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技術 負の光学分散度を有する光学素子製造用組成物およびこれから製造された光学異方体

出願人 エルジー・ケム・リミテッド
発明者 ジュン・ヒュン・キムスン-ホ・チュンキョン・チャン・ソミン・ヒュン・イジュン・ソン・アン
出願日 2014年9月19日 (6年9ヶ月経過) 出願番号 2016-518745
公開日 2016年11月4日 (4年8ヶ月経過) 公開番号 2016-534380
状態 特許登録済
技術分野 偏光要素 有機低分子化合物及びその製造 液晶物質
主要キーワード 字状構造 位相遅延器 光学分散 複数形態 物理的性 シリコンフィルム ブリッジング基 光繊維
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(2016年11月4日)のものです。
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図面 (20)

課題・解決手段

本発明は、負の光学分散度を有する光学素子製造用組成物およびこれから製造された光学異方体に関する。本発明によれば、前記光学素子用組成物を用いて安定した逆波長分散を示す光学異方体をより単純化された方法で製造することができ、これを薄層広帯域λ/4波長板などの液晶表示装置用光学フィルムに適用可能である。

概要

背景

位相遅延器(phase retarder)は、例えば、液晶表示装置光視野角化などを実現するために用いられる光学フィルムである。位相遅延器の位相差値波長に依存するが、その位相差値の波長分散は、次のように大きく三つに区分される。つまり、位相差値の波長分散は、位相差値が短波長側であるほど大きい波長分散を有する正分散、位相差値が短波長側から長波長側にわたってほとんど変わらないフラット分散、位相差値が短波長側であるほど小さい波長分散を有する逆分散に区分される。位相遅延器の場合、逆分散を示すことが好ましいが、広い波長帯域で所定の位相差(λ/2またはλ/4など)を有するからである。

しかし、通常の樹脂フィルムで形成される位相遅延器はほとんど正波長分散を示すため、逆波長分散を提供できる多様な種類の液晶組成物が提案されている。通常、液晶組成物は、棒状液晶物質と、該液晶物質長軸に対して垂直に配向する非液晶性物質とを含む。しかし、非液晶性物質の混合比が低い場合、逆波長分散が誘導されず、その混合比が高い場合、液晶組成物が液晶特性を失うようになる。また、逆波長分散性複屈折相補的な特性を有していて、逆波長分散性を高めるために、非液晶性物質の含有量を高めると、複屈折は相対的に減少する。

したがって、強い逆波長分散を誘導できる物質の開発と、非液晶性物質の含有量が低いながらも逆波長分散を誘導できる光学素子用組成物の開発が要求されている。

概要

本発明は、負の光学分散度を有する光学素子製造用組成物およびこれから製造された光学異方体に関する。本発明によれば、前記光学素子用組成物を用いて安定した逆波長分散を示す光学異方体をより単純化された方法で製造することができ、これを薄層広帯域λ/4波長板などの液晶表示装置用光学フィルムに適用可能である。

目的

本発明は、より強くて安定した逆波長分散の提供を可能にする光学素子製造用組成物を提供する

効果

実績

技術文献被引用数
1件
牽制数
0件

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請求項1

下記化学式1で表される逆波長分散性化合物;および少なくとも1つの重合可能官能基を有する反応性メソジェニック化合物を含む光学素子用組成物:前記化学式1において、Aは、炭素数5〜8の非芳香族炭素環式もしくはヘテロ環式基、または炭素数6〜20の芳香族もしくはヘテロ芳香族基であり;E1、E2、D1およびD2は、それぞれ独立に、単結合または2価の連結基であり;L1およびL2は、それぞれ独立に、−H、−F、−Cl、−Br、−I、−CN、−NC、−NCO、−OCN、−SCN、−C(=O)NR1R2、−C(=O)R1、−O−C(=O)R1、−NH2、−SH、−SR1、−SO3H、−SO2R1、−OH、−NO2、−CF3、−SF3、置換もしくは非置換のシリル、置換もしくは非置換の炭素数1〜40のカルビルまたはヒドロカルビル、または−Sp−Pであって、前記L1およびL2のうちの少なくとも1つは、−Sp−Pであり、前記Pは、重合性基であり、前記Spは、スペーサー基または単結合であり、前記R1およびR2は、それぞれ独立に、−Hまたは炭素数1〜12のアルキルであり;mおよびnは、それぞれ独立に、1〜5の整数であって;前記mまたはnが2以上であれば、2以上繰り返される−(D1−G1)−または−(G2−D2)−の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよく;G1およびG2は、それぞれ独立に、炭素数5〜8の非芳香族の炭素環式もしくはヘテロ環式基、または炭素数6〜20の芳香族もしくはヘテロ芳香族基であって、前記G1およびG2のうちの少なくとも1つは、前記炭素環式もしくはヘテロ環式基であり、前記炭素環式もしくはヘテロ環式基に含まれているいずれか1つの水素は、下記化学式2で表される基で置換されている:前記化学式2において、pは、1〜10の整数であって、pが2以上であれば、2以上繰り返される−(Q1)−の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよく、Q1は、それぞれ独立に、−C≡C−、−CY1=CY2−、および炭素数6〜20の置換もしくは非置換の芳香族基、またはヘテロ芳香族基からなる群より選択された2価基であって、前記Y1およびY2は、それぞれ独立に、−H、−F、−Cl、−CN、または−R1であり、B1は、−H、−F、−Cl、−Br、−I、−CN、−NC、−NCO、−OCN、−SCN、−C(=O)NR1R2、−C(=O)R1、−NH2、−SH、−SR1、−SO3H、−SO2R1、−OH、−NO2、−CF3、−SF3、重合性基、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数2〜4のアシル基末端に炭素数2〜4のアシル基が結合した炭素数2〜6のアルキニレン基、炭素数1〜5のアルコール基、または炭素数1〜12のアルコキシ基であり、前記R1およびR2は、それぞれ独立に、−Hまたは炭素数1〜12のアルキルである。

請求項2

前記化学式1のA、G1およびG2は、それぞれ独立に、シクロヘキサン環シクロヘキセン環ベンゼン環ナフタレン環、またはフェナントレン環であり;前記G1およびG2のうちの少なくとも1つは、シクロヘキサン環またはシクロヘキセン環である、請求項1に記載の光学素子用組成物。

請求項3

前記化学式1のAに含まれている少なくとも1つの水素は、−F、−Cl、−Br、−I、−CN、−NC、−NCO、−OCN、−SCN、−C(=O)NR1R2、−C(=O)R1、−NH2、−SH、−SR1、−SO3H、−SO2R1、−OH、−NO2、−CF3、−SF3、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数2〜4のアシル基、末端に炭素数2〜4のアシル基が結合した炭素数2〜6のアルキニレン基、炭素数1〜5のアルコール基、または炭素数1〜12のアルコキシ基で置換されており、前記R1およびR2は、それぞれ独立に、−Hまたは炭素数1〜12のアルキルである、請求項1に記載の光学素子用組成物。

請求項4

前記化学式1のE1、E2、D1およびD2は、それぞれ独立に、単結合、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−COO−、−CO−NR1−、−NR1−CO−、−NR1−CO−NR1−、−OCH2−、−CH2O−、−SCH2−、−CH2S−、−CF2O−、−OCF2−、−CF2S−、−SCF2−、−CH2CH2−、−(CH2)3−、−(CH2)4−、−CF2CH2−、−CF2CH2−、−CH=CH−、−CY1=CY2−、−CH=N−、−N=CH−、−N=N−、−CH=CR1−、−C≡C−、−CH=CH−COO−、−OCO−CH=CH−、または−CR1R2−であって、前記Y1およびY2は、それぞれ独立に、−H、−F、−Cl、−CN、または−R1であり、前記R1およびR2は、それぞれ独立に、−Hまたは炭素数1〜12のアルキルである、請求項1に記載の光学素子用組成物。

請求項5

前記化学式1のPは、CH2=CZ1−COO−、CH2=CZ1−CO−、CH2=CZ2−(O)a−、CH3−CH=CH−O−、(CH2=CH)2CH−OCO−、(CH2=CH−CH2)2CH−OCO−、(CH2=CH)2CH−O−、(CH2=CH−CH2)2N−、(CH2=CH−CH2)2N−CO−、HO−CZ1Z2−、HS−CZ1Z2−、HZ1N−、HO−CZ1Z2−NH−、CH2=CZ1−CO−NH−、CH2=CH−(COO)a−Phe−(O)b−、CH2=CH−(CO)a−Phe−(O)b−、Phe−CH=CH−、HOOC−、OCN−、Z1Z2Z3Si−、、またはであり、前記Z1〜Z3は、それぞれ独立に、−H、−F、−Cl、−CN、−CF3、フェニル、または炭素数1〜5のアルキルであり、前記Pheは、−F、−Cl、−Br、−I、−CN、−NC、−NCO、−OCN、−SCN、−C(=O)NR1R2、−C(=O)R1、−NH2、−SH、−SR1、−SO3H、−SO2R1、−OH、−NO2、−CF3、または−SF3によって置換もしくは非置換の1,4−フェニレンであり、前記aおよびbは、それぞれ独立に、0または1である、請求項1に記載の光学素子用組成物。

請求項6

前記化学式1のSpは、−Sp−Pが−X’−Sp’−Pとなるようにする化学式−X’−Sp’から選択され、前記Sp’は、−F、−Cl、−Br、−I、または−CNで1置換または多重置換の炭素数1〜20のアルキレンであり、前記アルキレンにおいて、1つ以上の−CH2−基は、−O−、−S−、−NH−、−NR1−、SiR1R2−、−CO−、−COO−、−OCO−、−OCO−O−、−S−CO−、−CO−S−、−NR1−CO−O−、−O−CO−NR1−、−NR1−CO−NR1−、−CH=CH−、または−C≡C−で代替されていてもよく、前記X’は、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−COO−、−CO−NR1−、−NR1−CO−、−NR1−CO−NR1−、−OCH2−、−CH2O−、−SCH2−、−CH2S−、−OCF2−、−CF2O−、−SCF2−、−SF2O−、−CF2CH2−、−CF2CF2−、−CH=N−、−N=CH−、−N=N−、−CH=CR1−、−CY1=CY2−、−C≡C−、−CH=CH−COO−、−OCO−CH=CH−、または単結合であり、前記Y1およびY2は、それぞれ独立に、−H、−F、−Cl、−CN、または−R1であり、前記R1およびR2は、それぞれ独立に、−Hまたは炭素数1〜12のアルキルである、請求項1に記載の光学素子用組成物。

請求項7

前記−[Q1]p−は、からなる群より選択され、前記rは、0、1、2、3または4であり、前記Dは、−F、−Cl、−Br、−I、−CN、−NO2、−NCO、−NCS、−OCN、−SCN、−C(=O)NR1R2、−C(=O)X、−C(=O)OR1、−NR1R2、−OH、−SF5、置換もしくは非置換のシリル、炭素数6〜12のアリール、炭素数1〜12の直鎖または分枝鎖アルキルアルコキシアルキルカルボニルアルコキシカルボニルアルキルカルボニルオキシ、またはアルコキシカルボニルオキシであり、前記R1およびR2は、それぞれ独立に、−Hまたは炭素数1〜12のアルキルである、請求項1に記載の光学素子用組成物。

請求項8

前記反応性メソジェニック化合物は、下記化学式3で表される化合物である、請求項1に記載の光学素子用組成物:前記化学式3において、Pは、重合性基であり、Spは、スペーサー基または単結合であり、Xは、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−OCOO−、または単結合であり、nは、0または1であり、MGは、メソジェニック基であり、Rは、炭素数1〜25のアルキルラジカルハロゲンシアノ、または前記P−(Sp−X)n−に与えられた意味を有するものであり、前記アルキルラジカルにおいて、1つ以上の隣接しないCH2基は、互いにそれぞれ独立に、酸素原子が互いに直接連結されない方式で−O−、−S−、−NH−、−N(CH3)−、−CO−、−COO−、−OCO−、−OCO−O−、−S−CO−、−CO−S−、または−C≡C−によって代替されていてもよい。

請求項9

前記化学式3のPは、ビニル基アクリレート基メタクリレート基プロペニルエーテル基、またはエポキシ基である、請求項8に記載の光学素子用組成物。

請求項10

前記化学式3のSpは、炭素数1〜20の線状または分枝されたアルキレン基であり;前記アルキレン基において、1つ以上の隣接しないCH基は、−O−、−S−、−NH−、−N(CH)−、−CO−、−O−CO−、−S−CO−、−O−COO−、−CO−S−、−CO−O−、−CHF−、−CHCl−、−CH(CN)−、−CH=CH−、または−C≡C−によって代替できる、請求項8に記載の光学素子用組成物。

