図面 (/)

技術 シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]の製造方法

出願人 メルクパテントゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
発明者 ヤーゲン・エクスタインステフェン・エマルトミヒャエル・シュワルツケヴィン・アドレムハッサン・アラシジョセフ・サージェント
出願日 2015年1月23日 (4年6ヶ月経過) 出願番号 2015-011049
公開日 2015年7月30日 (3年11ヶ月経過) 公開番号 2015-137279
状態 特許登録済
技術分野 有機低分子化合物及びその製造
主要キーワード 不均一触媒作用 不均一系触媒作用 ハロゲン化イソプロピル 均一系触媒作用 アダムス触媒 触媒性水素化 非環状エーテル ワンステップ
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(2015年7月30日)のものです。
また、この項目は機械的に抽出しているため、正しく解析できていない場合があります

図面 (0)

図面はありません

課題

規模工業的規模に好適な、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシルフェニル]の安価でかつ効率的な製造方法を提供する。

解決手段

トランス−1,4−シクロヘキサンジカルボン酸クロプロピオン酸6−(4−ヒドロキシフェニル)ヘキシルとの縮合反応を含む工程段階包含する、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]の製造方法により、かかる課題は解決される。

概要

背景

液晶化合物シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシルフェニル]および2色性ホスト/ゲスト偏光板におけるその使用が開示されている(特許文献1)。開示される一般的合成戦略により、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]は、6−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−1−ブロモヘキサンおよび臭化4−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)フェニルマグネシウムから出発する5段階合成において得ることができる。この合成戦略の欠点は、比較的高価な出発材料および収率の減少に関連する必要な合成ステップの数である。

概要

規模工業的規模に好適な、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]の安価でかつ効率的な製造方法を提供する。トランス−1,4−シクロヘキサンジカルボン酸クロプロピオン酸6−(4−ヒドロキシフェニル)ヘキシルとの縮合反応を含む工程段階包含する、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]の製造方法により、かかる課題は解決される。なし

目的

本発明の目的の1つは、特に、大規模な工業的規模に好適な、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]の安価でかつ効率的な製造方法を提供する

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
1件

この技術が所属する分野

ライセンス契約や譲渡などの可能性がある特許掲載中! 開放特許随時追加・更新中 詳しくはこちら

請求項1

請求項2

3−クロロプロピオン酸を用いる6−(4−ヒドロキシフェニル)−1−ヘキサノールエステル化によりクロロプロピオン酸6−(4−ヒドロキシフェニル)ヘキシルを得ることを含むさらなる工程段階を含む、請求項1に記載のシクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]の製造方法。

請求項3

1−(4−ベンジルオキシフェニル)−6−ヒドロキシヘキサン−1−オン水素化により6−(4−ヒドロキシフェニル)−1−ヘキサノールを得ることを含むさらなる工程段階を含む、請求項1または2に記載のシクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]の製造方法。

請求項4

ε−カプロラクトン塩酸N,O−ジメチルヒドロキシルアミンとの反応から得られた、ワインレブアミドの、臭化4−ベンジルオキシフェニルニルマグネシウムとのグリニャール反応により、1−(4−ベンジルオキシフェニル)−6−ヒドロキシヘキサン−1−オンを得ることを含むさらなる工程段階を含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載のシクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]の製造方法。

請求項5

請求項1により製造されたシクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]の液晶媒体の成分としての使用。

技術分野

0001

本発明は、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシルフェニル]の製造方法に、ならびにその製造のための中間体におよびその誘導体に関する。

背景技術

0002

液晶化合物シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]および2色性ホスト/ゲスト偏光板におけるその使用が開示されている(特許文献1)。開示される一般的合成戦略により、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]は、6−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−1−ブロモヘキサンおよび臭化4−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)フェニルマグネシウムから出発する5段階合成において得ることができる。この合成戦略の欠点は、比較的高価な出発材料および収率の減少に関連する必要な合成ステップの数である。

先行技術

0003

国際公開第2005/045485号

発明が解決しようとする課題

0004

本発明の目的の1つは、特に、大規模工業的規模に好適な、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]の安価でかつ効率的な製造方法を提供すること、ならびに工業的に有用な特性を有するまたはさらなる誘導体の効率的な合成のための出発化合物として用いることができる中間体を提供することである。

