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図面 (8)

課題

表示品位に優れた表示装置、及び表示装置の表示品位を向上させることが可能な表示装置用基板の製造方法を提供する。

解決手段

表示装置100は、略矩形の表示領域を有するTFT基板103及び対向基板104を備える。TFT基板103又は対向基板104とされる基板1上には表示領域である区画6に膜パターン2及び3が積層されており、膜パターン2及び3は、表示領域である区画6の外側まで延在するとともに、膜パターン2及び3の外周端42及び43が区画6のコーナー部、つまり基板1のコーナー5の近傍において滑らかな曲線形状を有する。

概要

背景

液晶表示装置表示品質を向上させるためには、液晶への印加電圧の制御が重要になる。特に、液晶表示パネルの表示領域内で液晶のギャップが均一化されなければ、液晶による位相変化に差が生じ、その結果として表示画像明暗ムラが生じてしまうことがある。

この為、TFT(Thin Film Transistor)等のスイッチング素子が形成されるアクティブマトリックス基板上に形成される配線絶縁膜などの膜層の厚みを液晶表示パネルの表示領域内において均一化させることが重要である。

液晶表示装置の表示パネルの製造工程では、上述したアクティブマトリックス基板やこれに対向させて設けられる対向基板等に樹脂絶縁膜カラーフィルタ樹脂ブラックマトリクス樹脂BM)、オーバーコート層や、パターン形成後には除去される写真製版に用いるレジストなどの有機膜を塗布する際にスピンコート法が用いられることが多い。スピンコート法を用いる従来の液晶表示装置の製造工程では、スピンコート法により塗布される有機膜の厚みが下地となる配線や絶縁膜パターンのサイズが大きいと、そのパターン形状の影響によって不均一となり、塗布された有機膜の厚みに空間的な塗布ムラが発生するという問題があった。すなわち、大きなパターン段差があるために、有機膜溶液スピンコート時の遠心力によってパターンに沿って流れ、パターンの角や端からは、このパターンに沿って流れた有機膜溶液が遠心力で外側へ流れるので、有機膜溶液の溶剤揮発した後は、有機膜にパターンの角や端を起点とする大きなスジ状の塗布ムラが生じた。この問題の解決策の一例が特許文献1に開示されている。特許文献1に開示された液晶表示装置は、TFT素子が形成されるアクティブマトリックス基板の表示領域の周囲に設けられる配線を図7に示すような形状としている。つまり、多数の小さな突起9が配線8に形成されている。図7の矢印は、スピンコート時の回転軸となる基板中央方向11を示している。図7のような構成によって、スピンコート法により塗布される有機膜溶液が遠心力により基板中央方向11と逆方向に流れる際に、配線8に沿って流れることを防止できる。
特開2002−350820号公報

概要

表示品位に優れた表示装置、及び表示装置の表示品位を向上させることが可能な表示装置用基板の製造方法を提供する。表示装置100は、略矩形の表示領域を有するTFT基板103及び対向基板104を備える。TFT基板103又は対向基板104とされる基板1上には表示領域である区画6に膜パターン2及び3が積層されており、膜パターン2及び3は、表示領域である区画6の外側まで延在するとともに、膜パターン2及び3の外周端42及び43が区画6のコーナー部、つまり基板1のコーナー5の近傍において滑らかな曲線形状を有する。

目的

本発明は上述した問題点を鑑みてなされたものであり、スピンコート法により表示装置用基板の上に膜パターンを形成する際に、下地となる他の膜パターンの形状に起因する塗布ムラの発生を抑制することによって表示品位に優れた表示装置を提供すること、及び、表示装置の表示品質を向上させることが可能な表示装置用基板の製造方法を提供すること目的とする。

効果

実績

技術文献被引用数
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牽制数
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請求項1

矩形の表示領域を有する基板を備え、前記基板上には前記表示領域の外側まで延在する少なくとも1つの膜パターンが形成されており、前記膜パターンの外周端が、前記表示領域の少なくとも1つのコーナー部の近傍において滑らかな曲線形状を有する表示装置

