHQ)2PHAL(0.25当量)、及びメタンスルホンアミド8.5mg(2当量)と共に0℃にて66時間撹拌した。反応系は亜硫酸ナトリウムを加え0℃にて30分間撹拌することで中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層は飽和食塩水にて洗浄後、芒硝乾燥し、濃縮乾固した。ここで1H NMRによりジアステレオマー比を9:1と決定した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=3:1)にて精製し、44.5mg(45μmol)の構造式2aで表される化合物を定量的に得た。

0080

−構造式2aで表される化合物−
構造式2aで表される化合物の比旋光度、1HNMRスペクトル、13C NMRスペクトル、及びHRMS(ESI)分析の結果を以下に示す。
比旋光度 : [α]25D=88(c=1.6, CHCl3)
1H NMR(400MHz, CDCl3) : δ7.40−7.22(m, 30H), 5.22(d, J=3.7Hz, 1H), 5.20(d, J=3.9Hz, 1H), 5.03(d, J=11.2Hz, 1H), 5.02(d, J=11.0Hz, 1H), 4.83(d, J=11.2Hz, 1H), 4.78(d, J=11.0Hz, 1H), 4.70(d, J=11.9Hz, 1H), 4.70−4.66(m, 2H), 4.62(d, J=11.9Hz, 1H), 4.52(d, J=12.1Hz, 1H), 4.51(d, J=12.1Hz, 1H), 4.44(d, J=12.1Hz, 1H), 4.40(d, J=12.1Hz, 1H), 4.12(br dt, J=9.8Hz, 3.4Hz, 1H), 4.04(br dt, J=10.0Hz, 2.5Hz, 1H), 3.95−3.92(m, 1H), 3.90−3.87(m, 1H), 3.83(dd, J=10.0Hz, 2.3Hz, 1H), 3.73−3.67(m, 1H), 3.60−3.56(m, 2H), 3.55−3.53(m, 1H), 3.51−3.47(m, 3H), 3.44−3.39(m, 2H), 3.33(dd, J=11.0Hz, 2.1Hz, 1H), 3.00(d, J=3.9Hz, 1H), 2.44(d, J=2.5Hz, 1H), 2.42(bs, 1H), 1.10(s, 3H), 0.99(s, 3H)
13C NMR(100MHz, CDCl3) : δ138.8, 138.5, 138.1, 138.0, 137.6, 128.7, 128.5, 128.5, 128.5, 128.1, 128.0, 127.9, 127.9, 127.8, 127.8, 127.8, 127.6, 127.4, 94.4, 94.2, 81.3, 81.2, 79.6, 79.2, 78.1, 76.3, 75.7, 75.4, 73.8, 73.7, 73.7, 72.7, 72.7, 71.3, 70.9, 70.7, 70.6, 69.3, 68.5, 26.6, 24.6
HRMS(ESI)分析 : calcd. for C59H68O13Na m/z 1007.4552 [M+Na]+, found 1007.4525

0081

<構造式(1)で表される化合物の合成>

0082

28.0mg(28.4μmol)の前記構造式2aで表される化合物を2mLのメタノールに溶解し、ここに10%パラジウム炭素(Pd/C)を20mg添加し、水素雰囲気化24時間撹拌した。触媒セライト濾過にて除去の後、ろ液を濃縮乾固し、12.6mg(28.4μmol)の構造式(1)で表される化合物(レンツトレハロースA)を定量的に得た(6工程、収率23%)。

0083

−構造式(1)で表される化合物−
構造式(1)で表される化合物の1HNMRスペクトル、13C NMRスペクトル、及びHRMS(ESI)分析の結果を以下に示す。
1H NMR(400MHz, CD3OD) : δ5.10(d, J=3.8Hz, 1H), 5.08(d, J=3.9Hz, 1H), 4.02(dd, J=10.5Hz, 2.7Hz, 1H), 3.90(t, J=9.4Hz, 1H), 3.84(br dt, J=9.4Hz, 2.8Hz, 1H), 3.80−3.76(m, 5H), 3.67(dd, J=11.7Hz, 4.4Hz, 1H), 3.66−3.63(m, 1H), 3.54(dd, J=7.8Hz, 2.5Hz, 1H), 3.49(dd, J=9.6Hz, 3.8Hz, 1H), 3.46(dd, J=9.6Hz, 3.8Hz, 1H), 3.31(t, J=9.4Hz, 1H), 3.28(t, J=9.4Hz, 1H), 1.19(s, 3H), 1.17(s, 3H)
13C NMR(100MHz, CDCl3) : δ95.1, 95.0, 80.4, 78.1, 74.7, 74.5, 74.4, 73.8, 73.4, 73.2, 72.8, 72.7, 71.9, 62.6, 62.1, 26.5, 25.4
HRMS(ESI)分析 : calcd. for C17H32O13Na m/z 467.1735 [M+Na]+, found 467.1725

