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技術 タッチパネル

出願人 サムソンエレクトロ-メカニックスカンパニーリミテッド.
発明者 キム,ユンスパク,ゼチャンキム,ヨンゼキム,テフン
出願日 2012年6月28日 (8年7ヶ月経過) 出願番号 2012-145571
公開日 2013年10月28日 (7年3ヶ月経過) 公開番号 2013-222456
状態 未査定
技術分野 位置入力装置 表示による位置入力
主要キーワード 四角形パターン 虚焦点 菱形パターン 三角形パターン SiOx薄膜 電磁方式 SiNx薄膜 正立虚像
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(2013年10月28日)のものです。
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図面 (16)

課題

マイクロレンズを採用して、電極パターンがユーザに認識される現象を低減させることができ、これにより、タッチパネル視認性を改善することができるタッチパネルを提供する。

解決手段

本発明によるタッチパネル100は、第1透明基板110と、第1透明基板110に形成された電極パターン120と、第1透明基板110に比べ外側に配置された第2透明基板130と、倍率が1以下である電極パターン120の正立虚像Iが結像されるように、第2透明基板130に電極パターン120と対応して形成されたマイクロレンズ140と、を含むものである。

概要

背景

デジタル技術を用いるコンピュータ発達するにつれて、コンピュータの補助装置もともに開発されており、パソコンポータブル伝送装置、その他の個人用情報処理装置などは、キーボードマウスなどの様々な入力装置(Input Device)を利用してテキスト及びグラフィック処理を行う。

しかし、情報化社会の急速な進行により、コンピュータの用途が益々拡大する傾向にあるため、現在入力装置の役割担当しているキーボード及びマウスだけでは、効率的な製品の駆動が困難であるという問題点がある。従って、簡単で誤操作が少なく、誰でも簡単に情報を入力することができる機器の必要性が高まっている。

また、入力装置に関する技術は、一般的な機能を満たす水準を越えて、高信頼性耐久性革新性、設計及び加工に関する技術などが注目されており、このような目的を達成するために、テキスト、グラフィックなどの情報入力が可能な入力装置としてタッチパネル(Touch Panel)が開発された。

このようなタッチパネルは、電子手帳液晶表示装置(LCD;Liquid Crystal Display Device)、PDP(Plasma Display Panel)、El(Electroluminescence)などの平板ディスプレイ装置及びCRT(Cathode Ray Tube)などの画像表示装置の表示面に設けられ、ユーザが画像表示装置を見ながら所望の情報を選択するようにするために利用される機器である。

また、タッチパネルの種類は、抵抗膜方式(Resistive Type)、静電容量方式(Capacitive Type)、電磁方式(Electro−Magnetic Type)、表面弾性波方式SAWType;Surface Acoustic Wave Type)及び赤外線方式(Infrared Type)に区分される。このような多様な方式のタッチパネルは、信号増幅の問題、解像度の差、設計及び加工技術の難易度光学的特性電気的特性機械的特性耐環境特性入力特性、耐久性及び経済性を考慮して電子製品に採用されるが、現在もっとも幅広い分野で用いられている方式は、抵抗膜方式タッチパネル及び静電容量方式タッチパネルである。

一方、タッチパネルは、特許文献1のように、金属を用いてメッシュパターン(Mesh Pattern)に電極を形成しようとする研究が活発に行われている。このように、電極をメッシュパターンに形成する場合、優れた電気伝導度を有し、需給が円滑であるという長所がある。しかし、電極パターンを不透明な金属で形成する場合、電極パターンがユーザに認識されるため、タッチパネルの視認性が低下するという問題点が存在する。

このような問題点を解決するために、メッシュパターンの線幅最大限減らす方法を考慮することができるが、この場合、メッシュパターンの耐久性が劣り、伝導性が低くなるだけでなく、製造方法が制限的で、製造コストが高くなるという問題点がある。