請求項2

前記膜パターンの外周端が、前記コーナー部の近傍において波形状を有する請求項1に記載の表示装置。

請求項3

前記膜パターンは前記表示領域を覆うように形成され、前記膜パターンの外周の4辺のうちの少なくとも1辺が波形状を有し、前記少なくとも1辺は前記コーナー部の近傍において他の辺と滑らかに連続するよう形成されていることを特徴とする、請求項1又は2に記載の表示装置。

請求項4

前記膜パターンの外周全体が滑らかに連続するよう形成されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の表示装置。

請求項5

表示領域を有する基板を備え、前記基板上には前記表示領域の外側まで延在する少なくとも1つの膜パターンが形成されており、前記膜パターンの外周全体が滑らかに連続するよう形成されていることを特徴とする表示装置。

請求項6

表示装置用基板の製造方法であって、第1の膜パターンを、前記基板において表示領域とされる区画の外部まで延在させ、かつ、前記第1の膜パターンの外周端形状が前記表示領域の少なくとも1つのコーナー部の近傍において滑らかな曲線となるよう前記基板上に形成する工程と、前記第1の膜パターンの上に第2の膜パターンをスピンコート法により塗布する工程と、を含む表示装置用基板の製造方法。

請求項7

前記第1の膜パターンの外周端が、前記コーナー部の近傍において波形状を有するよう形成される請求項6に記載の表示装置用基板の製造方法。

請求項8

前記膜パターンは前記表示領域を覆うように形成され、前記第1の膜パターンの外周の4辺のうちの少なくとも1辺が波形状を有し、前記少なくとも1辺は前記コーナー部の近傍において他の辺と滑らかに連続するよう形成されることを特徴とする、請求項6又は7に記載の表示装置用基板の製造方法。

請求項9

前記第1の膜パターンの外周全体が滑らかに連続するよう形成されることを特徴とする請求項6乃至8のいずれかに記載の表示装置用基板の製造方法

請求項10

表示装置用基板の製造方法であって、第1の膜パターンを、前記基板において表示領域とされる区画の外側まで延在させるとともに、前記第1の膜パターンの外周全体が滑らかに連続するよう前記基板上に形成する工程と、前記第1の膜パターンの上に第2の膜パターンをスピンコート法により塗布する工程と、を含む表示装置用基板の製造方法。

技術分野

0001

本発明は、液晶表示装置及びエレクトロルミネッセンス表示装置等の表示装置、並びにこれらの表示装置が有する基板の製造方法に関するものである。

背景技術

0002

液晶表示装置の表示品質を向上させるためには、液晶への印加電圧の制御が重要になる。特に、液晶表示パネルの表示領域内で液晶のギャップが均一化されなければ、液晶による位相変化に差が生じ、その結果として表示画像明暗ムラが生じてしまうことがある。

0003

この為、TFT(Thin Film Transistor)等のスイッチング素子が形成されるアクティブマトリックス基板上に形成される配線絶縁膜などの膜層の厚みを液晶表示パネルの表示領域内において均一化させることが重要である。

0004

液晶表示装置の表示パネルの製造工程では、上述したアクティブマトリックス基板やこれに対向させて設けられる対向基板等に樹脂絶縁膜カラーフィルタ樹脂ブラックマトリクス樹脂BM)、オーバーコート層や、パターン形成後には除去される写真製版に用いるレジストなどの有機膜を塗布する際にスピンコート法が用いられることが多い。スピンコート法を用いる従来の液晶表示装置の製造工程では、スピンコート法により塗布される有機膜の厚みが下地となる配線や絶縁膜パターンのサイズが大きいと、そのパターン形状の影響によって不均一となり、塗布された有機膜の厚みに空間的な塗布ムラが発生するという問題があった。すなわち、大きなパターン段差があるために、有機膜溶液スピンコート時の遠心力によってパターンに沿って流れ、パターンの角や端からは、このパターンに沿って流れた有機膜溶液が遠心力で外側へ流れるので、有機膜溶液の溶剤揮発した後は、有機膜にパターンの角や端を起点とする大きなスジ状の塗布ムラが生じた。この問題の解決策の一例が特許文献1に開示されている。特許文献1に開示された液晶表示装置は、TFT素子が形成されるアクティブマトリックス基板の表示領域の周囲に設けられる配線を図7に示すような形状としている。つまり、多数の小さな突起9が配線8に形成されている。図7の矢印は、スピンコート時の回転軸となる基板中央方向11を示している。図7のような構成によって、スピンコート法により塗布される有機膜溶液が遠心力により基板中央方向11と逆方向に流れる際に、配線8に沿って流れることを防止できる。
特開2002−350820号公報

