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技術 抗感染症ピリミジンおよびその使用

出願人 アッヴィ・バハマズ・リミテッド
発明者 チヤールズ・エイ・フレンテダグラス・ケイ・ハツチンソンデイビツド・エイ・ベテベナーデイビツド・エイ・デイゴーイパメラ・エル・ドナーウオーレン・エム・ケイテイアラン・シー・クリユーガーターチユン・リウヤーヤー・リウケントン・エル・ロングネツカークラレンス・ジエイ・マーリングクリストフアー・イー・モツタージヨン・ケイ・プラツトジヨン・テイー・ランドルフトツド・ダブリユ・ロツクウエイケント・デイー・スチユワートロルフ・ワグナーデイビツド・エム・バーンズシヨワン・チエンサデイアス・エス・フランチエク・セカンドイー・ガオアンソニー・アール・へイトジヨン・イー・ヘンジベルドブライアン・ジエイ・コテツキーシヤオチユン・ロウジエフ・ジー・ゼツト・ジヤン
出願日 2012年10月4日 (8年7ヶ月経過) 出願番号 2012-221886
公開日 2013年3月28日 (8年1ヶ月経過) 公開番号 2013-056886
状態 特許登録済
技術分野 1,3-ジアジン系化合物 他の有機化合物及び無機化合物含有医薬 複数複素環系化合物 蛋白脂質酵素含有:その他の医薬 化合物または医薬の治療活性
主要キーワード 結晶化スラリー 官能性シリカ 窒素ガス圧 結晶パターン ハロゲン化物源 回帰方程式 回折パターンピーク カルバジン酸メチル
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(2013年3月28日)のものです。
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図面 (20)

課題

インターフェロン薬および/またはリバビリンと併用される、またはその代わりに使用される抗感染症薬などの提供。

解決手段

(a)HCV阻害する化合物およびそれらの塩;(b)当該化合物および塩の調製に有用な中間体;(c)当該化合物および塩を含む組成物;(d)当該中間体、化合物、塩および組成物を調製するための方法;(e)当該化合物、塩および組成物の使用方法;ならびに(f)当該化合物、塩および組成物を含むキット

概要

背景

C型肝炎は、HCVとよばれる向肝性ウイルスによって引き起こされる血液感染性疾患、感染性疾患、ウイルス疾患である。少なくとも6つの異なるHCV遺伝子型(いくつかのサブタイプ各遺伝子型に存在する。)が今日まで知られている。北米では、HCV遺伝子型1aが支配的であり、HCV遺伝子型1b、2a、2bおよび3aがそれに続く。米国では、HCV遺伝子型1、2および3が最も多く、C型肝炎患者の約80%がHCV遺伝子型1を有する。欧州では、HCV遺伝子型1bが支配的であり、HCV遺伝子型2a、2b、2cおよび3aがそれに続く。HCV遺伝子型4および5は、ほぼすべてがアフリカに見られる。下記に記載するように、患者のHCV遺伝子型は、治療に対する患者の潜在的応答および必要とされる当該治療の期間を判断する上で臨床的に重要である。

HCV感染は、しばしば無症候性である肝臓炎症肝炎)を引き起こし得るが、持続的な慢性肝炎は、肝硬変肝臓の線繊維瘢痕)、肝臓癌および/または肝不全を引き起こし得る。世界保健機構は、世界中で約1億7000万人が慢性的にHCVに感染し、毎年世界的に約3百万人から約4百万人が新たに感染していると推定する。疾病管理予防センターによれば、米国では約400万人がHCVに感染している。ヒト免疫不全ウイルスHIV)による同時感染が一般的で、HIV陽性人口のなかのHCV感染率がより高い。

ウイルスが自然に消失するわずかな可能性があるが、慢性C型肝炎の患者の多くは、治療をしなければそれが消失しない。治療適応は、通常、確認されたHCV感染および持続的異常肝機能試験を含む。C型肝炎を治療するために、主として2つの治療法、すなわち単独療法インターフェロン薬−「従来の」またはより長時間作用するペグ化インターフェロンを使用する。)および併用治療(インターフェロン薬およびリバビリン)が使用される。血流注入されたインターフェロンは、HCVに対する免疫応答支える機能を果たし、経口摂取されたリバビリンは、HCVの複製を防止する機能を果たすと考えられる。リバビリンは、単独で摂取されると、HCVレベルを効果的に抑制しないが、インターフェロン/リバビリンの併用は、インターフェロン単独より効果的である。通常、C型肝炎は、ペグ化インターフェロンアルファとリバビリンの併用によって、HCV遺伝子型に応じて24または48週間治療される。

治療の目標は、SVR(ウイルス持続陰性化)であり、治療が終了した後に血中でHCVが測定されないことを意味する。ペグ化インターフェロンアルファとリバビリンの併用治療後に、HCV遺伝子型2および3を有する人は24週間の治療で約75%以上、HCV遺伝子型1を有する人は48週間の治療で約50%、HCV遺伝子型4を有する人は48週間で約65%のSVRが認められる。

インターフェロンおよびリバビリンは多くの副作用があるため、治療は、特に薬物またはアルコール中毒前歴を有する人にとって物理的に困難である。一般的なインターフェロンに伴う副作用としては、インフルエンザ様症状極度の疲労、吐き気食欲低下、甲状腺障害高血糖脱毛および注射部位皮膚反応が挙げられる。考えられる重度のインターフェロンに伴う副作用としては、精神病(例えば自殺挙動)、心臓障害(例えば、心臓発作低血圧)、他の内臓損傷、血液障害(例えば、血球数の危険な低下)、および新たなまたは悪化する自己免疫疾患(例えばリウマチ様関節炎)が挙げられる。リバビリンに伴う副作用としては、貧血、疲労、過敏症皮疹づまり、蓄膿症およびが挙げられる。リバビリンは先天性異常を引き起こし得るため、治療中およびその後の6カ月間は、女性患者および男性患者女性配偶者妊娠を回避しなければならない。

概要

インターフェロン薬および/またはリバビリンと併用される、またはその代わりに使用される抗感染症薬などの提供。(a)HCVを阻害する化合物およびそれらの塩;(b)当該化合物および塩の調製に有用な中間体;(c)当該化合物および塩を含む組成物;(d)当該中間体、化合物、塩および組成物を調製するための方法;(e)当該化合物、塩および組成物の使用方法;ならびに(f)当該化合物、塩および組成物を含むキット。なし

目的

本発明は、そのような必要性に広く応える化合物(それらの塩)、組成物および治療方法を提供する

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
0件

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請求項1

構造において、式I−L0に対応する化合物、またはその塩[式中、は、炭素−炭素単結合および炭素−炭素二重結合からなる群から選択され;R1は、水素メチルおよび窒素保護基からなる群から選択され;R2は、水素、ハロヒドロキシ、メチル、シクロプロピルおよびシクロブチルからなる群から選択され;R3は、水素、ハロ、オキソおよびメチルからなる群から選択され;R4は、ハロ、アルキルアルケニルアルキニルニトロ、シアノ、アジドアルキルオキシアルケニルオキシアルキニルオキシアミノアミノカルボニルアミノスルホニルアルキルスルホニルカルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、(a)アミノ、アミノカルボニルおよびアミノスルホニルは、(1)独立に、アルキル、アルケニル、アルキニルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または(2)アミノ窒素一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基で場合によって置換されており、(b)アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシおよびアルキルスルホニルは、独立に、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、トリメチルシリル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、アミノは、(1)独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または(2)アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基で場合によって置換されており、(c)カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、トリメチルシリル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択される3つまでの置換基で場合によって置換されており、アミノは、(1)独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または(2)アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基で場合によって置換されており;R5は、水素、ヒドロキシ、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、カルボシクリルスルホニルオキシハロアルキルスルホニルオキシおよびハロからなる群から選択され;R6は、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルからなる群から選択され、各当該置換基は、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており;各REは、独立に、ハロ、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、シアノ、アミノ、イミノ、アジドおよびアルデヒドからなる群から選択され;アミノは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており;各RFは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択され;各当該置換基は、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、イミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、アミノ、イミノ、アミノスルホニル、アミノカルボニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシおよびアルキルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、アルキルスルホニルアミノのアミノ部分は、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換されており;各RGは、独立に、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、各当該置換基は、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており;各RHは、独立に、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、アルケニルスルホニルオキシおよびアルキニルスルホニルオキシからなる群から選択され、各当該置換基は、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており;各RIは、独立に、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アミノカルボニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリルカルボニルおよびヘテロシクリルカルボニルからなる群から選択され、(a)アルキルカルボニル、アルケニルカルボニルおよびアルキニルカルボニルは、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、(b)アミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシアルキル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、独立に、ハロ、アルキルおよびオキソからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており;各RJは、独立に、カルボシクリルスルホニルアミノ、ヘテロシクリルスルホニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アルケニルカルボニルアミノ、アルキニルカルボニルアミノ、アルキルオキシカルボニルアミノ、アルケニルオキシカルボニルアミノ、アルキニルオキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルケニルスルホニルアミノ、アルキニルスルホニルアミノ、アミノカルボニルアミノ、アルキルオキシカルボニルアミノイミノ、アルキルスルホニルアミノイミノ、アルケニルスルホニルアミノイミノおよびアルキニルスルホニルアミノイミノからなる群から選択され、(a)当該置換基のアミノ部分は、独立に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換されており、(1)カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、アジド、オキソおよびアミノからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、(2)アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、(b)当該置換基のアルキル、アルケニルおよびアルキニル部分は、独立に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、アミノは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシおよびアルキニルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、アルキルは、1つまたは複数のヒドロキシで場合によって置換されており、(c)当該置換基のカルボシクリルおよびヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、アジドおよびアミノからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、アミノは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており;各RKは、独立に、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から選択され、(a)アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルは、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており;(b)アミノスルホニルは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。]。

請求項2

R1が、水素およびメチルからなる群から選択され;R2が、水素およびハロからなる群から選択され;R3が、水素およびハロからなる群から選択され;R4が、C1−C4−アルキル、C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択され、(a)C1−C4−アルキルが、独立に、ハロ、オキソ、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびトリメチルシリルからなる群から選択される3つまでの置換基で場合によって置換されており、(b)C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルが、独立に、アルキル、ハロおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており;R5が、水素、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびハロからなる群から選択され;R6が、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルからなる群から選択され、各当該置換基は、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される1つ、2つ、3つの置換基で置換されており;各REが、独立に、クロロ、フルオロ、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、アミノ、イミノ、アルデヒドおよびアルキルアミノからなる群から選択され;各RFが、カルボキシ、ハロ、アミノ、イミノおよびアミノスルホニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換された、独立に選択されたアルキルであり、アミノ、イミノおよびアミノスルホニルが、独立に、アルキル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており;各RIが、独立に、アルキルカルボニルおよびアミノカルボニルからなる群から選択され、アミノカルボニルが、アルキル、アルキルオキシアルキル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される置換基で場合によって置換されており;各RJが、独立に、アルキルスルホニルアミノ、アルケニルスルホニルアミノ、アルキニルスルホニルアミノおよびアルキルスルホニルアミノイミノからなる群から選択され、(a)当該置換基のアミノ部分が、独立に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換されており、(1)カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分が、独立に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、オキソおよびアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、(2)アミノカルボニルアルキルのアミノ部分が、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、(b)当該置換基のアルキル、アルケニルおよびアルキニル部分が、独立に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、アミノが、独立に、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、アルキルが、1つまたは複数のヒドロキシで場合によって置換されており;各RKが、独立に、アミノスルホニルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択され、(a)アルキルスルホニルが、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、(b)アミノスルホニルが、独立に選択されたアルキルの1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている、請求項1に記載の化合物または塩。

請求項3

R6が、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルからなる群から選択され、各当該置換基は、独立に、RE、RF、RI、RJおよびRKからなる群から選択される1つ、2つまたは3つの置換基で置換されている、請求項1または2に記載の化合物または塩。

請求項4

R1が水素であり;R2が、水素およびハロからなる群から選択され;R3が水素であり;R4がtert−ブチルであり;R5が、ヒドロキシおよびメトキシからなる群から選択される、請求項1から3のいずれか一項に記載の化合物または塩。

請求項5

R6が、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルからなる群から選択され、各当該置換基が、独立に、RE、RFおよびRJからなる群から選択される1つ、2つまたは3つの置換基で置換されている、請求項1から4のいずれか一項に記載の化合物または塩。

請求項6

R6が、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルからなる群から選択され、各当該置換基が、RFおよびRJからなる群から選択される置換基で置換されており;RFがアルキルスルホニルアミノアルキルであり;RJがアルキルスルホニルアミノである、請求項1から5のいずれか一項に記載の化合物または塩。

請求項7

置換された縮合2環カルボシクリルが、ナフタレニルジヒドロナフタレニル、テトラヒドロナフタニルヘキサヒドロナフタレニル、オクタヒドロナフタレニル、デカヒドロナフタレニル、インデニル、ジヒドロインデニル、ヘキサヒドロインデニルおよびオクタヒドロインデニルからなる群から選択される、請求項1から6のいずれか一項に記載の化合物または塩。

請求項8

置換された縮合2環ヘテロシクリルが、からなる群から選択され;X5、X6およびX7が、独立に、NおよびC(H)からなる群から選択され;X8が、N(H)、OおよびSからなる群から選択され;X19、X20およびX21の1つまたは複数がNであり、残りがC(H)であり;X22、X23、X24およびX25の1つまたは複数がNであり、残りがC(H)であり;X40、X41およびX42が、独立に、NおよびC(H)からなる群から選択され;X43、X44およびX45の1つがN(H)、OおよびSからなる群から選択され、残りの2つがC(H)2であり;X56、X57およびX58は、独立に、NおよびC(H)からなる群から選択され;X59が、N(H)、OおよびSからなる群から選択され;X73、X74、X75およびX76の1つまたは複数がNであり、残りがC(H)であり;X77およびX78の一方がN(H)であり、残りがC(H)2である、請求項1から6のいずれか一項に記載の化合物または塩。

請求項9

X5、X6およびX7がC(H)であり;X19、X20およびX21の1つがNであり;X22、X23、X24およびX25の1つがNであり;X40、X41およびX42がC(H)であり;X56、X57およびX58がC(H)である、請求項8に記載の化合物または塩。