0084

(実施例2:構造式4a’で表される化合物を経由するレンツトレハロースAの合成−1)
<構造式4a’で表される化合物及び構造式4aで表される化合物の合成>

0085

1)トレハロース(3.57g, 10.4mmol)、ベンズアルデヒドジメチルアセタール0.78mL(0.5当量)、及びp−TsOH 44.8mg(2.5mol%)をDMF50mLに溶解し、100℃に加熱した。反応系は240mmHgの減圧下で10分間撹拌した後、ここにベンズアルデヒドジメチルアセタールを0.39mL(0.25当量)加え、2時間同条件で撹拌した。更に0.39mL(0.25当量)のベンズアルデヒドジメチルアセタールを添加し、240mmHgの減圧下で2.5時間撹拌を継続した。再びベンズアルデヒドジメチルアセタールを0.195mL(0.25当量)加え、240mmHgの減圧下で12時間撹拌した後、更に0.195mL(0.25当量)のベンズアルデヒドジメチルアセタールと、44.8mg(2.5mol%)のp−TsOHとを加え合計20時間となるまで撹拌を行った。反応系を室温まで冷却した後、トリエチルアミンを用いて中和を行った。得られた混合溶液を精製することなくそのまま次の反応に利用した。

0086

2) 上記混合溶液の中に水素化ナトリウム6.24g(15当量)、TBAI268mg(7mol%)、臭化ベンジル11.1mL(9当量)を氷冷下順次加え、室温下12時間撹拌した。反応液を氷水に注加し、塩化メチレンにて抽出、濃縮乾固して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し(ヘキサン:酢酸エチル=8:1から5:1)、ベンジル保護体10.0gを得た。

0087

3) 上記ベンジル保護体は塩化メチレン250mLに溶解し、0℃にてトリエチルシラン12.4mL(7.5当量)とトリフルオロ酢酸5.97mL(7.5当量)とを加えそのまま2.5時間撹拌した。反応系は塩化メチレンにて希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム溶液にて洗浄後、有機層を濃縮乾固した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し(ヘキサン:酢酸エチル=6:1から3:1)、構造式4a’で表される化合物(4.00g、4.11mmol、3工程で39%)と構造式4aで表される化合物(1.26g、1.43mmol、3工程で14%)をそれぞれ無色シロップと白色紛体として得た。

0088

得られた構造式4a’で表される化合物の比旋光度、1HNMRスペクトル、13C NMRスペクトル、及びHRMS(ESI)分析の結果は、前記実施例1と同様であった。
また、得られた構造式4aで表される化合物の融点、比旋光度、1H NMRスペクトル、13C NMRスペクトル、及びHRMS(ESI)分析の結果も、前記実施例1と同様であった。

0089

<構造式3a’で表される化合物の合成>

0090

前記構造式4a’で表される化合物(106mg、0.109mmol)をDMF2mLに溶解し、TBAI2.5mg(10mol%)、水素化ナトリウム8.7mg(2当量)、臭化プレニル62.9μL(5当量)を氷冷下順次加え、室温で12時間撹拌した。メタノール0.1mLを加え、5分間撹拌した後、蒸留水10mLと塩化メチレン10mLとを加えた。有機層を分離し、塩酸水溶液(1M、5mL)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(5mL)にて洗浄後、芒硝乾燥を行った。溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=5:1)にて精製し、115mg(0.109mmol)の構造式3a’で表される化合物を定量的に得た。

