技術 タッチパネル

0001

本発明は、タッチパネルに関する。

0002

デジタル技術を用いるコンピュータが発達するにつれて、コンピュータの補助装置もともに開発されており、パソコン、ポータブル伝送装置、その他の個人用の情報処理装置などは、キーボード、マウスなどの様々な入力装置（Ｉｎｐｕｔ Ｄｅｖｉｃｅ）を利用してテキスト及びグラフィック処理を行う。

0003

しかし、情報化社会の急速な進行により、コンピュータの用途が益々拡大する傾向にあるため、現在入力装置の役割を担当しているキーボード及びマウスだけでは、効率的な製品の駆動が困難であるという問題点がある。従って、簡単で誤操作が少なく、誰でも簡単に情報を入力することができる機器の必要性が高まっている。

0004

また、入力装置に関する技術は、一般的な機能を満たす水準を越えて、高信頼性、耐久性、革新性、設計及び加工に関する技術などが注目されており、このような目的を達成するために、テキスト、グラフィックなどの情報入力が可能な入力装置としてタッチパネル（Ｔｏｕｃｈ Ｐａｎｅｌ）が開発された。

0005

このようなタッチパネルは、電子手帳、液晶表示装置（ＬＣＤ；Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｄｅｖｉｃｅ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ）、Ｅｌ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）などの平板ディスプレイ装置及びＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）などの画像表示装置の表示面に設けられ、ユーザが画像表示装置を見ながら所望の情報を選択するようにするために利用される機器である。

0006

また、タッチパネルの種類は、抵抗膜方式（Ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ Ｔｙｐｅ）、静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ Ｔｙｐｅ）、電磁方式（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｔｙｐｅ）、表面弾性波方式（ＳＡＷＴｙｐｅ；Ｓｕｒｆａｃｅ Ａｃｏｕｓｔｉｃ Ｗａｖｅ Ｔｙｐｅ）及び赤外線方式（Ｉｎｆｒａｒｅｄ Ｔｙｐｅ）に区分される。このような多様な方式のタッチパネルは、信号増幅の問題、解像度の差、設計及び加工技術の難易度、光学的特性、電気的特性、機械的特性、耐環境特性、入力特性、耐久性及び経済性を考慮して電子製品に採用されるが、現在もっとも幅広い分野で用いられている方式は、抵抗膜方式タッチパネル及び静電容量方式タッチパネルである。

0007

一方、タッチパネルは、特許文献１のように、金属を用いてメッシュパターン（Ｍｅｓｈ Ｐａｔｔｅｒｎ）に電極を形成しようとする研究が活発に行われている。このように、電極をメッシュパターンに形成する場合、優れた電気伝導度を有し、需給が円滑であるという長所がある。しかし、電極パターンを不透明な金属で形成する場合、電極パターンがユーザに認識されるため、タッチパネルの視認性が低下するという問題点が存在する。

0008

このような問題点を解決するために、メッシュパターンの線幅を最大限減らす方法を考慮することができるが、この場合、メッシュパターンの耐久性が劣り、伝導性が低くなるだけでなく、製造方法が制限的で、製造コストが高くなるという問題点がある。

0009

また、メッシュパターンに黒化処理を施すことにより光の反射を防止する方法を考慮することができるが、この場合、メッシュパターンの表面を酸化させて金属酸化層（Ｍｅｔａｌ Ｏｘｉｄｅ）を形成し、電気的特性が低下するという問題点がある。

0010

米国特許出願公開第２０１０／０１２３６７０号明細書

0011

本発明は上記の問題点を解決するために導き出されたものであって、本発明の目的は、マイクロレンズを採用して、ユーザに認識される電極パターンの線幅を縮小することができるタッチパネルを提供することにある。

0012

本発明の第１実施例によるタッチパネルは、第１透明基板と、前記第１透明基板に形成された電極パターンと、倍率が１以下である前記電極パターンの正立虚像が結像されるように、前記電極パターンと対応して形成されたマイクロレンズと、を含んで構成される。

0013

また、本発明の第１実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズの幅は、前記電極パターンの線幅と同じであることを特徴とする。

0014

また、本発明の第１実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズの幅は、前記電極パターンの線幅より大きいことを特徴とする。