請求項11

前記化学式3のMGは、下記化学式4で表される基である、請求項8に記載の光学素子用組成物:前記化学式4において、Ya、YbおよびYcは、それぞれ独立に、1つ以上のCH基がNによって置換もしくは非置換の1,4−フェニレン;1つまたは2つの隣接しないCH2基がO、SまたはOとSによって置換もしくは非置換の1,4−シクロキシレン、1,4−シクロヘキセニレン、またはナフタレン−2,6−ジイルであり;前記基はいずれも、ハロゲン、シアノ、ニトロ基、または1つ以上の水素原子がFまたはClによって置換されていてもよい炭素数1〜7のアルキル、アルコキシまたはアルカノイル基で1置換または多置換されていてもよく、ZaおよびZbは、それぞれ独立に、−COO−、−OCO−、−CH2CH2−、−OCH2−、−CH2O−、−CH=CH−、−C≡C−、−CH=CH−COO−、−OCO−CH=CH−、または単結合であり、nは、0、1または2である。

請求項12

前記Ya、YbおよびYcは、それぞれ独立に、1,4−フェニレン(Phe)、1つ以上の基Lによって置換された1,4−フェニレン(PheL)、または1,4−シクロへキシレン(Cyc)であり、前記基Lは、F、Cl、CN、NO2、CH3、C2H5、OCH3、OC2H5、COCH3、COC2H5、CF3、OCF3、OCHF3、またはOCH2F5であり;前記ZaおよびZbは、それぞれ独立に、−COO−、−OCO−、−CH2CH2−、または−CH=CH−COO−である、請求項11に記載の光学素子用組成物。

請求項13

前記反応性メソジェニック化合物は、下記化学式5a〜5gで表される群より選択される1種以上の化合物である、請求項8に記載の光学素子用組成物:前記化学式5a〜5gにおいて、xおよびyは、それぞれ独立に、1〜12の整数であり、Aは、1,4−フェニレンまたは1,4−シクロへキシレン基であり、R1は、ハロゲン、シアノ、または炭素数1〜12のアルキルまたはアルコキシ基であり、Q1およびQ2は、それぞれ独立に、H、ハロゲン、CN、炭素数1〜7のアルキル、アルコキシまたはアルカノイル基である。

請求項14

請求項1に記載の光学素子用組成物から得られ、下記式Iおよび式IIを満足する光学異方体:(式I)△n(450nm)/△n(550nm)<1.0(式II)△n(650nm)/△n(550nm)>1.0上記式Iおよび式IIにおいて、△n(λ)は、液晶相内の波長λでの比複屈折率を意味する。

技術分野

0001

本発明は、負の光学分散度を有する光学素子製造用組成物およびこれから製造された光学異方体に関する。

背景技術

0002

位相遅延器(phase retarder)は、例えば、液晶表示装置光視野角化などを実現するために用いられる光学フィルムである。位相遅延器の位相差値波長に依存するが、その位相差値の波長分散は、次のように大きく三つに区分される。つまり、位相差値の波長分散は、位相差値が短波長側であるほど大きい波長分散を有する正分散、位相差値が短波長側から長波長側にわたってほとんど変わらないフラット分散、位相差値が短波長側であるほど小さい波長分散を有する逆分散に区分される。位相遅延器の場合、逆分散を示すことが好ましいが、広い波長帯域で所定の位相差(λ/2またはλ/4など)を有するからである。

0003

しかし、通常の樹脂フィルムで形成される位相遅延器はほとんど正波長分散を示すため、逆波長分散を提供できる多様な種類の液晶組成物が提案されている。通常、液晶組成物は、棒状液晶物質と、該液晶物質長軸に対して垂直に配向する非液晶性物質とを含む。しかし、非液晶性物質の混合比が低い場合、逆波長分散が誘導されず、その混合比が高い場合、液晶組成物が液晶特性を失うようになる。また、逆波長分散性複屈折相補的な特性を有していて、逆波長分散性を高めるために、非液晶性物質の含有量を高めると、複屈折は相対的に減少する。

0004

したがって、強い逆波長分散を誘導できる物質の開発と、非液晶性物質の含有量が低いながらも逆波長分散を誘導できる光学素子用組成物の開発が要求されている。

発明が解決しようとする課題

0005

そこで、本発明は、より強くて安定した逆波長分散の提供を可能にする光学素子製造用組成物を提供する。

0006

また、本発明は、前記組成物を用いて形成された光学異方体を提供する。

課題を解決するための手段

0007

本発明によれば、下記化学式1で表される逆波長分散性化合物;および少なくとも1つの重合可能官能基を有する反応性メソジェニック化合物を含む光学素子用組成物が提供される:



前記化学式1において、
Aは、炭素数5〜8の非芳香族炭素環式もしくはヘテロ環式基、または炭素数6〜20の芳香族もしくはヘテロ芳香族基であり;
E1、E2、D1およびD2は、それぞれ独立に、単結合または2価の連結基であり;
L1およびL2は、それぞれ独立に、−H、−F、−Cl、−Br、−I、−CN、−NC、−NCO、−OCN、−SCN、−C(=O)NR1R2、−C(=O)R1、−O−C(=O)R1、−NH2、−SH、−SR1、−SO3H、−SO2R1、−OH、−NO2、−CF3、−SF3、置換もしくは非置換のシリル、置換もしくは非置換の炭素数1〜40のカルビルまたはヒドロカルビル、または−Sp−Pであって、前記L1およびL2のうちの少なくとも1つは、−Sp−Pであり、前記Pは、重合性基であり、前記Spは、スペーサー基または単結合であり、前記R1およびR2は、それぞれ独立に、−Hまたは炭素数1〜12のアルキルであり;
mおよびnは、それぞれ独立に、1〜5の整数であって;前記mまたはnが2以上であれば、2以上繰り返される−(D1−G1)−または−(G2−D2)−の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよく;
G1およびG2は、それぞれ独立に、炭素数5〜8の非芳香族の炭素環式もしくはヘテロ環式基、または炭素数6〜20の芳香族もしくはヘテロ芳香族基であって、前記G1およびG2のうちの少なくとも1つは、前記炭素環式もしくはヘテロ環式基であり、前記炭素環式もしくはヘテロ環式基に含まれているいずれか1つの水素は、下記化学式2で表される基で置換されている:



前記化学式2において、
pは、1〜10の整数であって、pが2以上であれば、2以上繰り返される−(Q1)−の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよく、
Q1は、それぞれ独立に、−C≡C−、−CY1=CY2−、および炭素数6〜20の置換もしくは非置換の芳香族基、またはヘテロ芳香族基からなる群より選択された2価基であって、前記Y1およびY2は、それぞれ独立に、−H、−F、−Cl、−CN、または−R1であり、
B1は、−H、−F、−Cl、−Br、−I、−CN、−NC、−NCO、−OCN、−SCN、−C(=O)NR1R2、−C(=O)R1、−NH2、−SH、−SR1、−SO3H、−SO2R1、−OH、−NO2、−CF3、−SF3、重合性基(前記化学式1で定義されたP)、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数2〜4のアシル基末端に炭素数2〜4のアシル基が結合した炭素数2〜6のアルキニレン基、炭素数1〜5のアルコール基、または炭素数1〜12のアルコキシ基であり、前記R1およびR2は、それぞれ独立に、−Hまたは炭素数1〜12のアルキルである。

0008

また、本発明によれば、前記組成物から得られ、下記式Iおよび式IIを満足する光学異方体が提供される:
(式I)
△n(450nm)/△n(550nm)<1.0
(式II)
△n(650nm)/△n(550nm)>1.0
上記式Iおよび式IIにおいて、△n(λ)は、波長λでの比複屈折率を意味する。

0009

以下、本発明の実施形態に係る光学素子用組成物およびこれを用いて形成された光学異方体について説明する。

0010

それに先立ち、本明細書全体において明示的な言及がない限り、専門用語は単に特定の実施形態を言及するためのものであり、本発明を限定することを意図しない。そして、ここで使われる単数形態は、文言がこれと明確に反対の意味を示さない限り、複数形態も含む。

0011

また、明細書で使われる「含む」の意味は、特定の特性、領域、整数、段階、動作、要素または成分を具体化し、他の特定の特性、領域、整数、段階、動作、要素または成分の付加を除外させるものではない。

0012

一方、「逆波長分散性化合物」は、それ自体で液晶性と逆波長分散性を示すか、またはそれ自体で液晶性を示さないものの、任意の液晶性化合物重合または架橋されて前記液晶性化合物が逆波長分散性を示すようにする化合物を意味する。具体的には、前記逆波長分散性化合物、または前記逆波長分散性化合物および液晶性化合物(例えば、液晶性を有する反応性メソジェニック化合物)を含有する組成物を液晶状態で配向させた後、その状態で紫外線などの活性エネルギー線照射すると、液晶分子配向構造固定化した重合物を得ることができる。こうして得られた重合物は、屈折率誘電率、磁化率弾性率、熱膨張率などの物理的性質の異方性を有するため、例えば、位相差板偏光板偏光プリズム輝度向上フィルム光繊維被覆材などの光学異方体として応用可能である。

0013

そして、「比複屈折率」(specific birefringent index)とは、光学フィルムを透過する透過光の波長(λ)における位相差値を意味するもので、△n(λ)で表される。

0014

また、「メソジェニック基」は、液晶相挙動を誘導できる能力を有する基(Group)を意味する。

0015

そして、「スペーサー基」は、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者に公知であり、例えば、文献[C.Tschierske,G.Pelzl,S.Diele,Angew.Chem.2004,116,6340−6368]に記述されている。前記スペーサー基は、メソジェニック基と重合性基とを連結する可撓性有機基(flexibe organic group)を称する。

0016

そして、「カルビル基」は、任意の非炭素原子がない1つ以上の炭素原子(例えば、−C≡C−)を含むか、または選択的に1つ以上の非炭素原子(例えば、N、O、S、P、Si)と組み合わされた1つ以上の炭素原子(例えば、カルボニル)を含む任意の1価または多価の有機ラジカル残基を意味する。「ヒドロカルビル基」は、追加的に1つ以上のH原子を含有し、選択的に1つ以上のヘテロ原子(例えば、N、O、S、P、Si)を含有するカルビル基を意味する。

0017

I.光学素子用組成物
発明の実施形態によれば、
下記化学式1で表される逆波長分散性化合物;および
少なくとも1つの重合可能な官能基を有する反応性メソジェニック化合物を含む光学素子用組成物が提供される:



前記化学式1において、
Aは、炭素数5〜8の非芳香族の炭素環式もしくはヘテロ環式基、または炭素数6〜20の芳香族もしくはヘテロ芳香族基であり;
E1、E2、D1およびD2は、それぞれ独立に、単結合または2価の連結基であり;
L1およびL2は、それぞれ独立に、−H、−F、−Cl、−Br、−I、−CN、−NC、−NCO、−OCN、−SCN、−C(=O)NR1R2、−C(=O)R1、−O−C(=O)R1、−NH2、−SH、−SR1、−SO3H、−SO2R1、−OH、−NO2、−CF3、−SF3、置換もしくは非置換のシリル、置換もしくは非置換の炭素数1〜40のカルビルまたはヒドロカルビル、または−Sp−Pであって、前記L1およびL2のうちの少なくとも1つは、−Sp−Pであり、前記Pは、重合性基であり、前記Spは、スペーサー基または単結合であり、前記R1およびR2は、それぞれ独立に、−Hまたは炭素数1〜12のアルキルであり;
mおよびnは、それぞれ独立に、1〜5の整数であって;前記mまたはnが2以上であれば、2以上繰り返される−(D1−G1)−または−(G2−D2)−の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよく;
G1およびG2は、それぞれ独立に、炭素数5〜8の非芳香族の炭素環式もしくはヘテロ環式基、または炭素数6〜20の芳香族もしくはヘテロ芳香族基であって、前記G1およびG2のうちの少なくとも1つは、前記炭素環式もしくはヘテロ環式基であり、前記炭素環式もしくはヘテロ環式基に含まれているいずれか1つの水素は、下記化学式2で表される基で置換されている:



前記化学式2において、
pは、1〜10の整数であって、pが2以上であれば、2以上繰り返される−(Q1)−の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよく、
Q1は、それぞれ独立に、−C≡C−、−CY1=CY2−、および炭素数6〜20の置換もしくは非置換の芳香族基、またはヘテロ芳香族基からなる群より選択された2価基であって、前記Y1およびY2は、それぞれ独立に、−H、−F、−Cl、−CN、または−R1であり、
B1は、−H、−F、−Cl、−Br、−I、−CN、−NC、−NCO、−OCN、−SCN、−C(=O)NR1R2、−C(=O)R1、−NH2、−SH、−SR1、−SO3H、−SO2R1、−OH、−NO2、−CF3、−SF3、重合性基(前記化学式1で定義されたP)、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数2〜4のアシル基、末端に炭素数2〜4のアシル基が結合した炭素数2〜6のアルキニレン基、炭素数1〜5のアルコール基、または炭素数1〜12のアルコキシ基であり、前記R1およびR2は、それぞれ独立に、−Hまたは炭素数1〜12のアルキルである。

0018

本発明者らの継続的な実験の結果、驚くべきことに、前記化学式1のようなT字状構造を有する逆波長分散性化合物と、少なくとも1つの重合可能な官能基を有する反応性メソジェニック化合物とを含む組成物は、安定した逆波長分散を示す光学異方体を提供できることを確認した。

0019

以下、発明の実施形態に係る光学素子用組成物に含まれる成分について説明する。

0020

(逆波長分散性化合物)
前記化学式1で表される化合物は、メソジェニック基(特に、L1−(D1−G1)m−基および−(G2−D2)n−L2基)のいずれかに、分極率が高い共役構造ブリッジング基(−[Q1]p−B1)が垂直方向(軸方向)に連結されたT字状の構造を有する。つまり、2つの棒状メソジェニック化合物がブリッジング基によって対称に連結されたH字状の対称型化合物とは異なり、発明の実施形態に係る逆波長分散性化合物は、T字状の非対称構造を有する。それによって、前記化学式1の化合物は、垂直に高い分極率を有するブリッジング基によって安定した逆波長分散性と、T字状の非対称メソジェニック基による優れた配向性を同時に示すことができる。

0021

前記化学式1において、Aは、炭素数5〜8の非芳香族の炭素環式もしくはヘテロ環式基、または炭素数6〜20の芳香族もしくはヘテロ芳香族基である。

0022

前記Aにおいて、前記炭素環式もしくはヘテロ環式基は、5員環(例えば、シクロペンタンテトラヒドロフランテトラヒドロチオフランピロリジン;6員環(例えば、シクロヘキサンシリナンシクロヘキセンテトラヒドロピラン、テトラヒドロチオピラン、1,3−ジオキサン、1,3−ジチアンピペリジン);7員環(例えば、シクロヘプタン);または融合された基(例えば、テトラヒドロナフタレンデカヒドロナフタレンインダンビシクロ[1.1.1]ペンタン−1,3−ジイル、ビシクロ[2.2.2]オクタン−1,4−ジイル、スピロ[3.3]ヘプタン−2,6−ジイル、オクタヒドロ−4,7−メタノ−インダン−2,5−ジイル)などであってもよい。

0023

前記Aにおいて、芳香族基は、ベンゼンビフェニレントリフェニレンナフタレンアントラセンビナフタレンフェナントレンピレンジヒドロピレン、クリセンペリレンテトラセンペンタセンベンズピレンフルオレンインデンインデノフルオレンスピロビフルオレンなどであってもよい。そして、前記A、G1およびG2において、ヘテロ芳香族基は、5員環(例えば、ピロールピラゾールイミダゾール、1,2,3−トリアゾール、1,2,4−トリアゾール、テトラゾールフランチオフェンセレノフェンオキサゾールイソキサゾール、1,2−チアゾール、1,3−チアゾール、1,2,3−オキサジアゾール、1,2,4−オキサジアゾール、1,2,5−オキサジアゾール、1,3,4−オキサジアゾール、1,2,3−チアジアゾール、1,2,4−チアジアゾール、1,2,5−チアジアゾール、1,3,4−チアジアゾール);6員環(例えば、ピリジンピリダジンピリミジンピラジン、1,3,5−トリアジン、1,2,4−トリアジン、1,2,3−トリアジン、1,2,4,5−テトラジン、1,2,3,4−テトラジン、1,2,3,5−テトラジン);または融合された基(例えば、カルバゾールインドールイソインドールインドリジンインダゾールベンズイミダゾールベンゾトリアゾールプリンナフトイミダゾール、フェナントルイミダゾール、ピリドイミダゾール、ピラジンイミダゾール、キノキサリンイミダゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオキサゾール、アントルオキサゾール、フェナントルオキサゾール、イソキサゾール、ベンゾチアゾールベンゾフランイソベンゾフランジベンゾフランキノリンイソキノリンプテリジンベンゾ−5,6−キノリン、ベンゾ−6,7−キノリン、ベンゾ−7,8−キノリン、ベンゾイソキノリン、アクリジンフェノチアジンフェノキサジン、ベンゾピリダジン、ベンゾピリミジン、キノキサリン、フェナジンナフチリジンアザカルバゾール、ベンゾカルボリンフェナントリジンフェナントロリンチエノ[2,3−b]チオフェン、チエノ[3,2−b]チオフェン、ジチエノチオフェン、ジチエノピリジンイソベンゾチオフェンジベンゾチオフェン、ベンゾチアジアゾチオフェン)などであってもよい。

0024

好ましくは、前記Aは、シクロヘキサン環シクロヘキセン環ベンゼン環ナフタレン環、またはフェナントレン環であってもよい。より好ましくは、前記Aは、トランス−1,4−シクロキシレン、1,4−フェニレン、1,5−ナフチレン、および2,6−ナフチレンからなる群より選択されてもよい。

0025

そして、発明の実施形態によれば、前記Aに含まれている少なくとも1つの水素は、必要に応じて選択的に、分子間相互作用を可能にする官能基で置換されていてもよい。前記分子間相互作用を可能にする官能基は、他の分子との相互作用を通してより向上した配向安定性を示すようにする。前記分子間相互作用を可能にする官能基の種類は特に制限はないが、好ましくは−F、−Cl、−Br、−I、−CN、−NC、−NCO、−OCN、−SCN、−C(=O)NR1R2、−C(=O)R1、−NH2、−SH、−SR1、−SO3H、−SO2R1、−OH、−NO2、−CF3、−SF3、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数2〜4のアシル基、末端に炭素数2〜4のアシル基が結合した炭素数2〜6のアルキニレン基、炭素数1〜5のアルコール基、または炭素数1〜12のアルコキシ基であってもよい。ここで、前記R1およびR2は、それぞれ独立に、−Hまたは炭素数1〜12のアルキルである。

0026

一方、前記化学式1において、E1、E2、D1およびD2は、それぞれ独立に、単結合または2価の連結基である。

0027

具体的には、前記E1、E2、D1およびD2は、それぞれ独立に、単結合、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−COO−、−CO−NR1−、−NR1−CO−、−NR1−CO−NR1−、−OCH2−、−CH2O−、−SCH2−、−CH2S−、−CF2O−、−OCF2−、−CF2S−、−SCF2−、−CH2CH2−、−(CH2)3−、−(CH2)4−、−CF2CH2−、−CF2CH2−、−CH=CH−、−CY1=CY2−、−CH=N−、−N=CH−、−N=N−、−CH=CR1−、−C≡C−、−CH=CH−COO−、−OCO−CH=CH−、または−CR1R2−であってもよい。ここで、前記Y1およびY2は、それぞれ独立に、−H、−F、−Cl、−CN、または−R1であり、前記R1およびR2は、それぞれ独立に、−Hまたは炭素数1〜12のアルキルである。

0028

そして、前記化学式1において、L1およびL2は、メソジェニック基の末端であって、それぞれ独立に、−H、−F、−Cl、−Br、−I、−CN、−NC、−NCO、−OCN、−SCN、−C(=O)NR1R2、−C(=O)R1、−O−C(=O)R1、−NH2、−SH、−SR1、−SO3H、−SO2R1、−OH、−NO2、−CF3、−SF3、置換もしくは非置換のシリル、置換もしくは非置換の炭素数1〜40のカルビルまたはヒドロカルビル、または−Sp−Pであり、前記L1およびL2のうちの少なくとも1つは、−Sp−Pである。ここで、前記Pは、重合性基であり、前記Spは、スペーサー基または単結合であり、前記R1およびR2は、それぞれ独立に、−Hまたは炭素数1〜12のアルキルである。

0029

非制限的な例として、前記L1およびL2は、F、Cl、Br、I、またはCNで1置換または多置換の、もしくは置換されていない炭素数1〜25の直鎖、分枝鎖または環状アルキル基から選択されてもよく;この時、1つ以上の隣接しないCH2基は、それぞれ独立に、−O−、−S−、−NH−、−NR1−、SiR1R2−、−CO−、−COO−、−OCO−、−OCO−O−、−S−CO−、−CO−S−、−SO2−、−CO−NR1−、−NR1−CO−、−NR1−CO−NR1−、−CY1=CY2−、または−C≡C−で代替されていてもよい。ここで、前記Y1およびY2は、それぞれ独立に、−H、−F、−Cl、−CN、または−R1であり、前記R1およびR2は、それぞれ独立に、−Hまたは炭素数1〜12のアルキルである。

0030

また、前記L1およびL2は、炭素数1〜20のアルキル、炭素数1〜20のオキサアルキル、炭素数1〜20のアルコキシ、炭素数2〜20のアルケニル、炭素数2〜20のアルキニル、炭素数1〜20のシリル、炭素数1〜20のエステル、炭素数1〜20のアミノ、および炭素数1〜20のフルオロアルキルから選択されてもよい。

0031

さらに、前記L1およびL2の一例の−Sp−Pにおいて、前記Pは、重合性基であって、好ましくは、CH2=CZ1−COO−、CH2=CZ1−CO−、CH2=CZ2−(O)a−、CH3−CH=CH−O−、(CH2=CH)2CH−OCO−、(CH2=CH−CH2)2CH−OCO−、(CH2=CH)2CH−O−、(CH2=CH−CH2)2N−、(CH2=CH−CH2)2N−CO−、HO−CZ1Z2−、HS−CZ1Z2−、HZ1N−、HO−CZ1Z2−NH−、CH2=CZ1−CO−NH−、CH2=CH−(COO)a−Phe−(O)b−、CH2=CH−(CO)a−Phe−(O)b−、Phe−CH=CH−、HOOC−、OCN−、Z1Z2Z3Si−、



、または



であってもよい。ここで、前記Z1〜Z3は、それぞれ独立に、−H、−F、−Cl、−CN、−CF3、フェニル、または炭素数1〜5のアルキルであり、前記Pheは、−F、−Cl、−Br、−I、−CN、−NC、−NCO、−OCN、−SCN、−C(=O)NR1R2、−C(=O)R1、−NH2、−SH、−SR1、−SO3H、−SO2R1、−OH、−NO2、−CF3、または−SF3によって置換もしくは非置換の1,4−フェニレンであり、前記aおよびbは、それぞれ独立に、0または1である。

0032

そして、前記L1およびL2の一例の−Sp−Pにおいて、前記Spは、−Sp−Pが−X’−Sp’−Pとなるようにする化学式−X’−Sp’から選択される。前記Sp’は、−F、−Cl、−Br、−I、または−CNで1置換または多重置換の炭素数1〜20のアルキレンであり、前記アルキレンにおいて、1つ以上の−CH2−基は、−O−、−S−、−NH−、−NR1−、SiR1R2−、−CO−、−COO−、−OCO−、−OCO−O−、−S−CO−、−CO−S−、−NR1−CO−O−、−O−CO−NR1−、−NR1−CO−NR1−、−CH=CH−、または−C≡C−で代替されていてもよい。そして、前記X’は、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−COO−、−CO−NR1−、−NR1−CO−、−NR1−CO−NR1−、−OCH2−、−CH2O−、−SCH2−、−CH2S−、−OCF2−、−CF2O−、−SCF2−、−SF2O−、−CF2CH2−、−CF2CF2−、−CH=N−、−N=CH−、−N=N−、−CH=CR1−、−CY1=CY2−、−C≡C−、−CH=CH−COO−、−OCO−CH=CH−、または単結合である。ここで、前記Y1およびY2は、それぞれ独立に、−H、−F、−Cl、−CN、または−R1であり、前記R1およびR2は、それぞれ独立に、−Hまたは炭素数1〜12のアルキルである。

0033

そして、前記化学式1において、mおよびnは、互いに同一または異なる値を有してもよいし、それぞれ独立に、1〜5の整数であってよい。ここで、前記mまたはnが2以上であれば、2以上繰り返される−(D1−G1)−または−(G2−D2)−の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよく。例えば、前記mが2の場合、−(D1−G1)−(D1−G1)−の各繰り返し単位に含まれるD1またはG1は、それぞれ前述した範囲において互いに同一であっても異なっていてもよい。