課題を解決するための手段

0005

それゆえ本発明は、トランス−1,4−シクロヘキサンジカルボン酸クロプロピオン酸6−(4−ヒドロキシフェニル)ヘキシルとの縮合反応を含む工程段階包含する、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]の製造方法に関する。

0006

本発明はさらに、
・ 3−クロロプロピオン酸を用いる6−(4−ヒドロキシフェニル)−1−ヘキサノールエステル化によりクロロプロピオン酸6−(4−ヒドロキシフェニル)ヘキシルを得ることを含むさらなる工程段階を包含する、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]の製造方法、
・ 1−(4−ベンゾイルオキシフェニル)−6−ヒドロキシヘキサン−1−オン水素化により6−(4−ヒドロキシフェニル)−1−ヘキサノールを得ることを含むさらなる工程段階を包含する、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]の製造方法、および
・ ε−カプロラクトンおよび塩酸N,O−ジメチルヒドロキシルアミンの反応から得られたワインレブアミドと臭化4−ベンジルオキシフェニルマグネシウムのグリニャール反応により1−(4−ベンジルオキシフェニル)−6−ヒドロキシヘキサン−1−オンを得ることを含むさらなる工程段階を包含する、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]の製造方法
に関する。

発明の効果

0007

そのメソゲン特性のため、本発明によるシクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]は、液晶媒体において用いられる。

0008

全体の方法の概説が、以下のスキーム1において得られる。

0009

第1の工程段階において、ε−カプロラクトンが塩酸N,O−ジメチルヒドロキシルアミンを用いてワインレブアミドへと変換され、これをグリニャール試薬の4−ベンジルオキシ−1−ブロモベンゼンとin situで反応させ、1−(4−ベンジルオキシフェニル)−6−ヒドロキシヘキサン−1−オンを得る。

0010

好ましくは、臭化4−ベンジルオキシフェニルマグネシウムに基づき、過剰のε−カプロラクトンの、特に好ましくは1モルの臭化4−ベンジルオキシフェニルマグネシウムあたり1.1〜1.5モルのε−カプロラクトンの、特には1モルの臭化4−ベンジルオキシフェニルマグネシウムあたり1.2〜1.3モルのε−カプロラクトンの使用がなされる。

0011

該工程は、好ましくは、好適な無水非プロトン性溶媒中で、または対応する溶媒混合物中で行われる。好適な溶媒は当業者に公知であり、好ましくは、環状および非環状エーテル、環状または非環状炭化水素またはハロゲン化溶媒を包含する。

0012

環状および非環状エーテルは、好ましくは、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフランジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテルおよびジメトキシエタンから選択される。好適な炭化水素は、例えば、トルエン、シクロヘキサン、ヘキサンおよびヘプタンから選択される。この関連において好適なハロゲン化溶媒は、クロロホルムまたはジクロロメタンであり、好ましくはジクロロメタンである。

0013

テトラヒドロフラン/ジクロロメタン混合物はまた、特に好ましく用いられ得る。

0014

好ましくは、100重量部のε−カプロラクトンあたり40〜900重量部、特に60〜800重量部の溶媒の使用がなされる。

0015

工程は好ましくは、保護ガス雰囲気下で実行される。好適な保護ガスまたは不活性ガスは当業者に公知であり、例えば、アルゴンまたは窒素、好ましくは窒素を包含する。

0016

好ましくは、有機マグネシウム化合物反応物に添加される。ここで好適な有機マグネシウム化合物は、例えば、THF中のハロゲン化イソプロピルマグネシウム、好ましくはTHF中の塩化イソプロピルマグネシウムまたは臭化イソプロピルマグネシウムを包含する。好ましくは、1モルの臭化4−ベンジルオキシフェニルマグネシウムあたり1〜3モル、特に2〜3モルの有機マグネシウム化合物の使用がなされる。

