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技術 ハンドシャワーガンおよびウォーターハンマー低減機構

出願人 株式会社荏原製作所
発明者 青野弘相澤英夫新海健史尾亦伸隆
出願日 2015年3月6日 (4年6ヶ月経過) 出願番号 2015-045278
公開日 2016年9月8日 (3年0ヶ月経過) 公開番号 2016-163926
状態 特許登録済
技術分野 研削機械のドレッシング及び付属装置
主要キーワード 流量レギュレータ バルブボックス 付勢圧力 解放圧力 清浄度管理 末端機器 低減機構 手動洗浄
関連する未来課題
重要な関連分野

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図面 (17)

課題

ウォーターハンマー現象によるダメージを低減することのできるハンドシャワーガンを提供する。

解決手段

ハンドシャワーガン40は、液体供給口41と液体放射口42とを有する本体43と、液体供給口41と液体放射口42との間に形成される流路44と、流路44に設けられるバルブ45と、バルブ45の開閉操作を行う操作ハンドル46を備えている。操作ハンドル46が開操作されてバルブ45が開状態になると、流路44が開通して液体放射口42からの液体の放射が行われ、操作ハンドル46が閉操作されてバルブ45が閉状態になると、流路44が閉塞して液体放射口42からの液体の放射が停止される。本体43の内部の流路44には、操作ハンドル46が閉操作されてバルブ45が閉状態になるときに作動するウォーターハンマー低減機構48が設けられている。

概要

背景

半導体基板ウエハ)を研磨する基板研磨装置では、基板の研磨に用いた研磨液が、研磨部の構成部品研磨チャンバ内面天井に付着することがあり得る。それをそのまま放置しておくと、付着した研磨液が乾燥し堆積を繰り返した結果、やがてそれが剥がれて基板の上に落下したり研磨パッドの研磨面に付着して、研磨中に基板にスクラッチを発生させる要因となるおそれがある。

そこで従来、基板研磨装置にハンドシャワーを設けて(例えば特許文献1参照)、定期的に(望ましくは研磨液が乾燥する前に)、研磨部の構成部品や研磨チャンバの内壁・天井に付着した研磨液を純水(超純水)で手動洗浄していた。

概要

ウォーターハンマー現象によるダメージを低減することのできるハンドシャワーガンを提供する。 ハンドシャワーガン40は、液体供給口41と液体放射口42とを有する本体43と、液体供給口41と液体放射口42との間に形成される流路44と、流路44に設けられるバルブ45と、バルブ45の開閉操作を行う操作ハンドル46を備えている。操作ハンドル46が開操作されてバルブ45が開状態になると、流路44が開通して液体放射口42からの液体の放射が行われ、操作ハンドル46が閉操作されてバルブ45が閉状態になると、流路44が閉塞して液体放射口42からの液体の放射が停止される。本体43の内部の流路44には、操作ハンドル46が閉操作されてバルブ45が閉状態になるときに作動するウォーターハンマー低減機構48が設けられている。

目的

本発明は、上記の課題に鑑みてなされたもので、ウォーターハンマー現象によるダメージを低減することのできるハンドシャワーガンを提供する

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
0件

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請求項1

液体供給口液体放射口とを有する本体と、前記本体の内部において、前記液体供給口と前記液体放射口との間に形成される流路と、前記流路に設けられるバルブと、前記バルブの開閉操作を行う操作ハンドルと、を備え、前記操作ハンドルが開操作されて前記バルブが開状態になると、前記流路が開通して前記液体放射口からの液体の放射が行われ、前記操作ハンドルが閉操作されて前記バルブが閉状態になると、前記流路が閉塞して前記液体放射口からの液体の放射が停止されるハンドシャワーガンにおいて、前記本体の内部の前記流路には、前記操作ハンドルが閉操作されて前記バルブが閉状態になるときに作動するウォーターハンマー低減機構が設けられていることを特徴とするハンドシャワーガン。

請求項2

前記流路は、前記液体供給口と前記バルブとの間に形成される第1の流路と、前記バルブと前記液体放射口との間に形成される第2の流路と、前記バルブを介さずに前記第1の流路と前記第2の流路とを接続する第3の流路とを含み、前記ウォーターハンマー低減機構は、前記第3の流路に設けられる圧力逃がし弁であり、前記圧力逃がし弁は、前記操作ハンドルが閉操作されて前記バルブが閉状態になったときに、前記第1の流路の内部で上昇した液体圧により開状態になり、前記第1の流路と前記第2の流路とが開通する、請求項1に記載のハンドシャワーガン。

請求項3

前記圧力逃がし弁は、付勢部材により閉状態を保持するように構成されており、前記付勢部材による付勢圧力は、前記第1の流路の内部の通常時の液体圧より高く、前記流路にウォーターハンマー現象による破損が発生する破損発生圧より低い、請求項2に記載のハンドシャワーガン。

請求項4

前記ハンドシャワーガンは、前記バルブに設けられ、前記バルブの開閉動作連動してスライド移動するピストンと、前記ピストンが収納されるシリンダ室と、を備え、前記流路は、前記液体供給口と前記バルブとの間に形成される第1の流路と、前記バルブと前記液体放射口との間に形成される第2の流路と、前記第1の流路と前記シリンダ室とを接続する第4の流路とを含み、前記第4の流路の流体抵抗は、前記第1の流路の流体抵抗より大きい、請求項1に記載のハンドシャワーガン。

請求項5

前記第4の流路には、前記第4の流路の流体抵抗を調整する流体抵抗調整部が設けられている、請求項4に記載のハンドシャワーガン。

請求項6

前記シリンダ室は、前記操作ハンドルが開操作されて前記バルブが開状態になるときに前記ピストンがスライド移動するためのエリアである第1のエリアと、前記ピストンを挟んで前記第1エリアの反対側のエリアである第2のエリアとを含み、前記シリンダ室には、前記第1のエリアと前記第2のエリアを接続する第5の流路が備えられ、前記第5の流路には、チェッキ弁が設けられており、前記チェッキ弁は、前記操作ハンドルが開操作されて前記バルブが開状態になるときに、前記第1のエリアの内部で上昇した液体圧により開状態になり、前記第1のエリアと前記第2のエリアとが開通する、請求項4または請求項5に記載のハンドシャワーガン。