また、メッシュパターンに黒化処理を施すことにより光の反射を防止する方法を考慮することができるが、この場合、メッシュパターンの表面を酸化させて金属酸化層(Metal Oxide)を形成し、電気的特性が低下するという問題点がある。

概要

マイクロレンズを採用して、電極パターンがユーザに認識される現象を低減させることができ、これにより、タッチパネルの視認性を改善することができるタッチパネルを提供する。本発明によるタッチパネル100は、第1透明基板110と、第1透明基板110に形成された電極パターン120と、第1透明基板110に比べ外側に配置された第2透明基板130と、倍率が1以下である電極パターン120の正立虚像Iが結像されるように、第2透明基板130に電極パターン120と対応して形成されたマイクロレンズ140と、を含むものである。A

目的

本発明は上記の問題点を解決するために導き出されたものであって、本発明の目的は、マイクロレンズを採用して、ユーザに認識される電極パターンの線幅を縮小することができるタッチパネルを提供する

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
0件

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請求項1

第1透明基板と、前記第1透明基板に形成された電極パターンと、倍率が1以下である前記電極パターンの正立虚像結像されるように、前記電極パターンと対応して形成されたマイクロレンズと、を含むタッチパネル

請求項2

前記マイクロレンズの幅は、前記電極パターンの線幅と同じであることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。

請求項3

前記マイクロレンズの幅は、前記電極パターンの線幅より大きいことを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。

請求項4

前記マイクロレンズの長さ方向の中心軸は、前記電極パターンの長さ方向の中心軸に対応することを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。

請求項5

前記マイクロレンズは、アクリル系高分子で形成されることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。

請求項6

前記電極パターンは、メッシュパターンに形成されることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。

請求項7

前記電極パターンは、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、金(Au)、銀(Ag)、チタン(Ti)、パラジウム(Pd)、クロム(Cr)またはこれらの組み合わせで形成されることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。

請求項8

前記電極パターンは、銀塩乳剤層露光現像して形成された金属銀で形成されることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。

請求項9

前記マイクロレンズは前記第2透明基板に形成され、前記第2透明基板は前記第1透明基板に比べ外側に配置されることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。

請求項10

前記マイクロレンズは、前記第2透明基板をパターニングして形成されることを特徴とする請求項9に記載のタッチパネル。

請求項11

透明基板と、前記透明基板の一面に形成された電極パターンと、倍率が1以下である前記電極パターンの正立虚像が結像されるように、前記透明基板の他面に前記電極パターンと対応して形成されたマイクロレンズと、を含むタッチパネル。

請求項12

前記マイクロレンズの幅は、前記電極パターンの線幅と同じであることを特徴とする請求項11に記載のタッチパネル。

請求項13

前記マイクロレンズの幅は、前記電極パターンの線幅より大きいことを特徴とする請求項11に記載のタッチパネル。

請求項14

前記マイクロレンズの長さ方向の中心軸は、前記電極パターンの長さ方向の中心軸に対応することを特徴とする請求項11に記載のタッチパネル。

請求項15

前記マイクロレンズは、アクリル系高分子で形成されることを特徴とする請求項11に記載のタッチパネル。

請求項16

前記マイクロレンズは、前記透明基板をパターニングして形成されることを特徴とする請求項11に記載のタッチパネル。

請求項17

前記電極パターンは、メッシュパターンに形成されることを特徴とする請求項11に記載のタッチパネル。

請求項18

前記電極パターンは、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、金(Au)、銀(Ag)、チタン(Ti)、パラジウム(Pd)、クロム(Cr)またはこれらの組み合わせで形成されることを特徴とする請求項11に記載のタッチパネル。

請求項19

前記電極パターンは、銀塩乳剤層を露光/現像して形成された金属銀で形成されることを特徴とする請求項11に記載のタッチパネル。

技術分野

0001

本発明は、タッチパネルに関する。

背景技術

0002

デジタル技術を用いるコンピュータ発達するにつれて、コンピュータの補助装置もともに開発されており、パソコンポータブル伝送装置、その他の個人用情報処理装置などは、キーボードマウスなどの様々な入力装置(Input Device)を利用してテキスト及びグラフィック処理を行う。