0091

−構造式3a’で表される化合物−
構造式3a’で表される化合物の比旋光度、1HNMRスペクトル、13C NMRスペクトル、及びHRMS(ESI)分析の結果を以下に示す。
比旋光度 : [α]25D=87(c=1.6, CHCl3)
1H NMR(400MHz, CDCl3) : δ7.38−7.20(m, 33H), 7.12−7.09(m, 2H), 5.26−5.24(m, 1H), 5.21−5.20(m, 2H), 4.99(d, J=10.8Hz, 1H), 4.97(d, J=11.0Hz, 1H), 4.86(d, J=10.8Hz, 1H), 4.84(d, J=11.0Hz, 1H), 4.80(d, J=10.5Hz, 1H), 4.70−4.62(m, 4H), 4.56(d, J=12.1Hz, 1H), 4.54(d, J=12.2Hz, 1H), 4.44(d, J=12.1Hz, 1H), 4.43(d, J=10.5Hz, 1H), 4.35(d, J=12.2Hz, 1H), 4.33−4.27(m, 1H), 4.17−4.13(m, 2H), 3.99(t, J=9.4Hz, 2H), 3.96(t, J=9.4Hz, 1H), 3.69−3.65(m, 1H), 3.58−3.47(m, 5H), 3.41(d, J=10.8Hz, 1H), 3.33(d, J=10.8Hz, 1H), 1.69(s, 3H), 1.53(s, 3H)
13C NMR(100MHz, CDCl3) : δ139.1, 139.0, 138.4, 138.4, 138.3, 138.0, 138.0, 137.2, 128.5, 128.5, 128.4, 128.4, 128.1, 128.1, 128.0, 128.0, 127.8, 127.7, 127.6, 127.6, 127.6, 127.5, 121.3, 94.8, 82.0, 81.8, 79.4, 79.4, 77.7, 77.5, 77.4, 75.8, 75.7, 75.2, 73.6, 72.8, 72.7, 70.8, 70.6, 69.7, 68.4, 68.1, 25.9, 18.1
HRMS(ESI)分析 : calcd. for C66H72O11Na m/z 1063.4967 [M+Na]+, found 1063.4945

0092

<構造式2a’で表される化合物の合成>

0093

46.9mg(45μmol)の構造式3a’で表される化合物をt−ブタノール、水、アセトンの混合溶媒(1:1:1)に溶解し、124mgのAD−mix−α、9.2mgの(DHQ)2PHAL(0.25当量)、及びメタンスルホンアミド8.9mg(2当量)と共に0℃にて72時間撹拌した。反応系は亜硫酸ナトリウムを加え0℃にて30分間撹拌することで中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層は飽和食塩水にて洗浄後、芒硝乾燥し、濃縮乾固した。ここで1H NMRによりジアステレオマー比を9:1と決定した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=3:1)にて精製し、構造式2a’で表される化合物を21.9mg(20.4μmol、45%)得た。

0094

−構造式2a’で表される化合物−
構造式2a’で表される化合物の1HNMRスペクトル、13C NMRスペクトル、及びHRMS(ESI)分析の結果を以下に示す。
1H NMR(400MHz, CDCl3) : δ7.38−7.13(m, 33H), 7.12−7.09(m, 2H), 5.20(d, J=3.4Hz, 1H), 5.19(d, J=3.4Hz, 1H), 5.02(d, J=10.8Hz, 1H), 5.01(d, J=10.8Hz, 1H), 4.89(d, J=10.8Hz, 1H), 4.81(d, J=10.5Hz, 1H), 4.77(d, J=10.8Hz, 1H), 4.72(d, J=12.1Hz, 1H), 4.68−4.61(m, 2H), 4.64(d, J=12.1Hz, 1H), 4.54(d, J=12.1Hz, 1H), 4.53(d, J=12.1Hz, 1H), 4.45(d, J=10.5Hz, 1H), 4.40(d, J=12.1Hz, 1H), 4.37(d, J=12.1Hz, 1H), 4.15(br dt, J=9.8Hz, 3.4Hz, 1H), 4.14−06(m, 2H), 3.91(t, J=9.4Hz, 1H), 3.82(dd, J=9.4Hz, 2.3Hz, 1H), 3.69(t, J=9.4Hz, 1H), 3.60(dd, J=9.6Hz, 3.4Hz, 1H), 3.54(dd, J=9.4Hz, 3.6Hz, 1H), 3.52(dd, J=9.4Hz, 3.6Hz, 1H), 3.49(dd, J=9.6Hz, 8.0Hz, 2H), 3.44−3.41(m, 1H), 3.41−3.39(m, 1H), 3.37(dd, J=10.8Hz, 1.8Hz, 1H), 3.32(dd, J=10.8Hz, 2.3Hz, 1H), 3.00(d, J=3.9Hz, 1H), 2.40(s, 1H), 1.10(s, 3H), 0.98(s, 3H)
13C NMR(100MHz, CDCl3) : δ138.9, 138.6, 138.4, 138.3, 138.1, 137.9, 137.7, 128.5, 128.5, 128.5, 128.1, 128.1, 128.0, 127.9, 127.9, 127.8, 127.8, 127.8, 127.8, 127.7, 127.5, 127.5, 94.6, 94.4, 82.0, 81.3, 79.6, 79.6, 78.2, 77.8, 76.3, 75.7, 75.7, 75.3, 73.8, 73.7, 73.6, 73.0, 72.6, 71.3, 70.8, 70.5, 68.5, 68.2, 26.6, 24.6
HRMS(ESI)分析 : calcd. for C66H74O13Na m/z 1097.5022 [M+Na]+, found 1097.4999

