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技術 アルコキシケイ皮酸エステル系共重合体及びその製造方法

出願人 東ソー株式会社
発明者 藤井靖芳弓野翔平坂口孝太下里伸治
出願日 2015年2月6日 (5年8ヶ月経過) 出願番号 2015-022705
公開日 2016年8月12日 (4年2ヶ月経過) 公開番号 2016-145288
状態 特許登録済
技術分野 偏光要素 付加系(共)重合体、後処理、化学変成 液晶4(光学部材との組合せ)
主要キーワード メタクリル系化合物 アルコキシケイ皮酸 核磁気共鳴測定装置 酢酸ビニル残基単位 フマル酸ジエステル系樹脂 メトキシケイ皮酸エチル フマル酸ジエステル残基単位 ビスマレイミド類
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重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(2016年8月12日)のものです。
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課題

薄膜で高い面外位相差発現し、かつ、重合体となる際の単量体重合転化率が高く、生産性に優れ、フィルムとした際も優れた強度を保持する高分子量新規アルコキシケイ皮酸エステル系共重合体及びそれを効率よく製造する方法の提供。

解決手段

アルコキシケイ皮酸エステル残基単位50〜99.99モル%と、2個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体残基単位0.01〜1モル%と、その他の単量体残基単位0〜49.99%と、を含むアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体。

概要

背景

液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話コンピュータ用モニター、ノートパソコンテレビまで幅広く使用されている。液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられており、特に位相差フィルムは正面や斜めから見た場合のコントラストの向上、色調の補償等大きな役割を果たしている。従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネート環状ポリオレフィンが使用されており、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。

多くの高分子は正の複屈折を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂ポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差が小さく、位相差フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きいためにわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、さらに耐熱性が低いという実用上の課題があり、現状用いられていない。

負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムではフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない位相差フィルムとなるため、例えばスーパーツイストネマチック型液ディスプレイ(STN−LCD)や垂直配向型液晶ディスプレイ(VA−LCD)、面内配向型液晶ディスプレイ(IPS−LCD)、反射型液晶ディスプレイ反射型LCD)等のディスプレイの視角特性補償用位相差フィルムや偏向板視野角補償フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する位相差フィルムに対して市場の要求は強い。

正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルム接着し、その積層体加熱延伸処理して、高分子フィルムのフィルム厚み方向に収縮力をかける処理方法(例えば、特許文献1〜3参照)である。また、高分子フィルムに電場印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている(例えば、特許文献4参照)。

それ以外にも負の光学方性を有する微粒子と透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献5参照)。

しかし、特許文献1〜4において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるために生産性が劣る課題がある。また位相差の均一性等の制御も従来の延伸による制御と比べると著しく難しくなる。

ベースフィルムとしてポリカーボネートを使用した場合には室温での光弾性係数が大きくわずかな応力によって位相差が変化することから、位相差の安定性に課題がある。さらに位相差の波長依存性が大きい課題も抱えている。

特許文献5で得られる位相差フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することによって負の複屈折を示す位相差フィルムであり、製造方法の簡便化や経済性の観点から、微粒子を添加する必要のない位相差フィルムが求められている。

また、フマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなるフィルムが提案されている(例えば、特許文献6〜10参照)。

また、フマル酸ジイソプロピル残基単位、およびケイ皮酸残基単位または炭素数1〜6のアルキル基を有するケイ皮酸エステル残基単位を含むフマル酸ジイソプロピルケイ皮酸誘導体系共重合体、ならびに該フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸誘導体系共重合体を用いた位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献11参照)。

さらに、フマル酸ジエステル残基単位、炭素数1〜6のアルキル基を有するケイ皮酸エステル残基単位及び2個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体の残基単位を含むフマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体、並びに該フマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体を用いた位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献12参照)。

概要

薄膜で高い面外位相差発現し、かつ、重合体となる際の単量体重合転化率が高く、生産性に優れ、フィルムとした際も優れた強度を保持する高分子量新規アルコキシケイ皮酸エステル系共重合体及びそれを効率よく製造する方法の提供。アルコキシケイ皮酸エステル残基単位50〜99.99モル%と、2個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体の残基単位0.01〜1モル%と、その他の単量体残基単位0〜49.99%と、を含むアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体。なし