0017

好適な反応温度は、例えば、−30〜+15℃、好ましくは−10〜+10℃、さらに好ましくは−5〜+5℃の範囲におけるものである。

0018

当業者に公知であるように、反応時間は、とりわけ、混合およびバッチサイズに依存する。反応時間は典型的には、2〜100時間、好ましくは3〜40時間である。

0019

製造される1−(4−ベンジルオキシフェニル)−6−ヒドロキシヘキサン−1−オンは、さまざまな様式で、好ましくは好適な溶媒、例えばトルエンなどからの抽出または結晶化により単離することができるが、当業者に公知の他の溶媒またはその混合物もまた本発明に従って使用することができる。好適なワークアップ条件は中間体の精製方法の選択に依存し、当業者により容易に対応させることができる。ここで好適な精製工程は、カラムクロマトグラフィによる精製、結晶化および抽出を包含する。

0020

中間体1−(4−ベンジルオキシフェニル)−6−ヒドロキシヘキサン−1−オンは、ワンステップでの触媒性水素化により、実質定量的に6−(4−ヒドロキシフェニル)−1−ヘキサノールへと変換することができる。

0021

好適な反応条件は、参考図書および関連する事典から当業者に公知である。

0022

好適な態様において、1−(4−ベンジルオキシフェニル)−6−ヒドロキシヘキサン−1−オンの水素化のためには、好ましい不均一触媒作用に加えて、均一系触媒作用もまた好適である。均一系触媒作用において、水素化触媒は溶媒中に完全に溶解する。これは、金属上の好適なリガンドの使用により達成される。不均一触媒作用において、水素化される化合物とともに、水素化触媒および溶媒の不溶性混合物が存在する。工程は好ましくは、不均一系触媒作用を用いて実行される。

0023

水素化触媒としての塩を利用する際に、かかる塩は一般的にはまず還元され、微細に分割された元素活性な水素化触媒を形成する。

0024

好適な水素化触媒は、水素の付加を促進する触媒である。白金族、例えばパラジウムおよび白金が、水素化において好ましく用いられる。しかし、さらに、ロジウムルテニウムコバルト、鉄、ニッケル亜クロム酸銅および亜クロム酸亜鉛もまた、水素化触媒として用いることができる。

0025

触媒は一般的には、支持体へと適用される。好適な支持体は、例えば、活性炭二酸化ケイ素炭酸カルシウム硫酸バリウムまたは酸化アルミニウムである。

0026

水素化触媒は、特に好ましくは、白金黒アダムス触媒酸化白金(IV))、活性炭上のパラジウム、コロイド状パラジウム、酸化パラジウム(II)、硫酸バリウム上のパラジウム、硫酸バリウム上の水酸化パラジウム(II)、リンドラー触媒(炭酸カルシウム上の、酢酸鉛(II)で被毒したパラジウム)、炭酸カルシウム上のパラジウム、またはパラジウム黒から選択され、特に好ましくは活性炭上のパラジウムである。

0027

好ましい触媒は、支持体金属に加えて、全体の乾燥触媒に基づき、1〜20重量%、好ましくは5〜10重量%のパラジウムを含む。

0028

本発明による方法のために、触媒は乾燥状態または湿潤状態(60%までの水)で使用することができるが、乾燥触媒の使用が好ましい。

0029

本発明による方法のために、1−(4−ベンジルオキシフェニル)−6−ヒドロキシヘキサン−1−オンに対する用いられる触媒の重量比は、0.0001〜0.1:1、好ましくは0.005〜0.05:1である。

0030

反応は好ましくは、好適な極性溶媒または溶媒混合物中で実行される。好適な極性溶媒は当業者に公知であり、例えば、アルコール環状エーテルおよび/またはエステル、好ましくはジオキサン氷酢酸酢酸エチルメタノールエタノールイソプロパノール、特に好ましくは酢酸エチルを包含する。

0031

好ましくは、100重量部の1−(4−ベンジルオキシフェニル)−6−ヒドロキシヘキサン−1−オンあたり、40〜900重量部、特に60〜800重量部の溶媒の使用がなされる。

0032

反応は好ましくは、過圧での水素雰囲気下で実行される。好適な圧力は当業者に公知であり、1〜20バール、好ましくは2〜10バール、特に好ましくは3〜7バールの範囲を包含する。