請求項7

液体供給口と前記液体放射口との間に流路が形成され、前記流路に設けられたバルブが閉状態になるときに作動するウォーターハンマー低減機構であって、前記流路は、前記液体供給口と前記バルブとの間に形成される第1の流路と、前記バルブと前記液体放射口との間に形成される第2の流路と、前記バルブを介さずに前記第1の流路と前記第2の流路とを接続する第3の流路とを含み、前記ウォーターハンマー低減機構は、前記第3の流路に設けられる圧力逃がし弁であり、前記圧力逃がし弁は、前記バルブが閉状態になったときに、前記第1の流路の内部で上昇した液体圧により開状態になり、前記第1の流路と前記第2の流路とが開通することを特徴とするウォーターハンマー低減機構。

請求項8

液体供給口と前記液体放射口との間に流路が形成され、前記流路に設けられたバルブが閉状態になるときに作動するウォーターハンマー低減機構であって、前記バルブには、シリンダ室に収納され、前記バルブの開閉動作に連動してスライド移動するピストンが設けられ、前記流路は、前記液体供給口と前記バルブとの間に形成される第1の流路と、前記バルブと前記液体放射口との間に形成される第2の流路と、前記第1の流路と前記シリンダ室とを接続する第4の流路とを含み、前記第4の流路の流体抵抗は、前記第1の流路の流体抵抗より大きいことを特徴とするウォーターハンマー低減機構。

技術分野

0001

本発明は、ウォーターハンマー現象によるダメージを低減する機能を備えたハンドシャワーガンに関する。

背景技術

0002

半導体基板ウエハ)を研磨する基板研磨装置では、基板の研磨に用いた研磨液が、研磨部の構成部品研磨チャンバ内面天井に付着することがあり得る。それをそのまま放置しておくと、付着した研磨液が乾燥し堆積を繰り返した結果、やがてそれが剥がれて基板の上に落下したり研磨パッドの研磨面に付着して、研磨中に基板にスクラッチを発生させる要因となるおそれがある。

0003

そこで従来、基板研磨装置にハンドシャワーを設けて(例えば特許文献1参照)、定期的に(望ましくは研磨液が乾燥する前に)、研磨部の構成部品や研磨チャンバの内壁・天井に付着した研磨液を純水(超純水)で手動洗浄していた。

先行技術

0004

特開平9−29637号公報

発明が解決しようとする課題

0005

しかしながら、従来のハンドシャワーは、操作レバー(ハンドル)を手動で操作することにより放水の開始・停止を行うように構成されているが、放水を停止した際に発生するウォーターハンマー現象については何ら対策が講じされていなかった。一方で、半導体基板を処理する装置には、極めて高いレベルクラス)の清浄度管理が要求され、例えば、ハンドシャワーはプラスチック製とされ、その配管純水供給チューブ)も禁油品で構成されるため、圧力耐久性を高くするのにも限界がある。そのため、放水を停止した際に、ウォーターハンマー現象によりハンドシャワーやその配管(純水供給チューブ)がダメージを受けるおそれがあるという問題があった。

0006

本発明は、上記の課題に鑑みてなされたもので、ウォーターハンマー現象によるダメージを低減することのできるハンドシャワーガンを提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

0007

本発明のハンドシャワーガンは、液体供給口液体放射口とを有する本体と、前記本体の内部において、前記液体供給口と前記液体放射口との間に形成される流路と、前記流路に設けられるバルブと、前記バルブの開閉操作を行う操作ハンドルと、を備え、前記操作ハンドルが開操作されて前記バルブが開状態になると、前記流路が開通して前記液体放射口からの液体の放射が行われ、前記操作ハンドルが閉操作されて前記バルブが閉状態になると、前記流路が閉塞して前記液体放射口からの液体の放射が停止されるハンドシャワーガンにおいて、前記本体の内部の前記流路には、前記操作ハンドルが閉操作されて前記バルブが閉状態になるときに作動するウォーターハンマー低減機構が設けられている。

0008

この構成により、ハンドシャワーガンの液体放射口からの液体の放射を停止させる場合、操作ハンドルを閉操作してバルブが閉状態になるときに、ウォーターハンマー低減機構が作動する。これにより、ウォーターハンマー現象によるハンドシャワーガンの本体の内部の流路へのダメージを低減することができる。

0009

また、本発明のハンドシャワーガンでは、前記流路は、前記液体供給口と前記バルブとの間に形成される第1の流路と、前記バルブと前記液体放射口との間に形成される第2の流路と、前記バルブを介さずに前記第1の流路と前記第2の流路とを接続する第3の流路とを含み、前記ウォーターハンマー低減機構は、前記第3の流路に設けられる圧力逃がし弁であり、前記圧力逃がし弁は、前記操作ハンドルが閉操作されて前記バルブが閉状態になったときに、前記第1の流路の内部で上昇した液体圧により開状態になり、前記第1の流路と前記第2の流路とが開通してもよい。

0010

この構成により、操作ハンドルが閉操作されてバルブが閉状態になったときに、第1の流路の内部の液体圧により圧力逃がし弁が開状態になり、第1の流路と第2の流路が第3の流路を介して開通し、第1の流路の内部の液体圧が過度に上昇するのを防ぐことができる。これにより、ウォーターハンマー現象による流路へのダメージを低減することができる。

0011

また、本発明のハンドシャワーガンでは、前記圧力逃がし弁は、付勢部材により閉状態を保持するように構成されており、前記付勢部材による付勢圧力は、前記第1の流路の内部の通常時の液体圧より高く、前記流路にウォーターハンマー現象による破損が発生する破損発生圧より低くてもよい。

0012

この構成により、圧力逃がし弁の付勢圧力が破損発生圧より低いので、ウォーターハンマー現象により流路に破損が発生するのを防ぐことができる。また、この場合、圧力逃がし弁の付勢圧力が第1の流路の内部の通常時の液体圧より高いので、バルブが閉状態になっている通常時(ウォーターハンマー現象が発生していない時)に、圧力逃がし弁が開状態になって第1の流路と第2の流路が開通し、液体放射口から液体が放射される(漏れる)のを防ぐことができる。

0013

また、本発明のハンドシャワーガンでは、前記ハンドシャワーガンは、前記バルブに設けられ、前記バルブの開閉動作連動してスライド移動するピストンと、前記ピストンが収納されるシリンダ室と、を備え、前記流路は、前記液体供給口と前記バルブとの間に形成される第1の流路と、前記バルブと前記液体放射口との間に形成される第2の流路と、前記第1の流路と前記シリンダ室とを接続する第4の流路とを含み、前記第4の流路の流体抵抗は、前記第1の流路の流体抵抗より大きくてもよい。

