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技術 光走査装置及び画像形成装置

出願人 京セラドキュメントソリューションズ株式会社
発明者 中野一成土屋浩昭
出願日 2012年2月23日 (7年4ヶ月経過) 出願番号 2012-037494
公開日 2013年9月5日 (5年10ヶ月経過) 公開番号 2013-174641
状態 特許登録済
技術分野 機械的光走査系 レーザービームプリンタ
主要キーワード 直立板 交差面 無限平面 切欠面 主筐体 fθレンズ 位置決め技術 書込ライン
関連する未来課題
重要な関連分野

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図面 (20)

課題

本発明は、受光素子位置決めする構造を有する光走査装置及び画像形成装置を提供する。

解決手段

本発明の光走査装置は、移動平面に沿って光線が移動するように、前記光線を反射させる反射機構と、前記移動平面上に配設され、前記反射機構によって反射された前記光線の受光に応じて、前記光線の照射タイミングを調整するための受光信号を出力する受光素子と、前記移動平面に対する前記受光素子の変位規制する規制機構と、を備えることを特徴とする。

概要

背景

プリンター複写機といった画像形成装置は、多くの場合、トナー画像担持する周面を有する感光体ドラムと、感光体ドラムの周面に光線照射する光走査装置と、を備える。光走査装置が光線を感光体ドラムの周面に照射するならば、感光体ドラムの周面には、光走査装置が光線を照射した領域と光線が照射されていない領域との間で電位差が生ずる。したがって、光走査装置が、画像データに従って、光線を出射するならば、感光体ドラムの周面には、画像データに対応した静電潜像が形成される。静電潜像が形成された感光体ドラムの周面にトナーが供給されるならば、トナーは、感光体ドラム上の電位差に従って分布する。この結果、トナー画像が感光体ドラムの周面に形成される。感光体ドラム上のトナー画像は、その後、シート静電気的に転写される。

光走査装置は、典型的には、レーザー光線を出射するレーザー光源と、レーザー光源を主走査方向の移動させるように回転するポリゴンミラーと、を有する。ポリゴンミラーの回転角度に応じて、感光体ドラムの周面上におけるレーザー光線の照射点の位置が主走査方向に定められる。

静電潜像の形成のために、感光体ドラムも回転する。この結果、感光体ドラムの周面上におけるレーザー光線の照射点の位置が副走査方向に定められる。

レーザー光線の出射タイミングは、ポリゴンミラー及び感光体ドラムの回転位置に応じて調整される。光走査装置は、典型的には、ポリゴンミラーによって反射されたレーザー光線を受光する受光素子を備える(特許文献1及び2を参照)。ポリゴンミラーが所定の回転位置にあるならば、受光素子は、レーザー光線を受光する。レーザー光源は、受光素子の受光タイミングと画像データとに応じて、適時に、レーザー光線を出射する。

受光素子が適切にレーザー光線を受光するならば、画像の形成のために、副走査方向に概念的に並べられた書込ラインの開始位置は、副走査方向に揃う。特許文献1は、受光素子へ向かうレーザー光線の光軸に対して受光素子を位置決めする技術を開示する。特許文献2は、主走査方向における受光素子の位置決め技術を開示する。

概要

本発明は、受光素子を位置決めする構造を有する光走査装置及び画像形成装置を提供する。本発明の光走査装置は、移動平面に沿って光線が移動するように、前記光線を反射させる反射機構と、前記移動平面上に配設され、前記反射機構によって反射された前記光線の受光に応じて、前記光線の照射タイミングを調整するための受光信号を出力する受光素子と、前記移動平面に対する前記受光素子の変位規制する規制機構と、を備えることを特徴とする。

目的

本発明は、静電潜像の形成に用いられる光線の照射タイミングを調整するための受光素子が適切に光線を受光することができるように、受光素子を位置決めする構造を有する光走査装置及び当該光走査装置が組み込まれた画像形成装置を提供する

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
0件

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請求項1

移動平面に沿って光線が移動するように、前記光線を反射させる反射機構と、前記移動平面上に配設され、前記反射機構によって反射された前記光線の受光に応じて、前記光線の照射タイミングを調整するための受光信号を出力する受光素子と、前記移動平面に対する前記受光素子の変位規制する規制機構と、を備えることを特徴とする光走査装置

請求項2

前記規制機構によって規制される前記受光素子の前記変位は、前記移動平面に対して直交する方向であることを特徴とする請求項1に記載の光走査装置。

請求項3

前記光線を出射する光源と、前記受光信号に応じて前記光源を制御する制御基板と、を更に備え、前記規制機構は、前記光源を保持する保持部と、前記制御基板に対向する対向面と、該対向面から突出する突出部と、を有する保持板を含み、前記制御基板に搭載された前記受光素子が前記移動平面に対して変位するならば、前記突出部は、前記受光素子に接触することを特徴とする請求項1又は2に記載の光走査装置。

請求項4

前記突出部は、前記受光素子を挟む一対の部を含むことを特徴とする請求項3に記載の光走査装置。

請求項5

前記保持板は、前記受光素子への前記光線の通過を許容する透光部を含み、該透光部は、前記一対の瘤部の間に形成されることを特徴とする請求項4に記載の光走査装置。

請求項6

前記光線を出射する光源と、前記受光信号に応じて前記光源を制御する制御基板と、を更に備え、前記規制機構は、前記光源を保持する保持部と、前記移動平面を横切る第1切欠部を規定する第1切欠面と、を有する保持板を含み、前記受光素子は、前記制御基板に搭載され、前記受光素子が前記第1切欠面に接触するように、前記制御基板は、前記保持板に接続されることを特徴とする請求項1又は2に記載の光走査装置。