目的

本発明の目的は、薄膜で高位相差を発現し、かつフィルムとした際も優れた強度を保持することが期待される高分子量の新規なアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体およびそれを効率よく製造する方法を提供する

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
0件

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請求項1

少なくとも一般式(1)で表されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位および2個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体残基単位を含むことを特徴とするアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体。(ここで、R1は炭素数1〜12の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、R2は炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、nは1〜5の整数を示す。)

請求項2

アルコキシケイ皮酸エステル残基単位50〜99.99モル%、2個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体の残基単位0.01〜1モル%およびその他の単量体残基単位0〜49.99モル%を含むことを特徴とする請求項1に記載のアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体。

請求項3

標準ポリスチレン換算重量平均分子量が120,000〜1,000,000であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体。

請求項4

アルコキシケイ皮酸エステル残基単位がメトキシケイ皮酸エステル残基単位およびエトキシケイ皮酸エステル残基単位より選択される1以上の残基単位であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載のアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体。

請求項5

アルコキシケイ皮酸エステル残基単位が4−メトキシケイ皮酸エステル残基単位であることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載のアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体。

請求項6

アルコキシケイ皮酸エステル残基単位が、4−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位および4−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位からなる群より選択されるいずれかであることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれかに記載のアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体。

請求項7

アルコキシケイ皮酸エステル50〜99.99モル%、2個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体0.01〜1モル%、その他単量体0〜49.99モル%の割合で含む合計単量体を100モル%として、ラジカル重合開始剤0.001〜5モル%の存在下、ラジカル重合反応を行うことを特徴とするアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体の製造方法。

請求項8

請求項1〜7のいずれかに記載のアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体を用いたことを特徴とする位相差フィルム

請求項9

フィルム面内進相軸方向屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≦ny<nzであることを特徴とする請求項8に記載の位相差フィルム。

技術分野

0001

本発明は、新規アルコキシケイ皮酸エステル系共重合体及びその製造方法に関するものであり、さらに詳細には、フィルム等への適用も期待される高分子量の新規なアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体及びそれを効率的に製造する方法に関するものである。

背景技術

0002

液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話コンピュータ用モニター、ノートパソコンテレビまで幅広く使用されている。液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられており、特に位相差フィルムは正面や斜めから見た場合のコントラストの向上、色調の補償等大きな役割を果たしている。従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネート環状ポリオレフィンが使用されており、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。

0003

多くの高分子は正の複屈折を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂ポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差が小さく、位相差フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きいためにわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、さらに耐熱性が低いという実用上の課題があり、現状用いられていない。

0004

負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムではフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない位相差フィルムとなるため、例えばスーパーツイストネマチック型液ディスプレイ(STN−LCD)や垂直配向型液晶ディスプレイ(VA−LCD)、面内配向型液晶ディスプレイ(IPS−LCD)、反射型液晶ディスプレイ反射型LCD)等のディスプレイの視角特性補償用位相差フィルムや偏向板視野角補償フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する位相差フィルムに対して市場の要求は強い。

0005

正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルム接着し、その積層体加熱延伸処理して、高分子フィルムのフィルム厚み方向に収縮力をかける処理方法(例えば、特許文献1〜3参照)である。また、高分子フィルムに電場印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている(例えば、特許文献4参照)。

0006

それ以外にも負の光学方性を有する微粒子と透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献5参照)。

0007

しかし、特許文献1〜4において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるために生産性が劣る課題がある。また位相差の均一性等の制御も従来の延伸による制御と比べると著しく難しくなる。

0008

ベースフィルムとしてポリカーボネートを使用した場合には室温での光弾性係数が大きくわずかな応力によって位相差が変化することから、位相差の安定性に課題がある。さらに位相差の波長依存性が大きい課題も抱えている。

0009

特許文献5で得られる位相差フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することによって負の複屈折を示す位相差フィルムであり、製造方法の簡便化や経済性の観点から、微粒子を添加する必要のない位相差フィルムが求められている。

0010

また、フマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなるフィルムが提案されている(例えば、特許文献6〜10参照)。