発明が解決しようとする課題

0005

しかしながら、特許文献1に記載された表示装置では、下地となる配線8に形成された多数の小さな突起9によって逆に有機膜溶液の流れが妨げられるため、基板中央方向11の反対側に突起9の角を起点として有機膜の厚みが不均一な多数の小さなスジ状の塗布ムラ10が発生してしまった。したがって、表示品質の劣化を招くという問題が残っていた。

0006

また、表示品質を向上させるためには、アクティブマトリクス基板上だけでなく、対向基板上に積層されるカラーフィルタ、樹脂BM、オーバーコート層や、柱状スペーサ等を厚みにムラが生じないよう形成する必要がある。しかし、下地となる他の膜層(例えば、カラーフィルタ)の形状に起因して、その後にスピンコート法により塗布される有機膜に塗布ムラが発生する場合がある。

0007

さらに、上述した問題は液晶表示装置用の基板にスピンコート法により膜層を形成する場合に限らず、エレクトロルミネッセンス表示装置等の他の表示装置においてもスピンコートにより膜層を形成する場合に発生する問題である。

0008

本発明は上述した問題点を鑑みてなされたものであり、スピンコート法により表示装置用基板の上に膜パターンを形成する際に、下地となる他の膜パターンの形状に起因する塗布ムラの発生を抑制することによって表示品位に優れた表示装置を提供すること、及び、表示装置の表示品質を向上させることが可能な表示装置用基板の製造方法を提供すること目的とする。

課題を解決するための手段

0009

本発明の第1の態様にかかる表示装置は、略矩形の表示領域を有する基板を備える。さらに、前記基板上には前記表示領域に少なくとも1つの膜パターンが形成されており、前記膜パターンは、前記表示領域の外側まで延在するとともに、前記膜パターンの外周端が、前記表示領域の少なくとも1つのコーナー部の近傍において滑らかな曲線形状を有するよう構成されている。

0010

このように、基板上に形成される膜パターンのコーナー部近傍での形状を屈曲した角が存在しない滑らかな曲線形状とすることによって、これらの膜パターンを下地として新たな膜層をスピンコート法により形成する際に、有機膜溶液の流れが下地となる膜パターンの直角の角の外周形状に起因して著しく妨げられることを抑制できる。このため、塗布ムラの発生が抑制され、スピンコート法により形成される膜パターンの厚みの均一化を図ることができ、ひいては表示装置の表示品質を向上させることが可能となる。

0011

本発明の第2の態様にかかる表示装置は、表示領域を有する基板を備え、前記基板上には前記表示領域に少なくとも1つの膜パターンが形成されており、前記膜パターンは、前記表示領域の外側まで延在するとともに、前記膜パターンの外周全体が滑らかに連続するよう形成されていることを特徴とする。

0012

このように、基板上に形成される膜パターンの外周形状を屈曲した角が存在しない滑らかな曲線形状とすることによって、これらの膜層を下地として新たな膜パターンをスピンコート法により形成する際に、有機膜溶液の流れが下地となる膜パターンの外周形状に起因して妨げられることを抑制できる。このため、塗布ムラの発生が抑制され、スピンコート法により形成される膜パターンの厚みの均一化を図ることができ、ひいては表示装置の表示品質を向上させることが可能となる。

0013

本発明の第3の態様にかかる表示装置用基板の製造方法は、第1の膜パターンを、前記基板において表示領域とされる区画の外部まで延在させ、かつ、前記第1の膜パターンの外周端形状が前記表示領域の少なくとも1つのコーナー部の近傍において滑らかな曲線となるよう前記基板上に形成する工程と、前記第1の膜パターンの上に第2の膜パターンをスピンコート法により塗布する工程とを含む。

