図面 (/)

技術 精錬処理方法

出願人 株式会社神戸製鋼所
発明者 木村世意
出願日 2012年9月14日 (8年3ヶ月経過) 出願番号 2012-203219
公開日 2014年4月3日 (6年8ヶ月経過) 公開番号 2014-058708
状態 特許登録済
技術分野 炭素鋼又は鋳鋼の製造 溶融状態での鋼の処理
主要キーワード 平均上昇速度 出現面 外縁位置 胴部側 鉄分濃度 空気ボンベ ガス撹拌 重回帰
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(2014年4月3日)のものです。
また、この項目は機械的に抽出しているため、正しく解析できていない場合があります

図面 (11)

課題

精錬処理時に溶湯に含まれる不純物を素早く除去することができるようにする。

解決手段

炉底2に配置されたガス吐出羽口3からガスを吹き込みながら精錬処理を行うに際しては、[0.0535×Ap/A+0.0489×Ap1/A+0.131×Ap2/A+0.342×Aw/A+0.543×h/H+0.030]の値である反応効率指数Rが0.13以上、Ap/A=0.1〜0.6、Aw/A≦0.10(0を含む)、h/H≦0.20(0を含まない)を満たす精錬処理を行う。

概要

背景

従来より、精錬炉炉底からガスを吹き込みながら精錬を行う技術として、特許文献1〜6に示すものがある。
特許文献1では、転炉炉体炉心軸上方に配置された上吹ランスから溶鋼に向けて酸化性ガス噴射するとともに転炉下底部の複数の羽口から溶鋼内へガスを吹込んで吹錬する上下複合吹き転炉製鋼法を開示しており、上吹ランスから噴出されるガスが溶鋼に直接接触する火点領域の最外縁位置と炉心軸との水平距離Xを求め、各羽口と炉底中心との間の距離の最大値が距離Xの1.3倍以下となるように炉底の羽口位置及び上吹きランスの位置を設定している。

特許文献2では、底部に複数の撹拌用ガス吹込み羽口を設けた複合吹錬用転炉において、炉底を火点外周と火点外周から炉壁までの距離の1/2の点が描く円周との間の第1の区域と、該円周と炉壁との間の第2の区域とに区分し、第1の区域と第2の区域とに夫々少なくとも2個の羽口を設け、しかも該第1の区域における羽口と該第2の区域における羽口とが炉底の中心を通る直線上に並ばないように配設している。

その他に、羽口に関する技術として、特許文献3〜6に示すものがある。

概要

精錬処理時に溶湯に含まれる不純物を素早く除去することができるようにする。炉底2に配置されたガス吐出羽口3からガスを吹き込みながら精錬処理を行うに際しては、[0.0535×Ap/A+0.0489×Ap1/A+0.131×Ap2/A+0.342×Aw/A+0.543×h/H+0.030]の値である反応効率指数Rが0.13以上、Ap/A=0.1〜0.6、Aw/A≦0.10(0を含む)、h/H≦0.20(0を含まない)を満たす精錬処理を行う。

目的

本発明では、溶湯に含まれる不純物を素早く除去することができる精錬処理方法を提供する

効果

実績

技術文献被引用数
1件
牽制数
0件

この技術が所属する分野

ライセンス契約や譲渡などの可能性がある特許掲載中! 開放特許随時追加・更新中 詳しくはこちら

請求項1

精錬炉炉底に配置されたガス吐出羽口からガスを吹き込みながら精錬処理を行う精錬処理方法であって、式(1)で示される反応効率指数Rが0.13以上、Ap/A=0.1〜0.6、Aw/A≦0.10(0を含む)、h/H≦0.20(0を含まない)を満たすことを特徴とする精錬処理方法。

技術分野

0001

本発明は、精錬炉炉底に配置されたガス吐出羽口からガスを吹き込みながら精錬を行う精錬処理方法に関する。

背景技術

0002

従来より、精錬炉で炉底からガスを吹き込みながら精錬を行う技術として、特許文献1〜6に示すものがある。
特許文献1では、転炉炉体炉心軸上方に配置された上吹ランスから溶鋼に向けて酸化性ガス噴射するとともに転炉下底部の複数の羽口から溶鋼内へガスを吹込んで吹錬する上下複合吹き転炉製鋼法を開示しており、上吹ランスから噴出されるガスが溶鋼に直接接触する火点領域の最外縁位置と炉心軸との水平距離Xを求め、各羽口と炉底中心との間の距離の最大値が距離Xの1.3倍以下となるように炉底の羽口位置及び上吹きランスの位置を設定している。