0003

しかし、情報化社会の急速な進行により、コンピュータの用途が益々拡大する傾向にあるため、現在入力装置の役割担当しているキーボード及びマウスだけでは、効率的な製品の駆動が困難であるという問題点がある。従って、簡単で誤操作が少なく、誰でも簡単に情報を入力することができる機器の必要性が高まっている。

0004

また、入力装置に関する技術は、一般的な機能を満たす水準を越えて、高信頼性耐久性革新性、設計及び加工に関する技術などが注目されており、このような目的を達成するために、テキスト、グラフィックなどの情報入力が可能な入力装置としてタッチパネル(Touch Panel)が開発された。

0005

このようなタッチパネルは、電子手帳液晶表示装置(LCD;Liquid Crystal Display Device)、PDP(Plasma Display Panel)、El(Electroluminescence)などの平板ディスプレイ装置及びCRT(Cathode Ray Tube)などの画像表示装置の表示面に設けられ、ユーザが画像表示装置を見ながら所望の情報を選択するようにするために利用される機器である。

0006

また、タッチパネルの種類は、抵抗膜方式(Resistive Type)、静電容量方式(Capacitive Type)、電磁方式(Electro−Magnetic Type)、表面弾性波方式SAWType;Surface Acoustic Wave Type)及び赤外線方式(Infrared Type)に区分される。このような多様な方式のタッチパネルは、信号増幅の問題、解像度の差、設計及び加工技術の難易度光学的特性電気的特性機械的特性耐環境特性入力特性、耐久性及び経済性を考慮して電子製品に採用されるが、現在もっとも幅広い分野で用いられている方式は、抵抗膜方式タッチパネル及び静電容量方式タッチパネルである。

0007

一方、タッチパネルは、特許文献1のように、金属を用いてメッシュパターン(Mesh Pattern)に電極を形成しようとする研究が活発に行われている。このように、電極をメッシュパターンに形成する場合、優れた電気伝導度を有し、需給が円滑であるという長所がある。しかし、電極パターンを不透明な金属で形成する場合、電極パターンがユーザに認識されるため、タッチパネルの視認性が低下するという問題点が存在する。

0008

このような問題点を解決するために、メッシュパターンの線幅最大限減らす方法を考慮することができるが、この場合、メッシュパターンの耐久性が劣り、伝導性が低くなるだけでなく、製造方法が制限的で、製造コストが高くなるという問題点がある。

0009

また、メッシュパターンに黒化処理を施すことにより光の反射を防止する方法を考慮することができるが、この場合、メッシュパターンの表面を酸化させて金属酸化層(Metal Oxide)を形成し、電気的特性が低下するという問題点がある。

先行技術

0010

米国特許出願公開第2010/0123670号明細書

発明が解決しようとする課題

0011

本発明は上記の問題点を解決するために導き出されたものであって、本発明の目的は、マイクロレンズを採用して、ユーザに認識される電極パターンの線幅を縮小することができるタッチパネルを提供することにある。

課題を解決するための手段

0012

本発明の第1実施例によるタッチパネルは、第1透明基板と、前記第1透明基板に形成された電極パターンと、倍率が1以下である前記電極パターンの正立虚像結像されるように、前記電極パターンと対応して形成されたマイクロレンズと、を含んで構成される。

0013

また、本発明の第1実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズの幅は、前記電極パターンの線幅と同じであることを特徴とする。

0014

また、本発明の第1実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズの幅は、前記電極パターンの線幅より大きいことを特徴とする。

0015

また、本発明の第1実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズの長さ方向の中心軸は、前記電極パターンの長さ方向の中心軸に対応することを特徴とする。