0033

さらなる態様において、触媒水素化は、水素源としてヒドラジンシクロヘキサジエン類またはギ酸を使用して実行される。

0034

好適な反応温度は、例えば、+10〜+80℃、好ましくは+20〜+60℃、さらに好ましくは+30〜+50℃の範囲のものである。

0035

反応時間は、2〜100時間、好ましくは5〜40時間である。

0036

好ましい態様において、反応混合物は、触媒をろ別し、溶媒を蒸発させて乾燥させることにより、ワークアップする。しかし、代替的に、製造された1−(4−ベンジルオキシフェニル)−6−ヒドロキシヘキサン−1−オンはまた、反応溶液のろ過後に抽出または結晶化により単離することができる。好適なワークアップ条件は、中間体の精製方法の選択に依存し、当業者により容易に対応させることができる。ここで好適な精製工程は、好ましくは、カラムクロマトグラフィによる精製、結晶化および抽出を包含する。

0037

次の合成ステップにおいて、6−(4−ヒドロキシフェニル)−1−ヘキサノールを3−クロロプロピオン酸と反応させ、対応するクロロプロピオン酸6−(4−ヒドロキシフェニル)ヘキシルを得る。

0038

好ましくは、6−(4−ヒドロキシフェニル)−1−ヘキサノールに基づき、過剰の3−クロロプロピオン酸の、特に好ましくは1モルの6−(4−ヒドロキシフェニル)−1−ヘキサノールあたり1.1〜1.5モルの3−クロロプロピオン酸、特には1モルの6−(4−ヒドロキシフェニル)−1−ヘキサノールあたり1.1〜1.3モルの3−クロロプロピオン酸の使用がなされる。

0039

該方法は好ましくは、好適な疎水性、非プロトン性溶媒または対応する溶媒混合物中で実行される。好適な溶媒は当業者に公知であり、例えば、環状および非環状エーテル、環状または非環状炭化水素またはハロゲン化炭化水素を包含する。

0040

好適なエーテルは、例えば、2−メチルテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテルおよびジメトキシエタンであり、好適な炭化水素は、例えば、トルエン、シクロヘキサン、ヘキサンおよびヘプタンであり、およびこの関連で好適なハロゲン化炭化水素は、クロロホルムまたはジクロロメタン、好ましくはジクロロメタンである。

0041

好ましくは、6−(4−ヒドロキシフェニル)−1−ヘキサノールの重量部あたり、10〜100重量部、特に10〜50重量部、特に好ましくは10〜25重量部の溶媒の使用がなされる。

0042

酸性触媒、好ましくはp−トルエンスルホン酸またはスルホン酸、特に好ましくはp−トルエンスルホン酸が、好ましくは添加される。硫酸に対するここでのその利点は、それが酸化作用を有しないということである。好ましくは、1モルの6−(4−ヒドロキシフェニル)−1−ヘキサノールあたり、0.1〜0.5モル、特に0.1〜0.3モル、特に好ましくは0.15〜0.25モルのp−トルエンスルホン酸の使用がなされる。

0043

反応は好ましくは、溶媒の沸点で行われる。ジクロロメタンの好ましい使用の場合、好適な反応温度は典型的には、+15℃〜+40℃、好ましくは+20℃〜+40℃、さらに好ましくは+35〜+40℃の範囲におけるものである。

0044

当業者に公知であるように、反応時間は、とりわけ、混合およびバッチサイズに依存する。反応時間は典型的には10〜200時間、好ましくは25〜100時間である。

0045

製造されたクロロプロピオン酸6−(4−ヒドロキシフェニル)ヘキシルは、当業者に公知のさまざまな方法で、好ましくは好適な溶媒からの抽出または結晶化により単離することができる。好適なワークアップ条件は中間体の精製方法の選択に依存し、当業者により容易に対応させることができる。ここで好適な精製方法は、好ましくは、カラムクロマトグラフィによる精製、結晶化および抽出を包含する。

0046

本発明により、クロロプロピオン酸6−(4−ヒドロキシフェニル)ヘキシルは次いで、トランス−1,4−シクロヘキサンジカルボン酸との縮合反応において、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]へと変換される。

0047

工程は好ましくは、好適な無水、疎水性、非プロトン性溶媒または対応する溶媒混合物中で実行される。好適な溶媒は当業者に公知であり、例えば、環状または非環状エーテル、環状または非環状炭化水素またはハロゲン化炭化水素を包含する。