請求項7

前記第1切欠面は、前記移動平面に対して交差する一対の第1交差面と、該一対の第1交差面の間で前記受光素子と接触する第1接触面と、を含み、前記規制機構は、前記第1接触面に前記受光素子を押しつける第1押圧部を含むことを特徴とする請求項6に記載の光走査装置。

請求項8

前記保持板は、前記移動平面を横切る第2切欠部を規定する第2切欠面を含み、前記光源は、前記制御基板に搭載され、前記光源が前記第2切欠面に接触するように、前記制御基板は前記保持板に接続されることを特徴とする請求項6又は7に記載の光走査装置。

請求項9

前記第2切欠面は、前記移動平面に対して交差する一対の第2交差面と、該一対の交差面の間で前記光源と接触する第2接触面と、を含み、前記規制機構は、前記第2接触面に前記光源を押しつける第2押圧部を含むことを特徴とする請求項8に記載の光走査装置。

請求項10

前記保持板は、前記制御基板に形成された貫通穴に挿入されるボスを含み、前記制御基板が前記ボス周りに回転するならば前記第1切欠部に前記受光素子が挿入されるように、前記第1切欠部が形成されることを特徴とする請求項6乃至9のいずれか1項に記載の光走査装置。

請求項11

前記制御基板が前記ボス周りに回転するならば前記第2切欠部に前記光源が挿入されるように、前記第2切欠部が形成されることを特徴とする請求項6乃至9のいずれか1項に記載の光走査装置。

請求項12

前記ボス周りの前記制御基板の回転を制限するように、前記制御基板を前記保持板に対して固定する固定具を更に備えることを特徴とする請求項10又は11に記載の光走査装置。

請求項13

前記反射機構が収容される収容空間を規定する内面と、該内面とは反対側の外面と、を有する筐体を更に備え、前記制御基板は、前記外面に対向して配設され、前記筐体は、前記保持板を含むことを特徴とする請求項3乃至12のいずれか1項に記載の光走査装置。

請求項14

請求項1乃至13のいずれか1項に記載の光走査装置を備える画像形成装置

技術分野

0001

本発明は、光線照射する光走査装置及び光線の照射によって形成された静電潜像を用いて画像を形成する画像形成装置に関する。

背景技術

0002

プリンター複写機といった画像形成装置は、多くの場合、トナー画像担持する周面を有する感光体ドラムと、感光体ドラムの周面に光線を照射する光走査装置と、を備える。光走査装置が光線を感光体ドラムの周面に照射するならば、感光体ドラムの周面には、光走査装置が光線を照射した領域と光線が照射されていない領域との間で電位差が生ずる。したがって、光走査装置が、画像データに従って、光線を出射するならば、感光体ドラムの周面には、画像データに対応した静電潜像が形成される。静電潜像が形成された感光体ドラムの周面にトナーが供給されるならば、トナーは、感光体ドラム上の電位差に従って分布する。この結果、トナー画像が感光体ドラムの周面に形成される。感光体ドラム上のトナー画像は、その後、シート静電気的に転写される。

0003

光走査装置は、典型的には、レーザー光線を出射するレーザー光源と、レーザー光源を主走査方向の移動させるように回転するポリゴンミラーと、を有する。ポリゴンミラーの回転角度に応じて、感光体ドラムの周面上におけるレーザー光線の照射点の位置が主走査方向に定められる。

0004

静電潜像の形成のために、感光体ドラムも回転する。この結果、感光体ドラムの周面上におけるレーザー光線の照射点の位置が副走査方向に定められる。

0005

レーザー光線の出射タイミングは、ポリゴンミラー及び感光体ドラムの回転位置に応じて調整される。光走査装置は、典型的には、ポリゴンミラーによって反射されたレーザー光線を受光する受光素子を備える(特許文献1及び2を参照)。ポリゴンミラーが所定の回転位置にあるならば、受光素子は、レーザー光線を受光する。レーザー光源は、受光素子の受光タイミングと画像データとに応じて、適時に、レーザー光線を出射する。

0006

受光素子が適切にレーザー光線を受光するならば、画像の形成のために、副走査方向に概念的に並べられた書込ラインの開始位置は、副走査方向に揃う。特許文献1は、受光素子へ向かうレーザー光線の光軸に対して受光素子を位置決めする技術を開示する。特許文献2は、主走査方向における受光素子の位置決め技術を開示する。

先行技術

0007

特開平2−118612号公報
特開平11−23987号公報

発明が解決しようとする課題

0008

ポリゴンミラーの回転に応じて移動する光線によって規定される移動平面上に受光素子が存在するならば、受光素子は、レーザー光線を受光することができる。一方、受光素子が移動平面から外れるならば、受光素子はレーザー光線を全く受信できなくなる。受光素子がレーザー光線を受光しないならば、画像形成装置の画像形成機能は完全に損なわれる。この結果、例えば、画像形成装置は、白紙のままシートを出力する。或いは、画像形成装置は、全体的に黒色の画像が形成されたシートを出力する。

0009

上述の開示技術は、画像形成機能を完全に損なう受光素子の位置決めに係る課題に取り組むものではない。

0010

本発明は、静電潜像の形成に用いられる光線の照射タイミングを調整するための受光素子が適切に光線を受光することができるように、受光素子を位置決めする構造を有する光走査装置及び当該光走査装置が組み込まれた画像形成装置を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