0016

また、本発明の第1実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズは、アクリル系高分子で形成されることを特徴とする。

0017

また、本発明の第1実施例によるタッチパネルにおいて、前記電極パターンは、メッシュパターンに形成されることを特徴とする。

0018

また、本発明の第1実施例によるタッチパネルにおいて、前記電極パターンは、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、金(Au)、銀(Ag)、チタン(Ti)、パラジウム(Pd)、クロム(Cr)またはこれらの組み合わせで形成されることを特徴とする。

0019

また、本発明の第1実施例によるタッチパネルにおいて、前記電極パターンは、銀塩乳剤層露光現像して形成された金属銀で形成されることを特徴とする。

0020

また、本発明の第1実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズは前記第2透明基板に形成され、前記第2透明基板は前記第1透明基板に比べ外側に配置されることを特徴とする。

0021

また、本発明の第1実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズは、前記第2透明基板をパターニングして形成されることを特徴とする。

0022

本発明の第2実施例によるタッチパネルは、透明基板と、前記透明基板の一面に形成された電極パターンと、倍率が1以下である前記電極パターンの正立虚像が結像されるように、前記透明基板の他面に前記電極パターンと対応して形成されたマイクロレンズと、を含んで構成される。

0023

また、本発明の第2実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズの幅は、前記電極パターンの線幅と同じであることを特徴とする。

0024

また、本発明の第2実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズの幅は、前記電極パターンの線幅より大きいことを特徴とする。

0025

また、本発明の第2実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズの長さ方向の中心軸は、前記電極パターンの長さ方向の中心軸に対応することを特徴とする。

0026

また、本発明の第2実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズは、アクリル系高分子で形成されることを特徴とする。

0027

また、本発明の第2実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズは、前記透明基板をパターニングして形成されることを特徴とする。

0028

また、本発明の第2実施例によるタッチパネルにおいて、前記電極パターンは、メッシュパターンに形成されることを特徴とする。

0029

また、本発明の第2実施例によるタッチパネルにおいて、前記電極パターンは、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、金(Au)、銀(Ag)、チタン(Ti)、パラジウム(Pd)、クロム(Cr)またはこれらの組み合わせで形成されることを特徴とする。

0030

また、本発明の第2実施例によるタッチパネルにおいて、前記電極パターンは、銀塩乳剤層を露光/現像して形成された金属銀で形成されることを特徴とする。

発明の効果

0031

本発明によると、マイクロレンズを採用して、電極パターンがユーザに認識される現象を低減させることができ、これにより、タッチパネルの視認性を改善することができるという長所がある。

図面の簡単な説明

0032

本発明の第1実施例によるタッチパネルの平面図である。
本発明の第1実施例によるタッチパネルの断面図である。
図1Bに図示された電極パターンとマイクロレンズを拡大した概念図である。
図1Bに図示された電極パターンとマイクロレンズを拡大した概念図である。
本発明の第1実施例による変形された形態のタッチパネルの断面図である。
本発明の第1実施例による変形された形態のタッチパネルの断面図である。
本発明の第1実施例による変形された形態のタッチパネルの断面図である。
本発明の第1実施例による変形された形態のタッチパネルの断面図である。
本発明の第2実施例によるタッチパネルの平面図である。
本発明の第2実施例によるタッチパネルの断面図である。
図7Bに図示された電極パターンとマイクロレンズを拡大した概念図である。
図7Bに図示された電極パターンとマイクロレンズを拡大した概念図である。
本発明の第2実施例による変形された形態のタッチパネルの断面図である。
本発明の第2実施例による変形された形態のタッチパネルの断面図である。
本発明の第2実施例による変形された形態のタッチパネルの断面図である。

実施例

0033

本発明の目的、特定の長所及び新規の特徴は、添付図面に係る以下の詳細な説明及び好ましい実施例によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ異なる図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、「一面」、「他面」、「第1」、「第2」などの用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。以下、本発明を説明するにあたり、本発明の要旨を不明瞭にする可能性がある係る公知技術についての詳細な説明は省略する。