0034

一方、前記化学式1において、G1およびG2は、それぞれ独立に、炭素数5〜8の非芳香族の炭素環式もしくはヘテロ環式基、または炭素数6〜20の芳香族もしくはヘテロ芳香族基であって、前記G1およびG2のうちの少なくとも1つは、前記炭素環式もしくはヘテロ環式基である。

0035

前記G1およびG2において、カルボサイクリック基、ヘテロサイクリック基、芳香族基、およびヘテロ芳香族基については、前記Aに関する定義内容切り替える。

0036

特に、発明の実施形態によれば、前記G1およびG2のうちの少なくとも1つは、前記炭素環式もしくはヘテロ環式基であって、前記炭素環式もしくはヘテロ環式基に含まれているいずれか1つの水素は、下記化学式2で表される基で置換されている:



前記化学式2において、
pは、1〜10の整数であって、pが2以上であれば、2以上繰り返される−(Q1)−の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよく、
Q1は、それぞれ独立に、−C≡C−、−CY1=CY2−、および炭素数6〜20の置換もしくは非置換の芳香族基、またはヘテロ芳香族基からなる群より選択された2価基であって、前記Y1およびY2は、それぞれ独立に、−H、−F、−Cl、−CN、または−R1であり、
B1は、−H、−F、−Cl、−Br、−I、−CN、−NC、−NCO、−OCN、−SCN、−C(=O)NR1R2、−C(=O)R1、−NH2、−SH、−SR1、−SO3H、−SO2R1、−OH、−NO2、−CF3、−SF3、重合性基(前記化学式1で定義されたP)、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数2〜4のアシル基、末端に炭素数2〜4のアシル基が結合した炭素数2〜6のアルキニレン基、炭素数1〜5のアルコール基、または炭素数1〜12のアルコキシ基であり、前記R1およびR2は、それぞれ独立に、−Hまたは炭素数1〜12のアルキルである。

0037

前記化学式2において、−[Q1]p−は、パイ共役の線状基、芳香族基、およびヘテロ芳香族基からなる群より選択された1つ以上の下位基Q1からなっていてもよい。例えば、前記−[Q1]p−は、120度以上、好ましくは180度の結合角を有する基より選択された1つ以上の下位基Q1からなっていてもよい。ここで、前記pは、1〜10の整数であって、pが2以上であれば、2以上繰り返される−(Q1)−の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよい。

0038

非制限的な例として、このような下位基Q1は、パラ位の隣接した基に連結された2価の芳香族基(例えば、1,4−フェニレン、ナフタレン−2,6−ジイル、インダン−2,6−ジイル、チエノ[3,2−b]チオフェン−2,5−ジイル)、またはsp−混成の炭素原子(例えば、−C≡C−)を含む基であってもよい。さらに、前記下位基Q1は、−CH=CH−、−CY1=CY2−、および−CH=CR1−を含んでいてもよい。ここで、前記Y1およびY2は、それぞれ独立に、−H、−F、−Cl、−CN、または−R1であり、前記R1およびR2は、それぞれ独立に、−Hまたは炭素数1〜12のアルキルである。

0039

また、前記−[Q1]p−は、−C≡C−、置換もしくは非置換の1,4−フェニレン、および置換もしくは非置換の9H−フルオレン−2,7−ジイルからなる群より選択された1つ以上の基を含んでいてもよい。この時、フルオレン基において、9−位置にあるH原子は、カルビルまたはヒドロカルビル基で代替されていてもよい。

0040

好ましくは、前記−[Q1]p−は、



からなる群より選択されてもよい。

0041

ここで、前記rは、0、1、2、3または4であり、前記Dは、−F、−Cl、−Br、−I、−CN、−NO2、−NCO、−NCS、−OCN、−SCN、−C(=O)NR1R2、−C(=O)X、−C(=O)OR1、−NR1R2、−OH、−SF5、置換もしくは非置換のシリル、炭素数6〜12のアリール、炭素数1〜12の直鎖または分枝鎖アルキル、アルコキシ、アルキルカルボニルアルコキシカルボニルアルキルカルボニルオキシ、またはアルコキシカルボニルオキシである。

0042

そして、前記化学式2において、B1は、−H、−F、−Cl、−Br、−I、−CN、−NC、−NCO、−OCN、−SCN、−C(=O)NR1R2、−C(=O)R1、−NH2、−SH、−SR1、−SO3H、−SO2R1、−OH、−NO2、−CF3、−SF3、重合性基(前記化学式1で定義されたP)、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数2〜4のアシル基、末端に炭素数2〜4のアシル基が結合した炭素数2〜6のアルキニレン基、炭素数1〜5のアルコール基、または炭素数1〜12のアルコキシ基であり、前記R1およびR2は、それぞれ独立に、−Hまたは炭素数1〜12のアルキルである。

0043

特に、発明の実施形態によれば、前記B1は、前述した例示基中において、前記化学式2のブリッジング基が共役構造を有するようにするパイ共役の線状基、芳香族基、およびヘテロ芳香族基からなる群より選択された1つ以上の基(例えば、前記Q1に対応する基)であることが好ましいことがある。

0044

非制限的な例として、前記化学式1の逆波長分散性化合物としては、後述する実施例によるRD−01〜RD−42で表される化合物を挙げることができる。ただし、前記逆波長分散性化合物がRD−01〜RD−42の化合物にのみ限定されるものではなく、前述した範囲において多様な組み合わせで実現できる。

0045

そして、前記化学式1で表される逆波長分散性化合物は、公知の反応を応用して合成可能であり、より詳細な合成方法は実施例を用いて述べる。

0046

(反応性メソジェニック化合物)
一方、発明の実施形態に係る光学素子用組成物には、少なくとも1つの重合可能な官能基を有する反応性メソジェニック化合物が含まれる。

0047

前記反応性メソジェニック化合物は、本発明の属する技術分野における通常のものであってもよいが、好ましくは、下記化学式3で表される化合物であってもよい:



前記化学式3において、
Pは、重合性基であり、
Spは、スペーサー基または単結合であり、
Xは、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−OCOO−、または単結合であり、
nは、0または1であり、
MGは、メソジェニック基であり、
Rは、炭素数1〜25のアルキルラジカルハロゲンシアノ、または前記P−(Sp−X)n−に与えられた意味を有するものであり、前記アルキルラジカルにおいて、1つ以上の隣接しないCH2基は、互いにそれぞれ独立に、酸素原子が互いに直接連結されない方式で−O−、−S−、−NH−、−N(CH3)−、−CO−、−COO−、−OCO−、−OCO−O−、−S−CO−、−CO−S−、または−C≡C−によって代替されていてもよい。

0048

前記化学式3において、Pは、重合性基であって、化学式1の化合物における定義による。前記化学式3において、好ましくは、Pは、ビニル基アクリレート基メタクリレート基プロペニルエーテル基、またはエポキシ基であってもよい。

0049

そして、前記化学式3において、Spは、スペーサー基であって、化学式1の化合物における定義による。前記化学式3において、好ましくは、Spは、炭素数1〜20の線状または分枝されたアルキレン基であってもよく、前記アルキレン基において、1つ以上の隣接しないCH基は、−O−、−S−、−NH−、−N(CH)−、−CO−、−O−CO−、−S−CO−、−O−COO−、−CO−S−、−CO−O−、−CHF−、−CHCl−、−CH(CN)−、−CH=CH−、または−C≡C−によって代替されていてもよい。

0050

一方、前記化学式3において、MGは、メソジェニック基であって、好ましくは、下記化学式4で表される基であってもよい:



前記化学式4において、
Ya、YbおよびYcは、それぞれ独立に、1つ以上のCH基がNによって置換もしくは非置換の1,4−フェニレン;1つまたは2つの隣接しないCH2基がO、SまたはOとSによって置換もしくは非置換の1,4−シクロへキシレン、1,4−シクロヘキセニレン、またはナフタレン−2,6−ジイルであり;前記全ての基は、ハロゲン、シアノ、ニトロ基、または1つ以上の水素原子がFまたはClによって置換されていてもよい炭素数1〜7のアルキル、アルコキシまたはアルカノイル基で1置換または多置換されていてもよく、
ZaおよびZbは、それぞれ独立に、−COO−、−OCO−、−CH2CH2−、−OCH2−、−CH2O−、−CH=CH−、−C≡C−、−CH=CH−COO−、−OCO−CH=CH−、または単結合であり、
nは、0、1または2である。

0051

ここで、前記化学式4のYa、YbおよびYcは、それぞれ独立に、1,4−フェニレン(Phe)、1つ以上の基Lによって置換された1,4−フェニレン(PheL)、または1,4−シクロへキシレン(Cyc)であり、前記基Lは、F、Cl、CN、NO2、CH3、C2H5、OCH3、OC2H5、COCH3、COC2H5、CF3、OCF3、OCHF3、またはOCH2F5である。そして、前記ZaおよびZbは、それぞれ独立に、−COO−、−OCO−、−CH2CH2−、または−CH=CH−COO−であってもよい。

0052

非制限的な例として、前記化学式4で表される基は、−Phe−Zb−Phe−、−Phe−Zb−Cyc−、−PheL−Zb−Phe−、−PheL−Zb−Cyc−、−Phe−Zb−PheL−、−Phe−Za−Phe−Phe−、−Phe−Za−Phe−Cyc−、−Phe−Za−Phe−Zb−Phe−、−Phe−Za−Phe−Zb−Cyc−、−Phe−Za−Cyc−Zb−Phe−、−Phe−Za−Cyc−Zb−Cyc−、−Phe−Za−PheL−Zb−Phe−、−Phe−Za−Phe−Zb−PheL−、−PheL−Za−Phe−Zb−PheL−、−PheL−Za−PheL−Zb−Phe−、または−PheL−Za−PheL−Zb−PheL−などであってもよい。

0053

このような反応性メソジェニック化合物は、下記化学式5a〜5gで表される群より選択される1種以上の化合物で代表されていてもよい:

0054

0055

前記化学式5a〜5gにおいて、
xおよびyは、それぞれ独立に、1〜12の整数であり、
Aは、1,4−フェニレンまたは1,4−シクロへキシレン基であり、
R1は、ハロゲン、シアノ、または炭素数1〜12のアルキルまたはアルコキシ基であり、
Q1およびQ2は、それぞれ独立に、H、ハロゲン、CN、炭素数1〜7のアルキル、アルコキシまたはアルカノイル基である。

0056

一方、発明の実施形態によれば、前記光学素子用組成物は、前記逆波長分散性化合物100重量部に対して、前記反応性メソジェニック化合物100〜300重量部、または100〜250重量部、または120〜250重量部を含んでいてもよい。つまり、本発明で要求される逆波長分散性が十分に誘導できるようにするために、前記反応性メソジェニック化合物は、逆波長分散性化合物100重量部に対して、300重量部以下で含まれることが有利である。ただし、前記反応性メソジェニック化合物の含有量が低すぎる場合、組成物の液晶特性が低下することがある。したがって、前記反応性メソジェニック化合物は、逆波長分散性化合物100重量部に対して、100重量部以上で含まれることが有利である。

0057

そして、発明の実施形態によれば、前記光学素子用組成物には、前述した化学式1の逆波長分散性化合物および前記反応性メソジェニック化合物のほか、重合開始剤および溶媒がさらに含まれていてもよい。

0058

ここで、前記重合開始剤および溶媒としては、本発明の属する技術分野における通常のものが特別な制限なく適用可能である。そして、前記重合開始剤の含有量は、重合反応を十分に誘導できながらも過剰添加による組成物の物性の低下を防止する通常の範囲内で決定可能であり、好ましくは、前記逆波長分散性化合物100重量部に対して、0.01〜5重量部であってもよい。また、前記溶媒の含有量は、組成物に適切な粘度を付与し、適切な重合反応が誘導できる通常の範囲内で決定できる。非制限的な例として、前記溶媒は、前記組成物に含まれる固形分(前記逆波長分散性化合物、反応性メソジェニック化合物、および重合開始剤など)の含有量が15〜40重量%、または15〜35重量%、または20〜30重量%となるように含まれていてもよい。あるいは、前記溶媒は、前記逆波長分散性化合物100重量部に対して、100〜1500重量部、または500〜1500重量部含まれていてもよい。

