図面 (/)

技術 浮上搬送塗布装置

出願人 東京応化工業株式会社
発明者 升芳明
出願日 2007年9月19日 (12年1ヶ月経過) 出願番号 2007-241742
公開日 2009年4月9日 (10年6ヶ月経過) 公開番号 2009-072650
状態 特許登録済
技術分野 塗布装置3(一般、その他) 塗布装置2(吐出、流下) 流動性材料の適用方法、塗布方法
主要キーワード エア噴出孔 サポートローラ エア吸引孔 門型フレーム 発生部材 カーテン状 塗布終了後 浮上搬送
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(2009年4月9日)のものです。
また、この項目は機械的に抽出しているため、正しく解析できていない場合があります

図面 (5)

課題

基板浮上搬送しつつ塗布を施す場合でも、基板を安定させた状態で塗布できる浮上搬送塗布装置を提供する。

解決手段

スリットノズル9の直下には、サポートローラ10がスリットノズル9と平行に配置されている。このサポートローラ10は好ましくは上下方向に位置調整可能とされ、その上端は前記テーブル1〜4の上面と同一高さになるか、テーブルの上面よりも若干高い位置にする。このような構成とすることで塗布の際に基板Wの下面をサポートローラ10で支持するため、基板Wが沈み込んだり撓んだりしない。

概要

背景

ガラス基板の表面にレジスト液などの塗布液を塗布する装置として、テーブル上にガラス基板を吸着固定し、このガラス基板上をスリットノズルを移動させつつスリットノズルからガラス基板上面にカーテン状に塗布液を供給するタイプと、スリットノズルを固定し、その下をガラス基板が移動するようにしたタイプとがある。

特許文献1には、基板搬入部と塗布処理部と基板搬出部を基板を浮上させて搬送する搬送方向に沿って設けた搬送塗布装置が開示されている。この搬送塗布装置にあっては、エアを噴出して基板を浮上させるステージ(テーブル)の両側に吸着パッドなどからなる基板搬送機構を移動可能に配置し、基板の両側を吸着した状態で搬送するようにしている。

特許文献2には、基板を浮上させて搬送しつつ基板上面に塗布液を塗布する装置として、第1の基板搬送部と第2の基板搬送部を設け、第1の基板搬送部によって基板を基板搬入部から塗布処理部まで搬送し、塗布処理部では第1の基板搬送部と第2の基板搬送部とで基板の両側を保持した状態で塗布を行い、塗布終了後は第1の基板搬送部は元の位置に戻り、第2の基板搬送部で塗布後の基板を塗布処理部から基板搬出部まで搬送するようにした装置が提案されている。

特開2005−243670号公報
特開2006−237482号公報

概要

基板を浮上搬送しつつ塗布を施す場合でも、基板を安定させた状態で塗布できる浮上搬送塗布装置を提供する。スリットノズル9の直下には、サポートローラ10がスリットノズル9と平行に配置されている。このサポートローラ10は好ましくは上下方向に位置調整可能とされ、その上端は前記テーブル1〜4の上面と同一高さになるか、テーブルの上面よりも若干高い位置にする。このような構成とすることで塗布の際に基板Wの下面をサポートローラ10で支持するため、基板Wが沈み込んだり撓んだりしない。

目的

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
0件

この技術が所属する分野

ライセンス契約や譲渡などの可能性がある特許掲載中! 開放特許随時追加・更新中 詳しくはこちら

請求項1

基板を浮上させた状態で搬送しつつ基板表面に塗布液を供給する浮上搬送塗布装置において、前記塗布液を供給する塗布処理部には基板の搬送方向と直交する方向に配置されたスリットノズル昇降可能に設けられ、このスリットノズルの直下には塗布の際に基板の下面を支持するサポートローラが前記スリットノズルと平行に配置されていることを特徴とする浮上搬送塗布装置。

請求項2

請求項1に記載の浮上搬送塗布装置において、前記塗布処理部の上流側には基板搬入部が配置され、前記塗布処理部の下流側には基板搬出部が配置され、これら基板搬入部及び基板搬出部には基板を浮上させるためのエア噴出孔が形成されていることを特徴とする浮上搬送塗布装置。

請求項3

請求項1に記載の浮上搬送塗布装置において、前記塗布処理部の上流側には基板搬入部が配置され、前記塗布処理部の下流側には基板搬出部が配置され、これら基板搬入部及び基板搬出部には基板を浮上させるためのエア噴出孔を上面に形成したテーブルが設けられ、これら基板搬入部及び基板搬出部に設けられたテーブルのうち前記塗布処理部寄りの部分にはエア噴出孔の他にエア吸引孔も形成されていることを特徴とする浮上搬送塗布装置。