請求項10

表1から9に示されている化合物の群から選択される化合物または塩。

請求項11

8.3±0.2、9.7±0.2、10.6±0.2、13.6±0.2、17.2±0.2、19.2±0.2、22.7±0.2、26.9±0.2および29.4±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニルナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドエタノール溶媒和物;8.3±0.2、9.7±0.2、10.0±0.2、10.6±0.2、13.6±0.2、17.2±0.2、17.5±0.2、19.2±0.2、19.4±0.2、22.7±0.2、26.9±0.2および29.4±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドエタノール溶媒和物;実質的に図1に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドエタノール溶媒和物;5.3±0.2、8.3±0.2、9.7±0.2、10.5±0.2、13.8±0.2、17.2±0.2、19.1±0.2および19.5±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドアセトニトリル溶媒和物;5.3±0.2、8.3±0.2、9.7±0.2、10.5±0.2、13.8±0.2、17.2±0.2、17.7±0.2、19.1±0.2、19.5±0.2、22.0±0.2、22.8±0.2および27.2±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドアセトニトリル溶媒和物;実質的に図3に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドアセトニトリル溶媒和物;7.9±0.2、9.3±0.2、9.7±0.2、10.6±0.2、18.7±0.2、38.5±0.2および44.7±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドエチルアセテート溶媒和物;7.9±0.2、9.3±0.2、9.7±0.2、10.6±0.2、13.7±0.2、17.4±0.2、18.7±0.2、21.7±0.2、22.0±0.2、28.2±0.2、38.5±0.2および44.7±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドエチルアセテート溶媒和物;実質的に図4に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドエチルアセテート;8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、16.3±0.2、18.1±0.2、18.6±0.2、19.4±0.2、21.6±0.2および22.5±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド2−プロパノール溶媒和物;8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、16.3±0.2、18.1±0.2、18.6±0.2、19.4±0.2、21.6±0.2、22.5±0.2、23.8±0.2、26.0±0.2および28.0±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド2−プロパノール溶媒和物;実質的に図5に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド2−プロパノール溶媒和物;8.4±0.2、9.7±0.2、10.1±0.2、13.8±0.2、17.4±0.2、19.3±0.2および19.6±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドメタノール溶媒和物;8.4±0.2、9.7±0.2、10.1±0.2、13.5±0.2、13.8±0.2、17.4±0.2、19.3±0.2、19.6±0.2および27.1±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドメタノール溶媒和物;実質的に図6に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドメタノール溶媒和物;8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、15.7±0.2、16.2±0.2、18.4±0.2、19.3±0.2、21.6±0.2および22.8±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド1−プロパノール溶媒和物;8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、10.5±0.2、15.7±0.2、16.2±0.2、18.4±0.2、18.6±0.2、19.3±0.2、21.0±0.2、21.6±0.2および22.8±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド1−プロパノール溶媒和物;実質的に図7に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド1−プロパノール溶媒和物;6.2±0.2、7.9±0.2、9.9±0.2、16.2±0.2および18.3±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶無溶媒N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド;6.2±0.2、7.9±0.2、9.9±0.2、10.1±0.2、14.9±0.2、16.2±0.2、18.3±0.2、19.8±0.2および26.5±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶無溶媒N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシ−フェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド;実質的に図8に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶無溶媒N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシ−フェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド;6.4±0.2、12.9±0.2、17.9±0.2および18.9±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド水和物;6.4±0.2、12.9±0.2、17.5±0.2、17.9±0.2、18.9±0.2および24.4±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド水和物;6.4±0.2、12.7±0.2、12.9±0.2、14.1±0.2、15.7±0.2、17.2±0.2、17.5±0.2、17.9±0.2、18.9±0.2、21.2±0.2、24.4±0.2および25.0±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド水和物;実質的に図9に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド水和物;4.6±0.2、10.4±0.2、12.0±0.2、15.6±0.2、18.6±0.2、22.8±0.2および23.9±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンAN−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;4.6±0.2、10.4±0.2、12.0±0.2、15.6±0.2、18.6±0.2、22.8±0.2、23.3±0.2および23.9±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンAN−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;4.6±0.2、10.4±0.2、12.0±0.2、15.6±0.2、16.0±0.2、18.6±0.2、22.8±0.2、23.3±0.2、23.9±0.2および28.3±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンAN−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;実質的に図10に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンAN−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2および23.7±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンBN−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、18.8±0.2、19.2±0.2、19.6±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2、23.7±0.2、28.8±0.2、29.1±0.2および31.8±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンBN−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;5.4±0.2、10.8±0.2、16.3±0.2、22.1±0.2および23.7±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンBN−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;5.4±0.2、10.8±0.2、16.3±0.2および22.1±0.2度2θのピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンBN−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;5.0±0.2、12.0±0.2、17.5±0.2、18.8±0.2および22.7±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンCN−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;5.0±0.2、12.0±0.2、17.5±0.2、17.8±0.2、18.8±0.2および22.7±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンCN−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;実質的に図14に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンCN−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;4.8±0.2、9.6±0.2、10.5±0.2、13.0±0.2、14.6±0.2、15.4±0.2、16.8±0.2および23.0±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド二ナトリウム塩;4.8±0.2、9.6±0.2、10.5±0.2、13.0±0.2、14.6±0.2、15.4±0.2、16.8±0.2、22.7±0.2、23.0±0.2および23.3±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド二ナトリウム塩;実質的に図15に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド二ナトリウム塩;5.0±0.2、9.9±0.2、11.3±0.2、13.3±0.2、16.9±0.2、18.1±0.2、19.1±0.2、20.0±0.2、21.1±0.2、23.5±0.2、24.8±0.2および25.7±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一カリウム塩;5.0±0.2、9.9±0.2、11.3±0.2、13.3±0.2、16.9±0.2、18.1±0.2、19.1±0.2、20.0±0.2、21.1±0.2、21.5±0.2、23.5±0.2、24.8±0.2および25.7±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一カリウム塩;実質的に図17に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一カリウム塩;10.9±0.2、12.1±0.2、13.4±0.2、15.5±0.2、17.0±0.2、17.8±0.2、18.3±0.2、19.5±0.2および21.9±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンAN−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドモノコリン塩;10.9±0.2、12.1±0.2、13.0±0.2、13.4±0.2、13.6±0.2、15.5±0.2、17.0±0.2、17.8±0.2、18.3±0.2、19.5±0.2、19.7±0.2および21.9±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンAN−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドモノコリン塩;実質的に図19に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンAN−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドモノコリン塩;8.0±0.2、9.4±0.2、11.0±0.2、13.0±0.2、13.7±0.2、15.9±0.2、17.0±0.2、18.3±0.2、18.9±0.2、19.8±0.2および22.1±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンBN−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドモノコリン塩;8.0±0.2、9.4±0.2、11.0±0.2、13.0±0.2、13.3±0.2、13.7±0.2、15.9±0.2、17.0±0.2、17.4±0.2、18.3±0.2、18.9±0.2、19.8±0.2、21.8±0.2および22.1±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンBN−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドモノコリン塩;実質的に図21に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンBN−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドモノコリン塩;8.6±0.2、11.0±0.2、12.9±0.2、17.0±0.2、17.5±0.2、18.9±0.2、19.8±0.2および21.9±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドジコリン塩;8.6±0.2、11.0±0.2、12.9±0.2、17.0±0.2、17.5±0.2、18.9±0.2、19.8±0.2、21.9±0.2および22.1±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドジコリン塩;および実質的に図23に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドジコリン塩からなる群から選択されるN−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド結晶形

請求項12

(a)請求項1から10のいずれか一項に記載の1つまたは複数の化合物および/または塩、または請求項11に記載の1つまたは複数の結晶形;(b)1つまたは複数の賦形剤;ならびに場合によって(c)1つまたは複数のさらなる治療薬を含む組成物

請求項13

リボ核酸(RNA)ウイルスを、請求項1から10のいずれか一項に記載の1つまたは複数の化合物および/または塩または請求項11に記載の1つまたは複数の結晶形に曝露することを含む、リボ核酸(RNA)ウイルスの複製を阻害するための方法。

請求項14

請求項1から10のいずれか一項に記載の1つまたは複数の化合物および/または塩、または請求項11に記載の1つまたは複数の結晶形、ならびに場合によって1つまたは複数のさらなる治療薬を哺乳動物投与することを含む、C型肝炎治療を必要とする該哺乳動物におけるC型肝炎を治療するため方法。

請求項15

式III(R1、R2およびR3は、請求項1に定義されている通りである。)の化合物と式IV(R4およびR5は、請求項1に定義されている通りであり;X1はハロであり;X2は、クロロ、ブロモおよびヨードからなる群から選択される。)の化合物とを、(i)銅(I)塩触媒および(ii)窒素ヘテロアリールリガンドの存在下で反応させることを含む、請求項1に記載の化合物または塩を調製するための方法。

請求項16

塩基の存在下で実施される、請求項20または21に記載の方法。

請求項17

塩基が、カリウム塩ナトリウム塩およびセシウム塩からなる群から選択される、請求項16に記載の方法。

請求項18

窒素ヘテロアリールリガンドが、構造において、式Vに対応するリコピンアミド化合物を含む、請求項15から17のいずれか一項に記載の方法[R11、R12、R13、R14、R15、R16およびR17は、独立に、水素、C1−4−ペルフルオロアルキル、C1−4−アルキルオキシ、C1−4−ハロアルキル、クロロおよびシアノからなる群から選択される。]。

請求項19

窒素ヘテロアリールリガンドが、8−ヒドロキシキノリン、2−(2−ピリジルベンズイミダゾール、N−(4−シアノ−フェニル)ピコリンアミドおよびN−(2−シアノフェニル)ピコリンアミドからなる群から選択される、請求項15から17のいずれか一項に記載の方法。

請求項20

銅触媒が、CuI、CuBr、CuCl、Cu2OおよびCH3C(O)OCuからなる群から選択される、請求項15から19のいずれか一項に記載の方法。

技術分野

0001

本特許出願は、米国仮特許出願第60/972,881号(2007年9月17日出願)および米国仮特許出願第61/096,792号(2008年9月13日出願)の優先権を主張するものである。それらの特許の全文を参照により本出願に組み込む。

0002

本発明は、(a)なかでもC型肝炎ウイルス(HCV阻害薬として有用な化合物およびそれらの塩;(b)当該化合物および塩の調製に有用な中間体;(c)当該化合物および塩を含む組成物;(d)当該中間体、化合物、塩および組成物を調製するための方法;(e)当該化合物、塩および組成物の使用方法;ならびに(f)当該化合物、塩および組成物を含むキットを対象とする。

背景技術

0003

C型肝炎は、HCVとよばれる向肝性ウイルスによって引き起こされる血液感染性疾患、感染性疾患、ウイルス疾患である。少なくとも6つの異なるHCV遺伝子型(いくつかのサブタイプ各遺伝子型に存在する。)が今日まで知られている。北米では、HCV遺伝子型1aが支配的であり、HCV遺伝子型1b、2a、2bおよび3aがそれに続く。米国では、HCV遺伝子型1、2および3が最も多く、C型肝炎患者の約80%がHCV遺伝子型1を有する。欧州では、HCV遺伝子型1bが支配的であり、HCV遺伝子型2a、2b、2cおよび3aがそれに続く。HCV遺伝子型4および5は、ほぼすべてがアフリカに見られる。下記に記載するように、患者のHCV遺伝子型は、治療に対する患者の潜在的応答および必要とされる当該治療の期間を判断する上で臨床的に重要である。

0004

HCV感染は、しばしば無症候性である肝臓炎症肝炎)を引き起こし得るが、持続的な慢性肝炎は、肝硬変肝臓の線繊維瘢痕)、肝臓癌および/または肝不全を引き起こし得る。世界保健機構は、世界中で約1億7000万人が慢性的にHCVに感染し、毎年世界的に約3百万人から約4百万人が新たに感染していると推定する。疾病管理予防センターによれば、米国では約400万人がHCVに感染している。ヒト免疫不全ウイルスHIV)による同時感染が一般的で、HIV陽性人口のなかのHCV感染率がより高い。

0005

ウイルスが自然に消失するわずかな可能性があるが、慢性C型肝炎の患者の多くは、治療をしなければそれが消失しない。治療適応は、通常、確認されたHCV感染および持続的異常肝機能試験を含む。C型肝炎を治療するために、主として2つの治療法、すなわち単独療法インターフェロン薬−「従来の」またはより長時間作用するペグ化インターフェロンを使用する。)および併用治療(インターフェロン薬およびリバビリン)が使用される。血流注入されたインターフェロンは、HCVに対する免疫応答支える機能を果たし、経口摂取されたリバビリンは、HCVの複製を防止する機能を果たすと考えられる。リバビリンは、単独で摂取されると、HCVレベルを効果的に抑制しないが、インターフェロン/リバビリンの併用は、インターフェロン単独より効果的である。通常、C型肝炎は、ペグ化インターフェロンアルファとリバビリンの併用によって、HCV遺伝子型に応じて24または48週間治療される。

0006

治療の目標は、SVR(ウイルス持続陰性化)であり、治療が終了した後に血中でHCVが測定されないことを意味する。ペグ化インターフェロンアルファとリバビリンの併用治療後に、HCV遺伝子型2および3を有する人は24週間の治療で約75%以上、HCV遺伝子型1を有する人は48週間の治療で約50%、HCV遺伝子型4を有する人は48週間で約65%のSVRが認められる。

0007

インターフェロンおよびリバビリンは多くの副作用があるため、治療は、特に薬物またはアルコール中毒前歴を有する人にとって物理的に困難である。一般的なインターフェロンに伴う副作用としては、インフルエンザ様症状極度の疲労、吐き気食欲低下、甲状腺障害高血糖脱毛および注射部位皮膚反応が挙げられる。考えられる重度のインターフェロンに伴う副作用としては、精神病(例えば自殺挙動)、心臓障害(例えば、心臓発作低血圧)、他の内臓損傷、血液障害(例えば、血球数の危険な低下)、および新たなまたは悪化する自己免疫疾患(例えばリウマチ様関節炎)が挙げられる。リバビリンに伴う副作用としては、貧血、疲労、過敏症皮疹づまり、蓄膿症およびが挙げられる。リバビリンは先天性異常を引き起こし得るため、治療中およびその後の6カ月間は、女性患者および男性患者女性配偶者妊娠を回避しなければならない。

発明が解決しようとする課題

0008

上記の重度の副作用のため、治療を終了しない患者もいるが、治療にかかわらず測定可能なHCVレベルを継続的に有する患者(免疫不応答者)もいる。さらに治療中にウイルスが「消失する」が、治療の終了後まもなくウイルスが再発する患者(再発者)もいる。したがって、C型肝炎の症状を緩和することによって部分的または完全な軽減をもたらすための(インターフェロン薬および/またはリバビリンと併用される、またはその代わりに使用される。)代替的な化合物、組成物および治療法が継続して必要である。本発明は、そのような必要性に広く応える化合物(それらの塩)、組成物および治療方法を提供する。

課題を解決するための手段

0009

本発明は、構造において、式I−L0に対応する化合物を対象とする。

0010

0011

式I−L0において、

0012

は、炭素−炭素単結合および炭素−炭素二重結合からなる群から選択され;
R1は、水素メチルおよび窒素保護基からなる群から選択され;
R2は、水素、ハロヒドロキシ、メチル、シクロプロピルおよびシクロブチルからなる群から選択され;
R3は、水素、ハロ、オキソおよびメチルからなる群から選択され;
R4は、ハロ、アルキルアルケニルアルキニルニトロ、シアノ、アジドアルキルオキシアルケニルオキシアルキニルオキシアミノアミノカルボニルアミノスルホニルアルキルスルホニルカルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、
(a)アミノ、アミノカルボニルおよびアミノスルホニルは、
(1)独立に、アルキル、アルケニル、アルキニルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または
(2)アミノ窒素一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基で場合によって置換されており、
(b)アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシおよびアルキルスルホニルは、独立に、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、トリメチルシリル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
アミノは、
(1)独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または
(2)アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基で場合によって置換されており、
(c)カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、トリメチルシリル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択される3つまでの置換基で場合によって置換されており、
アミノは、
(1)独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または
(2)アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基で場合によって置換されており;
R5は、水素、ヒドロキシ、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、カルボシクリルスルホニルオキシハロアルキルスルホニルオキシおよびハロからなる群から選択され;
R6は、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルからなる群から選択され、各当該置換基は、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており;
各REは、独立に、ハロ、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、シアノ、アミノ、イミノ、アジドおよびアルデヒドからなる群から選択され;
アミノは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており;
各RFは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択され;
各当該置換基は、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、イミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
アミノ、イミノ、アミノスルホニル、アミノカルボニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシおよびアルキルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アルキルスルホニルアミノのアミノ部分は、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換されており;
各RGは、独立に、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、
各当該置換基は、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており;
各RHは、独立に、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、アルケニルスルホニルオキシおよびアルキニルスルホニルオキシからなる群から選択され、
各当該置換基は、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており;
各RIは、独立に、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アミノカルボニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリルカルボニルおよびヘテロシクリルカルボニルからなる群から選択され、
(a)アルキルカルボニル、アルケニルカルボニルおよびアルキニルカルボニルは、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
(b)アミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシアルキル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、独立に、ハロ、アルキルおよびオキソからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており;
各RJは、独立に、カルボシクリルスルホニルアミノ、ヘテロシクリルスルホニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アルケニルカルボニルアミノ、アルキニルカルボニルアミノ、アルキルオキシカルボニルアミノ、アルケニルオキシカルボニルアミノ、アルキニルオキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルケニルスルホニルアミノ、アルキニルスルホニルアミノ、アミノカルボニルアミノ、アルキルオキシカルボニルアミノイミノ、アルキルスルホニルアミノイミノ、アルケニルスルホニルアミノイミノおよびアルキニルスルホニルアミノイミノからなる群から選択され、
(a)当該置換基のアミノ部分は、独立に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換されており、
(1)カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、アジド、オキソおよびアミノからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
(2)アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(b)当該置換基のアルキル、アルケニルおよびアルキニル部分は、独立に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
アミノは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシおよびアルキニルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アルキルは、1つまたは複数のヒドロキシで場合によって置換されており、
(c)当該置換基のカルボシクリルおよびヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、アジドおよびアミノからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
アミノは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており;
各RKは、独立に、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から選択され、
(a)アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルは、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており;
(b)アミノスルホニルは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0013