0015

また、本発明の第１実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズの長さ方向の中心軸は、前記電極パターンの長さ方向の中心軸に対応することを特徴とする。

0016

また、本発明の第１実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズは、アクリル系高分子で形成されることを特徴とする。

0017

また、本発明の第１実施例によるタッチパネルにおいて、前記電極パターンは、メッシュパターンに形成されることを特徴とする。

0018

また、本発明の第１実施例によるタッチパネルにおいて、前記電極パターンは、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）またはこれらの組み合わせで形成されることを特徴とする。

0019

また、本発明の第１実施例によるタッチパネルにおいて、前記電極パターンは、銀塩乳剤層を露光／現像して形成された金属銀で形成されることを特徴とする。

0020

また、本発明の第１実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズは前記第２透明基板に形成され、前記第２透明基板は前記第１透明基板に比べ外側に配置されることを特徴とする。

0021

また、本発明の第１実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズは、前記第２透明基板をパターニングして形成されることを特徴とする。

0022

本発明の第２実施例によるタッチパネルは、透明基板と、前記透明基板の一面に形成された電極パターンと、倍率が１以下である前記電極パターンの正立虚像が結像されるように、前記透明基板の他面に前記電極パターンと対応して形成されたマイクロレンズと、を含んで構成される。

0023

また、本発明の第２実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズの幅は、前記電極パターンの線幅と同じであることを特徴とする。

0024

また、本発明の第２実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズの幅は、前記電極パターンの線幅より大きいことを特徴とする。

0025

また、本発明の第２実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズの長さ方向の中心軸は、前記電極パターンの長さ方向の中心軸に対応することを特徴とする。

0026

また、本発明の第２実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズは、アクリル系高分子で形成されることを特徴とする。

0027

また、本発明の第２実施例によるタッチパネルにおいて、前記マイクロレンズは、前記透明基板をパターニングして形成されることを特徴とする。

0028

また、本発明の第２実施例によるタッチパネルにおいて、前記電極パターンは、メッシュパターンに形成されることを特徴とする。

0029

また、本発明の第２実施例によるタッチパネルにおいて、前記電極パターンは、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）またはこれらの組み合わせで形成されることを特徴とする。

0030

また、本発明の第２実施例によるタッチパネルにおいて、前記電極パターンは、銀塩乳剤層を露光／現像して形成された金属銀で形成されることを特徴とする。

0031

本発明によると、マイクロレンズを採用して、電極パターンがユーザに認識される現象を低減させることができ、これにより、タッチパネルの視認性を改善することができるという長所がある。

0032

本発明の第１実施例によるタッチパネルの平面図である。
本発明の第１実施例によるタッチパネルの断面図である。
図１Ｂに図示された電極パターンとマイクロレンズを拡大した概念図である。
図１Ｂに図示された電極パターンとマイクロレンズを拡大した概念図である。
本発明の第１実施例による変形された形態のタッチパネルの断面図である。
本発明の第１実施例による変形された形態のタッチパネルの断面図である。
本発明の第１実施例による変形された形態のタッチパネルの断面図である。
本発明の第１実施例による変形された形態のタッチパネルの断面図である。
本発明の第２実施例によるタッチパネルの平面図である。
本発明の第２実施例によるタッチパネルの断面図である。
図７Ｂに図示された電極パターンとマイクロレンズを拡大した概念図である。
図７Ｂに図示された電極パターンとマイクロレンズを拡大した概念図である。
本発明の第２実施例による変形された形態のタッチパネルの断面図である。
本発明の第２実施例による変形された形態のタッチパネルの断面図である。
本発明の第２実施例による変形された形態のタッチパネルの断面図である。

0033

本発明の目的、特定の長所及び新規の特徴は、添付図面に係る以下の詳細な説明及び好ましい実施例によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ異なる図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、「一面」、「他面」、「第１」、「第２」などの用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。以下、本発明を説明するにあたり、本発明の要旨を不明瞭にする可能性がある係る公知技術についての詳細な説明は省略する。

0034

以下、添付図面を参照して、本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。

0035

図１Ａ及び図１Ｂは、本発明の第１実施例によるタッチパネルの平面図及び断面図であり、図２Ａ及び図２Ｂは、図１Ｂに図示された電極パターンとマイクロレンズを拡大した概念図である。