0011

本発明の一実施形態に係る光走査装置は、移動平面に沿って光線が移動するように、前記光線を反射させる反射機構と、前記移動平面上に配設され、前記反射機構によって反射された前記光線の受光に応じて、前記光線の照射タイミングを調整するための受光信号を出力する受光素子と、前記移動平面に対する前記受光素子の変位規制する規制機構と、を備えることを特徴とする(請求項1)。

0012

上記構成によれば、反射機構は、移動平面に沿って光線が移動するように、光線を反射させる。移動平面状に配設された受光素子は、反射機構によって反射された光線の受光に応じて、光線の照射タイミングを調整するための受光信号を出力する。規制機構は、移動平面に対する受光素子の変位を規制する。規制機構は、受光素子を移動平面から外れにくくするので、受光素子は、反射機構によって反射された光線を適切に受光することができる。

0013

上記構成において、前記規制機構によって規制される前記受光素子の前記変位は、前記移動平面に対して直交する方向であることが好ましい(請求項2)。

0014

上記構成によれば、規制機構は、受光素子を、移動平面に対して直交する方向に規制するので、受光素子は、移動平面から外れにくくなる。したがって、受光素子は、反射機構によって反射された光線を適切に受光することができる。

0015

上記構成において、前記光走査装置は、前記光線を出射する光源と、前記受光信号に応じて前記光源を制御する制御基板と、を更に備え、前記規制機構は、前記光源を保持する保持部と、前記制御基板に対向する対向面と、該対向面から突出する突出部と、を有する保持板を含み、前記制御基板に搭載された前記受光素子が前記移動平面に対して変位するならば、前記突出部は、前記受光素子に接触することが好ましい(請求項3)。

0016

上記構成によれば、制御基板は、受光素子からの受光信号に応じて、光源を制御するので、光線の照射タイミングは適切に調整される。制御基板に搭載された受光素子が移動平面に対して変位するならば、制御基板に対向する対向面から突出する突出部は、受光素子に接触する。したがって、受光素子は、移動平面から外れにくくなる。

0017

上記構成において、前記突出部は、前記受光素子を挟む一対の部を含むことが好ましい(請求項4)。

0018

上記構成によれば、制御基板に搭載された受光素子が移動平面に対して変位するならば、受光素子を挟む一対の瘤部のうち一方は、受光素子に接触する。したがって、受光素子は、移動平面から外れにくくなる。

0019

上記構成において、前記保持板は、前記受光素子への前記光線の通過を許容する透光部を含み、該透光部は、前記一対の瘤部の間に形成されることが好ましい(請求項5)。

0020

上記構成によれば、反射機構によって反射された光線は、一対の瘤部の間に形成された透光部を通じて、受光素子へ到達する。したがって、受光素子は、反射機構によって反射された光線を適切に受光することができる。

0021

上記構成において、前記光走査装置は、前記光線を出射する光源と、前記受光信号に応じて前記光源を制御する制御基板と、を更に備え、前記規制機構は、前記光源を保持する保持部と、前記移動平面を横切る第1切欠部を規定する第1切欠面と、を有する保持板を含み、前記受光素子は、前記制御基板に搭載され、前記受光素子が前記第1切欠面に接触するように、前記制御基板は、前記保持板に接続されることが好ましい(請求項6)。

0022

上記構成によれば、制御基板は、受光素子からの受光信号に応じて、光源を制御するので、光線の照射タイミングは適切に調整される。光源を保持する保持板には、移動平面を横切る第1切欠部が形成される。制御基板に搭載された受光素子が第1切欠部を規定する第1切欠面に接触するように、制御基板は、保持板に接続される。したがって、受光素子は、移動平面から外れにくくなる。

0023

上記構成において、前記第1切欠面は、前記移動平面に対して交差する一対の第1交差面と、該一対の第1交差面の間で前記受光素子と接触する第1接触面と、を含み、前記規制機構は、前記第1接触面に前記受光素子を押しつける第1押圧部を含むことが好ましい(請求項7)。

0024

上記構成によれば、第1接触面は、移動平面に対して交差する一対の第1交差面の間で受光素子と接触する。また、第1押圧部は、第1接触面に受光素子を押しつける。したがって、受光素子は、移動平面から外れにくくなる。

0025

上記構成において、前記保持板は、前記移動平面を横切る第2切欠部を規定する第2切欠面を含み、前記光源は、前記制御基板に搭載され、前記光源が前記第2切欠面に接触するように、前記制御基板は前記保持板に接続されることが好ましい(請求項8)。

0026

上記構成によれば、制御基板に搭載された光源が第2切欠部を規定する第2切欠面に接触するように、制御基板は、保持板に接続される。したがって、光源は、適切に位置決めされる。

0027

上記構成において、前記第2切欠面は、前記移動平面に対して交差する一対の第2交差面と、該一対の交差面の間で前記光源と接触する第2接触面と、を含み、前記規制機構は、前記第2接触面に前記光源を押しつける第2押圧部を含むことが好ましい(請求項9)。

0028

上記構成によれば、第2接触面は、移動平面に対して交差する一対の第2交差面の間で光源と接触する。また、第2押圧部は、第2接触面に光源を押しつける。したがって、光源は、適切に固定される。

0029

上記構成において、前記保持板は、前記制御基板に形成された貫通穴に挿入されるボスを含み、前記制御基板が前記ボス周りに回転するならば前記第1切欠部に前記受光素子が挿入されるように、前記第1切欠部が形成されることが好ましい(請求項10)。

0030

上記構成によれば、ボスは、制御基板に形成された貫通穴に挿入される。制御基板がボス周りに回転するならば第1切欠部に受光素子が挿入されるように、第1切欠部が形成されるので、保持板と制御基板との接続が簡便に行われる。