0014

この構成により、操作ハンドルが閉操作されてバルブが閉状態になるときに、ピストンのスライド移動に伴って第4の流路からシリンダ室へ液体が流入することになるが、この場合、第4の流路の流体抵抗が第1の流路の流体抵抗より大きいので、シリンダ室へ液体が流入する速度(単位時間あたりの流入量)が小さくなる。そのため、ピストンのスライド移動の速度も小さくなり、バルブが閉まる速度も小さくなる。このように、バルブの閉まる速度を小さくすることにより、バルブが閉状態になったときに第1の流路の内部の液体圧が過度に上昇するのを防ぐことができる。これにより、ウォーターハンマー現象による流路へのダメージを低減することができる。なお、この場合、ウォーターハンマー低減機構として、第4の流路の流体抵抗が第1の流路の流体抵抗より大きい、という構成を採用しているともいえる。

0015

また、本発明のハンドシャワーガンでは、前記第4の流路には、前記第4の流路の流体抵抗を調整する流体抵抗調整部が設けられてもよい。

0016

この構成により、第4の流路の流体抵抗を調整することができるので、ピストンの移動速度(すなわち、バルブの閉まる速度)を適切に調整することが可能になる。

0017

また、本発明のハンドシャワーガンでは、前記シリンダ室は、前記操作ハンドルが開操作されて前記バルブが開状態になるときに前記ピストンがスライド移動するためのエリアである第1のエリアと、前記ピストンを挟んで前記第1エリアの反対側のエリアである第2のエリアとを含み、前記シリンダ室には、前記第1のエリアと前記第2のエリアを接続する第5の流路が備えられ、前記第5の流路には、チェッキ弁が設けられており、前記チェッキ弁は、前記操作ハンドルが開操作されて前記バルブが開状態になるときに、前記第1のエリアの内部で上昇した液体圧により開状態になり、前記第1のエリアと前記第2のエリアとが開通してもよい。

0018

この構成により、操作ハンドルを開操作してバルブを開状態にするときに、シリンダ室の第1のエリアの内部の液体圧によりチェッキ弁が開状態になり、第1のエリアと第2のエリアが第5の流路を介して開通し、第1のエリアから第2のエリアへ液体が移動できるようになる。これにより、ピストンのスライド移動が液体圧により妨げられることがなくなり、ピストンを円滑にスライド移動させることができるようになる。したがって、操作ハンドルの開操作を円滑に行うことが可能になる。

0019

本発明のウォーターハンマー低減機構は、液体供給口と前記液体放射口との間に流路が形成され、前記流路に設けられたバルブが閉状態になるときに作動するウォーターハンマー低減機構であって、前記流路は、前記液体供給口と前記バルブとの間に形成される第1の流路と、前記バルブと前記液体放射口との間に形成される第2の流路と、前記バルブを介さずに前記第1の流路と前記第2の流路とを接続する第3の流路とを含み、前記ウォーターハンマー低減機構は、前記第3の流路に設けられる圧力逃がし弁であり、前記圧力逃がし弁は、前記バルブが閉状態になったときに、前記第1の流路の内部で上昇した液体圧により開状態になり、前記第1の流路と前記第2の流路とが開通する。

0020

このウォーターハンマー低減機構によっても、上記のハンドシャワーガンと同様に、バルブが閉状態になったときに、第1の流路の内部の液体圧により圧力逃がし弁が開状態になり、第1の流路と第2の流路が第3の流路を介して開通し、第1の流路の内部の液体圧が過度に上昇するのを防ぐことができる。これにより、ウォーターハンマー現象による流路へのダメージを低減することができる。

0021

本発明のウォーターハンマー低減機構は、液体供給口と前記液体放射口との間に流路が形成され、前記流路に設けられたバルブが閉状態になるときに作動するウォーターハンマー低減機構であって、前記バルブには、シリンダ室に収納され、前記バルブの開閉動作に連動してスライド移動するピストンが設けられ、前記流路は、前記液体供給口と前記バルブとの間に形成される第1の流路と、前記バルブと前記液体放射口との間に形成される第2の流路と、前記第1の流路と前記シリンダ室とを接続する第4の流路とを含み、前記第4の流路の流体抵抗は、前記第1の流路の流体抵抗より大きい。

0022

このウォーターハンマー低減機構によっても、上記のハンドシャワーガンと同様に、バルブが閉状態になるときに、ピストンのスライド移動に伴って第4の流路からシリンダ室へ液体が流入することになるが、この場合、第4の流路の流体抵抗が第1の流路の流体抵抗より大きいので、シリンダ室へ液体が流入する速度(単位時間あたりの流入量)が小さくなる。そのため、ピストンのスライド移動の速度も小さくなり、バルブが閉まる速度も小さくなる。このように、バルブの閉まる速度を小さくすることにより、バルブが閉状態になったときに第1の流路の内部の液体圧が過度に上昇するのを防ぐことができる。これにより、ウォーターハンマー現象による流路へのダメージを低減することができる。

発明の効果

0023

本発明によれば、ウォーターハンマー現象によるダメージを低減することができる。

図面の簡単な説明

0024

本発明の実施の形態における基板処理装置の全体構成を示す平面図である。
本発明の実施の形態における基板処理装置の研磨部の純水供給配管を示す模式図である。
本発明の実施の形態における基板処理装置の研磨部の平面図である。
本発明の実施の形態におけるハンドシャワーガン(収納状態)の説明図である。
本発明の第1の実施の形態におけるハンドシャワーガンの説明図である。
本発明の第1の実施の形態におけるハンドシャワーガン(放水時)の説明図である。
本発明の第1の実施の形態におけるハンドシャワーガン(放水停止時)の説明図である。
本発明の第1の実施の形態の変形例のアトマイザの説明図である。
本発明の第2の実施の形態におけるハンドシャワーガンの説明図である。
本発明の第2の実施の形態におけるハンドシャワーガン(放水時)の説明図である。
本発明の第2の実施の形態におけるハンドシャワーガン(放水停止時)の説明図である。
本発明の第2の実施の形態の変形例のアトマイザの説明図である。
本発明の第3の実施の形態におけるハンドシャワーガンの説明図である。
本発明の第3の実施の形態におけるハンドシャワーガン(放水時)の説明図である。
本発明の第3の実施の形態におけるハンドシャワーガン(放水停止時)の説明図である。
本発明の第3の実施の形態の変形例のアトマイザの説明図である。

実施例

0025

以下、本発明の実施の形態のハンドシャワーガンについて、図面を用いて説明する。本実施の形態では、基板処理装置(例えば基板研磨装置)等に用いられるハンドシャワーガンの場合を例示する。なお、同一または相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。