請求項4

請求項1に記載の浮上搬送塗布装置において、前記塗布処理部の上流側には基板搬入部が配置され、前記塗布処理部の下流側には基板搬出部が配置され、これら基板搬入部及び基板搬出部には基板を浮上させるための静電力発生部材が備えられていることを特徴とする浮上搬送塗布装置。

技術分野

0001

本発明は、ガラス基板などの基板をテーブルから浮上させた状態で搬送しつつ塗布を行う浮上搬送塗布装置に関する。

背景技術

0002

ガラス基板の表面にレジスト液などの塗布液を塗布する装置として、テーブル上にガラス基板を吸着固定し、このガラス基板上をスリットノズルを移動させつつスリットノズルからガラス基板上面にカーテン状に塗布液を供給するタイプと、スリットノズルを固定し、その下をガラス基板が移動するようにしたタイプとがある。

0003

特許文献1には、基板搬入部と塗布処理部と基板搬出部を基板を浮上させて搬送する搬送方向に沿って設けた搬送塗布装置が開示されている。この搬送塗布装置にあっては、エアを噴出して基板を浮上させるステージ(テーブル)の両側に吸着パッドなどからなる基板搬送機構を移動可能に配置し、基板の両側を吸着した状態で搬送するようにしている。

0004

特許文献2には、基板を浮上させて搬送しつつ基板上面に塗布液を塗布する装置として、第1の基板搬送部と第2の基板搬送部を設け、第1の基板搬送部によって基板を基板搬入部から塗布処理部まで搬送し、塗布処理部では第1の基板搬送部と第2の基板搬送部とで基板の両側を保持した状態で塗布を行い、塗布終了後は第1の基板搬送部は元の位置に戻り、第2の基板搬送部で塗布後の基板を塗布処理部から基板搬出部まで搬送するようにした装置が提案されている。

0005

特開2005−243670号公報
特開2006−237482号公報

発明が解決しようとする課題

0006

特許文献1および特許文献2のいずれも基板の側端は吸着パッドなどによって支えられているが、側端部を除いた部分は何も支持されていない。
このような状態で、図4に示すように、想像線の高さまで浮上して搬送されてきた基板の表面に、塗布処理部において上方のスリットノズルから塗布液が供給されると、塗布液が供給されたことによる衝撃や重量変化によって基板の高さが低くなったり、歪んだりし、塗膜の厚さが不均一になる。

課題を解決するための手段

0007

上記課題を解消するため、本発明に係る浮上搬送塗布装置は、塗布液を供給する塗布処理部に基板の搬送方向と直交する方向に配置されたスリットノズルが昇降可能に設けられ、このスリットノズルの直下には塗布の際に基板の下面を支持するサポートローラが前記スリットノズルと平行に配置された構成とした。

0008

具体的な構成としては、塗布処理部の上流側に基板搬入部が配置され、前記塗布処理部の下流側に基板搬出部が配置され、これら基板搬入部及び基板搬出部には基板を浮上させるためのエア噴出孔を上面に形成したテーブルが設けられる。また、別の構成では、これら基板搬入部及び基板搬出部に設けられたテーブルのうち前記塗布処理部寄りの部分にはエア噴出孔の他にエア吸引孔も形成された構成が考えられる。

0009

基板を不定させる手段としては、エアに限らず、例えば静電気を利用して、電気的に基板を浮上させるようにしてもよい。

0010

また、前記サポートローラはその上端が前記テーブルの上面と同一高さになるか、テーブルの上面よりも若干高い位置にすることが好ましい。そのために、サポートローラについては高さ調整可能とする。

発明の効果

0011

本発明に係る浮上搬送塗布装置によれば、浮上搬送中に塗布を行っても基板が沈み込んだり撓んだりすることがなく、安定した状態で塗布を行うことができるので、均一な厚さの塗膜を得ることができる。

発明を実施するための最良の形態

0012

以下に本発明の好適な実施例を添付図面に基づいて説明する。図1は本発明に係る浮上搬送塗布装置の全体斜視図、図2は同浮上搬送塗布装置の平面図、図3は同浮上搬送塗布装置の要部の正面図である。

0013

浮上搬送塗布装置は、基板の搬送方向に沿って、基板搬入部S1、塗布処理部S2及び基板搬出部S3が連続して配置されている。基板搬入部S1には基板を浮上搬送するテーブル1,2が連続して設けられ、基板搬出部S3には浮上搬送するテーブル3,4が連続して設けられている。

0014

前記テーブル1,2の上面には基板Wを浮上させるためのエア噴出孔5が形成され、特に塗布処理部S2寄りのテーブル2上面には基板Wの浮上量をコントロールするためのエア吸引孔6が形成されている。これらエア噴出孔3とエア吸引孔4は交互に配置されている。