0048

好適なエーテルは、例えば、2−メチルテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテルおよびジメトキシエタンであり、好ましい炭化水素は、例えば、トルエン、シクロヘキサン、ヘキサンおよびヘプタンであり、および好ましいハロゲン化炭化水素はクロロホルムまたはジクロロメタン、特に好ましくはジクロロメタンを包含する。

0049

好ましくは、重量部のトランス−1,4−シクロヘキサンジカルボン酸あたり5〜10重量部、特に6〜8重量部の溶媒の使用がなされ、これは好ましくは対応する溶媒中にまず導入し、懸濁させる。

0050

トリフルオロ酢酸無水物を、このようにして得られた懸濁物へと添加する。トランス−1,4−シクロヘキサンジカルボン酸に基づき、過剰量のトリフルオロ酢酸無水物、特に好ましくは2.1〜2.5モル、特に2.1〜2.3モルのトリフルオロ酢酸無水物の使用がなされる。

0051

本発明により、トランス−1,4−シクロヘキサンジカルボン酸に基づき、過剰のクロロプロピオン酸6−(4−ヒドロキシフェニル)ヘキシル、好ましくは1モルのトランス−1,4−シクロヘキサンカルボン酸あたり2.1〜2.5モル、特に2.1〜2.3モルのクロロプロピオン酸6−(4−ヒドロキシフェニル)ヘキシルの使用がなされる。

0052

工程は好ましくは、保護ガス雰囲気下で実行される。好適な保護ガスは当業者に公知であり、例えば、アルゴンまたは窒素、好ましくは窒素を包含する。

0053

反応は好ましくは、溶媒の沸点で実行される。ジクロロメタンの使用の場合において、好適な反応温度は典型的には、+15℃〜+40℃、好ましくは+20℃〜+40℃、さらに好ましくは+35℃〜+40℃の範囲におけるものである。

0054

当業者に公知であるように、反応時間は混合およびバッチサイズに依存する。反応時間は典型的には、10〜200時間、好ましくは25〜100時間である。

0055

製造されるシクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]は当業者に公知のさまざまな様式により、例えば好適な溶媒からの抽出または結晶化により、好ましくは反応溶液からの抽出により単離することができる。好適なワークアップ条件は、当業者により容易に対応させることができる。ここで好適な精製方法は好ましくは、カラムクロマトグラフィにより精製、結晶化および抽出を包含する。

0056

本明細書における百分率データは、重量%を示す。全ての温度は、摂氏度で示されている。

0057

添付の実施例は本発明をさらに説明するものであり、いかようにもそれを制限しない。

0058

説明的な合成において用いられる出発化合物、試薬および溶媒は、購入されるか、または文献から公知の方法により製造されるかのいずれかであった。説明的な合成は通常は、水分を排除した乾燥装置中で、および対象の反応により必要とされるなら、空気を排除した保護ガス雰囲気下で実行された。反応の経過は一般的には、薄層クロマトグラフィまたはガスクロマトグラフィの手段によりモニターされた。反応生成物はワークアップし、慣用の方法により、例えばカラムクロマトグラフィまたは結晶化の手段により精製することができる。これらの構造同一性は、質量分析および1H−NMR分光法により確証した。収率は最適化しなかった。

0059

1. 1−(4−ベンジルオキシフェニル)−6−ヒドロキシヘキサン−1−オンの合成
ε−カプロラクトン(13.7g、120mmol)および塩酸N,O−ジメチルヒドロキシルアミン(11.7g、120mmol)をまず窒素下で導入し、450mlのジクロロメタンを添加する。THF中の2M溶液の塩化イソプロピルマグネシウム(123g、250mmol)の溶液を、約−5℃で該溶液へと滴下で添加する。添加が完了したとき、クリアな溶液を−5℃〜+3.5℃でさらに30分間攪拌する。THF中の1M溶液の臭化4−ベンジルオキシ−フェニルマグネシウム(105g、100mmol)を次いで、−3℃〜+1℃で滴下で添加する。反応混合物を0℃でさらに3時間攪拌し、そして2N塩酸の添加により加水分解する。相を分離し、有機相水性炭酸水素ナトリウム溶液および水で洗浄する。有機相をトルエンの添加で蒸発させる。残渣をトルエンから結晶化する。生成物をろ別し、冷たいトルエンで洗浄し、真空で乾燥させ、MSおよび1H−NMRの手段により特徴付ける。
収率:81%