本発明は、また、本発明の化合物の塩(医薬として許容し得る塩を含む。)を対象とする。

0014

本発明は、また、本発明の1つまたは複数の化合物および/または塩、ならびに場合によって1つまたは複数のさらなる治療薬を含む組成物(医薬組成物を含む。)を対象とする。

0015

本発明は、また、本発明の1つまたは複数の化合物および/または塩、ならびに場合によって1つまたは複数のさらなる治療薬を含むキットを対象とする。

0016

本発明は、また、例えば、RNAウイルス(HCVを含む。)の複製を阻害し、HCVリボ核酸(RNA)ポリメラーゼを阻害することによって治療可能な疾患(C型肝炎を含む。)を治療するための本発明の化合物、塩、組成物および/またはキットの使用方法を対象とする。

0017

本発明は、また、医薬品を調製するための本発明の1つまたは複数の化合物および/または塩の使用を対象とする。該医薬品は、1つまたは複数のさらなる治療薬を場合によって含むことができる。ある実施形態では、該医薬品は、C型肝炎を治療するのに有用である。

0018

本出願人の発明のさらなる利点は、この特許出願を読むことにより当業者に理解されるであろう。

図面の簡単な説明

0019

化合物IB−L0−2.3のエタノール溶媒和物についての例示的なPXRDパターンを示す図である。
化合物IB−L0−2.3のエタノール溶媒和物の例示的なTGAプロファイルを示す図である。
化合物IB−L0−2.3のアセトニトリル溶媒和物についての例示的なPXRDパターンを示す図である。
化合物IB−L0−2.3の酢酸エチル溶媒和物についての例示的なPXRDパターンを示す図である。
化合物IB−L0−2.3の2−プロパノール溶媒和物についての例示的なPXRDパターンを示す図である。
化合物IB−L0−2.3のメタノール溶媒和物についての例示的なPXRDパターンを示す図である。
化合物IB−L0−2.3の1−プロパノール溶媒和物についての例示的なPXRDパターンを示す図である。
溶媒遊離結晶性化合物IB−L0−2.3についての例示的なPXRDパターンを示す図である。
化合物IB−L0−2.3の水和物についての例示的なPXRDパターンを示す図である。
化合物IB−L0−2.3のパターン一ナトリウム塩についての例示的なPXRDパターンを示す図である。
化合物IB−L0−2.3のパターンA一ナトリウム塩の例示的なTGAプロファイルを示す図である。
化合物IB−L0−2.3のパターンB一ナトリウム塩についての例示的なPXRDパターンを示す図である。
化合物IB−L0−2.3のパターンB一ナトリウム塩の例示的なTGAプロファイルを示す図である。
化合物IB−L0−2.3のパターンC一ナトリウム塩についての例示的なPXRDパターンを示す図である。
化合物IB−L0−2.3の二ナトリウム塩についての例示的なPXRDパターンを示す図である。
化合物IB−L0−2.3の二ナトリウム塩の例示的なTGAプロファイルを示す図である。
化合物IB−L0−2.3の一ナトリウム塩についての例示的なPXRDパターンを示す図である。
化合物IB−L0−2.3の一ナトリウム塩の例示的なTGAプロファイルを示す図である。
化合物IB−L0−2.3のパターンAモノコリン塩についての例示的なPXRDパターンを示す図である。
化合物IB−L0−2.3のパターンAモノコリン塩の例示的なTGAプロファイルを示す図である。
化合物IB−L0−2.3のパターンBモノコリン塩についての例示的なPXRDパターンを示す図である。
化合物IB−L0−2.3のパターンBモノコリン塩のTGAプロファイルを示す図である。
化合物IB−L0−2.3のジコリン塩についての例示的なPXRDパターンを示す図である。

0020

この詳細な説明は、当業者に本願人らの発明、その原理およびその実際の用途を理解させることで、当業界の他者が、特定の用途の要件に最も適していると考えられるように、多くの形態で本発明を適合化および応用できるようにすること、のみを目的としている。本説明およびその具体的な例は、例示のみを目的とする。したがって、本発明は、本特許出願に記載の実施形態に限定されるものではなく、多様に改変可能なものである。

0021

A.定義
「アルキル」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)典型的には1から約20個の炭素原子、より典型的には1から約8個の炭素原子、さらにより典型的には1から約6個の炭素原子を含む直鎖または分枝鎖飽和ヒドロカルビル置換基を指す。当該置換基の例としては、メチル、エチル、n−プロピルイソプロピルn−ブチルイソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソアミルおよびヘキシルが挙げられる。この定義のように、この詳細な説明を通じて、出願人は実例を示した。当該実例の提示は、示された実例が当業者にとって利用可能な唯一選択肢であるかの如きに解釈されるべきではない。

0022

「アルケニル」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)1つまたは複数の二重結合、および典型的には2から約20個の炭素原子、より典型的には約2から約8個の炭素原子、さらにより典型的には約2から約6個の炭素原子を含む直鎖または分枝鎖ヒドロカルビル置換基を指す。当該置換基の例としては、エテニルビニル)、2−プロペニル、3−プロペニル、1,4−ペンタジエニル、1,4−ブタジエニル、1−ブテニル、2−ブテニルおよび3−ブテニルが挙げられる。

0023

「アルキニル」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)1つまたは複数の三重結合、および典型的には2から約20個の炭素原子、より典型的には約2から約8個の炭素原子、さらにより典型的には約2から約6個の炭素原子を含む直鎖または分枝鎖ヒドロカルビル置換基を指す。当該置換基の例としては、エチニル、2−プロピニル、3−プロピニル、2−ブチニルおよび3−ブチニルが挙げられる。

0024

「カルボシクリル」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)3から14個の炭素環原子(「環原子」は、ともに結合して環式置換基の1つまたは複数の環を形成する。)を含む飽和環式(すなわち「シクロアルキル」)、部分飽和環式(すなわち「シクロアルケニル」)または完全不飽和(すなわち「アリール」)ヒドロカルビル置換基を指す。カルボシクリルは、典型的には3から6個の環原子を含む単環であってよい。当該単環カルボシクリルの例としては、シクロプロピル(シクロプロパニル)、シクロブチル(シクロブタニル)、シクロペンチルシクロペンタニル)、シクロペンテニルシクロペンタジエニルシクロヘキシルシクロヘキサニル)、シクロヘキセニルシクロヘキサジエニルおよびフェニルが挙げられる。カルボシクリルは、代替的に、ナフタレニルテトラヒドロナフタレニル(テトラリニル)、インデニルインダニル(ジヒドロインデニル)、アントラセニル、フェナントレニルおよびデカリニルなどの、互いに縮合した2または3環であってもよい。

0025

「シクロアルキル」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)3から14個の炭素環原子を含む飽和環式ヒドロカルビル置換基を指す。シクロアルキルは、典型的には3から6個の炭素環原子を含む単一炭素環であってよい。単環シクロアルキルの例としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルおよびシクロヘキシルが挙げられる。シクロアルキルは、代替的に、デカリニルなどの、互いに縮合した2または3個の炭素環であってもよい。

0026

「アリール」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)6から14個の炭素環原子を含む芳香族カルボシクリルを指す。アリールの例としては、フェニル、ナフタレニルおよびインデニルが挙げられる。

0027

ある場合では、ヒドロカルビル置換基(例えば、アルキル、アルケニル、アルキニルまたはシクロアルキル)における炭素数の数は、添字Cx−Cy−」によって示され、xは、置換基における炭素原子の最小数であり、yは最大数である。したがって、例えば、C1−C6−アルキルは、1から6個の炭素原子を含むアルキル置換基を指す。さらに例示すると、C3−C6−シクロアルキルは、3から6個の炭素環原子を含む飽和ヒドロカルビル環を指す。

0028

「水素」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)水素ラジカルを指し、−Hで示され得る。

0029

「ヒドロキシ」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)−OHを指す。

0030

「ニトロ」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)−NO2を指す。

0031

「シアノ」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)C≡Nで示すことができる−CNを指す。

0032

ケト」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)オキソラジカルを指し、=Oで示され得る。

0033

「カルボキシ」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)−C(O)−OHを指す。

0034

「アミノ」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)−NH2を指す。

0035

「イミノ」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)=NHを指す。

0036

「アミノイミノ」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)=NNH2を指す。

0037

ハロゲン」または「ハロ」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)(−Fで示すことができる。)フッ素ラジカル、(−Clで示すことができる。)塩素ラジカル、(−Brで示すことができる。)臭素ラジカルまたは(−Iで示すことができる。)ヨウ素ラジカルを指す。

0038

置換基は、それが1つまたは複数の水素原子に結合した少なくとも1つの炭素または窒素原子を含む場合に置換可能である。したがって、例えば、水素、ハロゲンおよびシアノは、この定義を満たさない。加えて、当該原子を含むヘテロシクリルにおける硫黄原子は、1つまたは2つのオキソ置換基で置換可能である。

0039

置換基が「置換されている」と記載される場合は、置換基の炭素または窒素上の水素ラジカルの代わりに非水素ラジカルが存在する。したがって、例えば、置換されたアルキル置換基は、アルキル置換基上の水素ラジカルの代わりに少なくとも1つの非水素ラジカルが存在するアルキル置換基である。例示すると、モノフルオロアルキルは、フルオロラジカルで置換されたアルキルであり、ジフルオロアルキルは、2つのフルオロラジカルで置換されたアルキルである。置換基上に2つ以上の置換基が存在する場合は、各非水素ラジカルは(他に指定する場合を除いて)同一でありまたは異なり得ることが認識されるべきである。

0040

置換基が「場合によって置換されている」と記載される場合は、置換基は、(1)置換されていなくても(2)置換されていてもよい。置換基が特定の数までの非水素ラジカルで場合によって置換されていると記載される場合は、その置換基は、(1)置換されていなくても、(2)その特定の数までの非水素ラジカル、または置換基上の最大数の置換可能位置のいずれか小さい方によって置換されていてもよい。したがって、例えば、置換基が3つまでの非水素ラジカルで場合によって置換されたヘテロアリールと記載される場合は、3つ未満の置換可能位置を有するヘテロアリールは、ヘテロアリールが置換可能位置を有するのと同じ数までの非水素ラジカルで場合によって置換されることになる。例示すると、(1つのみの置換可能位置を有する。)テトラゾリルは、1つまでの非水素ラジカルで場合によって置換されることになる。さらに例示すると、アミノ窒素が2つまでの非水素ラジカルで場合によって置換されていると記載される場合は、一級アミノ窒素は、2つまでの非水素ラジカルで場合によって置換されることになるのに対して、二級アミノ窒素は、1つまでの非水素ラジカルで場合によって置換されることになる。

0041

本特許出願は、「置換基」という用語と「ラジカル」という用語を区別なく使用している。

0042

接頭辞「ハロ」は、その接頭辞が結合した置換基が、1つまたは複数の独立に選択されたハロゲンラジカルで置換されていることを示す。例えば、ハロアルキルは、少なくとも1つの水素ラジカルがハロゲンラジカルに置き換えられたアルキル置換基を指す。ハロアルキルの例としては、クロロメチル、1−ブロモメチルフルオロメチルジフルオロメチルトリフルオロメチルおよび1,1,1−トリフルオロエチルが挙げられる。置換基が2つ以上のハロゲンラジカルで置換されている場合は、それらのハロゲンラジカルは、(他に指定する場合を除いて)同一でありまたは異なり得る。

0043

接頭辞「ペルハロ」は、その接頭辞が結合した置換基上のすべての水素ラジカルが、独立に選択されたハロゲンラジカルに置き換えられている、すなわち置換基上の各水素ラジカルがハロゲンラジカルに置き換えられていることを指す。すべてのハロゲンラジカルが同一である場合は、その接頭辞は、典型的には、そのハロゲンラジカルを特定することになる。したがって、例えば、「ペルフルオロ」という用語は、その接頭辞が結合した置換基上のすべての水素ラジカルがフッ素ラジカルで置換されていることを意味する。例示すると、「ペルフルオロアルキル」という用語は、各水素ラジカルの代わりにフッ素ラジカルが存在することを意味する。

0044

「カルボニル」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)−C(O)−を指す。

0045

「アミノカルボニル」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)−C(O)−NH2を指す。

0046

「オキシ」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)エーテル置換基を指し、−O−で示され得る。

0047

アルコキシ」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)アルキルエーテル置換基、すなわち−O−アルキルを指す。当該置換基の例としては、メトキシ(−O−CH3)、エトキシ、n−プロポキシイソプロポキシ、n−ブトキシ、イソ−ブトキシ、sec−ブトキシおよびtert−ブトキシが挙げられる。

0048

「アルキルカルボニル」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)−C(O)−アルキルを指す。

0049

アミノアルキルカルボニル」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)−C(O)−アルキル−NH2を指す。

0050

アルコキシカルボニル」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)−C(O)−O−アルキルを指す。

0051

「カルボシクリルカルボニル」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)−C(O)−カルボシクリルを指す。

0052

同様に、「ヘテロシクリルカルボニル」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)−C(O)−ヘテロシクリルを指す。

0053

「カルボシクリルアルキルカルボニル」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)−C(O)−アルキル−カルボシクリルを指す。

0054

同様に、「ヘテロシクリルアルキルカルボニル」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)−C(O)−アルキルーヘテロシクリルを指す。

0055

「カルボシクリルオキシカルボニル」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)−C(O)−O−カルボシクリルを指す。

0056

「カルボシクリルアルコキシカルボニル」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)−C(O)−O−アルキル−カルボシクリルを指す。

0057

チオ」または「チア」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)チアエーテル置換基、すなわちエーテル酸素原子の代わりに二価硫黄原子が存在するエーテル置換基を指す。当該置換基を−S−で示すことができる。例えば、「アルキル−チオ−アルキル」は、アルキル−S−アルキル(アルキル−スルファニル−アルキル)を指す。

0058

チオール」または「スルフィドリル」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)スルフィドリル置換基を指し、−SHで示される。

0059

「(チオカルボニル)」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)酸素原子硫黄に置き換えられたカルボニルを指す。当該置換基を−C(S)−で示すことができる。

0060

「スルホニル」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)−S(O)2−を指す。

0061

「アミノスルホニル」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)−S(O)2−NH2を指す。

0062

スルフィニル」または「スルホキシド」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)−S(O)−を指す。

0063

「ヘテロシクリル」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)全部で3から14個の環原子を含む飽和(すなわち「ヘテロシクロアルキル」)、部分飽和(すなわち「ヘテロシクロアルケニル」)または完全不飽和(すなわち「ヘテロアリール」)環構造を指す。環原子の少なくとも1つは、ヘテロ原子(すなわち酸素、窒素または硫黄)であり、残りの環原子は、独立に、炭素、酸素、窒素および硫黄からなる群から選択される。

0064

ヘテロシクリルは、典型的には3から7個、より典型的には3から6個、さらにより典型的には5から6個の環原子を含む単環であってよい。単環ヘテロシクリルの例としては、フラニル、ジヒドロフラニル、テトラヒドロフラニル、チオフェニル(チオフラニル)、ジヒドロチオフェニル、テトラヒドロチオフェニル、ピロリル、ピロリニル、ピロリジニルイミダゾリルイミダゾリニル、イミダゾリジニル、ピラゾリルピラゾリニル、ピラゾリジニル、トリアゾリル、テトラゾリル、オキサゾリルオキサゾリジニル、イソオキサゾリジニル、イソオキサゾリルチアゾリルイソチアゾリルチアゾリニル、イソチアゾリニル、チアゾリジニル、イソチアゾリジニル、チオジアゾリルオキサジアゾリル(1,2,3−オキサジアゾリル、1,2,4−オキサジアゾリル、1,2,5−オキサジアゾリル(フラザニル)または1,3,4−オキサジアゾリルを含む。)、オキサトリアゾリル(1,2,3,4−オキサトリアゾリルまたは1,2,3,5−オキサトリアゾリルを含む。)、ジオキサゾリル(1,2,3−ジオキサゾリル、1,2,4−ジオキサゾリル、1,3,2−ジオキサゾリルまたは1,3,4−ジオキサゾリル)、オキサチアゾリル、オキサチオリル、オキサチオラニル、ピラニル、ジヒドロピラニル、チオピラニル、テトラヒドロチオピラニル、ピラジニルアジニル)、ピペリジニルジアジニルピリダジニル(1,2−ジアジニル)、ピリミジニル(1,3−ジアジニル)またはピラジニル(1,4−ジアジニル))、ピペラジニルトリアジニル(1,3,5−トリアジニル、1,2,4−トリアジニルおよび1,2,3−トリアジニルを含む。)オキサジニル(1,2−オキサジニル、1,3−オキサジニルまたは1,4−オキサジニルを含む。)、オキサチアジニル(1,2,3−オキサチアジニル、1,2,4−オキサチアジニル、1,2,5−オキサチアジニルまたは1,2,6−オキサチアジニルを含む。)、オキサジアジニル(1,2,3−オキサジアジニル、1,2,4−オキサジアジニル、1,4,2−オキサジアジニルまたは1,3,5−オキサジアジニルを含む。)、モルホリニル、アゼピニル、オキセピニル、チエピニルおよびジアゼピニルが挙げられる。