0003

特許文献2では、底部に複数の撹拌用ガス吹込み羽口を設けた複合吹錬用転炉において、炉底を火点外周と火点外周から炉壁までの距離の1/2の点が描く円周との間の第1の区域と、該円周と炉壁との間の第2の区域とに区分し、第1の区域と第2の区域とに夫々少なくとも2個の羽口を設け、しかも該第1の区域における羽口と該第2の区域における羽口とが炉底の中心を通る直線上に並ばないように配設している。

0004

その他に、羽口に関する技術として、特許文献3〜6に示すものがある。

先行技術

0005

特公昭63−5447号公報
特公昭61−36050号公報
特開2001−279310号公報
特開平7−97610号公報
特開2002−105525号公報
特開平4−187708号公報

発明が解決しようとする課題

0006

特許文献1では、羽口と炉底中心との関係を用いて羽口を配置することにより、底吹ガスによるスラグメタル間の撹拌助長効果により、スラグ中鉄分濃度(T.Fe)を少なくし、鉄歩留りを向上させることができるとしている。しかしながら、特許文献1の技術を用いたとしても、精錬処理を行ったときの不純物がどのように低減するかが不明であり、この技術を用いて、精錬処理を行ったときに十分に不純物を除去することができないのが実情である。

0007

一方、特許文献2も、吹錬用転炉に設けられた羽口の配置位置などを規定したものであるが、この技術では、ある1つの羽口配置について脱りん能力が向上した結果しか述べられておらず、本技術を用いても、素早く且つ十分に不純物を除去することができないのが実情である。
同様に、特許文献3〜6に開示された羽口に関する技術を用いたとしても、精錬時において不純物を確実に除去することができないのが実情である。

0008

そこで、本発明では、溶湯に含まれる不純物を素早く除去することができる精錬処理方法を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

0009

前記目的を達成するために、本発明は、次の手段を講じた。
本発明の技術的手段は、精錬炉の炉底に配置されたガス吐出羽口からガスを吹き込みながら精錬処理を行う精錬処理方法であって、式(1)で示される反応効率指数Rが0.13以上、Ap/A=0.1〜0.6、Aw/A≦0.10(0を含む)、h/H≦0.20(0を含まない)を満たすことを特徴とする。

0010

発明の効果

0011

本発明によれば、精錬処理時に溶湯に含まれる不純物を素早く除去することができる。

図面の簡単な説明

0012

精錬炉(容器)の炉底に設けたガス吐出羽口からガスを導入した状況を模した図である。
プルーム撹拌面が互いに重なった状況下でのプルーム撹拌面の面積の定義を説明する説明図である。
プルーム撹拌面が炉体側壁に重なった状況下でのプルーム撹拌面の面積の定義を説明する説明図である。
プルームが溶湯表面盛り上げる高さを説明する説明図である。
水モデル実験で用いた実験装置の全体図である。
反応容器の底部にガス吐出羽口に相当するガス導入孔を設けた場合のガス導入孔の配置を示す図である。
水モデル実験による水の濁り濁度)の推移の一例を示した図である。
水モデル実験による底吹きガス導入孔の配置パターンを示した図である。
10分後濃度と反応効率指数Rとの関係を示した図である。
初期濃度C0から半減した濃度半減時間と反応効率指数Rとの関係を示した図である。

実施例

0013

以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
製鋼工場では、高炉から出銑した溶銑混銑車取鍋あるいは転炉等に装入して脱珪処理脱硫処理、脱りん処理等の精錬処理を行う。その後、溶銑を転炉等の精錬炉に装入して脱炭処理を行い、脱炭処理後は溶鋼の介在物除去が成分調整などを行う。つまり、製鋼工場では、溶銑や溶銑、即ち、溶湯に対して様々な精錬処理を行うものとなっている。

0014

精錬処理の多くは、ガスを溶湯に吹き込んで溶湯を撹拌するというガス撹拌を行う。このガス撹拌は、溶湯を撹拌することによって、溶湯と、溶湯に浮かぶスラグ等の異相とが接触し易いようにし、溶湯とスラグとの界面による反応効率を向上させる役割がある。溶湯とスラグとの反応によって、溶湯中の不純物を除去することができるため、精錬処理時におけるガス撹拌は非常に重要である。