0031

上記構成において、前記制御基板が前記ボス周りに回転するならば前記第2切欠部に前記光源が挿入されるように、前記第2切欠部が形成されることが好ましい(請求項11)。

0032

上記構成によれば、制御基板がボス周りに回転するならば第2切欠部に光源が挿入されるように、第2切欠部が形成されるので、保持板と制御基板との接続が簡便に行われる。

0033

上記構成において、前記光走査装置は、前記ボス周りの前記制御基板の回転を制限するように、前記制御基板を前記保持板に対して固定する固定具を更に備えることが好ましい(請求項12)。

0034

上記構成によれば、固定具は、ボス周りの制御基板の回転を制限するように、制御基板を保持板に対して固定するので、受光素子は、移動平面から外れにくくなる。

0035

上記構成において、前記光走査装置は、前記反射機構が収容される収容空間を規定する内面と、該内面とは反対側の外面と、を有する筐体を更に備え、前記制御基板は、前記外面に対向して配設され、前記筐体は、前記保持板を含むことが好ましい(請求項13)。

0036

上記構成において、筐体の内面は、反射機構が収容される収容空間を規定する。制御基板は、内面とは反対側の外面に対向する。筐体は、保持板を含む。したがって、受光素子は、筐体を用いて、適切に位置決めされる。

0037

本発明の他の実施形態に係る画像形成装置は、上述の光走査装置を備えることを特徴とする(請求項14)。

0038

上記構成によれば、画像形成装置は、上述の光走査装置を備えるので、受光素子は適切に位置決めされる。

発明の効果

0039

本発明に従う画像形成装置及び光走査装置は、受光素子が適切に光線を受光することができるように、受光素子を位置決めすることができる。

図面の簡単な説明

0040

画像形成装置として例示されるプリンターの概略的な断面図である。
図1に示されるプリンターの概略的な斜視図である。
図1に示されるプリンターが実行する静電潜像の形成工程を表す概略図である。
図1に示されるプリンターの光走査装置の概略的な斜視図である。
図4に示される光走査装置の概略的な平面図である。
第1実施形態に従う規制機構として用いられる保持板の概略的な平面図である。
図6Aに示される保持板の外面の概略図である。
図4に示される光走査装置のレーザー光源の概略的な斜視図である。
図7に示されるレーザー光源が取り付けられた保持板の概略的な平面図である。
図7に示されるレーザー光源を制御する制御基板が取り付けられた保持板の概略的な平面図である。
図4に示される光走査装置の受光素子の変位を規制する規制機構を表す保持板の概略的な縦断面図である。
第2実施形態に従う規制機構とともに利用される制御基板の概略的な斜視図である。
第2実施形態に従う規制機構として用いられる保持板の概略的な平面図である。
図11に示される保持板の内面の概略図である。
図11に示される保持板の概略的な拡大斜視図である。
第3実施形態に従う規制機構として用いられる保持板の概略図である。
図14に示される保持板の概略的な平面図である。
図14に示される保持板に取り付けられる制御基板の概略図である。
図14に示される保持板の概略的な拡大斜視図である。

実施例

0041

以下、添付の図面を参照しつつ、例示的な画像形成装置及び光走査装置が説明される。尚、以下において用いられる「上」、「下」、「左」や「右」などの方向を表す用語は、単に、説明の明瞭化を目的とする。したがって、図面或いは以下の説明の詳細は、画像形成装置及び光走査装置の原理を何ら限定するものではない。

0042

<画像形成装置>
図1は、画像形成装置として例示されるプリンター100の概略的な断面図である。図2は、プリンター100の概略的な斜視図である。図1及び図2を用いて、プリンター100が説明される。

0043

プリンター100は、矩形箱状の主筐体200を備える。主筐体200内には、画像を形成するための様々な装置(後述される)が収容される。

0044

主筐体200は、直立した正面壁210と、正面壁210とは反対側の背面壁220と、正面壁210と背面壁220との間で直立した左壁230と、左壁230とは反対側の右壁240と、を備える。主筐体200は、正面壁210、背面壁220、左壁230及び右壁240の上縁で囲まれた領域を閉塞する上壁250と、上壁250とは反対側の下壁260と、を更に備える。

0045

正面壁210は、上壁250の正面縁に隣接する前カバー211と、前カバー211の左右に配設された直立板212と、を含む。前カバー211は、上壁250の正面縁に沿って水平に延びる。一方、直立板212は、上壁250の正面縁から下方に延びる。したがって、正面壁210は、門型に形成され、主筐体200の下部に開口部213を規定する。

0046

プリンター100は、シートを収容するカセット300を備える。カセット300は、正面壁210が規定する開口部213を通じて、主筐体200内に挿入される。カセット300は、シートを支持するリフト板310を備える。リフト板310は、シートの先頭縁を押し上げる。

0047

プリンター100は、リフト板310によって押し上げられたシートの先頭縁に当接する給紙ローラー320と、給紙ローラー320に隣接する分離板321と、を備える。給紙ローラー320は、カセット300からシートを引き出すように回転する。分離板321は、シートの下面に摩擦力を加える。給紙ローラー320が複数枚のシートをカセット300から引き出すならば、複数枚のシートは、分離板321の摩擦力によって、分離される。給紙ローラー320が1枚のシートをカセット300から引き出すならば、給紙ローラー320は、分離板321の摩擦力に打ち勝って、シートを下流へ送り出す。この結果、シートは、1枚ずつ下流へ送り出される。シートは、その後、主筐体200の背面壁220に沿って形成された搬送経路を通じて、上方へ移動する。