0026

(第1の実施の形態)
図1は、本発明の実施の形態の基板処理装置(基板研磨装置)の全体構成を示す平面図である。図1に示すように、この基板処理装置は、略矩形状のハウジング1を備えており、ハウジング1の内部は隔壁1a,1bによってロード/アンロード部2と研磨部3と洗浄部4とに区画されている。これらのロード/アンロード部2、研磨部3、および洗浄部4は、それぞれ独立に組み立てられ、独立に排気される。また、基板処理装置は、基板処理動作を制御する制御部5を有している。

0027

研磨部3は、ウェハの研磨(平坦化)が行われる領域であり、第1研磨ユニット3A、第2研磨ユニット3B、第3研磨ユニット3C、第4研磨ユニット3Dを備えている。これらの第1研磨ユニット3A、第2研磨ユニット3B、第3研磨ユニット3C、および第4研磨ユニット3Dは、図1に示すように、基板処理装置の長手方向に沿って配列されている。

0028

図1に示すように、第1研磨ユニット3Aは、研磨面を有する研磨パッド10が取り付けられた研磨テーブル30Aと、ウェハを保持しかつウェハを研磨テーブル30A上の研磨パッド10に押圧しながら研磨するためのトップリング31Aと、研磨パッド10に研磨液やドレッシング液(例えば、純水)を供給するための研磨液供給ノズル32Aと、研磨パッド10の研磨面のドレッシングを行うためのドレッサ33Aと、液体(例えば純水)と気体(例えば窒素ガス)の混合流体または液体(例えば純水)を霧状にして研磨面に噴射するアトマイザ34Aとを備えている。

0029

アトマイザ34Aを設ける目的は、研磨パッド10の研磨面に残留する研磨屑砥粒などを高圧流体により洗い流すことである。アトマイザ34Aの流体圧による研磨面の浄化と、機械的接触であるドレッサ33Aによる研磨面の目立て作業により、より好ましいドレッシング、すなわち研磨面の再生を達成することができる。通常は接触型のドレッサ(ダイヤモンドドレッサ等)によるドレッシングの後に、アトマイザによる研磨面の再生を行う場合が多い。

0030

同様に、第2研磨ユニット3Bは、研磨パッド10が取り付けられた研磨テーブル30Bと、トップリング31Bと、研磨液供給ノズル32Bと、ドレッサ33Bと、アトマイザ34Bとを備えており、第3研磨ユニット3Cは、研磨パッド10が取り付けられた研磨テーブル30Cと、トップリング31Cと、研磨液供給ノズル32Cと、ドレッサ33Cと、アトマイザ34Cとを備えており、第4研磨ユニット3Dは、研磨パッド10が取り付けられた研磨テーブル30Dと、トップリング31Dと、研磨液供給ノズル32Dと、ドレッサ33Dと、アトマイザ34Dとを備えている。

0031

図2は、研磨部3の純水供給配管を示す模式図である。この基板処理装置では、第1研磨ユニット3Aと第2研磨ユニット3Bは1つのユニットとして第1研磨部3aを構成しており、第3研磨ユニット3Cと第4研磨ユニット3Dは1つのユニットとして第2研磨部3bを構成している。第1研磨部3aと第2研磨部3bとは互いに分割可能に構成されている。上述したように、研磨部3は、純水、空気、窒素ガスなどの種々の流体を使用する。例えば、図2に示すように、純水(DIW)は、図示しない純水供給源から基板処理装置の純水供給管110に供給される。この純水供給管110は研磨部3の研磨ユニット3A,3B,3C,3Dを通って延び、これら研磨ユニット3A,3B,3C,3Dにそれぞれ設けられた分配制御部113に接続されている。

0032

純水供給管110は第1研磨部3aと第2研磨部3bとの間で分割されており、分割された純水供給管110の端部同士は図示しない連結機構により連結されている。各研磨ユニットで使用される純水の用途としては、トップリングの洗浄(例えば、トップリングの外周側面の洗浄、基板保持面の洗浄、リテーナリングの洗浄)、ウェハの搬送ハンドの洗浄(例えば、後述する第1および第2のリニアトランスポータの搬送ハンドの洗浄)、研磨されたウェハの洗浄、研磨パッドのドレッシング、ドレッサの洗浄(例えば、ドレッシング部材の洗浄)、ドレッサアームの洗浄、研磨液供給ノズルの洗浄、およびアトマイザによる研磨パッドの洗浄が挙げられる。

0033

純水は純水供給管110を通って各分配制御部113に流入し、各分配制御部113により各ユースポイント分配される。ユースポイントは、上述したトップリング洗浄用ノズルやドレッサ洗浄用のノズルなどの純水が使用される箇所である。純水は分配制御部113から研磨ユニット内に設けられた洗浄ノズル(例えば、上述したトップリング洗浄用のノズルやドレッサ洗浄用のノズル)などの末端機器に供給される。例えば、上述した研磨液供給ノズル32A〜Dの純水供給チューブ(図示せず)には、研磨ユニットごとの分配制御部113により調整された流量の純水が供給される。このように、分配制御部113は研磨ユニットごとに配置されているので、1つのヘッダから複数のパイプを介して各研磨ユニットに供給する従来の構造に比べて、パイプの本数を少なくすることができる。また、このことは、第1研磨部3aと第2研磨部3bとの間のパイプを連結する連結機構が少なくなることを意味するので、構造がシンプルになるとともに、純水のリークのリスクが低減される。なお、アトマイザは多量の純水を必要とするので、図2に示すように、アトマイザ専用の純水供給管112を設けることが好ましい。

0034

各分配制御部113は、トップリング洗浄用のノズル(図示せず)や純水供給チューブ(図示せず)などのユースポイントに連通するバルブボックス113aと、バルブボックス113aの上流側に設けられた圧力計113bと、この圧力計113bの上流側に設けられた流量レギュレータ113cとを備えている。バルブボックス113aは、ユースポイントにそれぞれ連通する複数のパイプと、これらパイプにそれぞれ設けられるバルブとを有している。

0035

圧力計113bは、バルブボックス113aに送られる純水の圧力を測定し、流量レギュレータ113cは、圧力計113bの測定値が所定の値に維持されるよう純水の流量を調整する。このように、純水の流量の制御がそれぞれの研磨ユニットで行われるので、研磨ユニット間での純水の使用による影響を低減させ、安定した純水の供給が可能になる。したがって、ある研磨ユニットでの純水の流量が他の研磨ユニットでの純水の使用の影響により不安定になるという従来の構造における問題を解決することができる。なお、図2に示す例では、各研磨ユニットに流量レギュレータ113cが設けられているが、2つの研磨ユニットにつき1つの流量レギュレータ113cを配置してもよい。例えば、研磨ユニット3A,3Bにそれぞれ設けられた2つのバルブボックス113aの上流側に1組の圧力計113bおよび流量レギュレータ113cを設け、同様に、研磨ユニット3C,3Dにそれぞれ設けられた2つのバルブボックス113aの上流側に1組の圧力計113bおよび流量レギュレータ113cを設けてもよい。