0034

以下、添付図面を参照して、本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。

0035

図1A及び図1Bは、本発明の第1実施例によるタッチパネルの平面図及び断面図であり、図2A及び図2Bは、図1Bに図示された電極パターンとマイクロレンズを拡大した概念図である。

0036

図1Aから図2Bに図示されたように、本発明の第1実施例によるタッチパネル100は、第1透明基板110と、第1透明基板110に形成された電極パターン120と、第1透明基板110に比べ外側に配置された第2透明基板130と、倍率が1以下である電極パターン120の正立虚像Iが結像されるように、第2透明基板130に電極パターン120と対応して形成されたマイクロレンズ140と、を含む構成である。

0037

前記第1、2透明基板110、130は、電極パターン120、マイクロレンズ140などが形成される領域を提供する役割を遂行する。具体的には、第1透明基板110に電極パターン120が形成され、第2透明基板130にマイクロレンズ140が形成される。この際、マイクロレンズ140は、電極パターン120がユーザに認識される現象を低減させる役割をする。従って、マイクロレンズ140が形成された第2透明基板130は、電極パターン120が形成された第1透明基板110に比べ外側に配置される。また、第1、2透明基板110、130は、電極パターン120及びマイクロレンズ140などを支持することができる支持力と、画像表示装置から提供される画像をユーザが認識できるようにする透明性を備えなければならない。上述の支持力及び透明性を考慮して、第1、2透明基板110、130は、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレートPMMA)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルスルフォン(PES)、環状オレフィンコポリマー(COC)、トリアセチルセルロース(Triacetylcellulose;TAC)フィルムポリビニルアルコール(Polyvinyl alcohol;PVA)フィルム、ポリイミド(Polyimide;PI)フィルム、ポリスチレン(Polystyrene;PS)、二軸延伸ポリスチレン(K樹脂含有biaxially oriented PS;BOPS)、ガラスまたは強化ガラスなどで形成することが好ましいが、必ずしもこれに限定されるものではない。

0038

前記電極パターン120は、タッチ時の静電容量の変化を検知して、コントローラタッチ座標を認識できるようにする役割をするものであり、第1透明基板110に形成される。ここで、電極パターン120は、図1Aに図示されたように棒形パターンに形成されることが好ましいが、これに限定されるものではなく、菱形パターン四角形パターン三角形パターン円形パターンなど、当業界に公知された全てのパターンに形成されることが好ましい。また、電極パターン120は、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、金(Au)、銀(Ag)、チタン(Ti)、パラジウム(Pd)、クロム(Cr)またはこれらの組み合わせを用いて形成することができる。具体的には、電極パターン120は、優れた電気伝導度を有する銅(Cu)、アルミニウム(Al)、金(Au)、銀(Ag)を用いて形成することが好ましいが、電気伝導度を有する全ての金属を用いることができるということは勿論である。上述の金属の他にも、電極パターン120は、銀塩乳剤層を露光/現像して形成された金属銀を用いて形成することもできる。一方、電極パターン120を上述したように不透明な金属で形成する場合、ユーザに電極パターン120が最大限認識されないように、電極パターン120は、微細な線幅を有するメッシュパターン(Mesh Pattern)に形成することができる。但し、電極パターン120の線幅を過度に減らすと、耐久性が劣り、伝導性が低くなる恐れがあるため、電極パターン120の線幅を減らすには限界があり、必ず所定幅以上の線幅を有しなければならない。従って、本実施例によるタッチパネル100は、電極パターン120の線幅を過度に減らすことに代えて、マイクロレンズ140を採用して電極パターン120がユーザに認識されないようにする。これについての具体的な説明は後述する。