0011

また、フマル酸ジイソプロピル残基単位、およびケイ皮酸残基単位または炭素数1〜6のアルキル基を有するケイ皮酸エステル残基単位を含むフマル酸ジイソプロピルケイ皮酸誘導体系共重合体、ならびに該フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸誘導体系共重合体を用いた位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献11参照)。

0012

さらに、フマル酸ジエステル残基単位、炭素数1〜6のアルキル基を有するケイ皮酸エステル残基単位及び2個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体の残基単位を含むフマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体、並びに該フマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体を用いた位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献12参照)。

先行技術

0013

特許2818983号公報
特開平5−297223号公報
特開平5−323120号公報
特開平6−88909号公報
特開2005−156862号公報
特開2008−112141号公報
特開2012−032784号公報
WO2012/005120号公報
特開2008−129465号公報
特開2006−193616号公報
WO2014/013982号公報
WO2014/084178号公報

発明が解決しようとする課題

0014

特許文献6〜10で提案されたフマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなるフィルムは、高い面外位相差を有しているものの、現状においては、薄膜においてもより高い面外位相差を有するフィルムが求められている。

0015

特許文献11で提案されたフマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸誘導体系共重合体は、特許文献6〜10で提案された樹脂よりも高い面外位相差を発現させるものの、より生産性に優れ、より高収率で得られる重合体が求められている。また、特許文献11で提案された位相差フィルムは、薄膜において高い面外位相差を有するものの、さらに薄膜においてもより高い面外位相差を有するフィルムが求められている。

0016

特許文献12で提案されたフマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体は生産性に優れ高収率で得られるものの、フィルムとした際に特許文献11より高い面外位相差を有するものではなく、生産性に優れ、かつ、より高い面外位相差を有する重合体が求められている。

0017

本発明の目的は、薄膜で高位相差を発現し、かつフィルムとした際も優れた強度を保持することが期待される高分子量の新規なアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体およびそれを効率よく製造する方法を提供することにある。

課題を解決するための手段

0018

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。

0019

すなわち、本発明は、一般式(1)で表されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位および2個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体の残基単位を含むことを特徴とするアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体ならびにそれの製造方法に関するものである。

0020

0021

(ここで、R1は炭素数1〜12の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、R2は炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、nは1〜5の整数を示す。)
以下、本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体について詳細に説明する。

0022

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体は、一般式(1)で表されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位および2個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体の残基単位を含むアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体である。そして、本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体は、特定のアルコキシケイ皮酸エステル残基単位を含んでなることにより、より薄膜においても高い面外位相差を発現させ、かつ、重合体となる際の単量体重合転化率が高く、生産性に優れるものであることを特徴とする。

0023

0024

(ここで、R1は炭素数1〜12の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、R2は炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、nは1〜5の整数を示す。)
本発明の一般式(1)におけるR1は炭素数1〜12の直鎖状または分岐状のアルキル基を示し、例えば、メチル基エチル基プロピル基イソピル基、ヘキシル基、ドデシル基等が挙げられ、nは1〜5の整数である。また、本発明の一般式(1)におけるR2は、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基n−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられ、炭素数3〜6の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、アルコキシケイ皮酸エステル系共重合体が高い面外位相差を発現することから、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、シクロヘキシル基が好ましい。

0025

具体的な一般式(1)で表されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、メトキシケイ皮酸エステル残基単位、エトキシケイ皮酸エステル残基単位、プロポキシケイ皮酸エステル残基単位、ヘキソキシケイ皮酸エステル残基単位、ドデトキシケイ皮酸エステル残基単位等が挙げられる。これらの中でも、高い位相差を発現することから、メトキシケイ皮酸エステル残基単位、エトキシケイ皮酸エステル残基単位が好ましく、4−メトキシケイ皮酸エステル残基単位がさらに好ましい。

0026

本発明において、メトキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸シクロキシル残基単位等が挙げられる。

0027

エトキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−エトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−エトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−エトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−エトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−エトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−エトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。

0028

プロポキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−プロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸メチル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸エチル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸メチル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸エチル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。

0029

ヘキソキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−ヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。

0030

ドデトキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−ドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。
これらの中でも、高い位相差を発現することから、4−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸エチル単位残基、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位が好ましく、4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位がさらに好ましい。