0065

ヘテロシクリルは、代替的に、例えば、インドリジニル、ピラノピロリル、4H−キノリジニル、プリニリル、ナフチリジニルピリドピリジニル(ピリド[3,4−b]−ピリジニル、ピリド[3,2−b]−ピリジニルまたはピリド[4,3−b]−ピリジニルを含む。)およびプテリジニルなどの、互いに縮合した2つまたは3つの環であってよい。縮合環ヘテロシクリルの他の例としては、インドリル、イソインドリル(イソベンザゾイル、擬イソインドリル)、インドレニル(擬インドリル)、イソインダゾリルベンズピラゾリル)、ベンザジニル(キノリニル(1−ベンザジニル)またはイソキノリニル(2−ベンザジニル)を含む。)、フタラジニル、キノキサリニルキナゾリニルベンゾジアジニル(シノリニル(1,2−ベンゾジアジニル)またはキナゾリニル(1,3−ベンゾジアジニル)を含む。)、ベンゾピラニル(クロマニルまたはイソクロマニルを含む。)、ベンゾオキサジニル(1,3,2−ベンゾオキサジニル、1,4,2−ベンゾオキサジニル、2,3,1−ベンゾオキサジニルまたは3,1,4−ベンゾオキサジニルを含む。)、およびベンズイソオキサジニル(1,2−ベンズイソオキサジニルまたは1,4−ベンズイソオキサジニルを含む。)などのベンゾ縮合ヘテロシクリルが挙げられる。

0066

「2縮合環」ヘテロシクリルという用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)2つの縮合環を含む飽和、部分飽和またはアリールヘテロシクリルを指す。2縮合環ヘテロシクリルの例としては、インドリジニル、キノリジニル、プリニル、ナフチリジニル、プテリジニル、インドリル、イソインドリル、インドレニル、イソインダゾリル、フタラジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、ベンゾジアジニル、ベンゾピラニル、ベンゾチオピラニル、ベンゾオキサゾリル、アントラニリル、ベンゾジオキソリニル、ベンゾジオキサニル、ベンゾオキサジアゾリル、ベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンズイミダゾリルベンゾトリアゾリル、ベンゾオキサジニルおよびテトラヒドロイソキノリニルが挙げられる。

0067

「ヘテロアリール」という用語は、(単独で、または別の用語と組み合わせて)5から14個の環原子を含む芳香族ヘテロシクリルを指す。ヘテロアリールは、単環または2つもしくは3つの縮合環であってよい。ヘテロアリール置換基の例としては、ピリジル、ピラジル、ピリミジニル、ピリダジニルおよび1,3,5−、1,2,4−または1,2,3−トリアジニルなどの6員環置換基;イミダジル、フラニル、チオフェニル、ピラゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、1,2,3−、1,2,4−、1,2,5−または1,3,4−オキサゾリルおよびイソチアゾリルなどの5員環置換基;ベンゾチオフラニル、ベンズイソオキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、プリニルおよびアントラニリルなどの6/5員縮合環置換基;ならびにベンゾピラニル、キノリニル、イソキノリニル、シノリニル、キナゾリニルおよびベンゾオキサジニルなどの6/6員縮合環が挙げられる。

0068

成分置換基に結合した接頭辞は、第1の成分のみに適用される。例示すると、「アルキルシクロアルキル」という用語は、2つの成分、すなわちアルキルおよびシクロアルキルを含む。したがって、C1−C6−アルキルシクロアルキル上のC1−C6−接頭辞は、アルキルシクロアルキルのアルキル成分が1から6個の炭素原子を含むことを意味する。C1−C6−接頭辞は、シクロアルキル成分を表さない。さらに例示すると、ハロアルコキシアルキル上の接頭辞「ハロ」は、アルコキシアルキル置換基のアルコキシ成分のみが1つまたは複数のハロゲンラジカルで置換されていることを示す。アルキル成分上にハロゲン置換基が代替的または追加的に存在し得る場合は、該置換基は、その代わりに、「ハロアルコキシアルキル」でなく「ハロゲン置換アルコキシアルキル」と記載されることになる。最後に、ハロゲン置換基がアルキル成分上に存在し得る場合は、該置換基は、その代わりに、「アルコキシハロアルキル」と記載されることになる。

0069

置換基がある群から「独立に選択される」と記載される場合は、各置換基は、互いに独立に選択される。したがって、各置換基は、他の置換基と同一でありまたは異なり得る。

0070

置換基を示す用語が使用されるときは、置換基の一番右側の成分は、自由価を有する成分である。

0071

置換基を示す化学式が使用されるときは、式の左側の点線は、自由価を有する置換基の部分を指す。

0072

示された化学構造の2つの他の要素の間の結合要素を示す化学式が使用されるときは、置換基の一番左側の点線は、示された構造における左側の要素に結合した置換基の部分を指す。一方、一番右側の点線は、示された構造における右側の要素に結合した置換基の部分を指す。例示すると、示された化学構造がX−L−Yであり、Lが−C(O)−N(H)−と記載される場合は、化学構造はX−C(O)−N(H)−Yになる。

0073

(請求項を含む)本特許出願における「含む(comprise)」または「含む(comprises)」または「含んでいる」という用語の使用に関して、出願人は、文脈が他を必要とする場合を除いて、それらの用語が、排他的でなく包含的に解釈され、以下の請求項を含む本特許出願を解釈する上でそれらの用語の各々がそのように解釈されることを出願人が意図するという基本および明確な理解の上に立ってそれらの用語が使用される。

0074

本特許出願における化合物名を生成するのにChemDrawソフトウェアが使用された。

0075

化合物に適用される「非晶質」という用語は、化合物分子不規則な配置で存在し、区別可能結晶格子または単位セルを形成しない固体状態を指す。X線粉末回折した場合に、非晶質化合物は、特徴的な結晶ピークを与えない。

0076

化合物に適用される「結晶形」という用語は、化合物分子が、(i)区別可能な単位セルを含み、(ii)X線放射されると回折パターンピークを与える区別可能な結晶格子を形成するように配置された固体状態を指す。

0077

純度」という用語は、他に限定する場合を除いて、従来のHPLCアッセイによる化合物の化学的純度を指す。

0078

「相純度」という用語は、X線粉末回折法によって測定された化合物の特定の結晶または非晶形に関する化合物の固体状態純度を指す。

0079

「相純枠」という用語は、化合物の他の固体状態の形に関する純度を指し、他の化合物に関する高度の化学的純度を必ずしも示唆しない。

0080

「PXRD」という用語は、X線粉末回折を指す。

0081

「TGA」という用語は、熱重量分析を指す。

0082

DSC」という用語は、示差走査熱測定を指す。

0083

B.化合物
本発明は、一部に、構造において、式Iに対応するフェニル−ウラシル誘導体である化合物を対象とする。

0084

これらの化合物において、

0085

は、炭素−炭素単結合および炭素−炭素二重結合からなる群から選択される。

0086

ある実施形態では、

0087

は、炭素−炭素単結合である。これらの実施形態において、式Iの化合物は、構造において、以下の式(すなわち式IA)に対応する。

0088

0089

他の実施形態において、

0090

は、炭素−炭素二重結合である。これらの実施形態において、式Iの化合物は、構造において、以下の式(すなわち式IB)に対応する。

0091

0092

B1.置換基R1
R1は、水素、メチルおよび窒素保護基からなる群から選択される。

0093

いくつかの実施形態において、R1は水素である。

0094

いくつかの実施形態において、R1はメチルである。

0095

いくつかの実施形態において、R1は、水素およびメチルからなる群から選択される。

0096

いくつかの実施形態において。R1は窒素保護基である。これらの実施形態において、該化合物は、式Iの化合物を調製するための中間体として有用である。式Iの化合物を調製するのに好適な窒素保護基は、当業者に知られている。

0097

B2.置換基R2
R2は、水素、ハロ、ヒドロキシ、メチル、シクロプロピルおよびシクロブチルからなる群から選択される。

0098

いくつかの実施形態において、R2は水素である。

0099

いくつかの実施形態において、R2はハロである。いくつかの実施形態において、R2は、フルオロおよびクロロからなる群から選択される。他の当該実施形態において、R2はフルオロである。さらに他の当該実施形態において、R2はクロロである。さらに他の当該実施形態において、R2はブロモである。さらなる当該実施形態において、R2はヨードである。

0100

いくつかの実施形態において、R2はヒドロキシである。

0101

いくつかの実施形態において、R2はメチルである。

0102

いくつかの実施形態において、R2はシクロプロピルである。

0103

いくつかの実施形態において、R2はシクロブチルである。

0104

いくつかの実施形態において、R2は、水素、メチル、ヒドロキシおよびハロからなる群から選択される。いくつかの当該実施形態において、R2は、水素、メチル、ヒドロキシ、フルオロおよびクロロからなる群から選択される。他の当該実施形態において、R2は、水素、メチル、ヒドロキシおよびフルオロからなる群から選択される。さらに他の当該実施形態において、R2は、水素、メチル、ヒドロキシおよびクロロからなる群から選択される。さらに他の当該実施形態において、R2は、水素、メチル、ヒドロキシおよびブロモからなる群から選択される。さらなる当該実施形態において、R2は、水素、メチル、ヒドロキシおよびヨードからなる群から選択される。

0105

いくつかの実施形態において、R2は、水素、メチルおよびハロからなる群から選択される。いくつかの当該実施形態において、R2は、水素、メチル、フルオロおよびクロロからなる群から選択される。他の当該実施形態において、R2は、水素、メチルおよびフルオロからなる群から選択される。さらに他の当該実施形態において、R2は、水素、メチルおよびクロロからなる群から選択される。さらに他の当該実施形態において、R2は、水素、メチルおよびブロモからなる群から選択される。さらなる当該実施形態において、R2は、水素、メチルおよびヨードからなる群から選択される。

0106

いくつかの実施形態において、R2は、水素およびハロからなる群から選択される。いくつかの当該実施形態において、R2は、水素、フルオロおよびクロロからなる群から選択される。他の当該実施形態において、R2は、水素およびフルオロからなる群から選択される。さらに他の当該実施形態において、R2は、水素およびクロロからなる群から選択される。さらに他の当該実施形態において、R2は、水素およびブロモからなる群から選択される。さらなる当該実施形態において、R2は、水素およびヨードからなる群から選択される。

0107

B3.置換基R3
R3は、水素、ハロ、オキソおよびメチルからなる群から選択される。いくつかの当該実施形態において、R3は、水素、フルオロ、オキソおよびメチルからなる群から選択される。他の当該実施形態において、R3は、水素、クロロ、オキソおよびメチルからなる群から選択される。さらに他の当該実施形態において、R3は、水素、ブロモ、オキソおよびメチルからなる群から選択される。さらに他の当該実施形態において、R3は、水素、ヨード、オキソおよびメチルからなる群から選択される。

0108

いくつかの実施形態において、R3は、水素、ハロおよびオキソからなる群から選択される。いくつかの当該実施形態において、R3は、水素、フルオロおよびオキソからなる群から選択される。他の当該実施形態において、R3は、水素、クロロおよびオキソからなる群から選択される。さらに他の当該実施形態において、R3は、水素、ブロモおよびオキソからなる群から選択される。さらに他の当該実施形態において、R3は、水素、ヨードおよびオキソからなる群から選択される。

0109

いくつかの実施形態において、R3は、水素およびメチルからなる群から選択される。

0110

いくつかの実施形態において、R3は水素である。

0111

いくつかの実施形態において、R3はメチルである。

0112

いくつかの実施形態において、R3はオキソである。

0113

いくつかの実施形態において、R3はハロである。いくつかの実施形態において、R3はフルオロである。他の当該実施形態において、R3はクロロである。さらに他の当該実施形態において、R3はブロモである。さらなる当該実施形態において、R3はヨードである。

0114

B4.置換基R4
R4は、ハロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ニトロ、シアノ、アジド、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、
(a)アミノ、アミノカルボニルおよびアミノスルホニルは、
(1)独立に、アルキル、アルケニル、アルキニルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または
(2)アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基で場合によって置換されており、
(b)アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシおよびアルキルスルホニルは、独立に、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、トリメチルシリル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
アミノは、
(1)独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または
(2)アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基で場合によって置換されており、
(c)カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、トリメチルシリル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択される3つまでの置換基で場合によって置換されており、
アミノは、
(1)独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または
(2)アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基で場合によって置換されている。

0115

いくつかの実施形態において、R4は、ハロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ニトロ、シアノ、アジド、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、
アミノ、アミノカルボニルおよびアミノスルホニルは、
(1)独立に、アルキル、アルケニル、アルキニルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または
(2)アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基で場合によって置換されている。

0116

いくつかの実施形態において、R4は、ハロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ニトロ、シアノ、アジド、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、
アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシおよびアルキルスルホニルは、独立に、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、トリメチルシリル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
アミノは、
(1)独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または
(2)アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基で場合によって置換されている。

0117

いくつかの実施形態において、R4は、ハロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ニトロ、シアノ、アジド、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、
カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、トリメチルシリル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択される3つまでの置換基で場合によって置換されており、
アミノは、
(1)独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または
(2)アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基で場合によって置換されている。

0118

いくつかの実施形態において、R4は、ハロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ニトロ、シアノ、アジド、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、
(a)アミノ、アミノカルボニルおよびアミノスルホニルは、
(1)独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または
(2)アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基で場合によって置換されており、
(b)アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、独立に、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択される3つまでの置換基で場合によって置換されており、
アミノは、
(1)独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または
(2)アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基で場合によって置換されている。

0119

いくつかの実施形態において、R4は、ハロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ニトロ、シアノ、アジド、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、
アミノ、アミノカルボニルおよびアミノスルホニルは、
(1)独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または
(2)アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基で場合によって置換されている。

0120

いくつかの実施形態において、R4は、ハロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ニトロ、シアノ、アジド、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、
アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、独立に、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択される3つまでの置換基で場合によって置換されており、
アミノは、
(1)独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または
(2)アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基で場合によって置換されている。

0121

いくつかの実施形態において、R4は、ハロ、C1−C4−アルキル、C2−C4−アルケニル、C2−C4−アルキニル、アミノ、C1−C4−アルキルスルホニル、C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択され、
(a)アミノは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(b)C1−C4−アルキル、C2−C4−アルケニルおよびC2−C4−アルキニルは、独立に、ハロ、オキソ、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびトリメチルシリルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
(c)C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロおよびアミノからなる群から選択される3つまでの置換基で場合によって置換されており、
アミノは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0122

いくつかの実施形態において、R4は、C1−C4−アルキル、C2−C4−アルケニル、C2−C4−アルキニル、アミノ、C1−C4−アルキルスルホニル、C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択され、
(a)アミノは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(b)C1−C4−アルキル、C2−C4−アルケニルおよびC2−C4−アルキニルは、独立に、ハロ、オキソ、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびトリメチルシリルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
(c)C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロおよびアミノからなる群から選択される3つまでの置換基で場合によって置換されており、
アミノは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0123

いくつかの実施形態において、R4は、ハロ、C1−C4−アルキル、C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択され、
(a)C1−C4−アルキルは、独立に、ハロ、オキソ、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびトリメチルシリルからなる群から選択される3つまでの置換基で場合によって置換されており、
(b)C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルは、独立に、アルキル、ハロおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0124

いくつかの実施形態において、R4は、ハロ、C1−C4−アルキル、C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択され、
(a)C1−C4−アルキルは、独立に、ハロ、オキソ、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびトリメチルシリルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(b)C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルは、アルキル、ハロおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される置換基で場合によって置換されている。

0125

いくつかの実施形態において、R4は、C1−C4−アルキル、C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択され、
(a)C1−C4−アルキルは、独立に、ハロ、オキソ、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびトリメチルシリルからなる群から選択される3つまでの置換基で場合によって置換されており、
(b)C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルは、独立に、アルキル、ハロおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0126