0015

また、前記テーブル3,4の上面には基板Wを浮上させるためのエア噴出孔5が形成され、特に塗布処理部S2寄りのテーブル3上面にもテーブル2と同様に前記基板Wの浮上量をコントロールするためのエア吸引孔6が形成されている。

0016

前記テーブル2,3の間にはスペースが設けられ、このスペースの外側に門型フレーム7が固定されている。この門型フレーム7の内側面にはレール8が設けられ、このレール8に基板Wの搬送方向と直交する方向に配置されたスリットノズル9が係合し、モータの駆動などによって昇降可能とされている。

0017

前記スリットノズル9の直下には、サポートローラ10がスリットノズル9と平行に配置されている。このサポートローラ10は好ましくは上下方向に位置調整可能とされ、その上端は前記テーブル1〜4の上面と同一高さになるか、テーブルの上面よりも若干高い位置にする。このような構成とすることで塗布の際に基板Wの下面をサポートローラ10で支持するため、基板Wが沈み込んだり撓んだりしない。

0018

また前記基板搬入部S1、塗布処理部S2及び基板搬出部S3の両側にレール11,12を設け、レール11には搬送機構13を移動可能に係合し、レール12には搬送機構14を移動可能に係合している。

0019

前記搬送機構13,14はリニアモータによってレールに非接触状態で移動するとともに、基板の側縁下面を保持する吸着パッド13a,14aを備えている。これら吸着パッド13a,14aは高さ位置を調整可能とされ、空の状態で戻るときには,処理中の基板Wとの干渉を避けるため、吸着パッドを下げた状態で戻るようにしている。

図面の簡単な説明

0020

本発明に係る浮上搬送塗布装置の全体斜視図
同浮上搬送塗布装置の平面図
同浮上搬送塗布装置の要部の正面図
従来の装置の問題点を説明した図

符号の説明

0021

1,2,3,4…テーブル、5…エア噴出孔、6…エア吸引孔、7…門型フレーム、8…レール、9…スリットノズル、10…サポートローラ、11,12…レール、13,14…搬送機構、13a,14a…吸着パッド、S1…基板搬入部、S2…塗布処理部、S3…基板搬出部、W…基板。

ページトップへ

この技術を出願した法人

この技術を発明した人物

ページトップへ

関連する挑戦したい社会課題

関連する公募課題

該当するデータがありません

ページトップへ

おススメ サービス

おススメ astavisionコンテンツ

新着 最近 公開された関連が強い技術

  • 本田技研工業株式会社の「 塗装用ドア治具」が 公開されました。( 2019/08/22)

    【課題】連結ピンに付着した塗料に起因するリンク部材の回転不良の抑制を図る。【解決手段】車体に取り付けられる車体側ベース部材2と、ドアに取り付けられるドア側ベース部材3と、車体側ベース部材2とドア側ベー... 詳細

  • マクセルホールディングス株式会社の「 透明導電性膜の製造方法」が 公開されました。( 2019/08/15)

    【課題】製造効率に優れ、塗膜中の塊状物、色むらが発生し難い、ポリチオフェン系化合物/ポリスチレンスルホン酸を含む透明導電性膜の製造方法を提供すること。【解決手段】ポリチオフェン系化合物/ポリスチレンス... 詳細

  • 東芝メモリ株式会社の「 薬液塗布装置および半導体デバイスの製造方法」が 公開されました。( 2019/08/15)

    【課題】ショットマップに対するエッジカット位置を制御すること。【解決手段】実施形態の薬液塗布装置は、スピナにより基板を回転させた状態で、基板に薬液を塗布し、基板のエッジの薬液を所定の幅で除去する薬液塗... 詳細

この 技術と関連性が強い技術

関連性が強い 技術一覧

この 技術と関連性が強い人物

関連性が強い人物一覧

この 技術と関連する社会課題

関連する挑戦したい社会課題一覧

この 技術と関連する公募課題

該当するデータがありません

astavision 新着記事

サイト情報について

本サービスは、国が公開している情報(公開特許公報、特許整理標準化データ等)を元に構成されています。出典元のデータには一部間違いやノイズがあり、情報の正確さについては保証致しかねます。また一時的に、各データの収録範囲や更新周期によって、一部の情報が正しく表示されないことがございます。当サイトの情報を元にした諸問題、不利益等について当方は何ら責任を負いかねることを予めご承知おきのほど宜しくお願い申し上げます。

主たる情報の出典

特許情報…特許整理標準化データ(XML編)、公開特許公報、特許公報、審決公報、Patent Map Guidance System データ