0036

図１Ａから図２Ｂに図示されたように、本発明の第１実施例によるタッチパネル１００は、第１透明基板１１０と、第１透明基板１１０に形成された電極パターン１２０と、第１透明基板１１０に比べ外側に配置された第２透明基板１３０と、倍率が１以下である電極パターン１２０の正立虚像Ｉが結像されるように、第２透明基板１３０に電極パターン１２０と対応して形成されたマイクロレンズ１４０と、を含む構成である。

0037

前記第１、２透明基板１１０、１３０は、電極パターン１２０、マイクロレンズ１４０などが形成される領域を提供する役割を遂行する。具体的には、第１透明基板１１０に電極パターン１２０が形成され、第２透明基板１３０にマイクロレンズ１４０が形成される。この際、マイクロレンズ１４０は、電極パターン１２０がユーザに認識される現象を低減させる役割をする。従って、マイクロレンズ１４０が形成された第２透明基板１３０は、電極パターン１２０が形成された第１透明基板１１０に比べ外側に配置される。また、第１、２透明基板１１０、１３０は、電極パターン１２０及びマイクロレンズ１４０などを支持することができる支持力と、画像表示装置から提供される画像をユーザが認識できるようにする透明性を備えなければならない。上述の支持力及び透明性を考慮して、第１、２透明基板１１０、１３０は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ；ＴＡＣ）フィルム、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ；ＰＶＡ）フィルム、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ；ＰＩ）フィルム、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ；ＰＳ）、二軸延伸ポリスチレン（Ｋ樹脂含有ｂｉａｘｉａｌｌｙ ｏｒｉｅｎｔｅｄ ＰＳ；ＢＯＰＳ）、ガラスまたは強化ガラスなどで形成することが好ましいが、必ずしもこれに限定されるものではない。

0038

前記電極パターン１２０は、タッチ時の静電容量の変化を検知して、コントローラでタッチ座標を認識できるようにする役割をするものであり、第１透明基板１１０に形成される。ここで、電極パターン１２０は、図１Ａに図示されたように棒形パターンに形成されることが好ましいが、これに限定されるものではなく、菱形パターン、四角形パターン、三角形パターン、円形パターンなど、当業界に公知された全てのパターンに形成されることが好ましい。また、電極パターン１２０は、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）またはこれらの組み合わせを用いて形成することができる。具体的には、電極パターン１２０は、優れた電気伝導度を有する銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）を用いて形成することが好ましいが、電気伝導度を有する全ての金属を用いることができるということは勿論である。上述の金属の他にも、電極パターン１２０は、銀塩乳剤層を露光／現像して形成された金属銀を用いて形成することもできる。一方、電極パターン１２０を上述したように不透明な金属で形成する場合、ユーザに電極パターン１２０が最大限認識されないように、電極パターン１２０は、微細な線幅を有するメッシュパターン（Ｍｅｓｈ Ｐａｔｔｅｒｎ）に形成することができる。但し、電極パターン１２０の線幅を過度に減らすと、耐久性が劣り、伝導性が低くなる恐れがあるため、電極パターン１２０の線幅を減らすには限界があり、必ず所定幅以上の線幅を有しなければならない。従って、本実施例によるタッチパネル１００は、電極パターン１２０の線幅を過度に減らすことに代えて、マイクロレンズ１４０を採用して電極パターン１２０がユーザに認識されないようにする。これについての具体的な説明は後述する。

0039

一方、電極パターン１２０の端部には、電極パターン１２０からの電気的信号を受信する電極配線１２５（図１Ａ参照）を形成することができる。ここで、電極配線１２５は、電極パターン１２０と同様に、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）またはこれらの組み合わせを用いて形成することができるが、これに限定されるものではなく、銀塩乳剤層を露光／現像して形成された金属銀を用いて形成することもできる。一方、電極配線１２５は、必要に応じて、電極パターン１２０と一体に形成することができる。このように、電極配線１２５と電極パターン１２０を一体に形成することにより、電極配線１２５と電極パターン１２０との間の接合不良を予め防止することができるだけでなく、製造工程を簡素化し、リードタイム（Ｌｅａｄ Ｔｉｍｅ）を短縮することができる。