0014

本発明の第4の態様にかかる表示装置用基板の製造方法は、第1の膜パターンを、前記基板において表示領域とされる区画の外側まで延在させるとともに、前記第1の膜パターンの外周全体が滑らかに連続するよう前記基板上に形成する工程と、前記第1の膜パターンの上に第2の膜パターンをスピンコート法により塗布する工程とを含む。

0015

このような本発明にかかる製造方法により形成された膜パターンを下地として新たな膜パターンをスピンコート法により形成する際には、有機膜溶液の流れが下地となる膜パターンの外周形状に起因して妨げられることを抑制できる。このため、塗布ムラの発生が抑制され、スピンコート法により形成される膜パターンの厚みの均一化を図ることができ、ひいては表示装置の表示品質を向上させることが可能となる。

発明の効果

0016

本発明により、表示装置用基板上にスピンコート法により膜パターンを形成する際に、下地となる他の膜パターンの形状に起因する塗布ムラの発生が抑制され、表示品位に優れた表示装置を提供することができる。また、表示装置の表示品位を向上させることが可能な表示装置用基板の製造方法を提供することができる。

発明を実施するための最良の形態

0017

以下に、本発明を適用可能な実施の形態について説明する。以下の説明は、本発明の実施形態を説明するものであって、本発明が以下の実施形態に限定されるものではない。説明の明確化のため、以下の記載は、適宜、省略及び簡略化がなされている。また、当業者であれば、以下の実施形態に示される各構成要素を、本発明の範囲において容易に変更、追加又は変換することが可能である。なお、各図において同一の符号を付されたものは同様の要素を示しており、適宜、説明が省略される。

0018

実施の形態1.
本実施の形態は、本発明を液晶表示装置に適用したものである。始めに、本実施の形態にかかる液晶表示装置100の構成を図1及び2を用いて説明する。図1は、液晶表示装置100の構成を示す断面図である。また、図2は、液晶表示装置100の構成を示す平面図である。

0019

液晶表示装置100は、液晶表示パネル101とバックライト102を備えている。液晶表示パネル101は、入力される表示信号に基づく画像表示を行う。バックライト102は、液晶表示パネル101の反視認側に配置されており、液晶表示パネル101の背面側から光を照射する。液晶表示パネル101は、薄膜トランジスタアレイ基板TFTアレイ基板)103、対向基板104、シール材105、液晶106、柱状スペーサ107、ゲート線(走査線)108、ソース線信号線)109、配向膜110、対向電極111、偏向板112、ゲートドライバIC113、ソースドライバIC114を備えている。

0020

液晶表示パネル101は、TFTアレイ基板103と、TFTアレイ基板103に対向配置される対向基板104と、両基板を接着するシール材105との間の空間に液晶106を封入した構成を有している。両基板の間には、スペーサ107によって、所定の間隔にとなるように維持されている。TFTアレイ基板103及び対向基板104としては、例えば光透過性のあるガラスポリカーボネートアクリル樹脂などの絶縁性基板が用いられる。

0021

また、液晶表示パネル101の背面には、バックライト102が備えられている。バックライト102は、液晶表示パネル101の反視認側から当該液晶表示パネル101に対して光を照射する。バックライト102としては、例えば、光源導光板反射シート拡散シートプリズムシート反射偏向シートなどを備えた一般的な構成を用いることができる。

0022

図2に示すように、TFTアレイ基板103には、表示領域115と表示領域115を囲むように設けられた周辺領域116とが設けられている。この表示領域115には、複数のゲート線108と複数のソース線109とが形成されている。複数のゲート線108は平行に設けられている。同様に、複数のソース線109は平行に設けられている。ゲート線108と、ソース線109とは、互いに交差するように形成されている。

0023

また、ゲート線108とソース線109の交差点付近には薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor:TFT)118が設けられている。そして、隣接するゲート線108とソース線109とで囲まれた領域には、画素電極117が形成されている。従って、隣接するゲート線108とソース線109とで囲まれる領域が画素となり、TFTアレイ基板103上には、画素がマトリクス状に配置される。この複数の画素117がマトリクス状に形成されている領域が、表示領域115である。