0015

本発明は、精錬処理で重要とされているガス撹拌を効率よく行うために、ガスを吹き込むためのガス吐出羽口の配置に着目したものである。本発明では、特に、脱りん、脱炭処理等を行う精錬炉の炉底に設けたガス吐出羽口の配置を適正化することにより、溶湯に含まれる不純物を素早く除去することができるようにしたものである。
図1は、精錬炉(容器)の炉底に1つのガス吐出羽口を設けて、このガス吐出羽口からガスを導入した状況を示した模式図である。まず、図1を用いてガス吐出羽口からガスを吹き込んだときの状況について説明する。

0016

図1に示すように、精錬炉1の炉底2にガス吐出羽口3を設け、ガス吐出羽口3から溶湯4内へ不活性ガス等のガスを吹き込んだ場合、炉底2から吹き込んだガスは上方にいくにしたがって徐々に外側に広がり、ガス吐出羽口3を頂点とした円錐形気泡塔5(以下、プルーム5)となる。プルーム5が溶湯表面に現れたときの面積(出現面積)が大きい場合、溶湯4とスラグとの界面付近撹拌効率は良い。

0017

ここで、ガスを吹き込んだときのプルーム5が溶湯表面に現れたときの出現面積Ase(溶湯4を上方から平面視したときのプルーム5の上面の面積)を求めると、式(2)となる。以降、説明の便宜上、プルーム5が溶湯表面に現れた部分(プルーム5の上面)のことを「プルーム撹拌面6」という。

0018

0019

式(2)は、非特許文献「M.Iguchi,K.Miyamoto,S.Yamashita,D.Iguchi and M.Zeze:ISIJ international,vol.44(2004),p.636-638」に開示されている。式(2)に示すように、出現面積Aseは、溶湯の静止時の高さ(溶湯の深さ)H、重力加速度g、溶湯に浮かぶ第2液相(例えば、スラグ)の厚みHs、溶湯の密度ρm、第2液相(スラグ)の密度ρs、プルーム5中心線における溶湯の平均上昇速度umから決まる。ここで、第2液相の厚みをとすると、ガスを吹き込んだときの出現面積Ase(プルーム撹拌面6の面積)は、式(3)となり、溶湯の深さHによって一義的に決まる。

0020

0021

さて、精錬炉1の炉底に複数のガス吐出羽口3を設け、各ガス吐出羽口3からガスを吹き込んだ場合、発生するプルーム5同士が重なることがある。例えば、同一直線状に4つのガス吐出羽口3を設けた場合、図2(a)に示すように、それぞれのプルーム撹拌面6同士が互いに重なり合う。溶湯4とスラグとの界面付近の撹拌効率を考えるにあたっては、プルーム撹拌面6同士の重なりを考慮する必要がある。

0022

各プルーム撹拌面6同士が重なったときの面積は、下記のように定義する。
図2(b)に示すように、プルーム5が溶湯表面に現れたときにプルーム撹拌面6で構成される全体の面積(全面積)を「Ap」とする。即ち、全面積Apは、各プルーム撹拌面6の面積を足し合わせた総面積から重複する部分の総面積を差し引いた面積である。例えば、プルーム撹拌面6が4つの場合、撹拌面を構成する各円の総面積(C1+C2+C3+C4)から重複している部分の総面積(O1+O2+O3+O4+O5)を差し引いた面積が全面積Apとなる。言い換えれば、プルーム撹拌面6の和集合に相当する面積がApである。

0023

図2(c)に示すように、各プルーム撹拌面6のうち互いに2つ重なっている部分の面積(プルーム5が2つ重なっている部分の面積)を「Ap1」とする。図2(b)の場合、2つ重なる部分の総面積(O1+O3+O5)が面積Ap1となる。
図2(d)に示すように、各撹拌面のうち、互いに3つ重なっている部分の面積(プルーム5が3つ重なっている部分の面積を「Ap2」とする。図2(b)の場合、3つ重なる部分の総面積(O2+O5)が面積Ap2となる。ガス吐出羽口3の羽口数が多い、あるいはガス吐出羽口同士がさらに近接している場合には、プルーム5が4つ以上重なる場合が生じる。このとき、4つ以上重なっている部分の面積も「Ap2」として算入する。