0048

プリンター100は、給紙ローラー320から送り出されたシートを受けるレジストローラー対330と、シートに画像を形成する画像形成部400と、を更に備える。レジストローラー対330は、画像形成部400の画像形成工程(後述される)に合わせて、シートを画像形成部400に供給する。

0049

画像形成部400は、静電潜像及びトナー画像が形成される周面411を含む感光体ドラム410と、感光体ドラム410の周面411を一様に帯電させる帯電器420と、帯電した感光体ドラム410の周面411にレーザー光線LBを照射する光走査装置500と、を備える。感光体ドラム410の回転に伴って、感光体ドラム410の周面411には、静電潜像が形成され、その後、トナー画像が形成される。トナー画像は、最終的に、感光体ドラム410の周面411から、レジストローラー対330によって送り出されたシートに転写される。

0050

プリンター100は、外部装置(例えば、パーソナルコンピューター(図示せず))から画像データを受信する。光走査装置500は、画像データに従って、レーザー光線LBを出射する。この結果、感光体ドラム410の周面411には、レーザー光線LBの照射点IPが現れる。

0051

光走査装置500は、画像データに従って、レーザー光線LBを主走査方向に移動させ、感光体ドラム410の周面411を走査する。この結果、照射点IPは、主走査方向に移動する。

0052

感光体ドラム410が回転によって、レーザー光線LBが照射される周面411が移動する。この結果、感光体ドラム410の周面411における照射点IPの副走査方向(主走査方向に対して略直交する方向)の位置が定められる。プリンター100は、画像データに応じて、主走査方向及び副走査方向におけるレーザー光線LBの照射領域を定める。光走査装置500は、照射領域内において照射点IPが現れるように、感光体ドラム410の回転角度及び画像データに応じて適切に定められた出射タイミングでレーザー光線LBを出射する。この結果、感光体ドラム410の周面411上に静電潜像が形成される。本実施形態において、感光体ドラム410は、像担持体として例示される。感光体ドラム410の周面411は、像担持面として例示される。レーザー光線LBは、光線として例示される。

0053

画像形成部400は、静電潜像が形成された感光体ドラム410の周面411にトナーを供給する現像装置430と、現像装置430にトナーを供給するトナーコンテナー440と、を更に備える。現像装置430からのトナーの供給によって、静電潜像に合致するトナー画像が感光体ドラム410の周面411に形成される。現像装置430中のトナーが不足しないように、トナーコンテナー440からトナーが随時供給される。

0054

画像形成部400は、感光体ドラム410と協働して、レジストローラー対330から送られたシートを受ける転写ローラー450を更に備える。シートが感光体ドラム410と転写ローラー450との間を通過する間、転写ローラー450は、感光体ドラム410の周面411のトナー画像をシートに引きつける。この結果、トナー画像は、シートに転写される。感光体ドラム410及び転写ローラー450は、その後、シートを上方へ送り出す。

0055

プリンター100は、トナー画像をシートに定着させる定着装置600を更に備える。定着装置600は、シート上のトナーを溶融させるための熱を発生させる加熱ローラー610と、トナー画像が形成されたシートの面を加熱ローラー610に押しつける加圧ローラー620と、を備える。感光体ドラム410と転写ローラー450とによって送り出されたシートは、加熱ローラー610と加圧ローラー620との間を通過する。この間、加熱ローラー610によって溶融されたトナーはシートに浸透し、トナー画像がシートに定着される。定着装置600は、その後、シートを更に上方へ送り出す。

0056

プリンター100は、排紙ローラー340を更に備える。定着装置600は、排紙ローラー340へシートを送り出す。排紙ローラー340は、主筐体200からシートを排出する。

0057

図3は、光走査装置500による静電潜像の形成工程を表す概略図である。図1及び図3を用いて、静電潜像の形成工程が説明される。

0058

図3に示される如く、光走査装置500は、レーザー光線LBを出射するレーザー光源521と、レーザー光線LBを受けるポリゴンミラー523と、を備える。図1に示される如く、光走査装置500は、ポリゴンミラー523を回転させるモーター524と、ポリゴンミラー523が収容される収容空間501を規定する筐体510と、を更に備える。本実施形態において、レーザー光源521は、光源として例示される。

0059

図3に示される如く、レーザー光源521から出射されたレーザー光線LBは、ポリゴンミラー523へ向かう。ポリゴンミラー523は、感光体ドラム410に向けて、レーザー光線LBを反射させる。

0060

モーター524がポリゴンミラー523を回転させると、感光体ドラム410の周面411上に現れるレーザー光線LBの照射点IPは、主走査方向へ移動する。図3において、感光体ドラム410の周面411上における照射点IPの移動軌跡(以下、「描画ラインRL」と称される)は、点線で表されている。本実施形態において、ポリゴンミラー523及びモーター524は、反射機構として例示される。

0061

レーザー光源521からのレーザー光線LBを受け、感光体ドラム410へレーザー光線LBを反射させる点は、以下の説明において、「反射点RP」と称される。図3には、反射点RPから放射状に拡がる移動平面MPが示されている。移動平面MPは、主走査方向に移動するレーザー光線LBによって規定される。尚、「移動平面MP」は、ポリゴンミラー523によって反射されたレーザー光線LBが実際に移動する軌跡平面(図3に示される三角形状の領域)だけでなく、軌跡平面と同一レベルで拡がる無限平面を意味する。

0062

レーザー光線LBは、移動平面MPに沿って、主走査方向に移動する。感光体ドラム410が回転すると、感光体ドラム410の周面411上の新たな描画ラインRL上で、照射点IPが移動する。この結果、静電潜像が形成される。