0059

そして、非制限的な例として、前記溶媒は、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン(mesitylene)、n−ブチルベンゼン、ジエチルベンゼンテトラリン(tetralin)、メトキシベンゼン、1,2−ジメトキシベンゼンエチレングリコールジメチルエーテルジエチレングリコールジメチルエーテルアセトンメチルエチルケトンメチルイソブチルケトンシクロペンタノンシクロヘキサノン酢酸エチル乳酸メチル乳酸エチルエチレングリコールモノメチルエーテルアセテートプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートγ−ブチロラクトン2−ピロリドンN−メチル−2−ピロリドンジメチルホルムアミドクロロホルムジクロロメタン四塩化炭素ジクロロエタントリクロロエチレンテトラクロロエチレンクロロベンゼンt−ブチルアルコールジアセトンアルコールグリセリンモノアセチンエチレングリコールトリエチレングリコール、へキシレングリコールエチレングリコールモノメチルエーテルエチルセロソルブブチルセロソルブ、またはこれらの混合物であってもよい。これらの溶剤の中でも、沸点が60〜250℃のものが、組成物の塗布時に均一な膜厚を形成するのに有利であり、溶媒の残留や配向性の低下を最小化するのに有利である。

0060

そして、前記光学素子用組成物には、必要に応じて選択的に、少なくとも2つの重合可能な官能基を有する非メソジェニック化合物がさらに含まれていてもよい。前記非メソジェニック化合物は、重合体架橋結合を増加させるための目的で含まれるものであって、好ましくは、炭素数1〜20のアルキルアクリレート、および炭素数1〜20のアルキルジメタクリレートからなる群より選択される1種以上の化合物であってもよく、より好ましくは、トリメチルプロパントメタクリレートペンタエリスリトールテトラアクリレートなどであってもよい。

0062

そして、前記一実施形態の光学素子用組成物には、必要に応じて選択的に、光学異方性を調節したり、重合膜の強度を向上させるための微粒子化物がさらに含まれていてもよい。前記微粒子化物は、ヘクトライトモンモリロナイトカオリナイト、ZnO、TiO2、CeO2、Al2O3、Fe2O3、ZrO2、MgF2、SiO2、SrCO3、Ba(OH)2、Ca(OH)2、Ga(OH)3、Al(OH)3、Mg(OH)2、Zr(OH)4などの無機微粒子化物カーボンナノチューブフラーレンデンドリマーポリビニルアルコールポリメタクリレートポリイミドなどの有機微粒子化物であってもよい。

0063

II.光学異方体
一方、発明の他の実施形態によれば、前記光学素子用組成物を用いて形成された光学異方体が提供される。

0064

前記光学異方体は、前記化学式1の逆波長分散性化合物の末端重合性基と前記メソジェニック化合物の末端重合性基の少なくとも一部とが付加重合または架橋されている硬化物または重合体を含むものであってもよい。特に、前記光学異方体は、前記化学式1の逆波長分散性化合物を含む組成物から形成されることによって、下記式Iおよび式IIを満足する逆波長分散性を示すことができる:
(式I)
△n(450nm)/△n(550nm)<1.0
(式II)
△n(650nm)/△n(550nm)>1.0
上記式Iおよび式IIにおいて、△n(λ)は、液晶相内の波長λでの比複屈折率を意味する。

0065

前記光学異方体は、前記光学素子用組成物を支持基板に塗布し、前記組成物中の液晶化合物を配向させた状態で脱溶媒し、次に、エネルギー線を照射して重合させることによって製造できる。

0066

ここで、前記支持基板は特に限定されず、非制限的な例として、ガラス板ポリエチレンテレフタレートフィルムポリイミドフィルムポリアミドフィルムポリメタクリル酸メチルフィルムポリスチレンフィルムポリ塩化ビニルフィルムポリテトラフルオロエチレンフィルムセルロース系フィルムシリコンフィルムなどが用いられる。そして、前記支持基板上にポリイミド配向膜またはポリビニルアルコール配向膜を施したものが好ましく用いられる。

0067

前記支持基板に組成物を塗布する方法としては、公知の方法が使用可能であり、例えば、ロールコーティング法、スピンコーティング法バーコーティング法ディップコーティング法、スプレーコーティング法などが適用可能である。そして、前記組成物によって形成される膜の厚さは、用途に応じて異なっていてもよいが、好ましくは0.01〜100μmの範囲で選択できる。

0068

一方、前記液晶化合物を配向させる方法としては、非制限的な例として、支持基板上に事前配向処理を実施する方法が挙げられる。配向処理を実施する方法としては、各種ポリイミド系配向膜またはポリビニルアルコール系配向膜を含む液晶配向層を支持基板上に形成し、ラビングなどの処理を行う方法が挙げられる。また、支持基板上の組成物に磁場または電場などを印加する方法なども挙げられる。

0069

そして、前記逆波長分散性組成物を重合させる方法は、光、熱または電磁波を利用する公知の方法であってもよい。

0070

そして、前記光学異方体は、液晶ディスプレイまたはOLED方式のディスプレイ位相差フィルム偏光素子反射防止フィルム選択反射膜視野角補償膜などに使用できる。特に、前記組成物を用いて形成された光学異方体をOLED方式のディスプレイに適用する場合、外部光による干渉が最小化され、より完璧な黒色の実現が可能である。

発明の効果

0071

本発明に係る光学素子用組成物は、より強くて安定した逆波長分散を示すことができる光学異方体の提供を可能にする。前記組成物を用いて形成された光学異方体は、液晶またはOLEDタイプの表示装置薄層広帯域波長板などに適用可能である。

図面の簡単な説明

0072

本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキーム(Scheme)を示す。
本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。
本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。
本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。
本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。
本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。
本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。
本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。
本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。
本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。
本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。
本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。
本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。
本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。
本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。
本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。
本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。
本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。
本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。
本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。

実施例

0073

以下、具体的な実施例を用いて、発明の作用および効果をより詳細に述べる。ただし、これらの実施例は発明の例として提示されたものに過ぎず、これらによって発明の権利範囲が定められるものではない。

0074

実施例1:化合物RD−01の合成



図1A図1Cに示すスキームにより前記化合物RD−01を合成した。

0075

(化合物2の合成)
約100gの化合物1((1’s,4’r)−4’−pentyl−[1,1’−bi(cyclohexan)]−4−one)と約60gのテトラメチレンジアミン(tetramethylenediamine)を、テトラヒドロフラン(tetrahydrofuran)に溶かした後、約−78℃下、約300mlのn−ブチルリチウム(n−butyl lithium)をゆっくり滴加した。これを約2時間撹拌した後、これにエチニルトリメチルシラン(ethynyltrimethylsilane)を入れて、約1時間追加的に撹拌した。そして、前記反応物をジクロロメタン(dichloromethane)と水で抽出し、有機層化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約120gの化合物2を得た。

0076

(化合物3の合成)
約120gの前記化合物2と約100gのK2CO3(potassium carbonate)を、メタノールに溶かした後、常温で約24時間撹拌した。これをフィルタリングして余分なK2CO3を除去した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、溶媒を除去し、カラムクロマトグラフィーで精製して、約110gの化合物3を得た。

0077

(化合物5の合成)
約100gの化合物4(1,4−diethynylbenzene)をテトラヒドロフランに溶かした後、約−78℃下、約20分間撹拌した。これに約500mlのn−butyl lithium in 2.5M hexaneを約2時間かけてゆっくり滴加した。これを約4時間撹拌した後、これに約100mlのクロロトリメチルシラン(chlorotrimethylsilane)を入れて、約24時間撹拌した。そして、前記反応物をエチルアセテートと水で抽出し、有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約60gの化合物5を得た。

0078

(化合物6の合成)
約200gの1,4−diiodobenzene、約3gのPd(PPh3)2Cl2(Bis(triphenylphosphine)palladium(II) dichloride)、約5gのCuI(copper iodide)、および約200mlのN,N−ジイソプロピルエチルアミン(N,N−diisopropylethylamine)を、テトラヒドロフランに溶かした後、これに約50gの前記化合物5を溶かしたテトラヒドロフランをゆっくり滴加した。これを約24時間還流撹拌した後、生成された塩をフィルタリングして除去し、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約70gの化合物6を得た。

0079

(化合物8の合成)
約100gの化合物7(4−hydroxy−3−iodobenzoic acid)と約400gのN,N−ジイソプロピルエチルアミン(N,N−diisopropylethylamine)を、ジクロロメタンに溶かした後、約0℃下、約200gのメチルクロロメチルエーテル(methyl chloromethyl ether)をゆっくり滴加した。これを約24時間撹拌した後、約500mlのアンモニウムクロライド(ammonium chloride)で洗浄し、ジクロロメタンと水で抽出した。そして、抽出された有機層を化学的に乾燥した後、溶媒を除去した。これによって得られた物質と水酸化カリウム(potassium hydroxide)水溶液をメタノールに入れて、約3時間還流撹拌した。これに6Nの塩酸(hydrochloric acid)を入れて析出させた後、フィルタリングして溶媒を除去した。そして、ヘキサンを用いて余分な異物を除去した後、約48時間乾燥して、約110gの化合物8を得た。

0080

(化合物9の合成)
約100gの前記化合物8、約100gの前記化合物3、そして約70gの4−(ジメチルアミノ)ピリジン(4−(dimethylamino)pyridine))を、ジクロロメタンに溶かした後、約30分間撹拌した。これに約80gの1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピルカルボジイミド(1−ethyl−3−(3−dimethylaminopropyl)carbodiimide)を添加して、約24時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約150gの化合物9を得た。

0081

(化合物10の合成)
約100gの前記化合物9と約300mlの6N塩酸を、テトラヒドロフランに溶かした後、約40℃下、約24時間撹拌した。そして、ジクロロメタンと水で抽出した後、抽出された有機層を化学的に乾燥し、カラムクロマトグラフィーで精製して、約80gの化合物10を得た。

0082

(化合物12−1の合成)
約80gの前記化合物10、約50gの化合物11−1((1r,4r)−4−((4−(acryloyloxy)butoxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid)、約5gの4−(ジメチルアミノ)ピリジン(4−(dimethylamino)pyridine))、および約50gのN,N−ジイソプロピルエチルアミン(N,N−diisopropylethylamine)を、ジクロロメタンに溶かした後、約30分間撹拌した。これに、約80gの1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド(1−ethyl−3−(3−dimethylaminopropyl)carbodiimide)、および約50gのエチニルトリメチルシラン(ethynyltrimethylsilane)を添加して、約24時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約100gの化合物12−1を得た。

0083

(化合物13−1の合成)
約80gの前記化合物12−1、約20gのエチニルトリメチルシラン(ethynyltrimethylsilane)、約3gのPd(PPh3)2Cl2(Bis(triphenylphosphine)palladium(II) dichloride)、および約5gのCuI(copper iodide)を、テトラヒドロフランに溶かした後、約24時間還流撹拌した。生成された塩をフィルタリングして除去し、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約70gの化合物13−1を得た。

0084

(化合物14−1の合成)
約70gの前記化合物13−1と約6gのAgNO3(silver nitrate)を、混合溶媒(水:ジクロロメタン:エタノール=1:6:3)に溶かして、約24時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約50gの化合物14−1を得た。

0085

(化合物15−1の合成)
約50gの前記化合物14−1、約20gの前記化合物6、約3gのPd(PPh3)2Cl2(Bis(triphenylphosphine)palladium(II) dichloride)、および約5gのCuI(copper iodide)を、テトラヒドロフランに溶かした後、約24時間還流撹拌した。生成された塩をフィルタリングして除去し、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約30gの化合物15−1を得た。

0086

(化合物RD−01の合成)
約30gの前記化合物15−1と約6gのAgNO3(silver nitrate)を、混合溶媒(水:ジクロロメタン:エタノール=1:6:3)に溶かして、約24時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約20gの化合物RD−01を得た。

0087

得られた化合物RD−01に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.40(2H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60−1.12(48H,m)

0088

実施例2:化合物RD−02の合成



図1A図1Cに示すスキームにより前記化合物RD−02を合成した。

0089

(化合物12−2の合成)
前記化合物11−1の代わりに約55gの化合物11−2((1r,4r)−4−(((6−(acryloyloxy)hexyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid)を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約100gの化合物12−2を得た。

0090

(化合物13−2の合成)
前記化合物12−1の代わりに前記化合物12−2を用いたことを除き、実施例1の化合物13−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物13−2を得た。

0091

(化合物14−2の合成)
前記化合物13−1の代わりに前記化合物13−2を用いたことを除き、実施例1の化合物14−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物14−2を得た。

0092

(化合物15−2の合成)
前記化合物14−1の代わりに前記化合物14−2を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物15−2を得た。

0093

(化合物RD−02の合成)
前記化合物15−1の代わりに前記化合物15−2を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−1の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−02を得た。

0094

得られた化合物RD−2に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.40(2H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60−1.12(52H,m)