0024

さて、炉底3に設けたガス吐出羽口3が炉体(精錬炉)の側壁から十分に離れている場合、プルーム5が溶湯表面に現れたときの撹拌面は、精錬炉の側壁と重なることはない。しかしながら、ガス吐出羽口3が精錬炉の側壁に近接して配置した場合は、プルーム撹拌面6のうち一部が側壁と重なる(接触する)。プルーム撹拌面6が側壁に重なると、側壁に溶湯が当たって跳ね返るため撹拌力が増加して反応効率の向上が期待できる。プルーム撹拌面6と側壁とが重なったときの面積は、下記のように定義する。

0025

図3に示すように、例えば、精錬炉の側壁に沿って8個のガス吐出羽口3を均等に配置し、8つのプルーム撹拌面6がそれぞれ側壁に接触したとすると、8つのプルーム撹拌面6において、側壁と接触している部分(S1)の総面積(S1×8)が面積Aw(プルーム5が炉体の側壁と重なった面積)となる。
なお、図3では、プルーム撹拌面6同士は互いに重なっていないため、面積Ap1=面積Ap2=0となる。また、8つのプルーム撹拌面6において、側壁と接触していない部分(S2)の総面積(S2×8)が、全面積Apとなる。

0026

以上まとめると、本発明では、ガス吐出羽口3にガスを吹き込むことにより形成されるプルーム撹拌面6において、プルーム撹拌面6における全面積Ap、プルーム撹拌面6において2つ重複した部分の面積Ap1、プルーム撹拌面6において3つ以上重複した部分の面積Ap2、プルーム撹拌面6において側壁に重複した部分の面積Awとを考えて、ガス吐出羽口3の位置を設定することとしている。

0027

さて、ガス吐出羽口3からガスを吹き込んだ場合において、ガスの流量を変化させても上述したプルーム撹拌面6の面積はあまり変化しない。しかしながら、図4に示すように、ガスの流量によってプルーム5が溶湯表面を盛り上げる高さ(プルーム5が溶鋼表面を突き上げる高さ)hは変化する。例えば、プルーム5が溶湯表面を盛り上げる高さhが高い場合、溶湯の戻りによって、撹拌力を増加させることが期待できる。そのため、本発明では、プルーム撹拌面6の面積だけでなく、プルーム5が溶湯表面を盛り上げる高さhも考慮し、ガス吐出羽口3の位置を設定することとしている。プルーム5が溶湯表面を盛り上げる高さhは、式(4)により求めることができる。

0028

0029

以上述べた考察のもと、プルーム撹拌面6における全面積Ap、プルーム撹拌面6において2つ重複した部分の面積Ap1、プルーム撹拌面6において3つ重複した部分の面積Ap2、プルーム撹拌面6において側壁に重複した部分の面積Aw、プルーム5が溶湯表面を盛り上げる高さhのパラメータで構成される評価式を考え、この評価式を基に、溶湯に含まれる不純物を素早く除去することができる条件を明らかにした。

0030

具体的には、式(1)の反応効率指数Rが0.13以上を満たすように、ガス吐出羽口3を炉底3に配置すると共に、操業条件を設定することで、精錬処理において、溶湯に含まれる不純物を素早く除去することが可能となる。

0031

0032

式(1)において、「A」は、精錬炉で撹拌する溶湯表面の面積(溶湯総面積)を示しており、「Ap/A」は、溶湯総面積に対する全面積Apの割合、「Ap1/A」は、2つ重複した部分の面積Ap1の割合、「Ap2/A」は、3つ重複した部分の面積Ap2の割合、「Aw/A」は、側壁に重複した部分の面積Awの割合である。また、「h/H」は、溶湯の静止時の高さH(精錬開始前の溶湯の深さ)に対するプルーム5の溶湯表面を盛り上げる高さhの割合である。

0033

式(1)は、プルーム5の撹拌面が溶湯上に現れた面積Ap、プルーム5の撹拌面が互いに重なっている面積(Ap1、Ap2)、プルーム5の撹拌面が側壁に重なっている面積Apw、プルーム5の溶湯表面を盛り上げる高さhが、反応効率、即ち、不純物の除去効率に影響を及ぼすため、この影響の度合いを実験的に評価して整理したものである。式(1)で示される反応効率指数Rが0.13以上であれば、反応効率が良いため不純物を素早く除去することができる。