0036

図2に示す例では、トップリング洗浄用のノズル(図示せず)や純水供給チューブ(図示せず)などのユースポイント用の純水供給管110とは別に、アトマイザ34A,34B,34C,34D専用の純水供給管112が設けられている。純水供給管112は、アトマイザ34A,34B,34C,34Dに接続され、アトマイザ34A,34B,34C,34Dの上流側には、流量制御部114がそれぞれ設けられている。この流量制御部114は、純水供給管112から供給される純水の流量を調整し、その調整された流量の純水をアトマイザに送るように構成されている。

0037

それぞれの流量制御部114は、上述した分配制御部113と同様に、バルブと、圧力計と、流量レギュレータとを有しており、これらの配置は分配制御部113における配置と同様である。制御部5は、流量制御部114の圧力計の測定値に基づき、所定の流量の純水が各アトマイザに供給されるように流量制御部114の流量レギュレータの動作を制御する。

0038

図2に示すように、純水供給管110と純水供給管112とは、それぞれ独立して純水供給源に連結されており、独立した純水供給経路が確保されている。このような配置により、アトマイザでの純水の使用が他のユースポイントでの純水の流量に影響を与えることを防止することができる。

0039

なお、図2は純水を供給する純水供給管110について説明しているが、図2に示す配管および分配制御部の配置は、エア、窒素ガス、スラリーなどの他の流体の供給管にも適用できる。例えば、複数種のスラリーを移送する複数のスラリー供給管を設け、これらのスラリー供給管に接続される分配制御部を研磨ユニットごとに設けることができる。各分配制御部は、研磨処理に応じて選択されたスラリーを上述した研磨液供給ノズルに供給する。分配制御部は研磨ユニットごとに設けられるので、研磨液供給ノズルに供給されるスラリーの種類を研磨ユニットごとに変えることができる。さらに、研磨液供給ノズルに供給されるスラリーの流量を分配制御部によって調整することができる。

0040

図3は、本実施の形態における基板処理装置の研磨部3の平面図である。図3に示すように、研磨部3の研磨チャンバ300の前側(図3における上側。図1の左側に対応する)には開閉可能なメンテナンス扉310が設けられており、メンテナンス扉310を開けることによって、研磨装置の外部から研磨部3のメンテナンスを行うことができる。そして、各研磨チャンバ300内には、研磨装置のメンテナンス扉310に近い側の側面に、収納ボックス305が設けられている。そして、収納ボックス305には、研磨チャンバ300内を洗浄するためのハンドシャワーガン40が備えられている(図4参照)。

0041

洗浄時に作業者は、ハンドシャワーガン40を用いて研磨チャンバ300の内部を洗浄する。図4に示すように、ハンドシャワーガン40は、不使用時には研磨チャンバ300内の壁面の収納ボックス305に収納される。

0042

図5は、本実施の形態のハンドシャワーガン40の説明図である。図5に示すように、ハンドシャワーガン40は、液体供給口41と液体放射口42とを有する本体43と、本体43の内部において液体供給口41と液体放射口42との間に形成される流路44と、流路44に設けられるバルブ45と、バルブ45の開閉操作を行う操作ハンドル46を備えている。そして、本体43の内部の流路44には、操作ハンドル46が閉操作されてバルブ45が閉状態になるときに作動するウォーターハンマー低減機構が設けられている。

0043

操作ハンドル46は、操作部460とハンドル摺動軸461と取付け部462を備えており、ハンドル摺動軸461は、取付け部462にハンドル移動方向(開閉方向。図5における左右方向)にスライド可能に取り付けられている。操作部460と取付け部462との間には、リターンスプリング463が取り付けられており、リターンスプリング463により操作部460は閉方向(図5における左方向)に付勢されている。また、ハンドル摺動軸461には、Oリングなどのシール部材464が取り付けられている。このシール部材464により、流路44から液体(純水)が漏れないように構成されている。

0044

また、操作ハンドル46はハンドル摺動軸461を介してバルブ45と連結しており、操作ハンドル46はバルブ45と連動するように構成されている。バルブ45には、Oリングなどのシール部材450が取り付けられている。このシール部材450により、バルブ45が閉状態のときに第1の流路44Aから第2の流路44Bへ液体(純水)が流れないように構成されている。

0045

なお、本実施の形態のハンドシャワーガン40は、半導体用(純水精密洗浄用)である。そのため、ハンドシャワーガン40はプラスチック製とされている。例えば、接液部(液体に接する部分)は、ポリプロピレンフッ素ゴムなどを用いて製造され、金属イオン溶出や錆の発生が防止されている。また、ハンドシャワーガン40の本体43の内部の流路44や液体供給チューブ47などの配管(本体43の外部の配管)も禁油品で構成されている(図4参照)。

0046

以下、本実施の形態のウォーターハンマー低減機構について、より具体的に説明する。ハンドシャワーガン40の本体43の内部に形成される流路44は、液体供給口41とバルブ45との間に形成される第1の流路44Aと、バルブ45と液体放射口42との間に形成される第2の流路44Bと、バルブ45を介さずに第1の流路44Aと第2の流路44Bとを接続する第3の流路44Cとで構成されている。

0047

本実施の形態のウォーターハンマー低減機構は、第3の流路44Cに設けられる圧力逃がし弁48である。圧力逃がし弁48は、操作ハンドル46が閉操作されてバルブ45が閉状態になったときに、第1の流路44Aの内部で上昇した液体圧により開状態になり、第1の流路44Aと第2の流路44Bとが開通するように構成されている。

0048

この場合、圧力逃がし弁48は、スプリング49によりボール弁体)50を付勢して閉状態を保持するように構成されている。スプリング49による付勢圧力(圧力逃がし弁48の解放圧力)は、第1の流路44Aの内部の通常時の液体圧より高く設定されている。すなわち、圧力逃がし弁48の解放圧力は、流路44(配管)に供給される液体(純水)の供給圧力より高く設定されている。なお、圧力逃がし弁48の解放圧力は、できるだけ供給圧力に近いほうが好ましく、例えば、供給圧力の1.05倍〜1.2倍に設定される。

0049

また、スプリング49による付勢圧力(圧力逃がし弁48の解放圧力)は、流路44にウォーターハンマー現象による破損が発生する破損発生圧より低く設定されている。すなわち、圧力逃がし弁48の解放圧力は、ウォーターハンマー現象が発生した時の配管内の最大圧力より低く設定されている。