0031

また、2個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体の残基単位におけるラジカル重合性官能基としては、例えば、ビニル基メタクリル基等を挙げることができ、これらラジカル重合性官能基を2個以上有していた多官能単量体の残基単位であれば如何なるものでもよい。該残基単位を誘導するラジカル重合性官能基を2個以上有していた多官能単量体としては、多官能性ビニル系化合物、多官能性メタクリル系化合物等が挙げられ、これらは1種または2種以上含まれていてもよい。多官能性ビニル系化合物としては、例えば、ジビニルベンゼンジビニルトルエン、ジビニルキシレン、トリビニルベンゼンジビニルビフェニル、ジビニルナフタレン、ジビニルフルオレン、ジビニルカルバゾール、ジビニルピリジン等の芳香族ポリビニル化合物アジピン酸ジビニルマレイン酸ジビニル、フタル酸ジビニルイソフタル酸ジビニル、イタコン酸ジビニル等のポリビニルエステル化合物マレイン酸ジアリルフタル酸ジアリルイソフタル酸ジアリルアジピン酸ジアリル等のポリアリルエステル化合物ジビニルエーテルジエチレングリコールジビニルエーテルトリエチレングリコールジビニルエーテル等のポリビニルエーテル化合物ジアリルエーテルジアリルオキシエタントリアリルオキシエタン、テトラアリルオキシエタン、テトラアリルオキシプロパン、テトラアリルオキシブタン、テトラメタリルオキシエタン等のポリアリルエーテル化合物;1,4−ジビニルパーフルオロブタン、1,6−ジビニルパーフルオロヘキサン、1,8−ジビニルパーフルオロオクタン等のポリビニルフッ素化合物;1,4−フェニレンビスマレイミド、1,1’−(メチレンジ−4,1−フェニレンビスマレイミド等のビスマレイミド類等が挙げられる。また、多官能性メタクリル系化合物としては、例えば、ベンゼントリメタクリル酸エステル、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、1,9−ノナンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレートポリエチレングリコールジメタクリレートポリプロピレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジメタクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジメタクリレート、グリセリントリメタクリレートトリメチロールプロパントリメタクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタクリレートペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート等が挙げられる。そして、本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体は、2個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体の残基単位を含んでなることにより、より高分子量化が達成できると共に、重合体となる際の単量体の重合転化率も高く、生産性の効率にも優れるものとなるものである。ここで、本発明において高分子量化できることにより、フィルムとした際により強度の高いフィルムが得られるものであり、本発明は、高分子量であることで、高強度のフィルムが得られることを特徴とするものである。

0032

該アルコキシケイ皮酸エステル系共重合体は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基単位、α−メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位;(メタアクリル酸残基単位;(メタ)アクリル酸メチル残基単位、(メタ)アクリル酸エチル残基単位、(メタ)アクリル酸ブチル残基単位等の(メタ)アクリル酸エステル残基単位酢酸ビニル残基単位プロピオン酸ビニル残基単位等のビニルエステル類残基単位;アクリロニトリル残基単位;メタクリロニトリル残基単位;メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位等のビニルエーテル類残基単位;N−メチルマレイミド残基単位、N−シクロヘキシルマレイミド残基単位、N−フェニルマレイミド残基単位等のN−置換マレイミド類残基単位;エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位;フマル酸ジn−ブチル残基単位、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ビス(2−エチルヘキシル)残基単位等のフマル酸ジエステル類残基単位より選ばれる1種または2種以上を挙げることができる。

0033

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体の組成は、溶媒等の溶解性に優れ、フィルムとした際の強度等に優れる高分子量体のアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体となることから、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位50〜99.99モル%、2個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体の残基単位0.01〜1%、及びその他の単量体残基単位0〜49.99モル%が好ましく、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位60〜90モル%、2個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体の残基単位0.01〜0.5モル%、及びその他の単量体残基単位0〜39.99モル%がさらに好ましい。

0034

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体は、機械特性、フィルムとした際の強度、靭性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイションクロマトグラフィー(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算重量平均分子量が120000〜1000000であることが好ましく、150000〜5000000であることがさらに好ましい。