0034

なお、溶湯総面積Aに対する全面積Apの割合(Ap/A)が0.1未満では、溶湯の浴面積に対するプルーム撹拌面6の割合が小さく、ガス撹拌が行えないため、Ap/Aは0.1以上であることが必要である。
また、Ap/Aを大きくすると、スラグ(異相)との界面積が増加することになり反応効率を向上させることができる。Ap/Aが大きくするには、ガス吐出羽口3の個数を増加させる方法と、精錬炉に装入する溶湯の量を多くして溶湯の深さを増加させる方法がある。ガス吐出羽口3の個数を増加させ過ぎると、ガス吐出羽口3自体のコスト、ガス吐出羽口3の設置コスト、ガス吐出羽口3のメンテナンスに係るコストが大きくなる。また、精錬炉に装入する溶湯の量を増加させた場合、少ないガス吐出羽口3でAp/Aを大きくすることができるものの、精錬処理が難しくなり、反応効率が低下する。このような事情踏まえて、実操業による実現性を考えると、Ap/Aの上限値は、0.6としている。

0035

上述したように、プルーム撹拌面6を側壁に重ね合わせることにより、側壁に溶湯が当たるため撹拌力が増加して反応効率の向上が期待できる。しかしながら、過度に溶湯を側壁に衝突させる(プルーム撹拌面6が側壁に重なる割合Aw/A)を増加させ過ぎる)と、側壁側の耐火物溶損が進み、精錬炉の寿命が低下して能率が低下するため、Aw/Aの上限値を0.10としている。なお、プルーム撹拌面6を側壁に全く重ならない場合であっても、プルーム撹拌面6同士の重なり等により反応効率を向上させることが期待できるため、Aw/A=0であってもよい。

0036

上述したように、プルーム5が溶湯表面を盛り上げる高さhが高くする(h/Hを増加させる)と、撹拌力を増加させることが期待できるものの、過度に盛り上げる高さhが大きすぎると、溶湯が戻るときの衝撃が大きくなりすぎ、精錬炉の炉底3の寿命が低下する可能性がある。そのため、Aw/Aの上限値を0.20としている。Aw/Aの上限値は、0.17にすることが好ましい。

0037

以上まとめると、本発明では、式(1)で示される反応効率指数Rが0.13以上、Ap/A=0.1〜0.6、Aw/A≦0.10(0を含む)、h/H≦0.20(0を含まない)を満たすように、ガス吐出羽口3を配置すると共にガス吹き込み流量Qbなどの操業条件を設定して精錬処理を行う。
ところで、上記の条件は、精錬炉を模した反応容器に水を貯留して、反応容器に空気ガスを吹き込む水モデル実験により求めたものである。以下、水モデル実験について詳しく説明する。

0038

図5は、水モデル実験で用いた実験装置の全体を示したものである。まず、実験装置の構成から説明する。
図5に示すように、実験装置10は、上方から二酸化炭素を吹き込む上吹き装置11を反応容器12に接続すると共に、下方から空気を吹き込む撹拌装置13を反応容器12に接続することにより構成したものである。

0039

反応容器12は、上方開放状の容器であって、水を貯留する底部側が胴部側よりもや内径が小さく形成されたもので、底部12aの内径はφ56.8cmとし、胴部12bの内径はφ64.5cmとする。胴部12bを上方から見たときの面積(溶湯総面積Aに相当)は、3267.3cm2(64.5×64.5÷4×3.1415)である。底部12aの高さは、18.0cmとし、底部12aに貯留する水容量は50Lとしている。図6に示すように、反応容器12の底部12aには、直径3mmの底吹きガス導入孔(ガス吐出羽口3に相当)15を112カ所設ける。

0040

上吹き装置11は、反応容器12の上部側から当該反応容器12内に二酸化炭素を吹き込む二酸化炭素供給用のランス16を備えている。このランス16は、鉛直方向に下向きにして、上吹きランス16は反応容器12の上方を覆う上蓋17に固定する。ランス16の直径(内径)は10mmとし、ランス16の下側から水面までの距離は28cmの一定とする。ランス16は、配管等の上吹きガス供給路18を介して二酸化炭素ボンベ19に接続する。