0063

<光走査装置>
図4は、光走査装置500の概略的な斜視図である。図1及び図4を用いて、光走査装置500が説明される。

0064

上述の如く、光走査装置500は、筐体510を備える。筐体510は、上方に開口した箱体511と、箱体511の開口部を閉塞する蓋体512と、を備える。

0065

図5は、光走査装置500の概略的な平面図である。図1図3乃至図5を用いて、光走査装置500が更に説明される。尚、図5に示される光走査装置500から蓋体512は除去されている。

0066

光走査装置500は、筐体510、レーザー光源521、ポリゴンミラー523及びモーター524に加えて、レーザー光線LBの特性(例えば、ビーム径)を調整する光学素子群522と、感光体ドラム410の周面411上でレーザー光線LBを結像させるfθレンズ529と、を備える。

0067

箱体511は、光学素子群522、ポリゴンミラー523、モーター524及びfθレンズ529が据え付けられる支持板513と、支持板513の周縁から直立した周壁518と、を含む。周壁518は、ポリゴンミラー523及びfθレンズ529が収容される収容空間501を規定する内面502と、内面502とは反対側の外面503と、を含む。

0068

周壁518は、感光体ドラム410とポリゴンミラー523との間に配設された開口板515を含む。開口板515には、主走査方向に延びる開口部516が形成される。レーザー光源521から出射されたレーザー光線LBは、光学素子群522を通過し、ポリゴンミラー523に到達する。図3に関連して説明された如く、レーザー光線LBは、その後、ポリゴンミラー523によって反射され、主走査方向に移動する。ポリゴンミラー523によって反射されたレーザー光線LBは、fθレンズ529を通過する。その後、レーザー光線LBは、開口部516を通じて、感光体ドラム410の周面411に到達する。

0069

周壁518は、レーザー光源521を保持する保持板514を更に含む。光走査装置500は、開口板515とfθレンズ529との間において、支持板513によって支持される反射鏡525を備える。本実施形態において、保持板514の内面502は、収容空間501の右側境界を規定する。反射鏡525は、収容空間501の左角隅部に配設される。ポリゴンミラー523が所定の回転角度にあるとき、ポリゴンミラー523によって反射されたレーザー光線LBは、反射鏡525に向かう。反射鏡525は、右方にレーザー光線LBを反射する。尚、反射鏡525によって反射されたレーザー光線LBが、図3に関連して説明された移動平面MPに沿って伝搬するように、反射鏡525は光学的に適切に設定される。本実施形態において、ポリゴンミラー523、モーター524及び反射鏡525は、反射機構として例示される。

0070

光走査装置500は、保持板514の外面503に対向して配設された制御基板530を更に備える。レーザー光源521は、制御基板530に電気的に接続される。制御基板530は、レーザー光源521を制御し、レーザー光線LBの出射タイミングを適切に調整する。

0071

光走査装置500は、制御基板530に搭載された受光素子540を更に備える。受光素子540は、移動平面MP上に配設され、反射鏡525によって反射されたレーザー光線LBを受光する。受光素子540は、レーザー光線LBの受光に応じて、受光信号を出力する。制御基板530は、受光素子540からの受光信号に応じて、レーザー光源521からのレーザー光線LBの照射タイミングを調整する。

0072

受光素子540は、ポリゴンミラー523が所定の回転角度にあるとき、レーザー光線LBを受光する。したがって、制御基板530は、受光信号を基準に、主走査方向における照射点IPの移動の開始位置を見極めることができる。

0073

<規制機構>
以下、様々な実施形態に係る規制機構が説明される。規制機構は、移動平面MPに対する受光素子540の変位を規制するために用いられる。

0074

(第1実施形態)
図6Aは、第1実施形態に従う規制機構として用いられる保持板514Aの概略的な平面図である。図6Bは、図6Aに示される保持板514Aの外面503の概略図である。尚、保持板514Aは、図5に関連して説明された光走査装置500の保持板514として用いられる。図5乃至図6Bを用いて、保持板514Aが説明される。尚、図1乃至図5に関連して説明された要素と共通する要素に対して、同一の符号が用いられている。共通する要素に関する詳細な説明は省略される。

0075

保持板514Aには、貫通穴551が形成される。レーザー光源521は、貫通穴551に挿入される。この結果、レーザー光源521は、保持板514Aによって適切に保持される。本実施形態において、貫通穴551は、保持部として例示される。

0076

図7は、レーザー光源521の概略的な斜視図である。図5図6B及び図7を用いて、レーザー光源521が説明される。

0077

レーザー光源521は、略2段円筒形状に形成された本体部561備える。本体部561は、貫通穴551に挿入される挿入部562と、挿入部562より大きな基端部563と、を備える。挿入部562の端面565には、レーザー光線LBが出射される出射口564が形成される。

0078

レーザー光源521は、挿入部562の端面565とは反対側の基端部563の端面566から延びるリード線567を更に備える。レーザー光源521は、リード線567を介して、制御基板530に電気的に接続される。

0079

図8Aは、レーザー光源521が取り付けられた保持板514Aの概略的な平面図である。図8Bは、制御基板530が更に取り付けられた保持板514Aの概略的な平面図である。図6B乃至図8Bを用いて、保持板514Aに対するレーザー光源521及び制御基板530の取付が説明される。

0080

本実施形態において、レーザー光源521の挿入部562は、保持板514Aの貫通穴551に挿入される。このとき、レーザー光源521の基端部563とリード線567は、保持板514Aの外面503から突出する。

0081

制御基板530は、保持板514Aに隣接して配設される。その後、リード線567は、制御基板530に半田付けされる。この結果、レーザー光源521と制御基板530は、電気的に接続される。