0035

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体の製造方法としては、アルコキシケイ皮酸エステル系共重合体が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、例えば、アルコキシケイ皮酸エステル及び2個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体のラジカル重合等を行うことにより製造することができる。ここで、2個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体としては、上記した2個以上のラジカル重合性官能基を有していた多官能単量体の残基単位を誘導する化合物等を挙げることができる。

0036

前記ラジカル重合は公知の重合方法、例えば、塊状重合法溶液重合法懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法のいずれも採用可能である。

0037

ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイドラウリルパーオキサイドオクタノイルパーオキサイドアセチルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシヘキサン等の有機過酸化物;2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−ブチロニトリル)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−2’−アゾビスイソブチレート、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)等のアゾ系開始剤等が挙げられる。

0038

そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒メタノールエタノールプロパノールブタノール等のアルコール系溶媒;シクロヘキサン;ジオキサンテトラヒドロフランアセトンメチルエチルケトンジメチルホルムアミド酢酸イソプロピル;水等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。

0039

また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、反応の制御が容易であることから、一般的には30〜150℃の範囲で行うことが好ましい。

0040

さらに、本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体を製造する際には、より高分子量のアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体をより効率よく製造することが可能となることから、アルコキシケイ皮酸エステル50〜99モル%、2個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体0.01〜1モル%、その他単量体0〜49.99モル%の割合で含む合計単量体を100モル%として、ラジカル重合開始剤0.001〜5モル%の存在下、ラジカル重合反応を行うことが好ましい。

0041

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体は、溶媒に対する溶解性に優れ、溶液キャスト等の方法により、フィルムとすることが可能であり、該フィルムはフィルム強度等に優れるものとなる。また、本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を用いた光学フィルムが得られたときは、薄膜においても高い面外位相差を有し光学特性に優れることから、位相差フィルムとすることが好ましい。

0042

本発明の位相差フィルムは、フィルム面内進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≦ny<nzであることを特徴とする位相差フィルムであり、前記nx≦ny<nzを満たすことによりSTN−LCD、IPS−LCD、反射型LCDや半透過型LCD等の視野角補償性能に優れた位相差フィルムとなるものである。なお、一般的にフィルムの3次元屈折率の制御はフィルムの延伸等によって行われるため製造工程や品質の管理が複雑になるが、本発明の位相差フィルムは未延伸でフィルム厚み方向の屈折率が高いという特異な挙動を示すことを見出している。

0043

また、本発明の位相差フィルムがより光学特性に優れた位相差フィルムとなることから、次の式(a)にて示される波長550nmで測定した面外位相差(Rth)が−100〜−2000nmであることが好ましく、−100〜−500nmであることがさらに好ましく、−180〜−500nmであることが特に好ましい。
Rth=((nx+ny)/2−nz)×d (a)
(ここで、dはフィルムの厚みを示す。)
本発明の位相差フィルムは薄膜においても高い面外位相差を有することから、膜厚と面外位相差の関係が、絶対値で5.5nm/フィルム膜厚(μm)以上が好ましく、6nm/フィルム膜厚(μm)以上がさらに好ましく、8nm/フィルム膜厚(μm)以上が特に好ましい。

0044

本発明の位相差フィルムは、液晶表示素子に用いられる際に画質の特性が良好なものとなることから、光線透過率が85%以上であることが好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。また、位相差フィルムのヘーズ曇り度)は2%以下であることが好ましく、1%以下であることがさらに好ましい。

0045

本発明の位相差フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、例えば、溶液キャスト法溶融キャスト法等の方法が挙げられる。

0046

溶液キャスト法は、アルコキシケイ皮酸エステル系共重合体を溶媒に溶解した溶液(以下、ドープと称する。)を支持基板上に流延した後、加熱等により溶媒を除去してフィルムを得る方法である。その際ドープを支持基板上に流延する方法としては、例えば、Tダイ法、ドクターブレード法バーコーター法、ロールコーター法リップコーター法等が用いられる。特に、工業的にはダイからドープをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が最も一般的である。用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板ステンレスフェロタイプ等の金属基板ポリエチレンテレフタレート等のフィルム等がある。溶液キャスト法において、高い透明性を有し、かつ厚み精度表面平滑性に優れたフィルムを製膜する際には、ドープの溶液粘度は極めて重要な因子であり、10〜20000cPsが好ましく、100〜10000cPsであることがさらに好ましい。