0095

実施例3:化合物RD−03の合成



図1A図1Cに示すスキームにより前記化合物RD−03を合成した。

0096

(化合物12−3の合成)
前記化合物11−1の代わりに約60gの化合物11−3((1r,4r)−4−(((8−(acryloyloxy)octyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid)を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約100gの化合物12−3を得た。

0097

(化合物13−3の合成)
前記化合物12−1の代わりに前記化合物12−3を用いたことを除き、実施例1の化合物13−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物13−3を得た。

0098

(化合物14−3の合成)
前記化合物13−1の代わりに前記化合物13−3を用いたことを除き、実施例1の化合物14−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物14−3を得た。

0099

(化合物15−3の合成)
前記化合物14−1の代わりに前記化合物14−3を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物15−3を得た。

0100

(化合物RD−03の合成)
前記化合物15−1の代わりに前記化合物15−3を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−1の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−03を得た。

0101

得られた化合物RD−3に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.40(2H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60−1.12(56H,m)

0102

実施例4:化合物RD−04の合成



図2Aおよび図2Bに示すスキームにより前記化合物RD−04を合成した。

0103

(化合物17の合成)
約100gの化合物16(4−(4−hydroxyphenyl)cyclohexanone)と約120gのN,N−ジイソプロピルエチルアミン(N,N−diisopropylethylamine)を、ジクロロメタンに溶かした後、常温下、約50gのメチルクロロメチルエーテル(methyl chloromethyl ether)をゆっくり滴加した。これを約2時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。そして、抽出された有機層を化学的に乾燥した後、溶媒を除去し、カラムクロマトグラフィーで精製して、約120gの化合物17を得た。

0104

(化合物18の合成)
約120gの化合物17と約100gのN,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(N,N,N’,N’−tetramethylethylenediamine)を、テトラヒドロフラン(tetrahydrofuran)に溶かした後、約−78℃下、20分間撹拌した。これに約500mlのn−butyl lithium in 2.5M hexaneを2時間かけてゆっくり滴加した。これを約4時間撹拌した後、これにエチニルトリメチルシラン(ethynyltrimethylsilane)を入れて、約24時間追加的に撹拌した。そして、前記反応物をエチルアセテートと水で抽出した後、有機層を化学的に乾燥し、カラムクロマトグラフィーで精製して、約100gの化合物18を得た。

0105

(化合物19の合成)
約100gの化合物18と約10gのテトラブチルアンモニウムフルオライドハイドレート(tetrabutylammonium fluoride hydrate)を、テトラヒドロフランに溶かした後、約2時間撹拌した。そして、前記反応物をエチルアセテートと水で抽出した後、有機層を化学的に乾燥し、カラムクロマトグラフィーで精製して、約80gの化合物19を得た。

0106

(化合物21の合成)
約70gの化合物19、約70gの化合物20[4−(methoxymethoxy)benzoic acid]、そして約50gの4−(ジメチルアミノ)ピリジン[4−(dimethylamino)pyridine)]を、ジクロロメタンに溶かした後、約30分間撹拌した。これに約80gの1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド(1−ethyl−3−(3−dimethylaminopropyl)carbodiimide)を添加して、約24時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約80gの化合物21を得た。

0107

(化合物22の合成)
約80gの化合物21と約300mlの6N塩酸を、テトラヒドロフランに溶かした後、約40℃下、約24時間撹拌した。そして、ジクロロメタンと水で抽出した後、抽出された有機層を化学的に乾燥し、カラムクロマトグラフィーで精製して、約60gの化合物22を得た。

0108

(化合物23−1の合成)
約60gの化合物22、約50gの化合物11−1((1r,4r)−4−((4−(acryloyloxy)butoxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid)、約5gの4−(ジメチルアミノ)ピリジン(4−(dimethylamino)pyridine))、および約50gのN,N−ジイソプロピルエチルアミン(N,N−diisopropylethylamine)を、ジクロロメタンに溶かした後、約30分間撹拌した。これに、約80gの1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド(1−ethyl−3−(3−dimethylaminopropyl)carbodiimide)、および約50gのエチニルトリメチルシラン(ethynyltrimethylsilane)を添加して、約24時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約80gの化合物23−1を得た。

0109

(化合物24−1の合成)
約80gの前記化合物23−1、実施例1による約30gの前記化合物6、約3gのPd(PPh3)2Cl2(Bis(triphenylphosphine)palladium(II) dichloride)、および約5gのCuI(copper iodide)を、テトラヒドロフランに溶かした後、約24時間還流撹拌した。生成された塩をフィルタリングして除去し、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約70gの化合物24−1を得た。

0110

(化合物RD−04の合成)
約50gの化合物24−1と約10gのAgNO3(silver nitrate)を、混合溶媒(水:ジクロロメタン:エタノール=1:6:3)に溶かして、約24時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約30gの化合物RD−04を得た。

0111

得られた化合物RD−04に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(2H,dd),6.05(2H,dd),5.59(2H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(4H,t),2.50(1H,s),1.60−1.12(23H,m)

0112

実施例5:化合物RD−05の合成



図2Aおよび図2Bに示すスキームにより前記化合物RD−05を合成した。

0113

(化合物23−2の合成)
化合物11−1の代わりに化合物11−2((1r,4r)−4−(((6−(acryloyloxy)hexyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid)を用いたことを除き、実施例4の化合物23−1の合成と同様の方法で、約100gの化合物23−2を得た。

0114

(化合物24−2の合成)
化合物23−1の代わりに前記化合物23−2を用いたことを除き、実施例4の化合物24−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物24−2を得た。

0115

(化合物RD−05の合成)
化合物24−1の代わりに前記化合物24−2を用いたことを除き、実施例4の化合物RD−04の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−05を得た。

0116

得られた化合物RD−05に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(2H,dd),6.05(2H,dd),5.59(2H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(4H,t),2.50(1H,s),1.60−1.12(31H,m)

0117

実施例6:化合物RD−06の合成



図2Aおよび図2Bに示すスキームにより前記化合物RD−06を合成した。

0118

(化合物23−3の合成)
化合物11−1の代わりに化合物11−3((1r,4r)−4−(((8−(acryloyloxy)octyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid)を用いたことを除き、実施例4の化合物23−1の合成と同様の方法で、約100gの化合物23−3を得た。

0119

(化合物24−3の合成)
化合物23−1の代わりに前記化合物23−3を用いたことを除き、実施例4の化合物24−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物24−3を得た。

0120

(化合物RD−06の合成)
化合物24−1の代わりに前記化合物24−3を用いたことを除き、実施例4の化合物RD−04の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−06を得た。

0121

得られた化合物RD−06に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(2H,dd),6.05(2H,dd),5.59(2H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(4H,t),2.50(1H,s),1.60−1.12(39H,m)

0122

実施例7:化合物RD−07の合成



図3Aおよび図3Bに示すスキームにより前記化合物RD−07を合成した。

0123

(化合物26の合成)
約100gの化合物25(4−hydroxybenzoic acid)、約100gのN,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド(N,N’−dicyclohexylcarbodiimide)、約10gの4−(ジメチルアミノ)ピリジン(4−(dimethylamino)pyridine))、および約20gのtert−ブタノール(tert−butanol)を、テトラヒドロフランに溶かした後、約24時間撹拌した。そして、ジクロロメタンと水で抽出した後、抽出された有機層を化学的に乾燥し、カラムクロマトグラフィーで精製して、約80gの化合物26を得た。

0124

(化合物28−1の合成)
約60gの化合物26、約50gの化合物27−1[(1r,4r)−4−(butoxycarbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]、約5gの4−(ジメチルアミノ)ピリジン(4−(dimethylamino)pyridine))、および約50gのN,N−ジイソプロピルエチルアミン(N,N−diisopropylethylamine)を、ジクロロメタンに溶かした後、約30分間撹拌した。これに、約80gの1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド(1−ethyl−3−(3−dimethylaminopropyl)carbodiimide)、および約50gのエチニルトリメチルシラン(ethynyltrimethylsilane)を添加して、約24時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約80gの化合物28−1を得た。

0125

(化合物29−1の合成)
約80gの化合物28−1と約50gのテトラフルオロ酢酸(tetrafluoroacetic acid)を、ジクロロメタンに溶かした後、約24時間撹拌した。そして、ジクロロメタンと水で抽出した後、抽出された有機層を化学的に乾燥し、カラムクロマトグラフィーで精製して、約60gの化合物29−1を得た。

0126

(化合物30−1の合成)
約60gの化合物29−1、実施例4による約50gの化合物19、そして約50gの4−(ジメチルアミノ)ピリジン(4−(dimethylamino)pyridine))を、ジクロロメタンに溶かした後、約30分間撹拌した。これに約80gの1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド(1−ethyl−3−(3−dimethylaminopropyl)carbodiimide)を添加して、約24時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約80gの化合物30−1を得た。

0127

(化合物31−1の合成)
約80gの化合物30−1と約300mlの6N塩酸を、テトラヒドロフランに溶かした後、約40℃下、約24時間撹拌した。そして、ジクロロメタンと水で抽出した後、抽出された有機層を化学的に乾燥し、カラムクロマトグラフィーで精製して、約60gの化合物31−1(m=3)を得た。

0128

(化合物32−1の合成)
化合物10の代わりに前記化合物31−1(m=3)を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約80gの化合物32−1を得た。

0129

(化合物33−1の合成)
化合物14−1の代わりに前記化合物32−1を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物33−1を得た。

0130

(化合物RD−07の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物33−1を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約30gの化合物RD−07を得た。

0131

得られた化合物RD−07に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,s),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60−0.90(25H,m)

0132

実施例8:化合物RD−08の合成



図3Aおよび図3Bに示すスキームにより前記化合物RD−08を合成した。

0133

(化合物28−2の合成)
化合物27−1の代わりに化合物27−2[(1r,4r)−4−((hexyloxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]を用いたことを除き、実施例7の化合物28−1の合成と同様の方法で、約100gの化合物28−2を得た。

0134

(化合物29−2の合成)
化合物28−1の代わりに前記化合物28−2を用いたことを除き、実施例7の化合物29−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物29−2を得た。

0135

(化合物30−2の合成)
化合物29−1の代わりに前記化合物29−2を用いたことを除き、実施例7の化合物30−1の合成と同様の方法で、約90gの化合物30−2を得た。

0136

(化合物31−2の合成)
化合物30−1の代わりに前記化合物30−2を用いたことを除き、実施例7の化合物31−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物31−2(m=5)を得た。

0137

(化合物32−2の合成)
化合物10の代わりに前記化合物31−2(m=5)を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約80gの化合物32−2を得た。

0138

(化合物33−2の合成)
化合物14−1の代わりに前記化合物32−2を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物33−2を得た。

0139

(化合物RD−08の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物33−2を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約30gの化合物RD−08を得た。

0140

得られた化合物RD−08に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,s),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60−0.90(29H,m)

0141

実施例9:化合物RD−09の合成



図3Aおよび図3Bに示すスキームにより前記化合物RD−09を合成した。

0142

(化合物28−3の合成)
化合物27−1の代わりに化合物27−3[(1r,4r)−4−((octyloxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]を用いたことを除き、実施例7の化合物28−1の合成と同様の方法で、約100gの化合物28−3を得た。

0143

(化合物29−3の合成)
化合物28−1の代わりに前記化合物28−3を用いたことを除き、実施例7の化合物29−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物29−3を得た。

0144

(化合物30−3の合成)
化合物29−1の代わりに前記化合物29−3を用いたことを除き、実施例7の化合物30−1の合成と同様の方法で、約90gの化合物30−3を得た。

0145

(化合物31−3の合成)
化合物30−1の代わりに前記化合物30−3を用いたことを除き、実施例7の化合物31−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物31−3(m=7)を得た。

0146

(化合物32−3の合成)
化合物10の代わりに前記化合物31−3(m=7)を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約80gの化合物32−3を得た。

0147

(化合物33−3の合成)
化合物14−1の代わりに前記化合物32−3を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物33−3を得た。

0148

(化合物RD−09の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物33−3を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約30gの化合物RD−09を得た。

0149

得られた化合物RD−09に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,s),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60−0.90(33H,m)

0150

実施例10:化合物RD−10の合成



図3Aおよび図3Bに示すスキームにより前記化合物RD−10を合成した。

0151

(化合物32−4の合成)
化合物10の代わりに前記化合物31−1(m=3)を用い、化合物11−1の代わりに化合物11−2(n=6)[(1r,4r)−4−(((6−(acryloyloxy)hexyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約80gの化合物32−4を得た。

0152

(化合物33−4の合成)
化合物14−1の代わりに前記化合物32−4を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約60gの化合物33−4を得た。