0082

図9は、移動平面MPに対する受光素子540の変位を規制する規制機構を表す保持板514Aの概略的な縦断面図である。尚、図9において、移動平面MPは、一点鎖線を用いて概略的に示されている。図5図8B及び図9を用いて、規制機構が説明される。

0083

保持板514Aの外面503は、制御基板530に対向する。本実施形態において、外面503は、対向面として例示される。

0084

保持板514Aは、外面503から制御基板530に向けて突出する一対の瘤部552を備える。本実施形態において、一対の瘤部552は、突出部として例示される。

0085

制御基板530に搭載された受光素子540は、保持板514Aの外面503に向けて突出し、一対の瘤部552に挟まれる。移動平面MPは、一対の瘤部552の間を通過する。したがって、受光素子540が移動平面MPに対して、直交する方向に変位するならば、一対の瘤部552のうち一方に受光素子540が接触する。この結果、移動平面MPに対する受光素子540の変位が規制される。

0086

保持板514Aには、一対の瘤部552の間において、貫通穴553が形成される。移動平面MPは、貫通穴553を通過する。したがって、レーザー光源521から出射されたレーザー光線LBは、反射鏡525によって反射された後、貫通穴553を通じて、受光素子540に到達する。本実施形態において、貫通穴553は、透光部として例示される。

0087

一対の瘤部552の間に受光素子540が配設された後、制御基板530は適切な固定具(例えば、ビス)を用いて、保持板514Aに接続される。

0088

(第2実施形態)
図10は、第2実施形態に従う規制機構とともに利用される制御基板530Bの概略的な斜視図である。尚、制御基板530Bは、図5に関連して説明された光走査装置500の制御基板530として用いられる。図5及び図10を用いて、制御基板530Bが説明される。尚、図1乃至図5に関連して説明された要素及び第1実施形態に関連して説明された要素と共通する要素に対して、同一の符号が用いられている。共通する要素に関する詳細な説明は省略される。

0089

制御基板530Bには、受光素子540が搭載される。制御基板530Bは、受光素子540が出力する受光信号に応じて、レーザー光源521からのレーザー光線LBの照射タイミングを制御する。

0090

図11は、第2実施形態に従う規制機構として用いられる保持板514Bの概略的な平面図である。尚、保持板514Bは、図5に関連して説明された光走査装置500の保持板514として用いられる。図6B図10及び図11を用いて、保持板514Bが説明される。尚、図1乃至図5に関連して説明された要素及び第1実施形態に関連して説明された要素と共通する要素に対して、同一の符号が用いられている。共通する要素に関する詳細な説明は省略される。

0091

第1実施形態に関連して説明された保持板514Aと同様に、保持板514Bには、貫通穴が形成される。レーザー光源521は、保持板514Bの貫通穴に挿入される。この結果、保持板514Bは、レーザー光源521を適切に保持することができる。本実施形態において、保持板514Bに形成された貫通穴は、保持部として例示される。

0092

図11に示される如く、保持板514Bは、外面503から突出するボス554を備える。図10に示される如く、制御基板530Bには、第1貫通穴531及び第2貫通穴532が形成される。ボス554は、第1貫通穴531に挿入される。第2貫通穴532には、適切な固定具(例えば、ビス)が挿入され、制御基板530Bは、保持板514Bに適切に固定される。第2貫通穴532に固定具が挿入される前において、制御基板530Bは、ボス554周りに回動可能である。本実施形態において、第1貫通穴531は、貫通穴として例示される。

0093

図12は、図11に示される保持板514Bの内面502の概略図である。図5図11及び図12を用いて、保持板514Bが説明される。

0094

保持板514Bに形成された貫通穴551を通じて、レーザー光源521の出射口564が現れる。したがって、レーザー光源521は、光走査装置500の収容空間501内にレーザー光線LBを出射することができる。

0095

図12には、出射口564を横切る移動平面MPが一点鎖線で表されている。保持板514Bには、切欠部555が形成される。切欠部555は、保持板514Bの上縁556から下方に延出し、移動平面MPを横切る。

0096

保持板514Bは、上縁556から下方に延びる一対の垂直面557と、一対の垂直面557の間で水平に延びる水平面558と、を備える。一対の垂直面557及び水平面558は、切欠部555を規定する。本実施形態において、一対の垂直面557及び水平面558は、第1切欠面として例示される。切欠部555は、第1切欠部として例示される。

0097

図13は、切欠部555の周囲における保持板514Bの概略的な拡大斜視図である。図10乃至図13を用いて、保持板514Bが説明される。

0098

図12に示される如く、一対の垂直面557は、下方に延び、移動平面MPと交差する。水平面558は、移動平面MPの下方に位置する。本実施形態において、一対の垂直面557は、第1交差面として例示される。

0099

図11に関連して説明された如く、制御基板530Bは、保持板514Bに固定される前において、ボス554周りに回転可能に保持板514Bに接続される。ボス554が制御基板530Bの第1貫通穴531に挿入された後、制御基板530Bが下方に回転されるならば、制御基板530Bに搭載された受光素子540は、切欠部555に挿入される。受光素子540が水平面558に接触するまで、制御基板530Bはボス554周りに下方に回動される。本実施形態において、水平面558は、第1接触面として例示される。

0100

受光素子540が水平面558に接触した後、板バネ559が保持板514Bの上縁556に取り付けられる。板バネ559は、切欠部555内の受光素子540に接触する。この結果、受光素子540は、水平面558に押しつけられる。したがって、受光素子540は、移動平面MP上に安定的に保持される。本実施形態において、板バネ559は、第1押圧部として例示される。代替的に、受光素子540を水平面558に押しつけるための他の適切な部材が第1押圧部として用いられてもよい。