0040

前記マイクロレンズ１４０は、電極パターン１２０がユーザに認識される現象を低減させる役割をするものであり、第２透明基板１３０に形成される。ここで、マイクロレンズ１４０は、図２Ａ及び図２Ｂに図示されたように、倍率が１以下である電極パターン１２０の正立虚像Ｉが結像されるように、電極パターン１２０に対応して形成される。具体的には、マイクロレンズの中心を通過した光Ｌ１はそのまま通過し、光軸Ｏに平行となるようにマイクロレンズを通過した光Ｌ２は虚焦点Ｆから出た光のように発散する。この際、マイクロレンズの中心を通過した光Ｌ１と、光軸Ｏに平行となるようにマイクロレンズを通過した光Ｌ２の延長線が交わる地点に正立虚像Ｉが結像され、正立虚像Ｉは倍率が１以下であるため、ユーザ１５０は実際の電極パターン１２０より小さく認識するようになる。

0041

このように、ユーザ１５０は、マイクロレンズ１４０により倍率が１以下に縮小された電極パターン１２０の正立虚像Ｉを認識するようになるため、タッチパネル１００の視認性を改善することができる長所がある。また、必要に応じて、マイクロレンズ１４０の屈折率を制御することにより、ユーザ１５０に認識される電極パターンの線幅Ｗ２を所望に調節することができる。一方、マイクロレンズ１４０が電極パターン１２０の全ての部分に対して正立虚像Ｉを結像することができるように、マイクロレンズの幅Ｗ１は、電極パターンの線幅Ｗ２と同じであるか（図２Ａ参照）、または電極パターンの線幅Ｗ２より大きいことが好ましい（図２Ｂ参照）。また、マイクロレンズ１４０が電極パターン１２０に正確に対応するように、マイクロレンズの長さ方向の中心軸Ｃ１は、電極パターンの長さ方向の中心軸Ｃ２に対応することができる（図１Ａの拡大図参照）。

0042

一方、マイクロレンズ１４０は、アクリル系高分子で形成することができる。この場合、アクリル系高分子をスピンコーティング（Ｓｐｉｎ ｃｏａｔｉｎｇ）などにより塗布した後、スタンピング（Ｓｔａｍｐｉｎｇ）することによりマイクロレンズ１４０を形成することができる。その他にも、マイクロレンズ１４０は、第２透明基板１３０自体をパターニングして第２透明基板１３０と一体に形成することもできる。一方、図１Ｂでは、マイクロレンズ１４０が電極パターン１２０と向い合うように第２透明基板１３０の内側面に形成されたことで図示したが、マイクロレンズ１４０は、第２透明基板１３０の外側面に形成することもできるということは勿論である。

0043

本実施例によるタッチパネル１００について、第１透明基板１１０の一面に電極パターン１２０が形成された静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ Ｔｙｐｅ）のタッチパネルを基準に説明したが、これは例示的なものであり、本実施例によるタッチパネルは、後述のように変形することができる。

0044

図３から図６は、本発明の第１実施例による変形された形態のタッチパネルの断面図である。

0045

図３に図示されたように、第１透明基板１１０の両面に電極パターン１２０をそれぞれ形成して、静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ Ｔｙｐｅ）のタッチパネル２００（図３参照）を製作することができる。

0046

また、図４及び図５に図示されたように、一面に電極パターン１２０が形成された第１透明基板１１０を二つ備えて、電極パターン１２０が向い合うように二つの第１透明基板１１０を接着層１６０で接着した静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ Ｔｙｐｅ）のタッチパネル３００（図４参照）、または抵抗膜方式（Ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ Ｔｙｐｅ）のタッチパネル４００（図５参照）を製作することができる。ここで、静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ Ｔｙｐｅ）のタッチパネル３００（図４参照）の場合、向い合う二つの電極パターン１２０が絶縁されるように、接着層１６０が第１透明基板１１０の全面に付着される。一方、抵抗膜方式（Ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ Ｔｙｐｅ）のタッチパネル４００（図５参照）の場合、入力手段の圧力が作用すると向い合う二つの電極パターン１２０が接触されるように、接着層１６０が第１透明基板１１０の端部にのみ付着されて、入力手段の圧力が除去されると電極パターン１２０が原位置に復帰するように、反発力を提供するドットスペーサー１７０が電極パターン１２０の露出面に備えられる。