0153

(化合物RD−10の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物33−4を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−10を得た。

0154

得られた化合物RD−10に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,s),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60−0.90(29H,m)

0155

実施例11:化合物RD−11の合成



図3Aおよび図3Bに示すスキームにより前記化合物RD−11を合成した。

0156

(化合物32−5の合成)
化合物10の代わりに前記化合物31−2(m=5)を用い、化合物11−1の代わりに化合物11−2(n=6)[(1r,4r)−4−(((6−(acryloyloxy)hexyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約80gの化合物32−5を得た。

0157

(化合物33−5の合成)
化合物14−1の代わりに前記化合物32−5を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約60gの化合物33−5を得た。

0158

(化合物RD−11の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物33−5を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−11を得た。

0159

得られた化合物RD−11に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,s),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60−0.90(33H,m)

0160

実施例12:化合物RD−12の合成



図3Aおよび図3Bに示すスキームにより前記化合物RD−12を合成した。

0161

(化合物32−6の合成)
化合物10の代わりに前記化合物31−3(m=7)を用い、化合物11−1の代わりに化合物11−2(n=6)[(1r,4r)−4−(((6−(acryloyloxy)hexyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約80gの化合物32−6を得た。

0162

(化合物33−6の合成)
化合物14−1の代わりに前記化合物32−6を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約60gの化合物33−6を得た。

0163

(化合物RD−12の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物33−6を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−12を得た。

0164

得られた化合物RD−12に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,s),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60−0.90(37H,m)

0165

実施例13:化合物RD−13の合成



図3Aおよび図3Bに示すスキームにより前記化合物RD−13を合成した。

0166

(化合物32−7の合成)
化合物10の代わりに前記化合物31−1(m=3)を用い、化合物11−1の代わりに化合物11−3(n=8)[(1r,4r)−4−(((8−(acryloyloxy)octyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約80gの化合物32−7を得た。

0167

(化合物33−7の合成)
化合物14−1の代わりに前記化合物32−7を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約60gの化合物33−7を得た。

0168

(化合物RD−13の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物33−7を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−13を得た。

0169

得られた化合物RD−13に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,s),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60−0.90(33H,m)

0170

実施例14:化合物RD−14の合成



図3Aおよび図3Bに示すスキームにより前記化合物RD−14を合成した。

0171

(化合物32−8の合成)
化合物10の代わりに前記化合物31−2(m=5)を用い、化合物11−1の代わりに化合物11−3(n=8)[(1r,4r)−4−(((8−(acryloyloxy)octyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約80gの化合物32−8を得た。

0172

(化合物33−8の合成)
化合物14−1の代わりに前記化合物32−8を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約60gの化合物33−8を得た。

0173

(化合物RD−14の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物33−8を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−14を得た。

0174

得られた化合物RD−14に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,s),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60−0.90(37H,m)

0175

実施例15:化合物RD−15の合成



図3Aおよび図3Bに示すスキームにより前記化合物RD−15を合成した。

0176

(化合物32−9の合成)
化合物10の代わりに前記化合物31−3(m=7)を用い、化合物11−1の代わりに化合物11−3(n=8)[(1r,4r)−4−(((8−(acryloyloxy)octyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約80gの化合物32−9を得た。

0177

(化合物33−9の合成)
化合物14−1の代わりに前記化合物32−9を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約60gの化合物33−9を得た。

0178

(化合物RD−15の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物33−9を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−15を得た。

0179

得られた化合物RD−15に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,s),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60−0.90(41H,m)

0180

実施例16:化合物RD−16の合成



図4Aおよび図4Bに示すスキームにより前記化合物RD−16を合成した。

0181

(化合物34の合成)
約200gの1,4−diiodobenzene、約3gのPd(PPh3)2Cl2(Bis(triphenylphosphine)palladium(II) dichloride)、約5gのCuI(copper iodide)、および約200mlのN,N−ジイソプロピルエチルアミン(N,N−diisopropylethylamine)を、テトラヒドロフランに溶かした後、これに約50gの化合物4(1,4−diethynylbenzene)を溶かしたテトラヒドロフランをゆっくり滴加した。これを約24時間還流撹拌した後、生成された塩をフィルタリングして除去し、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約100gの化合物34を得た。

0182

(化合物35の合成)
約100gの化合物34をテトラヒドロフランに溶かした後、約−78℃下、約20分間撹拌した。これに約500mlのn−butyl lithium in 2.5M hexaneを約2時間かけてゆっくり滴加した。これを約4時間撹拌した後、これに約100mlのクロロトリメチルシラン(chlorotrimethylsilane)を入れて、約24時間撹拌した。そして、前記反応物をエチルアセテートと水で抽出し、有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約60gの化合物35を得た。

0183

(化合物36の合成)
約100gの化合物25(4−hydroxybenzoic acid)と約400gのN,N−ジイソプロピルエチルアミン(N,N−diisopropylethylamine)を、ジクロロメタンに溶かした後、約0℃下、約200gのメチルクロロメチルエーテル(methyl chloromethyl ether)をゆっくり滴加した。これを約24時間撹拌した後、約500mlのアンモニウムクロライド(ammonium chloride)で洗浄し、ジクロロメタンと水で抽出した。そして、抽出された有機層を化学的に乾燥した後、溶媒を除去した。こうして得られた物質と水酸化カリウム(potassium hydroxide)水溶液をメタノールに入れて、約3時間還流撹拌した。これに6Nの塩酸(hydrochloric acid)を入れて析出させた後、フィルタリングして溶媒を除去した。そして、ヘキサンを用いて余分な異物を除去した後、約48時間乾燥して、約110gの化合物36を得た。

0184

(化合物37の合成)
約100gの化合物36、実施例1による約100gの前記化合物3、そして約70gの4−(ジメチルアミノ)ピリジン(4−(dimethylamino)pyridine))を、ジクロロメタンに溶かした後、約30分間撹拌した。これに約80gの1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド(1−ethyl−3−(3−dimethylaminopropyl)carbodiimide)を添加して、約24時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約150gの化合物37を得た。

0185

(化合物38の合成)
約100gの化合物37と約300mlの6N塩酸を、テトラヒドロフランに溶かした後、約40℃下、約24時間撹拌した。そして、ジクロロメタンと水で抽出した後、抽出された有機層を化学的に乾燥し、カラムクロマトグラフィーで精製して、約80gの化合物38を得た。

0186

(化合物39−1の合成)
化合物10の代わりに前記化合物38を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約100gの化合物39−1を得た。

0187

(化合物40−1の合成)
化合物14−1の代わりに前記化合物39−1を用い、化合物6の代わりに前記化合物35を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約30gの化合物40−1を得た。

0188

(化合物RD−16の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物40−1を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約20gの化合物RD−16を得た。

0189

得られた化合物RD−16に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.40(2H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60−1.12(48H,m)

0190

実施例17:化合物RD−17の合成



図4Aおよび図4Bに示すスキームにより前記化合物RD−17を合成した。

0191

(化合物39−2の合成)
化合物10の代わりに前記化合物38を用い、化合物11−1の代わりに化合物11−2(n=6)[(1r,4r)−4−(((6−(acryloyloxy)hexyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約100gの化合物39−2を得た。

0192

(化合物40−2の合成)
化合物14−1の代わりに前記化合物39−2を用い、化合物6の代わりに前記化合物35を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物40−2を得た。

0193

(化合物RD−17の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物40−2を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−17を得た。

0194

得られた化合物RD−17に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.40(2H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60−1.12(52H,m)

0195

実施例18:化合物RD−18の合成



図4Aおよび図4Bに示すスキームにより前記化合物RD−18を合成した。

0196

(化合物39−3の合成)
化合物10の代わりに前記化合物38を用い、化合物11−1の代わりに化合物11−3(n=8)[(1r,4r)−4−(((8−(acryloyloxy)octyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約100gの化合物39−3を得た。

0197

(化合物40−3の合成)
化合物14−1の代わりに前記化合物39−3を用い、化合物6の代わりに前記化合物35を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物40−3を得た。

0198

(化合物RD−18の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物40−3を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−18を得た。

0199

得られた化合物RD−18に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.40(2H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60−1.12(56H,m)

0200

実施例19:化合物RD−19の合成



図5Aおよび図5Bに示すスキームにより前記化合物RD−19を合成した。

0201

(化合物41−1の合成)
化合物6の代わりに実施例16による化合物35を用いたことを除き、実施例4の化合物24−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物41−1を得た。

0202

(化合物RD−19の合成)
化合物24−1の代わりに前記化合物41−1を用いたことを除き、実施例4の化合物RD−04の合成と同様の方法で、約30gの化合物RD−19を得た。

0203

得られた化合物RD−19に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(2H,dd),6.05(2H,dd),5.59(2H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(4H,t),2.50(1H,t),1.60−1.12(23H,m)

0204

実施例20:化合物RD−20の合成



図5Aおよび図5Bに示すスキームにより前記化合物RD−20を合成した。

0205

(化合物41−2の合成)
化合物23−1の代わりに実施例5による化合物23−2を用い、化合物6の代わりに実施例16による化合物35を用いたことを除き、実施例4の化合物24−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物41−2を得た。

0206

(化合物RD−20の合成)
化合物24−1の代わりに前記化合物41−2を用いたことを除き、実施例4の化合物RD−04の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−20を得た。

0207

得られた化合物RD−20に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(2H,dd),6.05(2H,dd),5.59(2H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(4H,t),2.50(1H,t),1.60−1.12(31H,m)

0208

実施例21:化合物RD−21の合成



図5Aおよび図5Bに示すスキームにより前記化合物RD−21を合成した。

0209

(化合物41−3の合成)
化合物23−1の代わりに実施例6による化合物23−3を用い、化合物6の代わりに実施例16による化合物35を用いたことを除き、実施例4の化合物24−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物41−3を得た。

0210

(化合物RD−21の合成)
化合物24−1の代わりに前記化合物41−3を用いたことを除き、実施例4の化合物RD−04の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−21を得た。

0211

得られた化合物RD−21に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(2H,dd),6.05(2H,dd),5.59(2H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(4H,t),2.50(1H,t),1.60−1.12(39H,m)

0212

実施例22:化合物RD−22の合成



図6Aおよび図6Bに示すスキームにより前記化合物RD−22を合成した。

0213

(化合物42−1の合成)
化合物14−1の代わりに実施例7による化合物32−1(n=4、m=3)を用い、化合物6の代わりに実施例16による化合物35を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物42−1を得た。

0214

(化合物RD−22の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物42−1を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約30gの化合物RD−22を得た。

0215

得られた化合物RD−22に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60−0.90(25H,m)

0216

実施例23:化合物RD−23の合成



図6Aおよび図6Bに示すスキームにより前記化合物RD−23を合成した。

0217

(化合物42−2の合成)
化合物14−1の代わりに実施例8による化合物32−2(n=4、m=5)を用い、化合物6の代わりに実施例16による化合物35を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約60gの化合物42−2を得た。

0218

(化合物RD−23の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物42−2を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−23を得た。

0219

得られた化合物RD−23に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60−0.90(29H,m)

0220

実施例24:化合物RD−24の合成



図6Aおよび図6Bに示すスキームにより前記化合物RD−24を合成した。

0221

(化合物42−3の合成)
化合物14−1の代わりに実施例9による化合物32−3(n=4、m=7)を用い、化合物6の代わりに実施例16による化合物35を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約60gの化合物42−3を得た。

0222

(化合物RD−24の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物42−3を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−24を得た。

0223

得られた化合物RD−24に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60−0.90(33H,m)

0224

実施例25:化合物RD−25の合成



図6Aおよび図6Bに示すスキームにより前記化合物RD−25を合成した。

0225

(化合物42−4の合成)
化合物14−1の代わりに実施例10による化合物32−4(n=6、m=3)を用い、化合物6の代わりに実施例16による化合物35を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約60gの化合物42−4を得た。

0226

(化合物RD−25の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物42−4を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−25を得た。

0227

得られた化合物RD−25に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60−0.90(29H,m)

0228

実施例26:化合物RD−26の合成



図6Aおよび図6Bに示すスキームにより前記化合物RD−26を合成した。

0229

(化合物42−5の合成)
化合物14−1の代わりに実施例11による化合物32−5(n=6、m=5)を用い、化合物6の代わりに実施例16による化合物35を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約60gの化合物42−5を得た。

0230

(化合物RD−26の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物42−5を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−26を得た。

0231

得られた化合物RD−26に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60−0.90(33H,m)