0024

図1に示すように、TFTアレイ基板103には、TFT118及び画素電極117が形成され、これらの上には配向膜110が形成されている。より詳細に述べると、TFT118のゲート電極121がゲート線108に、ソース電極123がソース線109に、ドレイン電極124が画素電極117に、それぞれ接続される。画素電極117は、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)などの透明導電性薄膜から形成される。なお、図1において、122はゲート絶縁膜であり、画素容量を構成する容量電極125と画素電極117の間に設けられる絶縁膜でもある。また、126は、TFT118上に形成された有機樹脂からなる平坦化された絶縁膜である。

0025

TFTアレイ基板103上への上述した各電極及び配線等は、例えば、成膜した金属膜上にレジストを塗布してレジストの膜層を形成し、写真製版処理によりレジストパターンを形成し、金属膜に対するエッチング処理を施すことにより形成される。

0026

一方、対向基板104のTFTアレイ基板103に対向する面には、カラーフィルタ127、樹脂BM(Black Matrix)128、オーバーコート層129、対向電極111、配向膜110等が形成される。なお、対向電極111は、TFTアレイ基板103側に配置される場合もある。また、TFTアレイ基板103及び対向基板104の外側の面にはそれぞれ、偏向板112が貼着されている。

0027

TFTアレイ基板103の周辺領域116には、ゲートドライバIC113及びソースドライバIC114が設けられている。ゲート線108は、表示領域115から周辺領域116まで延設されている。そして、ゲート線108は、TFTアレイ基板103の端部で、ゲートドライバIC113に接続される。ソース線109も同様に表示領域115から周辺領域116まで延設される。そして、ソース線109は、TFTアレイ基板103の端部で、ソースドライバIC114と接続される。ゲートドライバIC113、ソースドライバIC114の近傍には、外部配線119、120が接続されている。外部配線119、120は、例えば、FPC(Flexible PrintedCircuit)などの配線基板である。

0028

外部配線119、120を介して、ゲートドライバIC113及びソースドライバIC114に外部から各種信号が供給される。ゲートドライバIC113は外部からの制御信号に基づいて、ゲート信号走査信号)をゲート線118に供給する。このゲート信号によって、ゲート線108が順次選択される。ソースドライバIC114は外部からの制御信号や、表示データに基づいて表示信号をソース線109に供給する。これにより、表示データに応じた表示電圧を各画素電極に供給することができる。

0029

ここで、上述の液晶表示装置100の駆動方法について説明する。各ゲート線108には、ゲートドライバIC113から走査信号が供給される。各走査信号によって、1つのゲート線108に接続されているすべてのTFT118が同時にオンとなる。そして、ソースドライバIC114から各ソース線109に表示信号が供給され、画素電極に表示信号に応じた電荷蓄積される。表示信号が書き込まれた画素電極と対向電極111との電位差に応じて、画素電極と対向電極111間の液晶の配列が変化する。これにより、液晶表示パネル101を透過する光の透過量が変化する。画素117毎に表示電圧を変えることによって、液晶106の分子配列が変化し、所望の画像を表示することができる。

0030

続いて以下では、図3を用いて、TFTアレイ基板103上及び対向基板104上に形成される各膜層の外周形状と、これらの基板上にスピンコート法により膜層を塗布する工程について詳しく説明する。図3は、膜パターン2及び3が形成された基板1の基板面を上部より見た平面図であり、矩形の基板1のコーナー5の近傍を示している。なお、図3の基板1は、TFTアレイ基板103又は対向基板104に必要な全ての膜層が形成された完成図を示すものではない。つまり、必要な全ての膜層のうちの一部のみを示した製造途中の状態を示す概念図である。

0031

図3において、膜パターン3は、基板1上に形成されており、基板1と膜パターン2の間に位置している。膜パターン2は、膜パターン3の下に形成されている。膜パターン2及び3は、基板1の表示領域115である矩形の区画6を覆うように、かつ、区画6の外側まで延在するよう形成されている。具体的には、膜パターン2及び3の外周は、基板1の中央から見て、区画6の外側かつシール材105が設けられる基板1のコーナー5の内側に位置する。さらに、基板1のコーナー5の近傍、つまり、矩形の区画6のコーナー部とコーナー5の間の領域において、膜パターン2及び3は滑らかな曲線形状を有する。より具体的に述べると、膜パターン2及び3は、コーナー5の近傍において、複数の円弧又は楕円弧が滑らかに連続する形状の外周端42及び43を有している。さらに、図3では省略されているが、このような外周端42及び43の形状を有する膜パターン2及び3の上にさらに有機膜層がスピンコート法により形成される。