0047

この際のアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体の塗布厚は、フィルムの取り扱いが容易であることから、乾燥後1〜200μmが好ましく、さらに好ましくは2〜100μm、特に好ましくは3〜50μmである。

0048

また、溶融キャスト法は、アルコキシケイ皮酸エステル系共重合体を押出機内で溶融し、Tダイのスリットからフィルム状に押出した後、ロールエアー等で冷却しつつ引き取る成形法である。

0049

本発明の位相差フィルムは、基材のガラス基板や他の光学フィルムから剥離して用いることが可能であり、基材のガラス基板や他の光学フィルムとの積層体としても用いることができる。

0050

また、本発明の位相差フィルムは、偏光板と積層して円または楕円偏光板として用いることが可能であり、ポリビニルアルコールヨウ素等を含む偏光子と積層して偏光板とすることも可能である。さらに、本発明の位相差フィルム同士または他の位相差フィルムと積層することもできる。

0051

本発明の位相差フィルムは、フィルム成形時または位相差フィルム自体の熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていることが好ましい。該酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独又は併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することからヒンダード系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には例えば、ヒンダード系酸化防止剤100重量部に対して、リン系酸化防止剤を100〜500重量部で混合して使用することがさらに好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、本発明の位相差フィルムを構成するアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体100重量部に対して酸化防止作用に優れることから、0.01〜10重量部が好ましく、0.5〜1重量部がさらに好ましい。

0052

さらに、紫外線吸収剤として、例えば、ベンゾトリアゾールベンゾフェノントリアジン、ベンゾエート等の紫外線吸収剤を必要に応じて配合してもよい。

0053

本発明の位相差フィルムは、発明の主旨を超えない範囲で、その他高分子、界面活性剤高分子電解質導電性錯体無機フィラー顔料帯電防止剤アンチブロッキング剤滑剤等を配合してもよい。

発明の効果

0054

本発明によると、液晶ディスプレイのコントラストや視野角特性補償フィルム反射防止フィルムとして有用となるフィルムの厚み方向の屈折率が大きく、面内位相差が大きく、波長依存性が小さい等の光学特性に優れた位相差フィルムに適したアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体を提供することができる。

0055

また、本発明によると、分子量が高く、フィルム等とした際の特性に優れる新規なアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体及びアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体を効率よく製造する方法を提供することができる。

0056

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

0057

なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。

0058

<アルコキシケイ皮酸エステル系共重合体の組成>
核磁気共鳴測定装置日本電子製、商品名JNM−GX270)を用い、プロトン核磁気共鳴分光(1H−NMRスペクトル分析より求めた。

0059

<重量平均分子量の測定>
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)装置(東ソー製、商品名C0−8011(カラムGMHHR—Hを装着))を用い、テトラヒドロフランを溶媒として、40℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。

0060

<透明性の評価方法
ヘーズメーター(日本電色工業製、商品名NDH5000)を使用して、フィルムの全光線透過率およびヘーズを測定した。

0061

<屈折率の測定>
アッベ屈折率計(アタゴ製)を用い、JIS K 7142(1981年版)に準拠して測定した。

0062

<フィルムの位相差および三次元屈折率の測定>
全自動複屈折計(王子計測機器製、商品名KOBRA−WR)を用いて測定した。

0063

実施例1(アルコキシケイ皮酸エステル系共重合体(4−メトキシケイ皮酸エチル/4−メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル系共重合体)の合成1)
容量75mLのガラスアンプルに4−メトキシケイ皮酸エチル50g(0.26モル)、4−メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル15.2g(0.065モル)、ラジカル重合性多官能単量体としてジビニルベンゼン0.014g(1.1×10−4モル(0.04モル%))および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.38g(0.0022モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル系共重合体15gを得た(収率:23%)。

0064

得られたアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体の重量平均分子量は121,000であった。

0065

また、1H−NMR測定により、共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位/4−メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位/ジビニルベンゼン残基単位=83.86/15.97/0.16(モル%)であることを確認した。