0101

板バネ559が取り付けられた後、制御基板530Bの第2貫通穴532に挿通された適切な固定具によって、制御基板530Bは、保持板514Bに適切に固定される。この結果、保持板514Bに対する制御基板530Bの回転は制限される。

0102

(第3実施形態)
図14は、第3実施形態に従う規制機構として用いられる保持板514Cの概略図である。尚、保持板514Cは、図5に関連して説明された光走査装置500の保持板514として用いられる。図5図7及び図14を用いて、保持板514Cが説明される。尚、図1乃至図5に関連して説明された要素及び第2実施形態に関連して説明された要素と共通する要素に対して、同一の符号が用いられている。共通する要素に関する詳細な説明は省略される。

0103

保持板514Cには、第2実施形態に関連して説明された切欠部555に加えて、切欠部570が形成される。切欠部570は、切欠部555と同様に、保持板514Cの上縁556から下方に延出する。後述されるように、切欠部570には、レーザー光源521が挿入される。

0104

図14には、移動平面MPが一点鎖線で表されている。レーザー光源521が切欠部570内に適切に設置されるならば、移動平面MPは、レーザー光源521の出射口564を横切る。切欠部570は、切欠部555と同様に、移動平面MPを横切る。本実施形態において、切欠部570は、第2切欠部として例示される。

0105

保持板514Cは、上縁556から下方に延びる一対の垂直面571と、一対の垂直面571の間で水平に延びる水平面572と、を備える。一対の垂直面571及び水平面572は、切欠部570を規定する。本実施形態において、一対の垂直面571及び水平面572は、第2切欠面として例示される。

0106

受光素子540が挿入される切欠部555を規定する垂直面557と同様に、切欠部570を規定する一対の垂直面571は、移動平面MPを横切る。切欠部555を規定する水平面558と同様に、切欠部570を規定する水平面572は、移動平面MPの下方に位置する。本実施形態において、一対の垂直面571は、第2交差面として例示される。

0107

図15は、保持板514Cの概略的な平面図である。図16は、保持板514Cに取り付けられる制御基板530Bの概略図である。図15及び図16を用いて、保持板514Cが更に説明される。

0108

保持板514Cは、ボス554を備える。ボス554は、制御基板530Bに形成された第1貫通穴531に挿入される。

0109

第2実施形態と異なり、レーザー光源521は、保持板514Cに接続される前の制御基板530Bに搭載される。第2実施形態と同様に、受光素子540は、制御基板530Bに搭載されている。

0110

図17は、切欠部570の周囲における保持板514Cの概略的な拡大斜視図である。図15乃至図17を用いて、保持板514Cが更に説明される。

0111

ボス554が制御基板530Bの第1貫通穴531に挿入された後、制御基板530Bが下方に回転されるならば、制御基板530Bに搭載された受光素子540は、切欠部555に挿入される。また、制御基板530Bに搭載された受光素子540は、切欠部570に挿入される。受光素子540が水平面558に接触するまで、制御基板530Bはボス554周りに下方に回動される。受光素子540が水平面558に接触したときにレーザー光源521が切欠部570の水平面572に接触するように、切欠部570の深さが設定される。本実施形態において、水平面572は、第2接触面として例示される。

0112

レーザー光源521が水平面572に接触した後、板バネ573が保持板514Cの上縁556に取り付けられる。板バネ573は、切欠部570内のレーザー光源521に接触する。この結果、レーザー光源521は、水平面572に押しつけられる。したがって、レーザー光源521は、切欠部570内で安定的に保持される。本実施形態において、板バネ573は、第2押圧部として例示される。代替的に、レーザー光源521を水平面572に押しつけるための他の適切な部材が第2押圧部として用いられてもよい。

0113

板バネ573が取り付けられた後、制御基板530Bの第2貫通穴532に挿通された適切な固定具によって、制御基板530Bは、保持板514Cに適切に固定される。この結果、保持板514Cに対する制御基板530Bの回転は制限される。

0114

本実施形態の原理は、受光素子を用いて、動作制御を行う装置に好適に適用される。

0115

100・・・・・プリンター(画像形成装置)
410・・・・・感光体ドラム(像担持体)
411・・・・・周面(像担持面)
500・・・・・光走査装置
501・・・・・収容空間
502・・・・・内面
503・・・・・外面(対向面)
510・・・・・筐体
514・・・・・保持板(規制機構)
514A・・・・保持板(規制機構)
514B・・・・保持板(規制機構)
514C・・・・保持板(規制機構)
521・・・・・レーザー光源(光源)
523・・・・・ポリゴンミラー(反射機構)
524・・・・・モーター(反射機構)
525・・・・・反射鏡(反射機構)
530・・・・・制御基板
530B・・・・制御基板
531・・・・・第1貫通穴(貫通穴)
540・・・・・受光素子
551・・・・・貫通穴(保持部)
552・・・・・瘤部(突出部)
553・・・・・貫通穴(透光部)
554・・・・・ボス
555・・・・・切欠部(第1切欠部)
557・・・・・垂直面(第1切欠面:第1交差面)
558・・・・・水平面(第1切欠面:第1接触面)
559・・・・・板バネ(第1押圧部)
570・・・・・切欠部(第2切欠部)
571・・・・・垂直面(第2切欠面:第2交差面)
572・・・・・水平面(第2切欠面:第2接触面)
573・・・・・板バネ(第2押圧部)
IP・・・・・・照射点
LB・・・・・・レーザー光線(光線)
MP・・・・・・移動平面

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