0032

上述した膜パターン2及び3は、これらが感光性有機膜である場合には、例えば、感光性有機膜を塗布した後に、プリベーク露光現像及びポストベークを施す一連の工程により形成可能である。また、膜パターン2及び3が金属膜又は絶縁膜である場合には、成膜後に、レジスト塗布、プリベーク、露光、現像、エッチング及びレジスト除去を施す一連の工程により形成可能である。

0033

上述したように特許文献1に開示された液晶表示装置は、スピンコートされる膜層の下地に、直角の外周形状を有する多数の突起9が存在している。このため、突起9の角を起点として有機膜溶液の流れが妨げられるため、基板中央方向11の反対側に平坦化材の厚みが不均一な多数の塗布ムラ10が発生してしまうという問題があった。これに対して、本実施の形態では、スピンコート法により形成される有機膜層の下地となる膜パターン2及び3の外周端42及び43の形状を屈曲した角が存在しない滑らかな曲線形状としている。これにより、スピンコート時の有機膜溶液の流れが、下地となる膜パターン2及び3の外周形状に起因して著しく妨げられることを抑制できる。このため、塗布ムラの発生が抑制され、スピンコート法により形成される有機膜層の厚みの均一化を図ることができ、ひいては液晶表示装置100の表示品質を向上させることが可能となる。さらに、本実施の形態では、外周端42及び43の形状を複数の円弧又は楕円弧が滑らかに連続する波形状としている。このため、スピンコート時の有機膜溶液の流れが波形状の各部分において様々な方向に分散されるため、有機膜の分布均一度をより向上させることができる。

0034

なお、図3に示す基板1が上述したTFTアレイ基板103である場合、例えば、スピンコート法により最後に塗布される有機膜層は反射電極である画素電極117形成用レジストであり、その下に位置する膜パターン2又は3は、画素電極117の下地となる有機膜層(例えば絶縁膜126)である。また、スピンコート法により最後に塗布される有機膜はITOの透過電極である画素電極117形成用レジストであってもよい。このように、膜パターン2及び3の上にスピンコート法により塗布される膜層がレジストである場合、スピンコート法により塗布される膜層は液晶表示パネル101の製造工程において除去され、完成後の液晶表示装置100においては存在しない。

0035

一方、図3に示す基板1が上述した対向基板104である場合、例えば、スピンコート法により最後に塗布される有機膜は柱状スペーサ107であり、その下に位置する膜パターン2又は3はオーバーコート層129である。また、スピンコート法により最後に塗布される有機膜はオーバーコート層129であってもよい。この場合に、オーバーコート層の下に位置する膜パターン2又は3は、カラーフィルタ127のRGB3色のうちのいずれかの着色層である。

0036

なお、基板1、つまりTFT基板103及び対向基板104に形成される膜パターン2及び3の外周端42及び43の位置は、表示領域とされる区画6の外側かつ基板1の内側であれば、膜パターン2及び3どちらが区画6から見てより外側まで延在していても構わない。また、膜パターン2及び3の外周端42及び43の形状が異なっていても構わない。また、スピンコートされる有機膜層の下層に位置する膜層数は、膜パターン2及び3の2層に限られないことはもちろんであり、少なくとも1層であればよい。

0037

また、必ずしも、基板1が有する全てのコーナー5の近傍において膜パターン2及び3の外周端42及び43を波形状とする必要はない。例えば、スピンコートされる膜層の厚さの区画6内における均一性に影響しないコーナー5の近傍では、外周端42及び43の形状を波形状としなくてもよい。