0047

一方、図６に図示されたように、第１透明基板１１０に電極パターン１２０を形成した後、絶縁層１８０を形成して、さらに電極パターン１２０を形成することにより、静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ Ｔｙｐｅ）のタッチパネル５００（図６参照）を製作することができる。ここで、絶縁層１８０は、エポキシ（Ｅｐｏｘｙ）またはアクリル系（Ａｃｒｙｌｉｃ）の樹脂、ＳｉＯｘ薄膜、またはＳｉＮｘ薄膜などであることが好ましい。

0048

本発明の第１実施例による変形された形態のタッチパネル２００、３００、４００、５００においても、ユーザは、マイクロレンズ１４０により倍率が１以下に縮小された電極パターン１２０の正立虚像を認識するようになるため、タッチパネル２００、３００、４００、５００の視認性を改善することができる長所がある。

0049

図７Ａ及び図７Ｂは、本発明の第２実施例によるタッチパネルの平面図及び断面図であり、図８Ａ及び図８Ｂは、図７Ｂに図示された電極パターンとマイクロレンズを拡大した概念図である。

0050

図７Ａから図８Ｂに図示されたように、本発明の第２実施例によるタッチパネル６００は、透明基板１０５と、透明基板１０５の一面に形成された電極パターン１２０と、倍率が１以下である電極パターン１２０の正立虚像Ｉが結像されるように、透明基板１０５の他面に電極パターン１２０と対応して形成されたマイクロレンズ１４０と、を含む構成である。

0051

第２実施例によるタッチパネル６００は、上述の第１実施例によるタッチパネル１００と比較して、電極パターン１２０とマイクロレンズ１４０が形成される位置が異なる。従って、第２実施例によるタッチパネル６００は、上述の差異を中心に記述し、第１実施例によるタッチパネル１００と重複される内容は省略する。

0052

前記透明基板１０５は、電極パターン１２０、マイクロレンズ１４０などが形成される領域を提供する役割を遂行する。具体的には、透明基板１０５の一面に電極パターン１２０が形成され、透明基板１０５の他面にマイクロレンズ１４０が形成される。この際、マイクロレンズ１４０は、電極パターン１２０がユーザに認識される現象を低減させる役割をする。従って、マイクロレンズ１４０が形成された透明基板１０５の他面は、電極パターン１２０が形成された透明基板１０５の一面に比べ外側に配置される。

0053

前記電極パターン１２０は、タッチ時の静電容量の変化を検知して、コントローラでタッチ座標を認識できるようにする役割をするものであり、透明基板１０５の一面に形成される。ここで、電極パターン１２０は、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）またはこれらの組み合わせを用いて形成するか、または、銀塩乳剤層を露光／現像して形成された金属銀を用いて形成することもできる。一方、電極パターン１２０を上述したように不透明な金属で形成する場合、ユーザに電極パターン１２０が最大限認識されないように、電極パターン１２０は、微細な線幅を有するメッシュパターン（Ｍｅｓｈ Ｐａｔｔｅｒｎ）に形成することができる。さらに、電極パターン１２０の端部には、電極パターン１２０からの電気的信号を受信する電極配線１２５（図７Ａ参照）を形成することができる。

0054

前記マイクロレンズ１４０は、電極パターン１２０がユーザに認識される現象を低減させる役割をするものであり、透明基板１０５の他面（電極パターン１２０が形成された一面の反対面）に形成される。ここで、マイクロレンズ１４０は、図８Ａ及び図８Ｂに図示されたように、倍率が１以下である電極パターン１２０の正立虚像Ｉが結像されるように、電極パターン１２０に対応して形成される。具体的には、マイクロレンズの中心を通過した光Ｌ１はそのまま通過し、光軸Ｏに平行となるようにマイクロレンズを通過した光Ｌ２は虚焦点Ｆから出た光のように発散する。この際、マイクロレンズの中心を通過した光Ｌ１と、光軸Ｏに平行となるようにマイクロレンズを通過した光Ｌ２の延長線が交わる地点に正立虚像Ｉが結像され、正立虚像Ｉは倍率が１以下であるため、ユーザ１５０は実際の電極パターン１２０より小さく認識するようになる。