0050

図6は、操作ハンドル46を開操作した状態のハンドシャワーガン40の説明図であり、図7は、操作ハンドル46を閉操作した状態のハンドシャワーガン40の説明図である。図6に示すように、操作ハンドル46が開操作されてバルブ45が開状態になると、流路44が開通して液体放射口42からの液体(純水)の放射が行われる。

0051

図7に示すように、操作ハンドル46が閉操作されてバルブ45が閉状態になると、流路44が閉塞して液体放射口42からの液体(純水)の放射が停止される。この場合、操作ハンドル46が閉操作されてバルブ45が閉状態になると、第1の流路44Aの内部の上昇した液体圧により、ボール(弁体)50がスプリング49の付勢圧力に抗して開方向(図7における左方向)に移動し、圧力逃がし弁48が開状態になり、第1の流路44Aと第2の流路44Bが第3の流路44Cを介して開通する。

0052

そして、第1の流路44Aと第2の流路44Bが第3の流路44Cを介して開通すると、第1の流路44Aの内部の液体圧が低下し、ボール(弁体)50がスプリング49の付勢圧力により閉方向(図7における右方向)に移動して、圧力逃がし弁48が閉状態になる。

0053

このような本発明の第1の実施の形態のハンドシャワーガン40によれば、ハンドシャワーガン40の液体放射口42からの液体(純水)の放射を停止させる場合、操作ハンドル46を閉操作してバルブ45が閉状態になるときに、ウォーターハンマー低減機構が作動する。これにより、ウォーターハンマー現象によるハンドシャワーガン40の流路44(本体43の内部の流路44、本体43の外部の配管)へのダメージを低減することができ、長寿命化を図ることができる。

0054

本実施の形態では、操作ハンドル46が閉操作されてバルブ45が閉状態になったときに、第1の流路44Aの内部の液体圧により圧力逃がし弁48が開状態になり、第1の流路44Aと第2の流路44Bが第3の流路44Cを介して開通し、第1の流路44Aの内部の液体圧が過度に上昇するのを防ぐことができる。これにより、ウォーターハンマー現象による流路44(本体43の内部の流路44、本体43の外部の配管)へのダメージを低減することができる。

0055

また、本実施の形態では、圧力逃がし弁48の付勢圧力が破損発生圧より低いので、ウォーターハンマー現象により流路44に破損が発生するのを防ぐことができる。また、この場合、圧力逃がし弁48の付勢圧力が第1の流路44Aの内部の通常時の液体圧より高いので、バルブ45が閉状態になっている通常時(ウォーターハンマー現象が発生していない時)に、圧力逃がし弁48が開状態になって第1の流路44Aと第2の流路44Bが開通し、液体放射口42から液体が放射される(漏れる)のを防ぐことができる。

0056

また、本実施の形態では、ハンドシャワーガン40にウォーターハンマー低減機構を設けることによって、ウォーターハンマー現象による流路44(本体43の内部の流路44、本体43の外部の配管)へのダメージを低減することができる。

0057

(変形例1)
図8には、第1の実施の形態の変形例が示される。図8に示すように、第1の実施の形態のウォーターハンマー低減機構は、アトマイザ34に適用することもできる。すなわち、アトマイザ34の本体43の内部に形成される流路44は、液体供給口41とバルブ45との間に形成される第1の流路44Aと、バルブ45と液体放射口42との間に形成される第2の流路44Bと、バルブ45を介さずに第1の流路44Aと第2の流路44Bとを接続する第3の流路44Cとで構成されており、第3の流路44Cには、圧力逃がし弁48が設けられる。圧力逃がし弁48は、バルブ45が閉状態になったときに、第1の流路44Aの内部で上昇した液体圧により開状態になり、第1の流路44Aと第2の流路44Bとが開通する。

0058

このように、アトマイザ34にウォーターハンマー低減機構を設けることによって、ウォーターハンマー現象による流路44(アトマイザ34の内部の流路44、アトマイザ34の外部の配管)へのダメージを低減することができる。

0059

(第2の実施の形態)
次に、本発明の第2の実施の形態のハンドシャワーガン40について説明する。ここでは、第2の実施の形態のハンドシャワーガン40が、第1の実施の形態と相違する点を中心に説明する。ここで特に言及しない限り、本実施の形態の構成および動作は、第1の実施の形態と同様である。

0060

図9は、本実施の形態のハンドシャワーガン40の説明図である。図9に示すように、ハンドシャワーガン40は、バルブ45の開閉動作に連動してスライド移動するピストン51と、ピストン51が収納されるシリンダ室52を備えており、ハンドシャワーガン40の本体43の内部に形成される流路44は、液体供給口41とバルブ45との間に形成される第1の流路44Aと、バルブ45と液体放射口42との間に形成される第2の流路44Bと、第1の流路44Aとシリンダ室52とを接続する第4の流路44Dとで構成されている。なお、本実施の形態では、ピストン51の外周とシリンダ室52の内周との間に、シール部材53が設けられている。

0061

そして、本実施の形態では、ウォーターハンマー低減機構として、第4の流路44Dの流体抵抗が第1の流路44Aの流体抵抗より大きい、という構成を採用している。例えば、第4の流路44Dの流路面積を第1の流路44Aの流路面積より小さく設定することにより、第4の流路44Dの流体抵抗を第1の流路44Aの流体抵抗より大きく設定することができる。また、第4の流路44Dの流路長を第1の流路44Aの流路長より長く設定することにより、第4の流路44Dの流体抵抗を第1の流路44Aの流体抵抗より大きく設定することができる。

0062

図9に示すように、第4の流路44Dには、第4の流路44Dの流体抵抗を調整する流体抵抗調整部が設けられている。この場合、流体抵抗調整部として、第4の流路44Dの流路面積を調整する絞り機構54が設けられている。絞り機構54の調整ねじ55は、ハンドシャワーガン40の本体43に螺着される。本体43と調整ねじ55との間には、Oリングなどのシール部材550が取り付けられている。このシール部材550により、第4の流路44Dから液体(純水)が漏れないように構成されている。また、調整ねじ55には回り止め用スプリング551が取り付けられている。調整ねじ55は、回り止め用スプリング551によって付勢される(図9の右方向に付勢される)ことにより、ねじの緩み(ぐらつき)が防止されている。