0039

一方、電極パターン120の端部には、電極パターン120からの電気的信号を受信する電極配線125(図1A参照)を形成することができる。ここで、電極配線125は、電極パターン120と同様に、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、金(Au)、銀(Ag)、チタン(Ti)、パラジウム(Pd)、クロム(Cr)またはこれらの組み合わせを用いて形成することができるが、これに限定されるものではなく、銀塩乳剤層を露光/現像して形成された金属銀を用いて形成することもできる。一方、電極配線125は、必要に応じて、電極パターン120と一体に形成することができる。このように、電極配線125と電極パターン120を一体に形成することにより、電極配線125と電極パターン120との間の接合不良を予め防止することができるだけでなく、製造工程を簡素化し、リードタイム(Lead Time)を短縮することができる。

0040

前記マイクロレンズ140は、電極パターン120がユーザに認識される現象を低減させる役割をするものであり、第2透明基板130に形成される。ここで、マイクロレンズ140は、図2A及び図2Bに図示されたように、倍率が1以下である電極パターン120の正立虚像Iが結像されるように、電極パターン120に対応して形成される。具体的には、マイクロレンズの中心を通過した光L1はそのまま通過し、光軸Oに平行となるようにマイクロレンズを通過した光L2は虚焦点Fから出た光のように発散する。この際、マイクロレンズの中心を通過した光L1と、光軸Oに平行となるようにマイクロレンズを通過した光L2の延長線が交わる地点に正立虚像Iが結像され、正立虚像Iは倍率が1以下であるため、ユーザ150は実際の電極パターン120より小さく認識するようになる。

0041

このように、ユーザ150は、マイクロレンズ140により倍率が1以下に縮小された電極パターン120の正立虚像Iを認識するようになるため、タッチパネル100の視認性を改善することができる長所がある。また、必要に応じて、マイクロレンズ140の屈折率を制御することにより、ユーザ150に認識される電極パターンの線幅W2を所望に調節することができる。一方、マイクロレンズ140が電極パターン120の全ての部分に対して正立虚像Iを結像することができるように、マイクロレンズの幅W1は、電極パターンの線幅W2と同じであるか(図2A参照)、または電極パターンの線幅W2より大きいことが好ましい(図2B参照)。また、マイクロレンズ140が電極パターン120に正確に対応するように、マイクロレンズの長さ方向の中心軸C1は、電極パターンの長さ方向の中心軸C2に対応することができる(図1Aの拡大図参照)。

0042

一方、マイクロレンズ140は、アクリル系高分子で形成することができる。この場合、アクリル系高分子をスピンコーティング(Spin coating)などにより塗布した後、スタンピング(Stamping)することによりマイクロレンズ140を形成することができる。その他にも、マイクロレンズ140は、第2透明基板130自体をパターニングして第2透明基板130と一体に形成することもできる。一方、図1Bでは、マイクロレンズ140が電極パターン120と向い合うように第2透明基板130の内側面に形成されたことで図示したが、マイクロレンズ140は、第2透明基板130の外側面に形成することもできるということは勿論である。

0043

本実施例によるタッチパネル100について、第1透明基板110の一面に電極パターン120が形成された静電容量方式(Capacitive Type)のタッチパネルを基準に説明したが、これは例示的なものであり、本実施例によるタッチパネルは、後述のように変形することができる。

0044

図3から図6は、本発明の第1実施例による変形された形態のタッチパネルの断面図である。

0045

図3に図示されたように、第1透明基板110の両面に電極パターン120をそれぞれ形成して、静電容量方式(Capacitive Type)のタッチパネル200(図3参照)を製作することができる。