0055

このように、ユーザ１５０は、マイクロレンズ１４０により倍率が１以下に縮小された電極パターン１２０の正立虚像Ｉを認識するようになるため、タッチパネル６００の視認性を改善することができる長所がある。一方、マイクロレンズ１４０が電極パターン１２０の全ての部分に対して正立虚像Ｉを結像することができるように、マイクロレンズの幅Ｗ１は、電極パターンの線幅Ｗ２と同じであるか（図８Ａ参照）、または電極パターンの線幅Ｗ２より大きいことが好ましい（図８Ｂ参照）。また、マイクロレンズ１４０が電極パターン１２０に正確に対応するように、マイクロレンズの長さ方向の中心軸Ｃ１は、電極パターンの長さ方向の中心軸Ｃ２に対応することができる（図７Ａの拡大図参照）。

0056

本実施例によるタッチパネル６００について、透明基板１０５の一面に電極パターン１２０が形成された静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ Ｔｙｐｅ）のタッチパネルを基準に説明したが、これは例示的なものであり、本実施例によるタッチパネルは、後述のように変形することが好ましい。

0057

図９から図１１は、本発明の第２実施例による変形された形態のタッチパネルの断面図である。

0058

図９及び図１０に図示されたように、一面に電極パターン１２０が形成された別の透明基板１０５をさらに備えて、二つの電極パターン１２０が向い合うように二つの透明基板１０５を接着層１６０で接着した静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ Ｔｙｐｅ）のタッチパネル７００（図９参照）、または抵抗膜方式（Ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ Ｔｙｐｅ）のタッチパネル８００（図１０参照）を製作することができる。ここで、静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ Ｔｙｐｅ）のタッチパネル７００（図９参照）の場合、向い合う二つの電極パターン１２０が絶縁されるように、接着層１６０が透明基板１０５の全面に付着される。一方、抵抗膜方式（Ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ Ｔｙｐｅ）のタッチパネル８００（図１０参照）の場合、入力手段の圧力が作用すると向い合う二つの電極パターン１２０が接触するように、接着層１６０が透明基板１０５の端部にのみ付着され、入力手段の圧力が除去されると電極パターン１２０が原位置に復帰するように、反発力を提供するドットスペーサー１７０が電極パターン１２０の露出面に備えられる。

0059

一方、図１１に図示されたように、透明基板１０５に電極パターン１２０を形成した後、絶縁層１８０を形成して、さらに電極パターン１２０を形成することにより、静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ Ｔｙｐｅ）のタッチパネル９００（図１１参照）を製作することができる。

0060

本発明の第２実施例による変形された形態のタッチパネル７００、８００、９００も、ユーザがマイクロレンズ１４０により倍率が１以下に縮小された電極パターン１２０の正立虚像を認識するようになるため、タッチパネル７００、８００、９００の視認性を改善することができる長所がある。

0061

以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明はこれに限定されず、該当分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想内にての変形や改良が可能であることは明白であろう。

0062

本発明の単純な変形乃至変更はいずれも本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は添付の特許請求の範囲により明確になるであろう。

0063

本発明は、ユーザに認識される電極パターンの線幅を縮小することができるタッチパネルに適用可能である。

0064

１００、２００、３００、４００、５００、６００、７００、８００、９００タッチパネル
１０５ 透明基板
１１０ 第１透明基板
１２０電極パターン
１２５電極配線
１３０ 第２透明基板
１４０マイクロレンズ
１５０ ユーザ
１６０接着層
１７０ドットスペーサー
１８０絶縁層
Ｌ１ マイクロレンズの中心を通過した光
Ｌ２光軸Ｏに平行となるようにマイクロレンズを通過した光
Ｆ虚焦点
Ｏ 光軸
Ｉ正立虚像
Ｗ１ マイクロレンズの幅
Ｗ２ 電極パターンの線幅
Ｃ１ マイクロレンズの長さ方向の中心軸
Ｃ２ 電極パターンの長さ方向の中心軸