0041

二酸化炭素ボンベ19と上吹きランス16との間に、上吹きガス供給路18に流れるCO2ガスの圧力を調整する圧力調整弁20と、CO2ガスの圧力を検出する圧力計21と、上吹きガス供給路18に流れるCO2ガスの流量を調整する流量調整弁22と、CO2ガスの流量を測定する流量計23を設ける。
一方、撹拌装置13は、反応容器12の底部から空気を吹き込むための複数の撹拌ガス供給管30を備えている。撹拌ガス供給管30は分岐用ヘッダー31に接続する。また、各撹拌ガス供給管30は、反応容器12の底部12aに設けたそれぞれの底吹きガス導入孔15に接続できるようにする。なお、ガスを導入しない箇所の底吹きガス導入孔15は、ボルトねじ込むことによって閉鎖する。

0042

分岐用ヘッダー31は、配管等の空気供給路32を介して空気ボンベ33に接続する。空気ボンベ33と分岐用ヘッダー31との間に、空気供給路32に流れる空気ガスの圧力を調整する圧力調整弁34と、空気ガスの圧力を検出する圧力計35と、空気供給路32に流れる空気ガスの流量を調整する流量調整弁36と、空気ガスの流量を測定する流量計37とを設ける。

0043

このような実験装置10による実験では、まず、反応容器12内に水を入れると共に水に炭酸カルシウム粉末を入れて水を白濁させる。その後、空気ガスを水中に供給すると共に、反応容器12内にCO2ガスを供給して、水、CO2ガス及び炭酸カルシウムの反応によって、水の白濁が解消される速度を測定することにより、反応効率を評価した。
詳しくは、撹拌ガス供給管30を任意に底吹きガス導入孔15に接続後、反応容器12内に50Lの水(溶湯に相当)を入れ、この50Lの水の中に市販の炭カルシウム粉末12gを入れる。炭酸カルシウムは水に殆ど溶解しないため水は白濁する。水が白濁した状態で、ランス16から反応容器12内にCO2ガスを供給する。CO2ガスの供給速度は、130L/分とする。

0044

CO2ガスを供給すると、炭酸カルシウムは、水とCO2ガスとの反応[CaCO3+H2O+CO2=Ca(HCO3)2]によって、炭酸水素カルシウムに変化する。この炭酸水素カルシウムは、水に溶解するため、徐々に水の濁りが消えていく。ここで、水中に濁度を測定する濁度測定端子(濁度センサ)40を予め設けておき、濁度測定端子40で出力された信号を濁度計41で測定して、濁度をデータ記録装置記録装置)42で記録した。濁度計41は市販の濁度標準溶液カオリン100度)へ浸漬したときに、100mg/Lを表示するように事前補正した。CO2ガスを供給する前であって、炭酸カルシウム粉末を水に入れて十分撹拌した時点での濁度は、200〜250mg/Lであった。

0045

表1は、水モデル実験による実験結果をまとめたものである。

0046

0047

表1及び2に示す底羽口配置とは、撹拌ガス供給管をガス導入孔に接続したときの配置パターンを示したものである。各配置パターンは、図8に示すように、90°毎に配置した4A〜4D、45°毎に配置した8A〜8D、一列に配置した4L、二列に配置した8X、その他、10X、10Y、12B〜12D、12Xの17種類とした。
図7は、水モデル実験による水の濁り(濁度)の推移の一例を示したものである。図7に示すように、水モデル実験では、CO2ガスを吹き込みつつあるときの濃度を「濃度C」とし、その濃度Cを初期濃度C0(CO2ガスを吹き込む前の濃度)で割った値(C/C0)を計算し、初期濃度C0から半減した濃度半減時間と、初期濃度C0に対する10分後濃度比について評価を行った。また、実験開始から3分までの濃度を、ln(C/C0)=K×時間で直線回帰し、傾きを示す「K」で反応速度を評価することとした。即ち、K値を、Ap/A、Ap1/A、Ap2/A、Aw/A、h/Hで重回帰計算して、K値と最も相関性が高い変数の値を求めると、式(1)に示す値(0.0535×Ap/A+0.0489×Ap1/A+0.131×Ap2/A+0.342×Aw/A+0.543×h/H+0.030)となった。