0095

<構造式(1)で表される化合物の合成>

0096

18.0mg(28.4μmol)の構造式2a’で表される化合物を1.5mLのメタノールに溶解し、ここに10% Pd/Cを15mg添加し、水素雰囲気化で24時間撹拌した。触媒をセライト濾過にて除去の後、ろ液を濃縮乾固し、9.0mg(28.4μmol)の構造式(1)で表される化合物(レンツトレハロースA)を定量的に得た(6工程、収率18%)。

0097

得られた構造式(1)で表される化合物の1HNMRスペクトル、13C NMRスペクトル、及びHRMS(ESI)分析の結果は、前記実施例1と同様であった。

0098

(実施例3:構造式4a’で表される化合物を経由するレンツトレハロースAの合成−2)
<構造式2a’’で表される化合物の合成>

0099

前記実施例2と同様にして、構造式4a’で表される化合物を得た。
前記構造式4a’で表される化合物(25.0mg、25.1μmol)をジメチルホルムアミド1.5mLに溶解し、水素化ナトリウム2.6mg(2.5当量)、15−crown−5 13μL(2.6当量)、構造式Iで表されるエポキシド12.3mg(2.5当量)を氷冷下順次加え、70℃にて18時間撹拌した。氷冷下でメタノール0.1mLを加え、5分間撹拌した後、蒸留水8mLと塩化メチレン10mLとを加えた。有機層を分離し、塩酸水溶液(1N、4mL)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(5mL)にて洗浄後、芒硝乾燥を行った。後処理の後シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、9.0mg(7.72μmol)の構造式2a’’で表される化合物を得た(収率30%)。

0100

−構造式2a’’で表される化合物−
構造式2a’’で表される化合物の1HNMRスペクトル、及びHRMS(ESI)分析の結果を以下に示す。
1H NMR(400MHz, CDCl3) : δ7.41−7.24(m, 36H), 7.14−7.11(m, 2H), 5.21(d, J=3.4Hz, 2H), 5.02(d, J=11.0Hz, 1H), 5.00(d, J=10.5Hz, 1H), 4.88(d, J=11.0Hz, 1H), 4.87(d, J=10.5Hz, 1H), 4.82(d, J=10.5Hz, 1H), 4.71−4.64(m, 4H), 4.55(d, J=12.1Hz, 1H), 4.49(d, J=11.9Hz, 1H), 4.47(d, J=10.5Hz, 1H), 4.44−4.42(m, 2H), 4.42(d, J=11.9Hz, 1H), 4.37(d, J=12.1Hz, 1H), 4.18−4−4.06(m, 2H), 4.03(t, J=9.4Hz, 1H), 4.00(t, J=9.4Hz, 1H), 3.97−3.93(m, 1H), 3.85(dd, J=10.3Hz, 1.6Hz, 1H), 3.75−3.63(m, 3H), 3.58−3.46(m, 5H), 3.42−3.34(m, 2H), 1.15(s, 3H), 1.11(s, 3H)
HRMS(ESI)分析 : calcd. for C73H80O13Na m/z 1187.5491 [M+Na]+, found 1187.5476

0101

<構造式(1)で表される化合物の合成>

0102

8.5mg(7.29μmol)の構造式2a’’で表される化合物を1mLのメタノールに溶解し、ここに10% Pd/Cを7.0mg添加し、水素雰囲気化で24時間撹拌した。触媒をセライト濾過にて除去の後、ろ液を濃縮乾固し、2.9mg(6.53μmol)の構造式(1)で表される化合物(レンツトレハロースA)を得た(収率89%)。なお、絶対配置既知のトレハロースから導かれる合成中間体による絶対配置既知のエポキシドの立体特異的開環反応を利用した本合成により、レンツトレハロースAの絶対立体配置は構造式(1)で表される通り決定された。