いくつかの実施形態において、R4は、ハロ、tert−ブチル、C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択され、
C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルは、アルキル、ハロおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される置換基で場合によって置換されている。

0127

いくつかの実施形態において、R4は、tert−ブチル、C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択され、
C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルは、アルキル、ハロおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される置換基で場合によって置換されている。

0128

いくつかの実施形態において、R4は、ハロ、アルキル、ハロアルキル、カルボキシアルキルヒドロキシアルキル、アルキルオキシアルキル、トリメチルシリルアルキニル、アルキルカルボシクリル、カルボシクリル、アルキルヘテロシクリル、ヘテロシクリル、ハロカルボシクリル、アルキルスルホニルアミノおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される。

0129

いくつかの実施形態において、R4は、ハロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ニトロ、シアノ、アジド、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択される。

0130

いくつかの実施形態において、R4は、ハロ、C1−C4−アルキル、C2−C4−アルケニル、C2−C4−アルキニル、アミノ、C1−C4−アルキルスルホニル、C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択される。いくつかの当該実施形態において、R4は、ハロ、C1−C4−アルキル、C2−C4−アルケニル、C2−C4−アルキニル、アミノ、C1−C4−アルキルスルホニル、C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択される。他の当該実施形態において、R4は、ハロ、C1−C4−アルキル、C2−C4−アルケニル、C2−C4−アルキニル、アミノ、C1−C4−アルキルスルホニル、フェニルおよび5−6員ヘテロアリールからなる群から選択される。

0131

いくつかの当該実施形態において、R4は、C1−C4−アルキル、C2−C4−アルケニル、C2−C4−アルキニル、アミノ、C1−C4−アルキルスルホニル、C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択される。いくつかの当該実施形態において、R4は、C1−C4−アルキル、C2−C4−アルケニル、C2−C4−アルキニル、アミノ、C1−C4−アルキルスルホニル、C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択される。他の当該実施形態において、R4は、C1−C4−アルキル、C2−C4−アルケニル、C2−C4−アルキニル、アミノ、C1−C4−アルキルスルホニル、フェニルおよび5−6員ヘテロアリールからなる群から選択される。

0132

いくつかの当該実施形態において、R4は、ハロ、C1−C4−アルキル、C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択される。いくつかの当該実施形態において、R4は、ハロ、C1−C4−アルキル、C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択される。他の当該実施形態において、R4は、ハロ、C1−C4−アルキル、フェニルおよび5−6員ヘテロアリールからなる群から選択される。

0133

いくつかの当該実施形態において、R4は、C1−C4−アルキル、C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択される。いくつかの当該実施形態において、R4は、C1−C4−アルキル、C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択される。他の当該実施形態において、R4は、C1−C4−アルキル、フェニルおよび5−6員ヘテロアリールからなる群から選択される。

0134

いくつかの実施形態において、R4は、ハロ、tert−ブチル、C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択される。いくつかの当該実施形態において、R4は、ハロ、tert−ブチル、C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択される。他の当該実施形態において、R4は、ハロ、tert−ブチル、フェニルおよび5−6員ヘテロアリールからなる群から選択される。

0135

いくつかの実施形態において、R4は、tert−ブチル、C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択される。いくつかの当該実施形態において、R4は、tert−ブチル、C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択される。他の当該実施形態において、R4は、tert−ブチル、フェニルおよび5−6員ヘテロアリールからなる群から選択される。

0136

いくつかの実施形態において、R4は、C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択される。いくつかの当該実施形態において、R4は、C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択される。他の当該実施形態において、R4は、フェニルおよび5−6員ヘテロアリールからなる群から選択される。

0137

上記実施形態についての好適なカルボシクリルとしては、例えば、シクロプロピルおよびフェニルが挙げられる。

0138

上記実施形態についての好適なヘテロシクリルとしては、例えば、フラニル、チエニルおよびピリジニルが挙げられる。

0139

いくつかの実施形態において、R4は、ハロ、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から選択される。

0140

いくつかの実施形態において、R4はアルキルである。

0141

いくつかの実施形態において、R4はtert−ブチルである。

0142

B5.置換基R5
R5は、水素、ヒドロキシ、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、カルボシクリルスルホニルオキシ、ハロアルキルスルホニルオキシおよびハロからなる群から選択される。

0143

いくつかの実施形態において、R5は、水素、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびハロからなる群から選択される。いくつかの当該実施形態において、R5は、水素、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびフルオロからなる群から選択される。他の当該実施形態において、R5は、水素、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびフルオロからなる群から選択される。さらに他の当該実施形態において、R5は、水素、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびクロロからなる群から選択される。さらに他の当該実施形態において、R5は、水素、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびブロモからなる群から選択される。さらなる当該実施形態において、R5は、水素、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびヨードからなる群から選択される。

0144

いくつかの実施形態において、R5は、水素、ヒドロキシ、メトキシおよびハロからなる群から選択される。いくつかの当該実施形態において、R5は、水素、ヒドロキシ、メトキシおよびフルオロからなる群から選択される。他の当該実施形態において、R5は、水素、ヒドロキシ、メトキシおよびクロロからなる群から選択される。さらに他の当該実施形態において、R5は、水素、ヒドロキシ、メトキシおよびブロモからなる群から選択される。さらなる当該実施形態において、R5は、水素、ヒドロキシ、メトキシおよびヨードからなる群から選択される。

0145

いくつかの実施形態において、R5は、水素、ヒドロキシおよびアルキルオキシからなる群から選択される。いくつかの当該実施形態において、R5は、水素、ヒドロキシ、メトキシおよびエトキシからなる群から選択される。

0146

いくつかの実施形態において、R5は水素である。

0147

いくつかの実施形態において、R5はヒドロキシである。

0148

いくつかの実施形態において、R5はアルキルオキシである。

0149

いくつかの実施形態において、R5はメトキシである。

0150

いくつかの実施形態において、R5はエトキシである。

0151

B6.置換基L
Lは結合であり、式Iの化合物は、構造において、式I−L0に対応する。

0152

0153

いくつかの当該実施形態において、該化合物は、構造において、以下の式(すなわち式IA−L0)に対応する。

0154

0155

他の当該実施形態において、該化合物は、構造において、以下の式(すなわち式IB−L0)に対応する。

0156

0157

B7.置換基R6
いくつかの実施形態において、R6は、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルからなる群から選択され、各当該置換基は、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されている。

0158

いくつかの当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルは、置換されていない。

0159

他の当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルは、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される置換基で置換されている。いくつかの当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルは、RE、RF、RI、RJおよびRKからなる群から選択される置換基で置換されている。他の当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルは、RE、RFおよびRJからなる群から選択される置換基で置換されている。さらに他の当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルは、RFおよびRJからなる群から選択される置換基で置換されている。他の当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルは、RJで置換されている。

0160

さらに他の当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルは、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される2つの置換基で置換されている。いくつかの当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルは、独立に、RE、RF、RI、RJおよびRKからなる群から選択される2つの置換基で置換されている。他の当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルは、独立に、RE、RFおよびRJからなる群から選択される2つの置換基で置換されている。他の当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルは、独立に、RFおよびRJからなる群から選択される2つの置換基で置換されている。

0161

さらなる当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルは、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される3つの置換基で置換されている。いくつかの当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルは、独立に、RE、RF、RI、RJおよびRKからなる群から選択される3つの置換基で置換されている。他の当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルは、独立に、RE、RFおよびRJからなる群から選択される3つの置換基で置換されている。さらなる当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルは、独立に、RFおよびRJからなる群から選択される3つの置換基で置換されている。

0162

さらなる当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルは、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される1つ、2つまたは3つの置換基で置換されている。いくつかの当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルは、独立に、RE、RF、RI、RJおよびRKからなる群から選択される1つ、2つまたは3つの置換基で置換されている。他の当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルは、独立に、RE、RFおよびRJからなる群から選択される1つ、2つまたは3つの置換基で置換されている。さらなる当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルは、独立に、RFおよびRJからなる群から選択される1つ、2つまたは3つの置換基で置換されている。

0163

いくつかの実施形態において、R6は、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換された縮合2環カルボシクリルである。いくつかの当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルは、置換されていない。他の当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルは、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される置換基で置換されている。さらに他の当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルは、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される2つの置換基で置換されている。さらなる当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルは、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される3つの置換基で置換されている。さらなる当該実施形態において、縮合2環カルボシクリルは、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される1つ、2つまたは3つの置換基で置換されている。

0164

いくつかの実施形態において、R6は、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換された縮合2環ヘテロシクリルである。いくつかの当該実施形態において、縮合2環ヘテロシクリルは、置換されていない。他の当該実施形態において、縮合2環ヘテロシクリルは、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される置換基で置換されている。さらに他の当該実施形態において、縮合2環ヘテロシクリルは、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される2つの置換基で置換されている。さらなる当該実施形態において、縮合2環ヘテロシクリルは、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される3つの置換基で置換されている。さらなる当該実施形態において、縮合2環ヘテロシクリルは、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される1つ、2つまたは3つの置換基で置換されている。

0165

上記実施形態のいくつかにおいて、場合によって置換された縮合2環カルボシクリルは、ナフタレニル、ジヒドロナフタレニル、テトラヒドロナフタレニル、ヘキサヒドロナフタレニル、オクタヒドロナフタレニル、デカヒドロナフタレニル、インデニル、ジヒドロインデニル、ヘキサヒドロインデニル、オクタヒドロインデニル、ペンタレニル、オクタヒドロペンタレニルおよびヘキサヒドロペンタレニルからなる群から選択される。いくつかの当該実施形態において、場合によって置換された縮合2環カルボシクリルは、ナフタレニルおよびジヒドロインデニルからなる群から選択される。いくつかの当該実施形態において、場合によって置換された縮合2環カルボシクリルは、ナフタレニルである。他の当該実施形態において、場合によって置換された縮合2環カルボシクリルは、ジヒドロインデニルである。さらなる当該実施形態において、場合によって置換された縮合2環カルボシクリルは、インデニルである。

0166

上記実施形態のいくつかにおいて、場合によって置換された縮合2環ヘテロシクリルは、

0167

からなる群から選択される。

0168

X1、X2およびX3は、独立に、NおよびC(H)からなる群から選択され;
X4は、N(H)、OおよびSからなる群から選択され;
X5、X6およびX7は、独立に、NおよびC(H)からなる群から選択され;
X8は、N(H)、OおよびSからなる群から選択され;
X9は、N(H)、OおよびSからなる群から選択され;
X10、X11、X12およびX13は、独立に、NおよびC(H)からなる群から選択され;
X14は、N(H)、OおよびSからなる群から選択され;
X15、X16、X17およびX18は、独立に、NおよびC(H)からなる群から選択され;
X19、X20およびX21の1つまたは複数がNであり、残りがC(H)であり;
X22、X23、X24およびX25の1つまたは複数がNであり、残りがC(H)であり;
X26、X27およびX28の1つまたは複数がNであり、残りがC(H)であり;
X29、X30、X31およびX32の1つまたは複数がNであり、残りがC(H)であり;
X33、X34およびX35の1つまたは複数がNであり、残りがC(H)であり;
X36、X37、X38およびX39の1つまたは複数がNであり、残りがC(H)であり;
X40、X41およびX42は、独立に、NおよびC(H)からなる群から選択され;
X43、X44およびX45の1つがN(H)、OおよびSからなる群から選択され、残りの2つがC(H)2であり;
X46およびX47の一方がN(H)、OおよびSからなる群から選択され、他方がC(H)2であり;
X48、X49、X50およびX51は、独立に、NおよびC(H)からなる群から選択され;
X52、X53およびX54は、独立に、NおよびC(H)からなる群から選択され;
X55は、N(H)、OおよびSからなる群から選択され;
X56、X57およびX58は、独立に、NおよびC(H)からなる群から選択され;
X59は、N(H)、OおよびSからなる群から選択され;
X60は、N(H)、OおよびSからなる群から選択され;
X61、X62、X63およびX64は、独立に、NおよびC(H)からなる群から選択され;
X65は、N(H)、OおよびSからなる群から選択され;
X66、X67、X68およびX69は、独立に、NおよびC(H)からなる群から選択され;
X70、X71およびX72の1つまたは複数がNであり、残りがC(H)であり;
X73、X74、X75およびX76の1つまたは複数がNであり、残りがC(H)であり;
X77およびX78の一方がN(H)であり、残りがC(H)2である。

0169

上記実施形態のいくつかにおいて、場合によって置換された縮合2環ヘテロシクリルは、

0170

からなる群から選択される。

0171

上記実施形態のいくつかにおいて、場合によって置換された縮合2環ヘテロシクリルは、

0172

からなる群から選択される。

0173

上記実施形態のいくつかにおいて、X1、X2およびX3はC(H)である。

0174

上記実施形態のいくつかにおいて、X5、X6およびX7はC(H)である。

0175

上記実施形態のいくつかにおいて、X10、X11、X12およびX13はC(H)である。

0176

上記実施形態のいくつかにおいて、X15、X16、X17およびX18はC(H)である。

0177

上記実施形態のいくつかにおいて、X19、X20およびX21の1つがNである。

0178

上記実施形態のいくつかにおいて、X22、X23、X24およびX25の1つがNである。

0179

上記実施形態のいくつかにおいて、X26、X27およびX28の1つがNであり、X29、X30、X31およびX32の1つがNである。

0180

上記実施形態のいくつかにおいて、X40、X41およびX42はC(H)である。

0181

上記実施形態のいくつかにおいて、X48、X49、X50およびX51はC(H)である。

0182

上記実施形態のいくつかにおいて、X52、X53およびX54はC(H)である。

0183

上記実施形態のいくつかにおいて、X56、X57およびX58はC(H)である。

0184

上記実施形態のいくつかにおいて、X61、X62、X63およびX64はC(H)である。

0185

上記実施形態のいくつかにおいて、X66、X67、X68およびX69はC(H)である。

0186

上記実施形態のいくつかにおいて、X70、X71およびX72の1つまたは複数がNであり、残りがC(H)である。

0187

上記実施形態のいくつかにおいて、X73、X74、X75およびX76の1つまたは複数がNであり、残りがC(H)である。

0188

B8.置換基RE
各REは、独立に、ハロ、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、シアノ、アミノ、イミノ、アジドおよびアルデヒドからなる群から選択され、アミノは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0189

いくつかの実施形態において、各REは、独立に、ハロ、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、アミノ、イミノおよびアルデヒドからなる群から選択され、アミノは、1つまたは2つの独立に選択されたアルキルで場合によって置換されている。

0190

いくつかの実施形態において、各REは、独立に、ハロ、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、アミノ、イミノ、アルデヒドおよびアルキルアミノからなる群から選択される。

0191

いくつかの実施形態において、各REは、独立に、クロロ、フルオロ、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、アミノ、イミノ、アルデヒドおよびアルキルアミノからなる群から選択される。

0192

いくつかの実施形態において、各REは、独立に、ハロ、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、シアノ、アミノ、イミノおよびアジドからなる群から選択される。いくつかの当該実施形態において、各REはハロである。他の当該実施形態において、各REはニトロである。さらに他の当該実施形態において、各REはヒドロキシである。さらに他の当該実施形態において、各REはオキソである。さらに他の当該実施形態において、各REはカルボキシである。さらに他の当該実施形態において、各REはシアノである。さらに他の当該実施形態において、各REはアミノである。さらなる当該実施形態において、各REはイミノである。さらなる当該実施形態において、各REはアジドである。

0193

いくつかの実施形態において、各REは、独立に、ハロ、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、シアノ、アミノおよびイミノからなる群から選択される。

0194

B9.置換基RF
各RFは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択され、
各当該置換基は、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、イミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
アミノ、イミノ、アミノスルホニル、アミノカルボニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシおよびアルキルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アルキルスルホニルアミノのアミノ部分は、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換されている。

0195

いくつかの実施形態において、各RFは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択され、
各当該置換基は、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、イミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
アミノ、イミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アルキルスルホニルアミノのアミノ部分は、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換されている。

0196

上記実施形態のいくつかにおいて、各RFは、独立に、アルキル、アルキニルおよびアルキニルからなる群から選択され、当該置換基は、置換されていない。

0197

いくつかの実施形態において、各RFは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択され、
各当該置換基は、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、イミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アミノ、イミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アルキルスルホニルアミノのアミノ部分は、アルキルで場合によって置換されている。

0198

いくつかの実施形態において、各RFは、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、イミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換された、独立に選択されたアルキルであり、
アミノ、イミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アルキルスルホニルアミノのアミノ部分は、アルキルで場合によって置換されている。