0060

2. 6−(4−ヒドロキシフェニル)−1−ヘキサノールの合成
1−(4−ベンジルオキシフェニル)−6−ヒドロキシヘキサン−1−オン(24.5g、81.5mmol)を、5バールの水素圧力および40°で5%Pd/Cを用いて酢酸エチル中で水素化する。触媒をろ別したのちに、生成物溶液を蒸発させて乾燥させ、固体残渣を得る。生成物をMSおよび1H−NMRの手段により特徴付ける。
収率:93%

0061

3.クロロプロピオン酸6−(4−ヒドロキシフェニル)ヘキシルの合成
6−(4−ヒドロキシフェニル)−1−ヘキサノール(27.0g、139mmol)をまず、Dean−Stark装置中の400mlのジクロロメタン中に導入し、p−トルエンスルホン酸(5.3g、28mmol)および3−クロロプロピオン酸(16.1g、149mmol)を連続的に添加する。次いで混合物を沸点へと加熱し、さらに96h攪拌する。反応溶液を冷却し、水を添加する。相を分離し、有機相をpH5に達するまで水で洗浄する。相分離後、有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去する。得られた生成物にシリカゲルを通過させる分別ろ過を施し、次いで蒸発させ乾燥させる。生成物をMSおよび1H−NMRの手段により特徴付ける。
収率:63%

実施例

0062

4.シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ビス[4−(6−アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]の合成
トランス−1,4−シクロヘキサンジカルボン酸(8.77g、51mmol)を100mlの無水ジクロロメタン中に懸濁させる。次いでトリフルオロ酢酸無水物(15.6ml、112mmol)を添加し、混合物を30℃でさらに1h攪拌する。そして50mlの無水ジクロロメタン中のクロロプロピオン酸6−(4−ヒドロキシフェニル)ヘキシル(32g、112mmol)を添加し、混合物をさらに12h攪拌する。次いで100mlの水を反応混合物へと添加し、相を分離する。水相を20mlのジクロロメタンで2回抽出し、混ぜ合わせた有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させる。次いで溶媒を減圧下で除去する。粗製生成物を再びジクロロメタン中に取り込み、40mlのトリエチルアミンを添加し、混合物を40℃でさらに12h攪拌する。冷却および反応溶液への希塩酸およびさらなるジクロロエタンの添加後、相を分離し、水相をジクロロメタンで抽出する。混ぜ合わせた有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させ、BHTの添加後に溶媒を減圧下で除去する。粗製生成物をシリカゲルを通した分別ろ過に施す(溶離剤:ジクロロメタン/酢酸エチル、99:1)。有機生成物相を混ぜ合わせ、BHTの添加後に減圧下で溶媒を除去する。生成物をMSおよび1H−NMRの手段により特徴付ける。
収率:95%

ページトップへ

この技術を出願した法人

この技術を発明した人物

ページトップへ

関連する挑戦したい社会課題

関連する公募課題

該当するデータがありません

ページトップへ

おススメ サービス

おススメ astavisionコンテンツ

新着 最近 公開された関連が強い技術

この 技術と関連性が強い人物

関連性が強い人物一覧

この 技術と関連する社会課題

関連する挑戦したい社会課題一覧

この 技術と関連する公募課題

該当するデータがありません

astavision 新着記事

サイト情報について

本サービスは、国が公開している情報(公開特許公報、特許整理標準化データ等)を元に構成されています。出典元のデータには一部間違いやノイズがあり、情報の正確さについては保証致しかねます。また一時的に、各データの収録範囲や更新周期によって、一部の情報が正しく表示されないことがございます。当サイトの情報を元にした諸問題、不利益等について当方は何ら責任を負いかねることを予めご承知おきのほど宜しくお願い申し上げます。

主たる情報の出典

特許情報…特許整理標準化データ(XML編)、公開特許公報、特許公報、審決公報、Patent Map Guidance System データ