0066

実施例2(アルコキシケイ皮酸エステル系共重合体(4−メトキシケイ皮酸エチル/フマル酸ジイソプロピル系共重合体)の合成2)
容量75mLのガラスアンプルに4−メトキシケイ皮酸エチル50g(0.24モル)、フマル酸ジイソプロピル20.8g(0.10モル)、ラジカル重合性多官能単量体としてジビニルベンゼン0.038g(2.9×10−4モル)および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.40g(0.0023モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル系共重合体22gを得た(収率:31%)。

0067

得られたアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体の重量平均分子量は159,000であった。

0068

また、1H−NMR測定により、共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位/フマル酸ジイソプロピル残基単位/ジビニルベンゼン残基単位==53.86/45.88/0.27(モル%)であることを確認した。

0069

実施例3(アルコキシケイ皮酸エステル系共重合体(4−メトキシケイ皮酸イソプロピル/フマル酸ジエチル系共重合体)の合成3)
容量75mLのガラスアンプルに4−メトキシケイ皮酸イソプロピル50g(0.21モル)、フマル酸ジエチル4.1g(0.024モル)、ラジカル重合性多官能単量体として1,1’−(メチレンジ−4,1−フェニレン)ビスマレイミド0.064g(1.8×10−4モル)および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.28g(0.0016モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル系共重合体13gを得た(収率:26%)。

0070

得られたアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体の重量平均分子量は141,000であった。

0071

また、1H−NMR測定により、共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位/フマル酸ジエチル残基単位/1,1’−(メチレンジ−4,1−フェニレン)ビスマレイミド残基単位=89.85/10.00/0.15(モル%)であることを確認した。

0072

実施例4(アルコキシケイ皮酸エステル系共重合体(3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル共重合体/N−フェニルマレイミド系共重合体)の合成4)
容量75mLのガラスアンプルに3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル50g(0.23モル)、N−フェニルマレイミド4.4g(0.025モル)、ラジカル重合性多官能単量体として1,4−ブタンジオールジメタクリレート0.02g(8.7×10−5モル)および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.29g(0.0017モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、24時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル系共重合体14gを得た(収率:25%)。

0073

得られたアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体の重量平均分子量は142,000であった。

0074

また、1H−NMR測定により、共重合体組成は3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位/N−フェニルマレイミド残基単位/1,4−ブタンジオールジメタクリレート残基単位=81.96/17.99/0.05(モル%)であることを確認した。

0075

実施例5(アルコキシケイ皮酸エステル系共重合体(4−エトキシケイ皮酸エチル/アクリル酸エチル系共重合体)の合成5)
容量75mLのガラスアンプルに4−エトキシケイ皮酸エチル50g(0.24モル)、アクリル酸エチル1.3g(0.013モル)、ラジカル重合性多官能単量体としてジビニルベンゼン0.023g(1.8×10−4モル(0.03モル%))および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.30g(0.0017モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、36時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル系共重合体10gを得た(収率:20%)。

0076

得られたアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体の重量平均分子量は158,000であった。

0077

また、1H−NMR測定により、共重合体組成は4−エトキシケイ皮酸エチル残基単位/アクリル酸エチル残基単位/ジビニルベンゼン残基単位=88.73/10.98/0.29(モル%)であることを確認した。

0078

比較例1
ラジカル重合性多官能単量体であるジビニルベンゼンを用いなかった以外は、実施例1と同様の方法により、4−メトキシケイ皮酸エチル−4−メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル共重合体9gを得た(収率:14%)。

0079

得られた4−メトキシケイ皮酸エチル−4−メトキシケイ皮酸2−エチルへキシル共重合体の重量平均分子量は53000と低いものであった。1H−NMR測定により得られた共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位/4−メトキシケイ皮酸2−エチルへキシル残基単位=84/16(モル%)であった。

0080

比較例2
ラジカル重合性多官能単量体であるジビニルベンゼンを用いなかった以外は、実施例2と同様の方法により、4−メトキシケイ皮酸エチル−フマル酸ジイソプロピル共重合体14gを得た(収率:20%)。