0199

いくつかの実施形態において、各RFは、カルボキシ、ハロ、アミノ、イミノおよびアミノスルホニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換された、独立に選択されたアルキルであり、
アミノ、イミノおよびアミノスルホニルは、独立に、アルキル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0200

いくつかの実施形態において、各RFは、アミノで場合によって置換された、独立に選択されたアルキルであり、アミノは、アルキルスルホニルで場合によって置換されている。

0201

いくつかの実施形態において、各RFは、アミノで置換された、独立に選択されたアルキルであり、アミノは、アルキルスルホニルで置換されている。いくつかの当該実施形態において、各RFはメチルスルホニルアミノメチルである。

0202

いくつかの実施形態において、各RFは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択され、
各当該置換基は、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、イミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つ、2つまたは3つの置換基で場合によって置換されている。

0203

いくつかの実施形態において、各RFは、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、イミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で置換された、独立に選択されたアルキルである。

0204

B10.置換基RG
各RGは、独立に、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、
各当該置換基は、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0205

上記実施形態のいくつかにおいて、各RGは、独立に、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、当該置換基は、置換されていない。

0206

いくつかの実施形態において、各RGは、独立に、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、
各当該置換基は、独立に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、独立に、アルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0207

上記実施形態のいくつかにおいて、カルボシクリルは、C3−C6−カルボシクリルである。

0208

上記実施形態のいくつかにおいて、ヘテロシクリルは、5−6員ヘテロシクリルである。

0209

B11.置換基RH
各RHは、独立に、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、アルケニルスルホニルオキシおよびアルキニルスルホニルオキシからなる群から選択され、
各当該置換基は、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0210

上記実施形態のいくつかにおいて、各RHは、独立に、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、アルケニルスルホニルオキシおよびアルキニルスルホニルオキシからなる群から選択され、当該置換基は、置換されていない。

0211

いくつかの実施形態において、各RHは、独立に、アルキルオキシおよびアルキルスルホニルオキシからなる群から選択され、
各当該置換基は、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、独立に、アルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0212

いくつかの実施形態において、各RHは、独立に、アルキルオキシおよびアルキルスルホニルオキシからなる群から選択され、
各当該置換基は、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、独立に、アルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0213

いくつかの実施形態において、各RHは、独立に、アルキルオキシおよびアルキルスルホニルオキシからなる群から選択され、
各当該置換基は、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0214

いくつかの実施形態において、各RHは、独立に選択されたアルキルオキシである。

0215

いくつかの実施形態において、各RHは、独立に選択されたアルキルスルホニルオキシである。

0216

B12.置換基RI
各RIは、独立に、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アミノカルボニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリルカルボニルおよびヘテロシクリルカルボニルからなる群から選択され、
(a)アルキルカルボニル、アルケニルカルボニルおよびアルキニルカルボニルは、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
(b)アミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシアルキル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、独立に、ハロ、アルキルおよびオキソからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0217

いくつかの実施形態において、各RIは、独立に、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アミノカルボニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリルカルボニルおよびヘテロシクリルカルボニルからなる群から選択され、当該置換基は、置換されていない。

0218

いくつかの実施形態において、各RIは、独立に、アルキルカルボニル、アミノカルボニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリルカルボニルおよびヘテロシクリルカルボニルからなる群から選択され、
(a)アルキルカルボニルは、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシおよびアミノカルボニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換されており、
(b)アミノカルボニルは、アルキル、アルキルオキシアルキル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される置換基で場合によって置換されている。

0219

いくつかの実施形態において、各RIは、独立に、アルキルカルボニルおよびアミノカルボニルからなる群から選択され、
アミノカルボニルは、アルキル、アルキルオキシアルキル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される置換基で場合によって置換されている。

0220

いくつかの実施形態において、各RIは、独立に、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニルおよびアミノカルボニルからなる群から選択され、
(a)アルキルカルボニル、アルケニルカルボニルおよびアルキニルカルボニルは、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
(b)アミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0221

上記実施形態のいくつかにおいて、各RIは、独立に、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニルおよびアミノカルボニルからなる群から選択され、当該置換基は、置換されていない。

0222

いくつかの実施形態において、各RIは、独立に、アルキルカルボニルおよびアミノカルボニルからなる群から選択され、
(a)アルキルカルボニルは、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(b)アミノカルボニルは、独立に、アルキルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0223

いくつかの実施形態において、各RIは、独立に、アルキルカルボニルおよびアミノカルボニルからなる群から選択され、
(a)アルキルカルボニルは、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(b)アミノカルボニルは、独立に、アルキルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0224

いくつかの実施形態において、各RIは、独立に、アルキルカルボニルおよびアミノカルボニルからなる群から選択され、
アルキルカルボニルは、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0225

いくつかの実施形態において、各RIは、独立に選択されたアルキルカルボニルである。

0226

いくつかの実施形態において、各RIは、独立に選択されたアミノカルボニルである。

0227

B13.置換基RJ
各RJは、独立に、カルボシクリルスルホニルアミノ、ヘテロシクリルスルホニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アルケニルカルボニルアミノ、アルキニルカルボニルアミノ、アルキルオキシカルボニルアミノ、アルケニルオキシカルボニルアミノ、アルキニルオキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルケニルスルホニルアミノ、アルキニルスルホニルアミノ、アミノカルボニルアミノ、アルキルオキシカルボニルアミノイミノ、アルキルスルホニルアミノイミノ、アルケニルスルホニルアミノイミノおよびアルキニルスルホニルアミノイミノからなる群から選択され、
(a)当該置換基のアミノ部分は、独立に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換されており、
(1)カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、アジド、オキソおよびアミノからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
(2)アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(b)当該置換基のアルキル、アルケニルおよびアルキニル部分は、独立に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
アミノは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシおよびアルキニルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アルキルは、1つまたは複数のヒドロキシで場合によって置換されており、
(c)当該置換基のカルボシクリルおよびヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、アジドおよびアミノからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
アミノは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0228

いくつかの実施形態において、各RJは、独立に、カルボシクリルスルホニルアミノ、ヘテロシクリルスルホニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アルケニルカルボニルアミノ、アルキニルカルボニルアミノ、アルキルオキシカルボニルアミノ、アルケニルオキシカルボニルアミノ、アルキニルオキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルケニルスルホニルアミノ、アルキニルスルホニルアミノ、アミノカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノイミノ、アルケニルスルホニルアミノイミノおよびアルキニルスルホニルアミノイミノからなる群から選択され、
(a)当該置換基のアミノ部分は、独立に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換されており、
(1)カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、アジド、オキソおよびアミノからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
(2)アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(b)当該置換基のアルキル、アルケニルおよびアルキニル部分は、独立に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
アミノは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシおよびアルキニルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アルキルは、1つまたは複数のヒドロキシで場合によって置換されており、
(c)当該置換基のカルボシクリルおよびヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、アジドおよびアミノからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
アミノは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0229

上記実施形態のいくつかにおいて、各RJは、独立に、カルボシクリルスルホニルアミノ、ヘテロシクリルスルホニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アルケニルカルボニルアミノ、アルキニルカルボニルアミノ、アルキルオキシカルボニルアミノ、アルケニルオキシカルボニルアミノ、アルキニルオキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルケニルスルホニルアミノ、アルキニルスルホニルアミノ、アミノカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノイミノ、アルケニルスルホニルアミノイミノおよびアルキニルスルホニルアミノイミノからなる群から選択され、当該置換基は、置換されていない。

0230

いくつかの実施形態において、各RJは、独立に、カルボシクリルスルホニルアミノ、ヘテロシクリルスルホニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アルキルオキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アミノカルボニルアミノおよびアルキルスルホニルアミノイミノからなる群から選択され、
(a)当該置換基のアミノ部分は、独立に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換されており、
(1)カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、オキソおよびアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(2)アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(b)当該置換基のアルキル部分は、独立に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アミノは、独立に、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アルキルは、1つまたは複数のヒドロキシで場合によって置換されており、
(c)当該置換基のカルボシクリルおよびヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノおよびアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アミノは、独立に選択されたアルキルの1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0231

いくつかの実施形態において、各RJは、独立に、カルボシクリルスルホニルアミノ、ヘテロシクリルスルホニルアミノ、アルキルスルホニルアミノおよびアルキルスルホニルアミノイミノからなる群から選択され、
(a)当該置換基のアミノ部分は、独立に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換されており、
(1)カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、オキソおよびアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(2)アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(b)当該置換基のアルキル部分は、独立に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アミノは、独立に、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アルキルは、1つまたは複数のヒドロキシで場合によって置換されており、
(c)当該置換基のカルボシクリルおよびヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノおよびアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アミノは、独立に選択されたアルキルの1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0232

いくつかの実施形態において、各RJは、独立に、カルボシクリルスルホニルアミノ、ヘテロシクリルスルホニルアミノ、アルキルスルホニルアミノおよびアルキルスルホニルアミノイミノからなる群から選択され、
当該置換基のアミノ部分は、独立に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換されており、
(1)カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、オキソおよびアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(2)アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0233

いくつかの実施形態において、各RJは、独立に、カルボシクリルスルホニルアミノ、ヘテロシクリルスルホニルアミノ、アルキルスルホニルアミノおよびアルキルスルホニルアミノイミノからなる群から選択され、
アルキルスルホニルアミノおよびアルキルスルホニルアミノイミノのアルキル部分は、独立に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アミノは、独立に、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アルキルは、1つまたは複数のヒドロキシで場合によって置換されている。

0234

いくつかの実施形態において、各RJは、独立に、カルボシクリルスルホニルアミノ、ヘテロシクリルスルホニルアミノ、アルキルスルホニルアミノおよびアルキルスルホニルアミノイミノからなる群から選択され、
当該置換基のカルボシクリルおよびヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノおよびアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0235

いくつかの実施形態において、各RJは、独立に、カルボシクリルスルホニルアミノおよびヘテロシクリルスルホニルアミノからなる群から選択され、
当該置換基のカルボシクリルおよびヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノおよびアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0236

いくつかの実施形態において、各RJは、独立に、アルキルスルホニルアミノ、アルケニルスルホニルアミノ、アルキニルスルホニルアミノおよびアルキルスルホニルアミノイミノからなる群から選択され、
(a)当該置換基のアミノ部分は、独立に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換されており、
(1)カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、オキソおよびアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(2)アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(b)当該置換基のアルキル、アルケニルおよびアルキニル部分は、独立に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アミノは、独立に、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アルキルは、1つまたは複数のヒドロキシで場合によって置換されている。

0237

いくつかの実施形態において、各RJは、独立に選択されたアルキルスルホニルアミノであり、
(a)アルキルスルホニルアミノのアミノ部分は、独立に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換されており、
(1)カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、オキソおよびアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(2)アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(b)アルキルスルホニルアミノのアルキル部分は、独立に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アミノは、独立に、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アルキルは、1つまたは複数のヒドロキシで場合によって置換されている。

0238

いくつかの実施形態において、各RJは、独立に選択されたアルキルスルホニルアミノであり、
アルキルスルホニルアミノのアミノ部分は、独立に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換されており、
(1)カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、オキソおよびアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(2)アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0239

いくつかの実施形態において、各RJは、独立に選択されたアルキルスルホニルアミノであり、
アルキルスルホニルアミノのアミノ部分は、独立に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換されている。

0240

いくつかの実施形態において、各RJは、独立に選択されたアルキルスルホニルアミノであり、
アルキルスルホニルアミノのアルキル部分は、独立に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アミノは、独立に、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アルキルは、1つまたは複数のヒドロキシで場合によって置換されている。

0241

いくつかの実施形態において、各RJは、独立に選択されたアルキルスルホニルアミノであり、
アルキルスルホニルアミノのアルキル部分は、独立に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0242

いくつかの実施形態において、各RJは、独立に選択されたアルキルスルホニルアミノである。いくつかの当該実施形態において、各RJはメチルスルホニルアミノである。

0243

いくつかの実施形態において、各RJは、独立に選択されたアルキルスルホニルアミノイミノであり、
(a)アルキルスルホニルアミノイミノのアミノ部分は、独立に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換されており、
(1)カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、オキソおよびアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(2)アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(b)アルキルスルホニルアミノイミノのアルキル部分は、独立に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アミノは、独立に、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アルキルは、1つまたは複数のヒドロキシで場合によって置換されている。

0244

いくつかの実施形態において、各RJは、独立に選択されたアルキルスルホニルアミノイミノであり、
アルキルスルホニルアミノイミノのアミノ部分は、独立に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換されており、
(1)カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、オキソおよびアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(2)アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0245

いくつかの実施形態において、各RJは、独立に選択されたアルキルスルホニルアミノイミノであり、
アルキルスルホニルアミノイミノのアミノ部分は、独立に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換されている。

0246

いくつかの実施形態において、各RJは、独立に選択されたアルキルスルホニルアミノイミノであり、
アルキルスルホニルアミノイミノのアルキル部分は、独立に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アミノは、独立に、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アルキルは、1つまたは複数のヒドロキシで場合によって置換されている。

0247

いくつかの実施形態において、各RJは、独立に選択されたアルキルスルホニルアミノイミノであり、
アルキルスルホニルアミノイミノのアルキル部分は、独立に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0248

いくつかの実施形態において、各RJは、独立に選択されたアルキルスルホニルアミノイミノである。いくつかの当該実施形態において、各RJはメチルスルホニルアミノイミノである。

0249

いくつかの実施形態において、各RJは、独立に、アルキルカルボニルアミノおよびアルキルオキシカルボニルアミノからなる群から選択され、
当該置換基のアルキル部分は、独立に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0250

B14.置換基RK
各RKは、独立に、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から選択され、
(a)アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルは、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されており、
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており;
(b)アミノスルホニルは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは複数の置換基で場合によって置換されている。

0251

上記実施形態のいくつかにおいて、各RKは、独立に、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から選択され、当該置換基は、置換されていない。

0252

いくつかの実施形態において、各RKは、独立に、アミノスルホニルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択され、
(a)アルキルスルホニルは、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(b)アミノスルホニルは、独立に選択されたアルキルの1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0253

いくつかの実施形態において、各RKは、独立に、アミノスルホニルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される。

0254

C.式Iの化合物の実施形態
置換基R1、R2、R3、R4、R5、L、RA、RB、RC、RD、R6、RE、RF、RG、RH、R1、RJおよびRKの様々な実施形態を上記に記載した。これらの置換基実施形態を組み合わせて、式Iの化合物の様々な実施形態を形成することができる。上記の置換基実施形態を組み合わせることによって形成される式Iの化合物のすべての実施形態が、出願人の発明の範囲内にあり、式Iの化合物のいくつかの例示的な実施形態を以下に示す。

0255

いくつかの実施形態において、式Iの化合物は、構造において、式I−L0に対応する。

0256

0257

は、炭素−炭素単結合および炭素−炭素二重結合からなる群から選択され;
R1は、水素およびメチルからなる群から選択され;
R2は、水素およびハロからなる群から選択され;
R3は、水素およびハロからなる群から選択され;
R4は、C1−C4−アルキル、C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択され、
(a)C1−C4−アルキルは、独立に、ハロ、オキソ、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびトリメチルシリルからなる群から選択される3つまでの置換基で場合によって置換されており、
(b)C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルは、独立に、アルキル、ハロおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており;
R5は、水素、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびハロからなる群から選択され;
R6は、縮合2環ヘテロシクリルおよび縮合2環カルボシクリルからなる群から選択され、各当該置換基は、独立に、RE、RF、R1、RJおよびRKからなる群から選択される1つ、2つまたは3つの置換基で置換されており;
各REは、独立に、クロロ、フルオロ、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、アミノ、イミノ、アルデヒドおよびアルキルアミノからなる群から選択され;
各RFは、カルボキシ、ハロ、アミノ、イミノおよびアミノスルホニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換された、独立に選択されたアルキルであり、
アミノ、イミノおよびアミノスルホニルは、独立に、アルキル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており;
各RIは、独立に、アルキルカルボニルおよびアミノカルボニルからなる群から選択され、
アミノカルボニルは、アルキル、アルキルオキシアルキル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される置換基で場合によって置換されており;
各RJは、独立に、アルキルスルホニルアミノ、アルケニルスルホニルアミノ、アルキニルスルホニルアミノおよびアルキルスルホニルアミノイミノからなる群から選択され、
(a)当該置換基のアミノ部分は、独立に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される置換基で場合によって置換されており、
(1)カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、オキソおよびアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(2)アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(b)当該置換基のアルキル、アルケニルおよびアルキニル部分は、独立に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アミノは、独立に、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
アルキルは、1つまたは複数のヒドロキシで場合によって置換されており;
各RKは、独立に、アミノスルホニルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択され、
(a)アルキルスルホニルは、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で場合によって置換されており、
(b)アミノスルホニルは、独立に選択されたアルキルの1つまたは2つの置換基で場合によって置換されている。