0046

また、図4及び図5に図示されたように、一面に電極パターン120が形成された第1透明基板110を二つ備えて、電極パターン120が向い合うように二つの第1透明基板110を接着層160で接着した静電容量方式(Capacitive Type)のタッチパネル300(図4参照)、または抵抗膜方式(Resistive Type)のタッチパネル400(図5参照)を製作することができる。ここで、静電容量方式(Capacitive Type)のタッチパネル300(図4参照)の場合、向い合う二つの電極パターン120が絶縁されるように、接着層160が第1透明基板110の全面に付着される。一方、抵抗膜方式(Resistive Type)のタッチパネル400(図5参照)の場合、入力手段の圧力が作用すると向い合う二つの電極パターン120が接触されるように、接着層160が第1透明基板110の端部にのみ付着されて、入力手段の圧力が除去されると電極パターン120が原位置に復帰するように、反発力を提供するドットスペーサー170が電極パターン120の露出面に備えられる。

0047

一方、図6に図示されたように、第1透明基板110に電極パターン120を形成した後、絶縁層180を形成して、さらに電極パターン120を形成することにより、静電容量方式(Capacitive Type)のタッチパネル500(図6参照)を製作することができる。ここで、絶縁層180は、エポキシ(Epoxy)またはアクリル系(Acrylic)の樹脂、SiOx薄膜、またはSiNx薄膜などであることが好ましい。

0048

本発明の第1実施例による変形された形態のタッチパネル200、300、400、500においても、ユーザは、マイクロレンズ140により倍率が1以下に縮小された電極パターン120の正立虚像を認識するようになるため、タッチパネル200、300、400、500の視認性を改善することができる長所がある。

0049

図7A及び図7Bは、本発明の第2実施例によるタッチパネルの平面図及び断面図であり、図8A及び図8Bは、図7Bに図示された電極パターンとマイクロレンズを拡大した概念図である。

0050

図7Aから図8Bに図示されたように、本発明の第2実施例によるタッチパネル600は、透明基板105と、透明基板105の一面に形成された電極パターン120と、倍率が1以下である電極パターン120の正立虚像Iが結像されるように、透明基板105の他面に電極パターン120と対応して形成されたマイクロレンズ140と、を含む構成である。

0051

第2実施例によるタッチパネル600は、上述の第1実施例によるタッチパネル100と比較して、電極パターン120とマイクロレンズ140が形成される位置が異なる。従って、第2実施例によるタッチパネル600は、上述の差異を中心に記述し、第1実施例によるタッチパネル100と重複される内容は省略する。

0052

前記透明基板105は、電極パターン120、マイクロレンズ140などが形成される領域を提供する役割を遂行する。具体的には、透明基板105の一面に電極パターン120が形成され、透明基板105の他面にマイクロレンズ140が形成される。この際、マイクロレンズ140は、電極パターン120がユーザに認識される現象を低減させる役割をする。従って、マイクロレンズ140が形成された透明基板105の他面は、電極パターン120が形成された透明基板105の一面に比べ外側に配置される。

0053

前記電極パターン120は、タッチ時の静電容量の変化を検知して、コントローラでタッチ座標を認識できるようにする役割をするものであり、透明基板105の一面に形成される。ここで、電極パターン120は、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、金(Au)、銀(Ag)、チタン(Ti)、パラジウム(Pd)、クロム(Cr)またはこれらの組み合わせを用いて形成するか、または、銀塩乳剤層を露光/現像して形成された金属銀を用いて形成することもできる。一方、電極パターン120を上述したように不透明な金属で形成する場合、ユーザに電極パターン120が最大限認識されないように、電極パターン120は、微細な線幅を有するメッシュパターン(Mesh Pattern)に形成することができる。さらに、電極パターン120の端部には、電極パターン120からの電気的信号を受信する電極配線125(図7A参照)を形成することができる。

0054

前記マイクロレンズ140は、電極パターン120がユーザに認識される現象を低減させる役割をするものであり、透明基板105の他面(電極パターン120が形成された一面の反対面)に形成される。ここで、マイクロレンズ140は、図8A及び図8Bに図示されたように、倍率が1以下である電極パターン120の正立虚像Iが結像されるように、電極パターン120に対応して形成される。具体的には、マイクロレンズの中心を通過した光L1はそのまま通過し、光軸Oに平行となるようにマイクロレンズを通過した光L2は虚焦点Fから出た光のように発散する。この際、マイクロレンズの中心を通過した光L1と、光軸Oに平行となるようにマイクロレンズを通過した光L2の延長線が交わる地点に正立虚像Iが結像され、正立虚像Iは倍率が1以下であるため、ユーザ150は実際の電極パターン120より小さく認識するようになる。