0081

得られた4−メトキシケイ皮酸エチル−フマル酸ジイソプロピル共重合体の重量平均分子量は63000と低いものであった。1H−NMR測定により得られた共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位/フマル酸ジイソプロピル残基単位=54/46(モル%)であった。

0082

比較例3
ラジカル重合性多官能単量体である1,1’−(メチレンジ−4,1−フェニレン)ビスマレイミドを用いなかった以外は、実施例3と同様の方法により、4−メトキシケイ皮酸イソプロピル−フマル酸ジエチル共重合体9gを得た(収率:16%)。

0083

得られた4−メトキシケイ皮酸イソプロピル−フマル酸ジエチル共重合体の重量平均分子量は60000と低いものであった。1H−NMR測定により得られた共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位/フマル酸ジエチル残基単位=90/10(モル%)であった。

0084

比較例4
ラジカル重合性多官能単量体である1,4−ブタンジオールジメタクリレートを用いなかった以外は、実施例4と同様の方法により、3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル−N−フェニルマレイミド共重合体9gを得た(収率:17%)。

0085

得られた3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル−N−フェニルマレイミド共重合体の重量平均分子量は94000と低いものであった。また、1H−NMR測定により得られた共重合体組成は3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位/N−フェニルマレイミド残基単位=82/18(モル%)であった。

0086

比較例5
ラジカル重合性多官能単量体であるジビニルベンゼンを用いなかった以外は、実施例5と同様の方法により、4−エトキシケイ皮酸エチル−アクリル酸エチル共重合体5gを得た(収率:10%)。

0087

得られた4−エトキシケイ皮酸エチル−アクリル酸エチル共重合体の重量平均分子量は78000と低いものであった。また、1H−NMR測定により得られた共重合体組成は4−エトキシケイ皮酸エチル残基単位/アクリル酸エチル残基単位=89/11(モル%)であった。

0088

実施例6
実施例1で得られたアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体をメチルイソブチルケトンに溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、130℃で10分乾燥することにより、厚み30μmのアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体を用いたフィルムを得た。

0089

得られたフィルムは、全光線透過率90%、ヘーズ0.5%、屈折率1.564であった。

0090

三次元屈折率は、nx=1.5607、ny=1.5607、nz=1.5705であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−295nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は9.8nm/フィルム膜厚(μm)であった。

0091

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。

0092

実施例7
実施例2で得られたアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体をシクロヘキサノンに溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、150℃で10分乾燥することにより、厚み20μmのアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体を用いたフィルムを得た。

0093

得られたフィルムは、全光線透過率92%、ヘーズ0.6%、屈折率1.517であった。

0094

三次元屈折率は、nx=1.5141、ny=1.5141、nz=1.5230であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−179nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は9.0nm/フィルム膜厚(μm)であった。

0095

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。

0096

実施例8
実施例3で得られたアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体をトルエン/メチルイソブチルケトン混合溶剤に溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、130℃で10分乾燥することにより、厚み20μmのアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体を用いたフィルムを得た。

0097

得られたフィルムは、全光線透過率91%、ヘーズ0.6%、屈折率1.529であった。

0098

三次元屈折率は、nx=1.5261、ny=1.5261、nz=1.5361であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−201nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は10.1nm/フィルム膜厚(μm)であった。

0099

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。

0100

実施例9
実施例4で得られたアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体をトルエン/メチルエチルケトン混合溶剤に溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、110℃で10分乾燥することにより、厚み30μmのアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体を用いたフィルムを得た。

0101

得られたフィルムは、全光線透過率90%、ヘーズ0.7%、屈折率1.563であった。

0102

三次元屈折率は、nx=1.5600、ny=1.5600、nz=1.5686であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−260nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は8.7nm/フィルム膜厚(μm)であった。

0103

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。

0104

実施例10
実施例5で得られたアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体をテトラヒドロフランに溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、70℃で10分乾燥することにより、厚み25μmのアルコキシケイ皮酸エステル系共重合体を用いたフィルムを得た。

0105

得られたフィルムは、全光線透過率91%、ヘーズ0.5%、屈折率1.545であった。

0106

三次元屈折率は、nx=1.5424、ny=1.5424、nz=1.5510であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−213nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は8.5nm/フィルム膜厚(μm)であった。

0107

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。

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