0258

いくつかの実施形態において、式Iの化合物は、構造において、式I−L0に対応する。

0259

0260

は、炭素−炭素単結合および炭素−炭素二重結合からなる群から選択され;
R1は水素であり;
R2は、水素およびハロからなる群から選択され;
R3は水素であり;
R4はtert−ブチルであり;
R5は、水素、ヒドロキシ、メトキシおよびハロからなる群から選択され;
R6は、ナフタレニル、ジヒドロナフタレニル、テトラヒドロナフタレニル、ヘキサヒドロナフタレニル、オクタヒドロナフタレニル、デカヒドロナフタレニル、インデニル、ジヒドロインデニル、ヘキサヒドロインデニル、オクタヒドロインデニル、ペンタレニル、オクタヒドロペンタレニルおよびヘキサヒドロペンタレニルからなる群から選択される縮合2環であり、各当該置換基は、RFおよびRJからなる群から選択される置換基で置換されており;
RFはアルキルスルホニルアミノアルキルであり;
RJはアルキルスルホニルアミノである。

0261

式Iの化合物(およびそれらの塩)の例を以下の表1から9に示す。以下の合成実施例には、これらの化合物のいくつかについての段階を追った調製の説明が示される。残りの化合物は、一般的な調製方法の説明、以下の具体的な合成実施例および/またはこの出願全体を通じた説明を利用して調製された。

0262

0263

0264

0265

0266

0267

0268

0269

0270

0271

D.異性
本発明は、また、一部に、式Iの化合物(およびそれらの塩の)すべての異性体(すなわち構造異性体および立体異性体)を対象とする。構造異性体としては、鎖形異性体および位置異性体が挙げられる。立体異性体としては、E/Z異性体(すなわち、1つまたは複数の二重結合に関する異性体)、鏡像異性体(すなわち、不斉中心に反対の配置を有する立体異性体)およびジアステレオ異性体(すなわち、1つまたは複数の不斉中心において同一の配置を有するが、他の不斉中心において異なる立体異性体)が挙げられる。

0272

E.塩
本発明は、また、一部に、式Iの化合物のすべての塩に関する。化合物の塩は、例えば、異なる温度および湿度における医薬安定性の向上、または水もしくは他の溶媒に対する望ましい溶解性などの1つまたは複数の塩の特性により有利であり得る。塩を(例えば、インビトロの意味で使用するのでなく)患者に投与することが意図される場合には、塩は、好ましくは、医薬として許容し得る、および/または生理的に相溶性を有する。「医薬として許容し得る」という用語は、本特許出願において、修正された名詞が、医薬品または医薬品の一部としての使用に適することを意味するように形容詞的に使用される。医薬として許容し得る塩としては、アルカリ金属塩を形成する、および遊離酸および遊離塩基付加塩を形成するのに広く使用される塩が挙げられる。概して、これらの塩を、典型的には、例えば適切な酸または塩基と本発明の化合物とを反応させることにより従来の手段によって調製することができる。

0273

式Iの化合物の医薬として許容し得る酸付加塩無機または有機酸から調製することができる。しばしば好適な無機酸の例としては、塩酸臭化水素酸ヨウ化水素酸硝酸炭酸硫酸およびリン酸が挙げられる。好適な有機酸としては、一般には、例えば、脂肪族、脂環式、芳香族、芳香族脂肪族、複素環式炭素環式およびスルホン酸類の有機酸が挙げられる。しばしば好適な有機酸の具体的な例としては、酢酸塩トリフルオロ酢酸塩ギ酸塩プロピオン酸塩コハク酸塩グリコール酸塩グルコン酸塩ジグルコ酸塩乳酸塩リンゴ酸塩酒石酸クエン酸塩アスコルビン酸塩グルクロン酸塩、マレイン酸塩フマル酸塩ピルビン酸塩アスパラギン酸塩グルタミン酸塩安息香酸塩アントラニル酸塩メシル酸塩ステアリン酸塩サリチル酸塩p−ヒドロキシ安息香酸塩、フェニル酢酸塩マンデル酸塩エンボネート(パモ酸塩)、エタンスルホン酸塩ベンゼンスルホン酸塩パントテン酸塩2−ヒドロキシエタンスルホン酸塩、スルファニル酸塩、シクロヘキシルアミノスルホン酸塩アルゲン酸、ベータヒドロキシ酪酸ガラクタル酸塩、ガラクツロン酸塩、アジピン酸塩アルギン酸塩重硫酸塩酪酸塩樟脳酸塩、カンファースルホン酸塩シクロペンタンプロピオン酸塩、ドデシル硫酸塩グリコヘプタン酸塩、グリセロリン酸塩、ヘプタン酸塩、ヘキサン酸塩ニコチン酸塩、シュウ酸塩パルモ酸塩、ペクチン酸塩、2−ナフタルスルホン酸塩、3−フェニルプロピオン酸塩、ピクリン酸塩ピバル酸塩チオシアン酸塩トシル酸塩およびウンデカン酸塩が挙げられる。

0274

式Iの化合物の医薬として許容し得る塩基付加塩としては、例えば、金属塩および有機塩が挙げられる。好適な金属塩としては、アルカリ金属Ia族)塩、アルカリ土類金属(IIa族)塩および他の生理的に許容し得る金属塩が挙げられる。当該塩をアルミニウムカルシウムリチウムマグネシウムカリウムナトリウムおよび亜鉛から製造することができる。好適な有機塩をトロメトアミンジエチルアミン、N,N’−ジベンジルエチレンジアミン、クロロプロカインコリンジエタノールアミン、エチレンジアミン、メグルミンN−メチルグルカミン)およびプロカインなどのアミンから製造することができる。塩基窒素含有基を低級アルキル(C1−C6)ハロゲン化物(例えば、塩化、臭化およびヨウ化メチル、エチル、プロピルおよびブチル)、硫酸ジアルキル(例えば、硫酸ジメチルジエチルジブチルおよびジアミル)、長鎖ハロゲン化物(例えば、塩化、臭化およびヨウ化デシルラウリルミリスチルおよびステアリル)、ハロゲン化アリールアルキル(例えば、臭化ベンジルおよびフェネチル)等の物質四級化することができる。

0275

いくつかの実施形態において、塩は、N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニルナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドナトリウム塩である。

0276

いくつかの実施形態において、塩は、N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドの一ナトリウム塩である。

0277

いくつかの実施形態において、塩は、N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドの二ナトリウム塩である。

0278

いくつかの実施形態において、塩は、N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドのカリウム塩である。

0279

いくつかの実施形態において、塩は、N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドの一カリウム塩である。

0280

いくつかの実施形態において、塩は、N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドのコリン塩である。

0281

いくつかの実施形態において、塩は、N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドの一コリン塩である。

0282

F.純度
(純粋および実質的に純粋を含む)任意のレベルの純度を有する式Iの化合物(およびそれらの塩)は、出願人の発明の範囲内である。化合物/塩/異性体に関する「実質的に純粋」という用語は、化合物/塩/異性体を含む製剤/組成物が、約85重量%を超える化合物/塩/異性体、好ましくは約90重量%を超える化合物/塩/異性体、好ましくは約95重量%を超える化合物/塩/異性体、好ましくは約97重量%を超える化合物/塩/異性体、好ましくは約99重量%を超える化合物/塩/異性体を含むことを意味する。

0283

G.発明のある具体的な化合物および塩の結晶形
G1.N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド(化合物IB−L0−2.3)の結晶形
本発明は、また、一部に、N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド(化合物IB−L0−2.3)の結晶形、すなわち下記に記載する溶媒和物、水和物および無溶媒結晶形に関する。

0284

G1A.IB−L0−2.3溶媒和物
本発明は、また、一部に化合物IB−L0−2.3のエタノール溶媒和物に関する。

0285

いくつかの実施形態において、エタノール溶媒和物は、8.3±0.2、9.7±0.2、10.6±0.2、13.6±0.2、17.2±0.2、19.2±0.2、22.7±0.2、26.9±0.2および29.4±0.2度2シータ(2θ)からなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、エタノール溶媒和物は、8.3±0.2、9.7±0.2、10.6±0.2、13.6±0.2、17.2±0.2、19.2±0.2、22.7±0.2、26.9±0.2および29.4±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、エタノール溶媒和物は、8.3±0.2、9.7±0.2、10.6±0.2、13.6±0.2、17.2±0.2、19.2±0.2、22.7±0.2、26.9±0.2および29.4±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0286

いくつかの実施形態において、エタノール溶媒和物は、8.3±0.2、9.7±0.2、10.0±0.2、10.6±0.2、13.6±0.2、17.2±0.2、17.5±0.2、19.2±0.2、19.4±0.2、22.7±0.2、26.9±0.2および29.4±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、エタノール溶媒和物は、8.3±0.2、9.7±0.2、10.0±0.2、10.6±0.2、13.6±0.2、17.2±0.2、17.5±0.2、19.2±0.2、19.4±0.2、22.7±0.2、26.9±0.2および29.4±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、エタノール溶媒和物は、8.3±0.2、9.7±0.2、10.0±0.2、10.6±0.2、13.6±0.2、17.2±0.2、17.5±0.2、19.2±0.2、19.4±0.2、22.7±0.2、26.9±0.2および29.4±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0287

いくつかの実施形態において、エタノール溶媒和物は、実質的に図1に示されるX線粉末回折パターンを有する。図1におけるピーク(およびそれらの強度)の2θ値は、以下の通りである。8.25(54)、9.67(74)、9.92(63)、10.59(21)、13.64(49)、17.25(40)、17.51(20)、19.19(66)、19.43(100)、22.75(19)、26.92(25)および29.39(18)。

0288

本発明は、また、一部に、化合物IB−L0−2.3のアセトニトリル溶媒和物に関する。

0289

いくつかの実施形態において、アセトニトリル溶媒和物は、5.3±0.2、8.3±0.2、9.7±0.2、10.5±0.2、13.8±0.2、17.2±0.2、19.1±0.2および19.5±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、アセトニトリル溶媒和物は、5.3±0.2、8.3±0.2、9.7±0.2、10.5±0.2、13.8±0.2、17.2±0.2、19.1±0.2および19.5±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、アセトニトリル溶媒和物は、5.3±0.2、8.3±0.2、9.7±0.2、10.5±0.2、13.8±0.2、17.2±0.2、19.1±0.2および19.5±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0290

いくつかの実施形態において、アセトニトリル溶媒和物は、5.3±0.2、8.3±0.2、9.7±0.2、10.5±0.2、13.8±0.2、17.2±0.2、17.7±0.2、19.1±0.2、19.5±0.2、22.0±0.2、22.8±0.2および27.2±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、アセトニトリル溶媒和物は、5.3±0.2、8.3±0.2、9.7±0.2、10.5±0.2、13.8±0.2、17.2±0.2、17.7±0.2、19.1±0.2、19.5±0.2、22.0±0.2、22.8±0.2および27.2±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、アセトニトリル溶媒和物は、5.3±0.2、8.3±0.2、9.7±0.2、10.5±0.2、13.8±0.2、17.2±0.2、17.7±0.2、19.1±0.2、19.5±0.2、22.0±0.2、22.8±0.2および27.2±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0291

いくつかの実施形態において、アセトニトリル溶媒和物は、実質的に図3に示されるX線粉末回折パターンを有する。図3におけるピーク(およびそれらの強度)の2θ値は、以下の通りである。5.27(14)、8.29(33)、9.72(100)、10.53(20)、13.77(67)、17.25(38)、17.69(17)、19.05(63)、19.47(58)、22.05(19)、22.75(16)および27.17(21)。

0292

本発明は、また、一部に、化合物IB−L0−2.3の酢酸エチル溶媒和物に関する。

0293

いくつかの実施形態において、酢酸エチル溶媒和物は、7.9±0.2、9.3±0.2、9.7±0.2、10.6±0.2、18.7±0.2、38.5±0.2および44.7±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、酢酸エチル溶媒和物は、7.9±0.2、9.3±0.2、9.7±0.2、10.6±0.2、18.7±0.2、38.5±0.2および44.7±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、酢酸エチル溶媒和物は、7.9±0.2、9.3±0.2、9.7±0.2、10.6±0.2、18.7±0.2、38.5±0.2および44.7±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0294

いくつかの実施形態において、酢酸エチル溶媒和物は、7.9±0.2、9.3±0.2、9.7±0.2、10.6±0.2、13.7±0.2、17.4±0.2、18.7±0.2、21.7±0.2、22.0±0.2、28.2±0.2、38.5±0.2および44.7±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、酢酸エチル溶媒和物は、7.9±0.2、9.3±0.2、9.7±0.2、10.6±0.2、13.7±0.2、17.4±0.2、18.7±0.2、21.7±0.2、22.0±0.2、28.2±0.2、38.5±0.2および44.7±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、酢酸エチル溶媒和物は、7.9±0.2、9.3±0.2、9.7±0.2、10.6±0.2、13.7±0.2、17.4±0.2、18.7±0.2、21.7±0.2、22.0±0.2、28.2±0.2、38.5±0.2および44.7±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0295

いくつかの実施形態において、酢酸エチルは、実質的に図4に示されるX線粉末回折パターンを有する。図4におけるピーク(およびそれらの強度)の2θ値は、以下の通りである。7.94(24)、9.33(26)、9.72(13)、10.58(23)、13.71(19)、17.40(28)、18.72(44)、21.69(8)、22.04(10)、28.23(8)、38.45(100)および44.66(95)。

0296

本発明は、また、一部に、化合物IB−L0−2.3の2−プロパノール溶媒和物に関する。

0297

いくつかの実施形態において、2−プロパノール溶媒和物は、8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、16.3±0.2、18.1±0.2、18.6±0.2、19.4±0.2、21.6±0.2および22.5±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、2−プロパノール溶媒和物は、8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、16.3±0.2、18.1±0.2、18.6±0.2、19.4±0.2、21.6±0.2および22.5±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、2−プロパノール溶媒和物は、8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、16.3±0.2、18.1±0.2、18.6±0.2、19.4±0.2、21.6±0.2および22.5±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0298

いくつかの実施形態において、2−プロパノール溶媒和物は、8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、16.3±0.2、18.1±0.2、18.6±0.2、19.4±0.2、21.6±0.2、22.5±0.2、23.8±0.2、26.0±0.2および28.0±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、2−プロパノール溶媒和物は、8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、16.3±0.2、18.1±0.2、18.6±0.2、19.4±0.2、21.6±0.2、22.5±0.2、23.8±0.2、26.0±0.2および28.0±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、2−プロパノール溶媒和物は、8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、16.3±0.2、18.1±0.2、18.6±0.2、19.4±0.2、21.6±0.2、22.5±0.2、23.8±0.2、26.0±0.2および28.0±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0299

いくつかの実施形態において、2−プロパノール溶媒和物は、実質的に図5に示されるX線粉末回折パターンを有する。図5におけるピーク(およびそれらの強度)の2θ値は、以下の通りである。8.18(32)、9.26(100)、10.12(81)、16.28(93)、18.11(30)、18.59(63)、19.40(67)、21.57(60)、22.51(31)、23.82(29)、25.94(24)および28.05(29)。

0300

本発明は、また、一部に、化合物IB−L0−2.3のメタノール溶媒和物に関する。

0301

いくつかの実施形態において、メタノール溶媒和物は、8.4±0.2、9.7±0.2、10.1±0.2、13.8±0.2、17.4±0.2、19.3±0.2および19.6±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、メタノール溶媒和物は、8.4±0.2、9.7±0.2、10.1±0.2、13.8±0.2、17.4±0.2、19.3±0.2および19.6±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、メタノール溶媒和物は、8.4±0.2、9.7±0.2、10.1±0.2、13.8±0.2、17.4±0.2、19.3±0.2および19.6±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0302