0232

実施例27:化合物RD−27の合成



図6Aおよび図6Bに示すスキームにより前記化合物RD−27を合成した。

0233

(化合物42−6の合成)
化合物14−1の代わりに実施例12による化合物32−6(n=6、m=7)を用い、化合物6の代わりに実施例16による化合物35を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約60gの化合物42−6を得た。

0234

(化合物RD−27の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物42−6を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−27を得た。

0235

得られた化合物RD−27に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60−0.90(37H,m)

0236

実施例28:化合物RD−28の合成



図6Aおよび図6Bに示すスキームにより前記化合物RD−28を合成した。

0237

(化合物42−7の合成)
化合物14−1の代わりに実施例13による化合物32−7(n=8、m=3)を用い、化合物6の代わりに実施例16による化合物35を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約60gの化合物42−7を得た。

0238

(化合物RD−28の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物42−7を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−28を得た。

0239

得られた化合物RD−28に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60−0.90(33H,m)

0240

実施例29:化合物RD−29の合成



図6Aおよび図6Bに示すスキームにより前記化合物RD−29を合成した。

0241

(化合物42−8の合成)
化合物14−1の代わりに実施例14による化合物32−8(n=8、m=5)を用い、化合物6の代わりに実施例16による化合物35を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約60gの化合物42−8を得た。

0242

(化合物RD−29の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物42−8を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−29を得た。

0243

得られた化合物RD−29に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60−0.90(37H,m)

0244

実施例30:化合物RD−30の合成



図6Aおよび図6Bに示すスキームにより前記化合物RD−30を合成した。

0245

(化合物42−9の合成)
化合物14−1の代わりに実施例15による化合物32−9(n=8、m=7)を用い、化合物6の代わりに実施例16による化合物35を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約60gの化合物42−9を得た。

0246

(化合物RD−30の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物42−9を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−30を得た。

0247

得られた化合物RD−30に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60−0.90(41H,m)

0248

実施例31:化合物RD−31の合成



図7Aおよび図7Bに示すスキームにより前記化合物RD−31を合成した。

0249

(化合物44−1の合成)
化合物10の代わりに実施例16による化合物38を用い、化合物11−1の代わりに化合物43−1[(1r,4r)−4−((4−(methacryloyloxy)butoxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約100gの化合物44−1を得た。

0250

(化合物45−1の合成)
化合物14−1の代わりに前記化合物44−1を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約30gの化合物45−1を得た。

0251

(化合物RD−31の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物45−1を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約20gの化合物RD−31を得た。

0252

得られた化合物RD−31に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.40(2H,d),6.48(1H,d),6.40(1H,d),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),2.01(3H,s),1.60−1.12(48H,m)

0253

実施例32:化合物RD−32の合成



図7Aおよび図7Bに示すスキームにより前記化合物RD−32を合成した。

0254

(化合物44−2の合成)
化合物10の代わりに実施例16による化合物38を用い、化合物11−1の代わりに化合物43−2[(1r,4r)−4−(((6−(methacryloyloxy)hexyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約100gの化合物44−2を得た。

0255

(化合物45−2の合成)
化合物14−1の代わりに前記化合物44−2を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物45−2を得た。

0256

(化合物RD−32の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物45−2を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−32を得た。

0257

得られた化合物RD−32に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.40(2H,d),6.48(1H,d),6.40(1H,d),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),2.01(3H,s),1.60−1.12(52H,m)

0258

実施例33:化合物RD−33の合成



図7Aおよび図7Bに示すスキームにより前記化合物RD−33を合成した。

0259

(化合物44−3の合成)
化合物10の代わりに実施例16による化合物38を用い、化合物11−1の代わりに化合物43−3[(1r,4r)−4−(((8−(methacryloyloxy)octyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約100gの化合物44−3を得た。

0260

(化合物45−3の合成)
化合物14−1の代わりに前記化合物44−3を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物45−3を得た。

0261

(化合物RD−33の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物45−3を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−33を得た。

0262

得られた化合物RD−33に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.40(2H,d),6.48(1H,d),6.40(1H,d),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),2.01(3H,s),1.60−1.12(56H,m)

0263

実施例34:化合物RD−34の合成



図8Aおよび図8Bに示すスキームにより前記化合物RD−34を合成した。

0264

(化合物47−1の合成)
化合物10の代わりに実施例16による化合物38を用い、化合物11−1の代わりに化合物46−1[(1r,4r)−4−((4−(cinnamoyloxy)butoxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約100gの化合物47−1を得た。

0265

(化合物48−1の合成)
化合物14−1の代わりに前記化合物47−1を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約30gの化合物48−1を得た。

0266

(化合物RD−34の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物48−1を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約20gの化合物RD−34を得た。

0267

得られた化合物RD−34に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.60(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.48(1H,d),7.40(4H,d),7.33(1H,t),6.31(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60−1.12(48H,m)

0268

実施例35:化合物RD−35の合成



図8Aおよび図8Bに示すスキームにより前記化合物RD−35を合成した。

0269

(化合物47−2の合成)
化合物10の代わりに実施例16による化合物38を用い、化合物11−1の代わりに化合物46−2[(1r,4r)−4−(((6−(cinnamoyloxy)hexyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約100gの化合物47−2を得た。

0270

(化合物48−2の合成)
化合物14−1の代わりに前記化合物47−2を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物48−2を得た。

0271

(化合物RD−35の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物48−2を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−35を得た。

0272

得られた化合物RD−35に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.60(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.48(1H,d),7.40(4H,d),7.33(1H,t),6.31(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60−1.12(52H,m)

0273

実施例36:化合物RD−36の合成



図8Aおよび図8Bに示すスキームにより前記化合物RD−36を合成した。

0274

(化合物47−3の合成)
化合物10の代わりに実施例16による化合物38を用い、化合物11−1の代わりに化合物46−3[(1r,4r)−4−(((8−(cinnamoyloxy)octyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約100gの化合物47−3を得た。

0275

(化合物48−3の合成)
化合物14−1の代わりに前記化合物47−3を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物48−3を得た。

0276

(化合物RD−36の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物48−3を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−36を得た。

0277

得られた化合物RD−36に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.60(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.48(1H,d),7.40(4H,d),7.33(1H,t),6.31(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60−1.12(56H,m)

0278

実施例37:化合物RD−37の合成



図9Aおよび図9Bに示すスキームにより前記化合物RD−37を合成した。

0279

(化合物50の合成)
化合物7の代わりに化合物49(6−hydroxy−2−naphthoic acid)を用いたことを除き、実施例1の化合物8の合成と同様の方法で、約110gの化合物50を得た。

0280

(化合物51の合成)
化合物8の代わりに前記化合物50を用いたことを除き、実施例1の化合物9の合成と同様の方法で、約150gの化合物51を得た。

0281

(化合物52の合成)
化合物9の代わりに前記化合物51を用いたことを除き、実施例1の化合物10の合成と同様の方法で、約80gの化合物52を得た。

0282

(化合物53−1の合成)
化合物10の代わりに前記化合物52を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約100gの化合物53−1を得た。

0283

(化合物54−1の合成)
化合物14−1の代わりに前記化合物53−1を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約30gの化合物54−1を得た。

0284

(化合物RD−37の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物54−1を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約20gの化合物RD−37を得た。

0285

得られた化合物RD−37に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.68(1H,s),8.21(1H,d),8.18(1H,d),7.98(1H,s),7.97(1H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.48(1H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60−1.12(48H,m)

0286

実施例38:化合物RD−38の合成



図9Aおよび図9Bに示すスキームにより前記化合物RD−38を合成した。

0287

(化合物53−2の合成)
化合物10の代わりに前記化合物52を用い、化合物11−1の代わりに化合物11−2[(1r,4r)−4−(((6−(acryloyloxy)hexyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約100gの化合物53−2を得た。

0288

(化合物54−2の合成)
化合物14−1の代わりに前記化合物53−2を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物54−2を得た。

0289

(化合物RD−38の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物54−2を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−38を得た。

0290

得られた化合物RD−38に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.68(1H,s),8.21(1H,d),8.18(1H,d),7.98(1H,s),7.97(1H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.48(1H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60−1.12(52H,m)

0291

実施例39:化合物RD−39の合成



図9Aおよび図9Bに示すスキームにより前記化合物RD−39を合成した。

0292

(化合物53−3の合成)
化合物10の代わりに前記化合物52を用い、化合物11−1の代わりに化合物11−3[(1r,4r)−4−(((8−(acryloyloxy)octyl)oxy)carbonyl)cyclohexanecarboxylic acid]を用いたことを除き、実施例1の化合物12−1の合成と同様の方法で、約100gの化合物53−3を得た。

0293

(化合物54−3の合成)
化合物14−1の代わりに前記化合物53−3を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約70gの化合物54−3を得た。

0294

(化合物RD−39の合成)
化合物15−1の代わりに前記化合物54−3を用いたことを除き、実施例1の化合物RD−01の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−39を得た。

0295

得られた化合物RD−39に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.68(1H,s),8.21(1H,d),8.18(1H,d),7.98(1H,s),7.97(1H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.48(1H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60−1.12(56H,m)

0296

実施例40:化合物RD−40の合成



図10に示すスキームにより前記化合物RD−40を合成した。

0297

つまり、化合物14−1の代わりに実施例16による化合物39−1を用い、化合物6の代わりに約10gのヨードベンゼン(iodobenzene)を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約30gの化合物RD−40を得た。

0298

得られた化合物RD−40に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.55(2H,d),7.43(2H,d),7.43(2H,d),7.40(2H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),3.97(2H,t),1.60−1.12(48H,m)

0299

実施例41:化合物RD−41の合成



図10に示すスキームにより前記化合物RD−41を合成した。

0300

つまり、化合物14−1の代わりに実施例17による化合物39−2を用い、化合物6の代わりに約10gのヨードベンゼン(iodobenzene)を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−41を得た。

0301

得られた化合物RD−41に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.55(2H,d),7.43(2H,d),7.43(2H,d),7.40(2H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),3.97(2H,t),1.60−1.12(52H,m)

0302

実施例42:化合物RD−42の合成



図10に示すスキームにより前記化合物RD−42を合成した。

0303

つまり、化合物14−1の代わりに実施例18による化合物39−3を用い、化合物6の代わりに約10gのヨードベンゼン(iodobenzene)を用いたことを除き、実施例1の化合物15−1の合成と同様の方法で、約50gの化合物RD−42を得た。

0304

得られた化合物RD−42に対するNMRスペクトルは、次の通りである。
1H NMR(CDCl3,標準物質TMS)δ(ppm):8.04(2H,d),7.55(2H,d),7.43(2H,d),7.43(2H,d),7.40(2H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),3.97(2H,t),1.60−1.12(56H,m)

0305

製造例1
(光学素子用組成物の製造)
実施例18によるRD−18化合物100重量部に対して、下記化学式aで表されるメソジェニック化合物約112.5重量部、下記化学式bで表されるメソジェニック化合物約37.5重量部、開始剤(Irgacure907、Ciba−Geigy社)約12.5重量部、酸化防止剤(Irganox1076、Ciba−Geigy社)約0.27重量部、フッ素系界面活性剤(FC−171、3M社)約3.33重量部、およびトルエン約1000重量部を混合して、光学素子用組成物(固形分含有量約21重量%)を準備した。

0306

0307

(位相差フィルムの製造)
前記組成物を、ロールコーティング方法によって、ノルボルネン光配向物質コーティングされたTACフィルム上にコーティングした後、約80℃下、2分間乾燥して液晶分子が配向されるようにした。その後、前記フィルムに200mW/cm2の高圧水銀灯光源とする非偏光UVを照射して液晶の配向状態を固定化させる方法で位相差フィルムを製造した。

0308

製造された位相差フィルムの定量的な位相差値はAxoscan(Axomatrix社製)を用いて測定し、この時、独立に厚さを測定し、得られた値から位相差値(△n・d)を求めた。その結果、△n・d(450nm)、△n・d(550nm)、および△n・d(650nm)がそれぞれ103、110、および114と測定された。したがって、△n(450nm)/△n(550nm)値は0.94であり、△n(650nm)/△n(550nm)値は1.04であって、上記式Iおよび式IIによる条件を満足することが確認された。

0309

製造例2
(光学素子用組成物の製造)
実施例18によるRD−18化合物75重量部に対して、前記化学式aで表されるメソジェニック化合物約112.5重量部、前記化学式bで表されるメソジェニック化合物約62.5重量部、開始剤(Irgacure907、Ciba−Geigy社)約12.5重量部、酸化防止剤(Irganox1076、Ciba−Geigy社)約0.27重量部、フッ素系界面活性剤(FC−171、3M社)約3.33重量部、およびトルエン約1000重量部を混合して、光学素子用組成物(固形分含有量約21重量%)を準備した。

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