0063

例えば、絞り機構54の調整ねじ55を回転させて、調整ねじ55を絞り方向(図9における左方向)に移動させると、第4の流路44Dの流路面積が小さくなり、第4の流路44Dの流体抵抗が大きくなる。絞り機構54の調整ねじ55を逆回転させて、調整ねじ55を反対方向(図9における右方向)に移動させると、第4の流路44Dの流路面積が大きくなり、第4の流路44Dの流体抵抗が小さくなる。このように、絞り機構54で第4の流路44Dの流路面積を変えることにより、第4の流路44Dの流体抵抗を調整することができる。

0064

また、図9に示すように、シリンダ室52は、操作ハンドル46が開操作されてバルブ45が開状態になるときにピストン51がスライド移動するためのエリアである第1のエリア52A(図9における右側のエリア)と、ピストン51を挟んで第1エリアの反対側のエリアである第2のエリア52B(図9における左側のエリア)とに分けられており、シリンダ室52には、第1のエリア52Aと第2のエリア52Bを接続する第5の流路44Eが備えられている。

0065

そして、第5の流路44Eには、チェッキ弁56が設けられており、チェッキ弁56は、操作ハンドル46が開操作されてバルブ45が開状態になるときに、第1のエリア52Aの内部で上昇した液体圧により開状態になり、第1のエリア52Aと第2のエリア52Bとが開通するように構成されている。

0066

この場合、チェッキ弁56は、スプリング57によりボール(弁体)58を付勢して閉状態を保持するように構成されている。スプリング57による付勢圧力(チェッキ弁56の解放圧力)は、シリンダ室52の第1のエリア52Aの内部の通常時の液体圧より高く設定されている。すなわち、チェッキ弁56の解放圧力は、流路44(配管)に供給される液体(純水)の供給圧力より高く設定されている。

0067

図10は、操作ハンドル46を開操作した状態のハンドシャワーガン40の説明図であり、図11は、操作ハンドル46を閉操作した状態のハンドシャワーガン40の説明図である。図10に示すように、操作ハンドル46が開操作されてバルブ45が開状態になると、流路44が開通して液体放射口42からの液体(純水)の放射が行われる。

0068

この場合、操作ハンドル46を開操作してバルブ45を開状態にするときに、シリンダ室52の第1のエリア52Aの内部の上昇した液体圧により、ボール(弁体)58がスプリング57の付勢圧力に抗して開方向(図10における上方向)に移動し、チェッキ弁56が開状態になり、第1のエリア52Aと第2のエリア52Bが第5の流路44Eを介して開通するので、ピストン51を円滑にスライド移動させることが可能になる。なお、その後、シリンダ室52の第1のエリア52Aの内部の液体圧が低下すると、ボール(弁体)58がスプリング57の付勢圧力により閉方向(図10における下方向)に移動して、チェッキ弁56が閉状態になる。

0069

図11に示すように、操作ハンドル46が閉操作されてバルブ45が閉状態になると、流路44が閉塞して液体放射口42からの液体(純水)の放射が停止される。この場合、操作ハンドル46が閉操作されてバルブ45が閉状態になるときに、ピストン51のスライド移動に伴って第4の流路44Dからシリンダ室52(第1のエリア52A)へ液体が流入することになるが、第4の流路44Dの流体抵抗が第1の流路44Aの流体抵抗より大きいので、シリンダ室52(第1のエリア52A)へ液体が流入する速度(単位時間あたりの流入量)が小さくなる。そのため、ピストン51のスライド移動の速度も小さくなり、バルブ45が閉まる速度も小さくなる。すなわち、バルブ45がゆっくり閉まるようにされている。

0070

このような本発明の第2の実施の形態のハンドシャワーガン40によっても、第1の実施の形態と同様の作用効果が奏される。すなわち、ウォーターハンマー現象によるハンドシャワーガン40の流路44(本体43の内部の流路44、本体43の外部の配管)へのダメージを低減することができ、長寿命化を図ることができる。

0071

本実施の形態では、操作ハンドル46が閉操作されてバルブ45が閉状態になるときに、ピストン51のスライド移動に伴って第4の流路44Dからシリンダ室52(第1のエリア52A)へ液体が流入することになるが、この場合、第4の流路44Dの流体抵抗が第1の流路44Aの流体抵抗より大きいので、シリンダ室52(第1のエリア52A)へ液体が流入する速度(単位時間あたりの流入量)が小さくなる。そのため、ピストン51のスライド移動の速度も小さくなり、バルブ45が閉まる速度も小さくなる。このように、バルブ45の閉まる速度を小さくすることにより、バルブ45が閉状態になったときに第1の流路44Aの内部の液体圧が過度に上昇するのを防ぐことができる。これにより、ウォーターハンマー現象による流路44(本体43の内部の流路44、本体43の外部の配管)へのダメージを低減することができる。

0072

また、本実施の形態では、第4の流路44Dの流体抵抗を調整することができるので、シリンダ51の移動速度(すなわち、バルブ45の閉まる速度)を適切に調整することが可能になる。

0073

また、本実施の形態では、操作ハンドル46を開操作してバルブ45を開状態にするときに、シリンダ室52の第1のエリア52Aの内部の上昇した液体圧によりチェッキ弁56が開状態になり、第1のエリア52Aと第2のエリア52Bが第5の流路44Eを介して開通し、第1のエリア52Aから第2のエリア52Bへ液体が移動できるようになる。これにより、ピストン51のスライド移動が液体圧により妨げられることがなくなり、ピストン51を円滑にスライド移動させることができるようになる。したがって、操作ハンドル46の開操作を円滑に行うことが可能になる。

0074

(変形例2)
図12には、第2の実施の形態の変形例が示される。図12に示すように、第2の実施の形態のウォーターハンマー低減機構は、アトマイザ34に適用することもできる。すなわち、アトマイザ34は、バルブ45の開閉動作に連動してスライド移動するピストン51と、ピストン51が収納されるシリンダ室52を備えており、アトマイザ34の本体43の内部に形成される流路44は、液体供給口41とバルブ45との間に形成される第1の流路44Aと、バルブ45と液体放射口42との間に形成される第2の流路44Bと、第1の流路44Aとシリンダ室52とを接続する第4の流路44Dとで構成されている。そして、ウォーターハンマー低減機構として、第4の流路44Dの流体抵抗が第1の流路44Aの流体抵抗より大きい、という構成が採用されている。

0075

このように、アトマイザ34にウォーターハンマー低減機構を設けることによって、ウォーターハンマー現象による流路44(アトマイザ34の内部の流路44、アトマイザ34の外部の配管)へのダメージを低減することができる。

0076

(第3の実施の形態)
次に、本発明の第3の実施の形態のハンドシャワーガン40について説明する。ここでは、第3の実施の形態のハンドシャワーガン40が、第2の実施の形態と相違する点を中心に説明する。ここで特に言及しない限り、本実施の形態の構成および動作は、第2の実施の形態と同様である。