いくつかの実施形態において、メタノール溶媒和物は、8.4±0.2、9.7±0.2、10.1±0.2、13.5±0.2、13.8±0.2、17.4±0.2、19.3±0.2、19.6±0.2および27.1±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、メタノール溶媒和物は、8.4±0.2、9.7±0.2、10.1±0.2、13.5±0.2、13.8±0.2、17.4±0.2、19.3±0.2、19.6±0.2および27.1±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、メタノール溶媒和物は、8.4±0.2、9.7±0.2、10.1±0.2、13.5±0.2、13.8±0.2、17.4±0.2、19.3±0.2、19.6±0.2および27.1±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0303

いくつかの実施形態において、メタノール溶媒和物は、実質的に図6に示されるX線粉末回折パターンを有する。図6におけるピーク(およびそれらの強度)の2θ値は、以下の通りである。8.36(48)、9.74(65)、10.05(74)、13.55(24)、13.79(69)、17.40(32)、19.30(80)、19.58(100)および27.08(24)。

0304

本発明は、また、一部に、化合物IB−L0−2.3の1−プロパノール溶媒和物に関する。

0305

いくつかの実施形態において、1−プロパノール溶媒和物は、8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、15.7±0.2、16.2±0.2、18.4±0.2、19.3±0.2、21.6±0.2および22.8±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、1−プロパノール溶媒和物は、8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、15.7±0.2、16.2±0.2、18.4±0.2、19.3±0.2、21.6±0.2および22.8±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、1−プロパノール溶媒和物は、8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、15.7±0.2、16.2±0.2、18.4±0.2、19.3±0.2、21.6±0.2および22.8±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0306

いくつかの実施形態において、1−プロパノール溶媒和物は、8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、10.5±0.2、15.7±0.2、16.2±0.2、18.4±0.2、18.6±0.2、19.3±0.2、21.0±0.2、21.6±0.2および22.8±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、1−プロパノール溶媒和物は、8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、10.5±0.2、15.7±0.2、16.2±0.2、18.4±0.2、18.6±0.2、19.3±0.2、21.0±0.2、21.6±0.2および22.8±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、1−プロパノール溶媒和物は、8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、10.5±0.2、15.7±0.2、16.2±0.2、18.4±0.2、18.6±0.2、19.3±0.2、21.0±0.2、21.6±0.2および22.8±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0307

いくつかの実施形態において、1−プロパノール溶媒和物は、実質的に図7に示されるX線粉末回折パターンを有する。図7におけるピーク(およびそれらの強度)の2θ値は、以下の通りである。8.15(27)、9.26(87)、10.08(84)、10.47(62)、15.73(40)、16.24(100)、18.37(41)、18.59(49)、19.33(50)、20.97(28)、21.65(71)および22.81(44)。

0308

本発明は、また、一部に、化合物IB−L0−2.3を対応する溶媒に懸濁させることによって上記溶媒を調製するための方法に関する。

0309

G1B.無溶媒IB−L0−2.3
本発明は、また、一部に、化合物IB−L0−2.3の無溶媒結晶形に関する。

0310

いくつかの実施形態において、無溶媒化合物IB−L0−2.3は、6.2±0.2、7.9±0.2、9.9±0.2、16.2±0.2および18.3±0.2度2シータ(2θ)からなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、無溶媒化合物IB−L0−2.3は、6.2±0.2、7.9±0.2、9.9±0.2、16.2±0.2および18.3±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、無溶媒化合物IB−L0−2.3は、6.2±0.2、7.9±0.2、9.9±0.2、16.2±0.2および18.3±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0311

いくつかの実施形態において、無溶媒化合物IB−L0−2.3は、6.2±0.2、7.9±0.2、9.9±0.2、10.1±0.2、14.9±0.2、16.2±0.2、18.3±0.2、19.8±0.2および26.5±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、無溶媒化合物IB−L0−2.3は、6.2±0.2、7.9±0.2、9.9±0.2、10.1±0.2、14.9±0.2、16.2±0.2、18.3±0.2、19.8±0.2および26.5±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、無溶媒化合物IB−L0−2.3は、6.2±0.2、7.9±0.2、9.9±0.2、10.1±0.2、14.9±0.2、16.2±0.2、18.3±0.2、19.8±0.2および26.5±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。さらに他の当該実施形態において、無溶媒化合物IB−L0−2.3は、6.2±0.2、7.9±0.2、9.9±0.2、10.1±0.2、14.9±0.2、16.2±0.2、18.3±0.2、19.8±0.2および26.5±0.2度2θからなる群から選択される8つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0312

いくつかの実施形態において、無溶媒化合物IB−L0−2.3は、実質的に図8に示されるX線粉末回折パターンを有する。図8におけるピーク(およびそれらの強度)の2θ値は、以下の通りである。6.20(36)、7.85(66)、9.89(61)、10.12(75)、14.87(27)、16.19(89)、18.32(100)、19.82(77)および26.53(34)。

0313

本発明は、また、一部に、上記IB−L0−2.3溶媒和物の1つを脱溶媒和することによって化合物IB−L0−2.3の無溶媒結晶形を調製するための方法に関する。溶媒和物の固体を約125℃で約10分間加熱することによって溶媒和物を脱溶媒和することができる。

0314

G1C.IB−L0−2.3水和物
本発明は、また、一部に、化合物IB−L0−2.3の水和物に関する。

0315

いくつかの実施形態において、水和物は、6.4±0.2、12.9±0.2、17.9±0.2および18.9±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、水和物は、6.4±0.2、12.9±0.2、17.9±0.2および18.9±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0316

いくつかの実施形態において、水和物は、6.4±0.2、12.9±0.2、17.5±0.2、17.9±0.2、18.9±0.2および24.4±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、水和物は、6.4±0.2、12.9±0.2、17.5±0.2、17.9±0.2、18.9±0.2および24.4±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、水和物は、6.4±0.2、12.9±0.2、17.5±0.2、17.9±0.2、18.9±0.2および24.4±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0317

いくつかの実施形態において、水和物は、6.4±0.2、12.7±0.2、12.9±0.2、14.1±0.2、15.7±0.2、17.2±0.2、17.5±0.2、17.9±0.2、18.9±0.2、21.2±0.2、24.4±0.2および25.0±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、水和物は、6.4±0.2、12.7±0.2、12.9±0.2、14.1±0.2、15.7±0.2、17.2±0.2、17.5±0.2、17.9±0.2、18.9±0.2、21.2±0.2、24.4±0.2および25.0±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、水和物は、6.4±0.2、12.7±0.2、12.9±0.2、14.1±0.2、15.7±0.2、17.2±0.2、17.5±0.2、17.9±0.2、18.9±0.2、21.2±0.2、24.4±0.2および25.0±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0318

いくつかの実施形態において、水和物は、実質的に図9に示されるX線粉末回折パターンを有する。図9におけるピーク(およびそれらの強度)の2θ値は、以下の通りである。6.42(60)、12.71(33)、12.89(58)、14.05(17)、15.68(18)、17.22(44)、17.53(100)、17.86(51)、18.87(77)、21.25(17)、24.35(28)および24.95(20)。

0319

本発明は、また、一部に、上記無溶媒結晶性化合物を水に懸濁させることによって水和物を調製するための方法に関する。300mgの無溶媒結晶性化合物を2mlの水に45℃で4日間懸濁させることによって水和物を調製した。

0320

G2.N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド、一ナトリウム塩の結晶形
本発明は、また、一部に、N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド、一ナトリウム塩の結晶形、すなわち下記に記載されるパターンA、パターンBおよびパターンC結晶形に関する。

0321

本発明は、一部に、パターンA結晶一ナトリウム塩に関する。

0322

いくつかの実施形態において、パターンA一ナトリウム塩は、4.6±0.2、10.4±0.2、12.0±0.2、15.6±0.2、18.6±0.2、22.8±0.2および23.9±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、パターンA一ナトリウム塩は、4.6±0.2、10.4±0.2、12.0±0.2、15.6±0.2、18.6±0.2、22.8±0.2および23.9±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、パターンA一ナトリウム塩は、4.6±0.2、10.4±0.2、12.0±0.2、15.6±0.2、18.6±0.2、22.8±0.2および23.9±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0323

いくつかの実施形態において、パターンA一ナトリウム塩は、4.6±0.2、10.4±0.2、12.0±0.2、15.6±0.2、18.6±0.2、22.8±0.2、23.3±0.2および23.9±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、パターンA一ナトリウム塩は、4.6±0.2、10.4±0.2、12.0±0.2、15.6±0.2、18.6±0.2、22.8±0.2、23.3±0.2および23.9±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、パターンA一ナトリウム塩は、4.6±0.2、10.4±0.2、12.0±0.2、15.6±0.2、18.6±0.2、22.8±0.2、23.3±0.2および23.9±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0324

いくつかの実施形態において、パターンA一ナトリウム塩は、4.6±0.2、10.4±0.2、12.0±0.2、15.6±0.2、16.0±0.2、18.6±0.2、22.8±0.2、23.3±0.2、23.9±0.2および28.3±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、パターンA一ナトリウム塩は、4.6±0.2、10.4±0.2、12.0±0.2、15.6±0.2、16.0±0.2、18.6±0.2、22.8±0.2、23.3±0.2、23.9±0.2および28.3±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、パターンA一ナトリウム塩は、4.6±0.2、10.4±0.2、12.0±0.2、15.6±0.2、16.0±0.2、18.6±0.2、22.8±0.2、23.3±0.2、23.9±0.2および28.3±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、パターンA一ナトリウム塩は、4.6±0.2、10.4±0.2、12.0±0.2、15.6±0.2、16.0±0.2、18.6±0.2、22.8±0.2、23.3±0.2、23.9±0.2および28.3±0.2度2θからなる群から選択される8つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0325

いくつかの実施形態において、パターンA一ナトリウム塩は、実質的に図10に示されるX線粉末回折パターンを有する。図10におけるピーク(およびそれらの強度)の2θ値は、以下の通りである。4.64(62)、10.41(38)、12.04(38)、15.62(44)、15.99(44)、18.63(49)、22.77(60)、23.29(40)、23.93(100)および28.31(56)。

0326

本発明は、また、一部に、パターンA一ナトリウム塩を調製するための方法に関する。1MのNaOH(0.548ml)水溶液を化合物IB−L0−2.3(225.72mg)に添加し、得られた懸濁液に(以下のように調製された)結晶性N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド、二ナトリウム塩を供給し、得られた懸濁液を室温で平衡させることによってパターンA一ナトリウム塩を調製した。次の日に、溶液媒介法を通じてパターンA一ナトリウム塩を形成した。塩の化学量論組成は、結晶化手順に基づいて1:1であると想定された。本発明は、一部に、パターンB結晶一ナトリウム塩に関する。

0327

いくつかの実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2および23.7±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2および23.7±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2および23.7±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0328

いくつかの実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、18.8±0.2、19.2±0.2、19.6±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2、23.7±0.2、28.8±0.2、29.1±0.2および31.8±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、18.8±0.2、19.2±0.2、19.6±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2、23.7±0.2、28.8±0.2、29.1±0.2および31.8±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、18.8±0.2、19.2±0.2、19.6±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2、23.7±0.2、28.8±0.2、29.1±0.2および31.8±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、18.8±0.2、19.2±0.2、19.6±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2、23.7±0.2、28.8±0.2、29.1±0.2および31.8±0.2度2θからなる群から選択される8つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0329

いくつかの実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、18.8±0.2、19.2±0.2、19.6±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2、23.7±0.2、28.8±0.2、29.1±0.2および31.8±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、18.8±0.2、19.2±0.2、19.6±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2、23.7±0.2、29.1±0.2および31.8±0.2度2θからなる群から選択される2つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、18.8±0.2、19.2±0.2、19.6±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2、23.7±0.2、28.8±0.2および31.8±0.2度2θからなる群から選択される2つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。さらに他の当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、18.8±0.2、19.2±0.2、19.6±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2、23.7±0.2および31.8±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。さらに他の当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、18.8±0.2、19.2±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2および23.7±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。さらに他の当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、19.2±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2および23.7±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。さらに他の当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、18.8±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2および23.7±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。さらに他の当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2および23.7±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。さらに他の当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、16.3±0.2、22.1±0.2および23.7±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0330

いくつかの実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2および16.3±0.2度2θのピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、16.3±0.2および22.1±0.2度2θのピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、16.3±0.2、22.1±0.2および23.7±0.2度2θのピークを含むX線粉末回折パターンを有する。さらに他の当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2および23.7±0.2度2θのピークを含むX線粉末回折パターンを有する。さらに他の当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、18.8±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2および23.7±0.2度2θのピークを含むX線粉末回折パターンを有する。さらに他の当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、19.2±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2および23.7±0.2度2θのピークを含むX線粉末回折パターンを有する。さらに他の当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、18.8±0.2、19.2±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2および23.7±0.2度2θのピークを含むX線粉末回折パターンを有する。さらなる当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、18.8±0.2、19.2±0.2、19.6±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2、23.7±0.2および31.8±0.2度2θのピークを含むX線粉末回折パターンを有する。さらなる当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、18.8±0.2、19.2±0.2、19.6±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2、23.7±0.2、28.8±0.2および31.8±0.2度2θのピークを含むX線粉末回折パターンを有する。さらなる当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、18.8±0.2、19.2±0.2、19.6±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2、23.7±0.2、29.1±0.2および31.8±0.2度2θのピークを含むX線粉末回折パターンを有する。さらなる当該実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、18.8±0.2、19.2±0.2、19.6±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2、23.7±0.2、28.8±0.2、29.1±0.2および31.8±0.2度2θのピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0331

いくつかの実施形態において、パターンB一ナトリウム塩は、実質的に図12に示されるX線粉末回折パターンを有する。図12におけるピーク(およびそれらの強度)の2θ値は、以下の通りである。5.36(100)、10.75(42)、14.43(20)、16.34(60)、17.00(25)、18.83(18)、19.24(18)、19.66(12)、21.64(29)、22.12(41)、23.73(32)、28.83(9)、29.10(9)および31.78(10)。

0332

本発明は、また、一部に、パターンB一ナトリウム塩を調製するための方法に関する。様々な有機溶媒(例えば、約125ulのアセトニトリルエタノール、1−プロパノールまたは2−プロパノール)にパターンA一ナトリウム塩(例えば約30mg)室温で懸濁させることによってパターンB一ナトリウム塩を調製することができる。溶液にパターンB一ナトリウム塩を供給することによってもパターンB一ナトリウム塩を調製した。化合物IB−L0−2.3(12.5g)をDMSO(37.5ml)に約68℃で溶解させた。6.3mlの水、6.3mlの2プロパノールおよび12.5mlの35.2:1v/vの2−プロパノール/水に溶解させた1.04gのNaOHを添加した。該溶液に、12.5mlの35.2:1v/vの2−プロパノール/水でスラリー化した125mgのパターンBシーズを供給し、結晶化スラリーを約68℃で約1.5時間インキュベートした。175mlの35.2:1v/vの2−プロパノール/水を約68℃で7時間にわたって添加し、結晶化スラリーを7時間以上にわたって約0℃まで冷却した。結晶を濾過によって単離し、PXRDによって分析した。次いで、結晶を約50℃にて真空(約3インチの水銀)下で乾燥させた。乾燥した結晶をPXRDによって分析したところ、乾燥前のサンプルと比較して変化が示されなかった。パターンB一ナトリウム塩の化学量論組成をイオンクロマトグラフィーによって確認した。

0333

本発明は、また、一部に、パターンC結晶一ナトリウム塩に関する。

0334

いくつかの実施形態において、パターンC一ナトリウム塩は、5.0±0.2、12.0±0.2、17.5±0.2、18.8±0.2および22.7±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、パターンC一ナトリウム塩は、5.0±0.2、12.0±0.2、17.5±0.2、18.8±0.2および22.7±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0335

いくつかの実施形態において、パターンC一ナトリウム塩は、5.0±0.2、12.0±0.2、17.5±0.2、17.8±0.2、18.8±0.2および22.7±0.2度2θからなる群から選択される1つまたは複数のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。いくつかの当該実施形態において、パターンA一ナトリウム塩は、5.0±0.2、12.0±0.2、17.5±0.2、17.8±0.2、18.8±0.2および22.7±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。他の当該実施形態において、パターンA一ナトリウム塩は、5.0±0.2、12.0±0.2、17.5±0.2、17.8±0.2、18.8±0.2および22.7±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する。

0336

いくつかの実施形態において、パターンC一ナトリウム塩は、実質的に図14に示されるX線粉末回折パターンを有する。図14におけるピーク(およびそれらの強度)の2θ値は、以下の通りである。4.97(100)、12.03(24)、17.55(32)、17.80(77)、18.79(23)および22.74(33)。

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