0103

得られた構造式(1)で表される化合物の1HNMRスペクトル、13C NMRスペクトル、及びHRMS(ESI)分析の結果は、前記実施例1と同様であった。

0104

以上の結果から、本発明の方法により、構造式(1)で表される化合物(レンツトレハロースA)を効率良く合成できることが示された。

実施例

0105

本発明の態様としては、例えば、以下のものなどが挙げられる。
<1> 下記構造式(1)で表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入し、下記構造式4aで表される化合物及び下記構造式4a’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式4aで表される化合物及び下記構造式4a’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化し、下記構造式3aで表される化合物及び下記構造式3a’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式3aで表される化合物及び下記構造式3a’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化し、下記構造式2aで表される化合物及び下記構造式2a’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式2aで表される化合物及び下記構造式2a’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、下記構造式(1)で表される化合物を製造する工程とを含むことを特徴とする方法である。





















ただし、前記構造式4a、前記構造式4a’、前記構造式3a、前記構造式3a’、前記構造式2a、及び前記構造式2a’中、Bnはベンジル基を表わす。
<2> 下記構造式(1)で表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入し、下記構造式4a’で表される化合物を製造する工程と、
下記構造式4a’で表される化合物と、下記構造式Iで表されるエポキシドとを反応させ、下記構造式2a’’で表される化合物を製造する工程と、
下記構造式2a’’で表される化合物をパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、下記構造式(1)で表される化合物を製造する工程とを含むことを特徴とする方法である。












ただし、前記構造式4a’、前記構造式I、及び前記構造式2a’’中、Bnはベンジル基を表わす。
<3> 下記構造式(1)で表される化合物の製造方法であって、
下記構造式2aで表される化合物、下記構造式2a’で表される化合物、及び下記構造式2a’’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させる工程を含むことを特徴とする方法である。












ただし、前記構造式2a、前記構造式2a’、及び前記構造式2a’’中、Bnはベンジル基を表わす。
<4> 下記構造式2aで表される化合物及び下記構造式2a’で表される化合物の少なくともいずれかの製造方法であって、
下記構造式3aで表される化合物及び下記構造式3a’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化する工程を含むことを特徴とする方法である。












ただし、前記構造式2a、前記構造式2a’、前記構造式3a、及び前記構造式3a’中、Bnはベンジル基を表わす。
<5> 下記構造式2a’’で表される化合物の製造方法であって、
下記構造式4a’で表される化合物と、下記構造式Iで表されるエポキシドとを反応させる工程を含むことを特徴とする方法である。









ただし、前記構造式2a’’、前記構造式4a’、及び前記構造式I中、Bnはベンジル基を表わす。
<6> 下記構造式3a及び下記構造式3a’のいずれかで表される化合物の製造方法であって、
下記構造式4aで表される化合物及び下記構造式4a’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化する工程を含むことを特徴とする方法である。












ただし、前記構造式3a、前記構造式3a’、前記構造式4a、及び前記構造式4a’中、Bnはベンジル基を表わす。
<7> 下記構造式4a及び下記構造式4a’のいずれかで表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入する工程を含むことを特徴とする方法である。






ただし、前記構造式4a及び前記構造式4a’中、Bnはベンジル基を表わす。
<8> 下記構造式2a、下記構造式2a’、及び下記構造式2a’’のいずれかで表されることを特徴とする化合物である。









ただし、前記構造式2a、前記構造式2a’、及び前記構造式2a’’中、Bnはベンジル基を表わす。
<9> 下記構造式3a及び下記構造式3a’のいずれかで表されることを特徴とする化合物である。






ただし、前記構造式3a及び前記構造式3a’中、Bnはベンジル基を表わす。
<10> 下記構造式4a及び下記構造式4a’のいずれかで表されることを特徴とする化合物である。






ただし、前記構造式4a及び前記構造式4a’中、Bnはベンジル基を表わす。

ページトップへ

この技術を出願した法人

この技術を発明した人物

ページトップへ

関連する挑戦したい社会課題

関連する公募課題

該当するデータがありません

ページトップへ

おススメ サービス

おススメ astavisionコンテンツ

新着 最近 公開された関連が強い技術

この 技術と関連性が強い人物

関連性が強い人物一覧

この 技術と関連する社会課題

関連する挑戦したい社会課題一覧

この 技術と関連する公募課題

該当するデータがありません

astavision 新着記事

サイト情報について

本サービスは、国が公開している情報(公開特許公報、特許整理標準化データ等)を元に構成されています。出典元のデータには一部間違いやノイズがあり、情報の正確さについては保証致しかねます。また一時的に、各データの収録範囲や更新周期によって、一部の情報が正しく表示されないことがございます。当サイトの情報を元にした諸問題、不利益等について当方は何ら責任を負いかねることを予めご承知おきのほど宜しくお願い申し上げます。

主たる情報の出典

特許情報…特許整理標準化データ(XML編)、公開特許公報、特許公報、審決公報、Patent Map Guidance System データ