0048

図9は、10分後濃度比と反応効率指数Rとの関係を示したものであり、図10は、初期濃度C0から半減した濃度半減時間と反応効率指数Rとの関係を示したものである。
図9に示すように、反応効率指数Rが0.13未満であるとき、10分後濃度は高いままであるが、反応効率指数Rが0.13を超えた時点で急激に10分後濃度が低くなる。また、図10に示すように、式(1)で計算した反応効率指数Rが0.13未満であるとき、濃度半減時間は比較的長いものの、反応効率指数Rが0.13を超えた時点で短くなる。つまり、反応効率指数Rが0.13以上となるように、ガス吐出羽口3に相当するガス導入孔を精錬炉の炉底3に配置することによって、素早く濃度を下げることができ、反応効率を向上させることができる。

0049

以上述べた如く、本発明の技術的手段は、精錬炉の炉底に配置されたガス吐出羽口からガスを吹き込みながら精錬処理を行うに際し、式(1)で示される反応効率指数Rが0.13以上、Ap/A=0.1〜0.6、Aw/A≦0.10(0を含む)、h/H≦0.20(0を含まない)を満たすことで、溶湯に含まれる不純物を素早く除去することが可能となる。

0050

なお、今回開示された実施形態において、明示的に開示されていない事項、例えば、運転条件や操業条件、各種パラメータ構成物の寸法、重量、体積などは、当業者が通常実施する範囲を逸脱するものではなく、通常の当業者であれば、容易に想定することが可能な事項を採用している。

0051

1精錬炉
2炉底
3ガス吐出羽口
4溶湯
5プルーム
6 プルーム撹拌面
10実験装置
11 上吹き装置
12反応容器
12a 底部
12b胴部
13撹拌装置
15 底吹きガス導入孔
16ランス
17上蓋
18 上吹きガス供給路
19二酸化炭素ボンベ
20圧力調整弁
21圧力計
22流量調整弁
23流量計
30撹拌ガス供給管
31分岐用ヘッダー
32空気供給路
33空気ボンベ
34 圧力調整弁
35 圧力計
36 流量調整弁
37 流量計
40濁度センサ
41濁度計
42 記録装置

ページトップへ

この技術を出願した法人

この技術を発明した人物

ページトップへ

関連する挑戦したい社会課題

該当するデータがありません

関連する公募課題

該当するデータがありません

ページトップへ

おススメ サービス

おススメ astavisionコンテンツ

新着 最近 公開された関連が強い技術

  • 品川リフラクトリーズ株式会社の「 モールドパウダー」が 公開されました。( 2020/10/29)

    【課題】 高品質な鋳片の連続鋳造の安定操業に資するべく、スラグに求められる3要件が高度に調和されたモールドパウダーを提供すること。(要件1)凝固シェルとモールドの間の潤滑を保つこと(要件2)粘度と界... 詳細

  • 黒崎播磨株式会社の「 出鋼口スリーブ」が 公開されました。( 2020/10/29)

    【課題】内層に低黒鉛材質を配置した出鋼口スリーブにおいて耐用性を向上する。【解決手段】内層2とこの内層2の外側の本体層3とを備え、これら内層2及び本体層3は、それぞれマグネシアと黒鉛とを主体とする内層... 詳細

  • 日本製鉄株式会社の「 排滓システム及び排滓方法」が 公開されました。( 2020/10/29)

    【課題】ドラッガーによる排滓の際、簡便な方法で排滓効率を高めることが可能な技術を開示する。【解決手段】少なくとも一方向に傾けることが可能な鍋と、鍋を傾けた状態で、鍋の傾き方向に動作して、鍋に収容された... 詳細

この 技術と関連性が強い人物

関連性が強い人物一覧

この 技術と関連する社会課題

該当するデータがありません

この 技術と関連する公募課題

該当するデータがありません

astavision 新着記事

サイト情報について

本サービスは、国が公開している情報(公開特許公報、特許整理標準化データ等)を元に構成されています。出典元のデータには一部間違いやノイズがあり、情報の正確さについては保証致しかねます。また一時的に、各データの収録範囲や更新周期によって、一部の情報が正しく表示されないことがございます。当サイトの情報を元にした諸問題、不利益等について当方は何ら責任を負いかねることを予めご承知おきのほど宜しくお願い申し上げます。

主たる情報の出典

特許情報…特許整理標準化データ(XML編)、公開特許公報、特許公報、審決公報、Patent Map Guidance System データ