0055

このように、ユーザ150は、マイクロレンズ140により倍率が1以下に縮小された電極パターン120の正立虚像Iを認識するようになるため、タッチパネル600の視認性を改善することができる長所がある。一方、マイクロレンズ140が電極パターン120の全ての部分に対して正立虚像Iを結像することができるように、マイクロレンズの幅W1は、電極パターンの線幅W2と同じであるか(図8A参照)、または電極パターンの線幅W2より大きいことが好ましい(図8B参照)。また、マイクロレンズ140が電極パターン120に正確に対応するように、マイクロレンズの長さ方向の中心軸C1は、電極パターンの長さ方向の中心軸C2に対応することができる(図7Aの拡大図参照)。

0056

本実施例によるタッチパネル600について、透明基板105の一面に電極パターン120が形成された静電容量方式(Capacitive Type)のタッチパネルを基準に説明したが、これは例示的なものであり、本実施例によるタッチパネルは、後述のように変形することが好ましい。

0057

図9から図11は、本発明の第2実施例による変形された形態のタッチパネルの断面図である。

0058

図9及び図10に図示されたように、一面に電極パターン120が形成された別の透明基板105をさらに備えて、二つの電極パターン120が向い合うように二つの透明基板105を接着層160で接着した静電容量方式(Capacitive Type)のタッチパネル700(図9参照)、または抵抗膜方式(Resistive Type)のタッチパネル800(図10参照)を製作することができる。ここで、静電容量方式(Capacitive Type)のタッチパネル700(図9参照)の場合、向い合う二つの電極パターン120が絶縁されるように、接着層160が透明基板105の全面に付着される。一方、抵抗膜方式(Resistive Type)のタッチパネル800(図10参照)の場合、入力手段の圧力が作用すると向い合う二つの電極パターン120が接触するように、接着層160が透明基板105の端部にのみ付着され、入力手段の圧力が除去されると電極パターン120が原位置に復帰するように、反発力を提供するドットスペーサー170が電極パターン120の露出面に備えられる。

0059

一方、図11に図示されたように、透明基板105に電極パターン120を形成した後、絶縁層180を形成して、さらに電極パターン120を形成することにより、静電容量方式(Capacitive Type)のタッチパネル900(図11参照)を製作することができる。

0060

本発明の第2実施例による変形された形態のタッチパネル700、800、900も、ユーザがマイクロレンズ140により倍率が1以下に縮小された電極パターン120の正立虚像を認識するようになるため、タッチパネル700、800、900の視認性を改善することができる長所がある。

0061

以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明はこれに限定されず、該当分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想内にての変形や改良が可能であることは明白であろう。

0062

本発明の単純な変形乃至変更はいずれも本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は添付の特許請求の範囲により明確になるであろう。

0063

本発明は、ユーザに認識される電極パターンの線幅を縮小することができるタッチパネルに適用可能である。

0064

100、200、300、400、500、600、700、800、900タッチパネル
105 透明基板
110 第1透明基板
120電極パターン
125電極配線
130 第2透明基板
140マイクロレンズ
150 ユーザ
160接着層
170ドットスペーサー
180絶縁層
L1 マイクロレンズの中心を通過した光
L2光軸Oに平行となるようにマイクロレンズを通過した光
F虚焦点
O 光軸
I正立虚像
W1 マイクロレンズの幅
W2 電極パターンの線幅
C1 マイクロレンズの長さ方向の中心軸
C2 電極パターンの長さ方向の中心軸

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