0077

図13は、本実施の形態のハンドシャワーガン40の説明図である。図13に示すように、ハンドシャワーガン40は、バルブ45の開閉動作に連動してスライド移動するピストン51と、ピストン51が収納されるシリンダ室52を備えており、ハンドシャワーガン40の本体43の内部に形成される流路44は、液体供給口41とバルブ45との間に形成される第1の流路44Aと、バルブ45と液体放射口42との間に形成される第2の流路44Bと、第1の流路44Aとシリンダ室52とを接続する第4の流路44Dとで構成されている。本実施の形態では、ピストン51の外周とシリンダ室52の内周との間に、隙間が設けられており、この隙間により、第4の流路44Dが形成されている。

0078

そして、本実施の形態でも、ウォーターハンマー低減機構として、第4の流路44Dの流体抵抗が第1の流路44Aの流体抵抗より大きい、という構成を採用している。例えば、第4の流路44Dの流路面積を第1の流路44Aの流路面積より小さく設定することにより、第4の流路44Dの流体抵抗を第1の流路44Aの流体抵抗より大きく設定することができる。

0079

また、図13に示すように、シリンダ室52は、操作ハンドル46が開操作されてバルブ45が開状態になるときにピストン51がスライド移動するためのエリアである第1のエリア52A(図13における右側のエリア)と、ピストン51を挟んで第1エリアの反対側のエリアである第2のエリア52B(図13における左側のエリア)とに分けられており、シリンダ室52には、第1のエリア52Aと第2のエリア52Bを接続する第5の流路44Eが備えられている。

0080

そして、第2の実施の形態と同様、第5の流路44Eには、チェッキ弁56が設けられており、チェッキ弁56は、操作ハンドル46が開操作されてバルブ45が開状態になるときに、第1のエリア52Aの内部で上昇した液体圧により開状態になり、第1のエリア52Aと第2のエリア52Bとが開通するように構成されている。

0081

この場合も、チェッキ弁56は、スプリング57によりボール(弁体)58を付勢して閉状態を保持するように構成されている。スプリング57による付勢圧力(チェッキ弁56の解放圧力)は、シリンダ室52の第1のエリア52Aの内部の通常時の液体圧より高く設定されている。すなわち、チェッキ弁56の解放圧力は、流路44(配管)に供給される液体(純水)の供給圧力より高く設定されている。

0082

図14は、操作ハンドル46を開操作した状態のハンドシャワーガン40の説明図であり、図15は、操作ハンドル46を閉操作した状態のハンドシャワーガン40の説明図である。図14に示すように、操作ハンドル46が開操作されてバルブ45が開状態になると、流路44が開通して液体放射口42からの液体(純水)の放射が行われる。

0083

この場合も、操作ハンドル46を開操作してバルブ45を開状態にするときに、シリンダ室52の第1のエリア52Aの内部の上昇した液体圧により、ボール(弁体)58がスプリング57の付勢圧力に抗して開方向(図14における上方向)に移動し、チェッキ弁56が開状態になり、第1のエリア52Aと第2のエリア52Bが第5の流路44Eを介して開通するので、ピストン51を円滑にスライド移動させることが可能になる。なお、その後、シリンダ室52の第1のエリア52Aの内部の液体圧が低下すると、ボール(弁体)58がスプリング57の付勢圧力により閉方向(図14における下方向)に移動して、チェッキ弁56が閉状態になる。

0084

図15に示すように、操作ハンドル46が閉操作されてバルブ45が閉状態になると、流路44が閉塞して液体放射口42からの液体(純水)の放射が停止される。この場合、操作ハンドル46が閉操作されてバルブ45が閉状態になるときに、ピストン51のスライド移動に伴って第4の流路44Dからシリンダ室52(第1のエリア52A)へ液体が流入することになるが、第4の流路44Dの流体抵抗が第1の流路44Aの流体抵抗より大きいので、シリンダ室52(第1のエリア52A)へ液体が流入する速度(単位時間あたりの流入量)が小さくなる。そのため、ピストン51のスライド移動の速度も小さくなり、バルブ45が閉まる速度も小さくなる。すなわち、バルブ45がゆっくり閉まるようにされている。

0085

このような本発明の第3の実施の形態のハンドシャワーガン40によっても、第2の実施の形態と同様の作用効果が奏される。すなわち、ウォーターハンマー現象によるハンドシャワーガン40の流路44(本体43の内部の流路44、本体43の外部の配管)へのダメージを低減することができ、長寿命化を図ることができる。

0086

(変形例3)
図16には、第3の実施の形態の変形例が示される。図16に示すように、第3の実施の形態のウォーターハンマー低減機構は、アトマイザ34に適用することもできる。すなわち、アトマイザ34は、バルブ45の開閉動作に連動してスライド移動するピストン51と、ピストン51が収納されるシリンダ室52を備えており、ハンドシャワーガン40の本体43の内部に形成される流路44は、液体供給口41とバルブ45との間に形成される第1の流路44Aと、バルブ45と液体放射口42との間に形成される第2の流路44Bと、第1の流路44Aとシリンダ室52とを接続する第4の流路44Dとで構成されている。この場合も、ピストン51の外周とシリンダ室52の内周との間に、隙間が設けられており、この隙間により、第4の流路44Dが形成されている。そして、ウォーターハンマー低減機構として、第4の流路44Dの流体抵抗が第1の流路44Aの流体抵抗より大きい、という構成が採用されている。

0087

このように、アトマイザ34にウォーターハンマー低減機構を設けることによって、ウォーターハンマー現象による流路44(アトマイザ34の内部の流路44、アトマイザ34の外部の配管)へのダメージを低減することができる。

0088

以上、本発明の実施の形態を例示により説明したが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではなく、請求項に記載された範囲内において目的に応じて変更・変形することが可能である。

0089

以上のように、本発明にかかるハンドシャワーガンは、ウォーターハンマー現象によるダメージを低減することができるという効果を有し、基板処理装置(例えば基板研磨装置)などに適用され有用である。

0090

1ハウジング
3研磨部
4洗浄部
5 制御部
34アトマイザ
40ハンドシャワーガン
41液体供給口
42液体放射口
43 本体
44流路
44A 第1の流路
44B 第2の流路
44C 第3の流路
44D 第4の流路
44E 第5の流路
45バルブ
46操作ハンドル
47液体供給チューブ
48圧力逃がし弁
51ピストン
52シリンダ室
52A 第1のエリア
52B 第2のエリア
54絞り機構(流体抵抗調整部)
55調整ねじ
56 チェッキ弁

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