0038

実施の形態2.
実施の形態2は、実施の形態1における膜パターン2及び3の外周形状を変更したものである。図4は、本実施の形態における基板1の平面概略図を示している。図4に示すように、スピンコートされる有機膜層の下地となる膜パターン2及び3は、その外周全体が滑らかに連続するよう形成されている。つまり、矩形状の表示領域となる区画6を覆うよう形成された膜パターン2及び3の外周の4つの辺の形状が滑らかに連続する波形であり、かつ、コーナー5の近傍では近接する辺が互いに滑らかに連続するよう形成されている。さらに、図4では省略されているが、このような外周形状を有する膜パターン2及び3の上にさらに有機膜層がスピンコート法により形成される。

0039

このような構成により、スピンコート時の有機膜溶液の流れが下地となる膜パターン2及び3の外周形状に起因して妨げられることを抑制できる。このため、塗布ムラの発生が抑制され、スピンコート法により形成される膜層の厚みの均一化を図ることができ、ひいては液晶表示装置100の表示品質を向上させることが可能となる。さらに、本実施の形態では、膜パターン2及び3の外周全体を波形状としている。このため、スピンコート時の有機膜溶液の流れが波形状の各部分において様々な方向に分散されるため、有機膜の分布の均一度をよりいっそう向上させることができる。なお、必ずしも膜パターン2及び3の4辺の全ての波形とする必要はない。例えば、表示領域となる区画6におけるスピンコートされる膜層の厚さの均一性に影響しない辺を直線としてもよい。

0040

図4の基板1とTFT基板103及び対向基板104との対応関係、膜パターン2及び3の形成方法、膜パターン2及び3の配置並び積層数に関する制約条件等は、上述した実施の形態1と同様である。このため、これらについての詳細な説明を省略する。

0041

実施の形態3.
実施の形態3は、実施の形態1における膜パターン2及び3の外周端42及び43の形状を変更したものである。図5は、本実施の形態における基板1の平面概略図を示している。図5に示すように、スピンコートされる有機膜層の下地となる膜パターン2及び3は、表示領域とされる区画6の外側まで延在している。さらに、膜パターン2及び3のコーナー5近傍における外周端42及び43の形状は、図3に示した実施の形態1と同様に、コーナーカットされたうえ、階段状に円弧が滑らかに連なった波形状である。さらに、膜パターン2及び3の4つの辺は、実施の形態1のそれらが直線であったのに対して、滑らかに連続する波形状とされている。さらに、図5では省略されているが、このような外周端42及び43の形状を有する膜パターン2及び3の上にさらに有機膜がスピンコート法により形成される。

0042

このような構成により、スピンコート時の有機膜溶液の流れが下地となる膜パターン2及び3の外周端42及び43の形状に起因して妨げられることを抑制できる。このため、塗布ムラの発生が抑制され、スピンコート法により形成される膜層の厚みの均一化を図ることができ、ひいては液晶表示装置100の表示品質を向上させることが可能となる。さらに、本実施の形態では、膜パターン2及び3の外周全体を波形状としている。このため、スピンコート時の有機膜溶液の流れが波形状の各部分において様々な方向に分散されるため、有機膜の分布の均一度をよりいっそう向上させることができる。なお、必ずしも膜パターン2及び3の外周全体の形状を波形とする必要はなく、例えば、表示領域となる区画6におけるスピンコートされる膜層の厚さの均一性に影響しない辺を直線としてもよい。

0043

図5の基板1とTFT基板103及び対向基板104との対応関係、膜パターン2及び3の形成方法、膜パターン2及び3の配置並びに積層数に関する制約条件等は、上述した実施の形態1と同様である。このため、これらについての詳細な説明を省略する。

0044

実施の形態4.
実施の形態4は、実施の形態1における膜パターン2及び3の外周形状を変更したものである。図6は、実施の形態4における基板1の平面概略図を示している。図6に示すように、スピンコートされる有機膜層の下地となる膜パターン2及び3は、表示領域となる区画6の外側まで延在している。さらに、膜パターン2及び3のコーナー部5近傍における外周端42及び43の形状は、丸みを帯びた滑らかな曲線とされている。さらに、図6では省略されているが、このような外周端42及び43の形状を有する膜パターン2及び3の上にさらに有機膜がスピンコート法により形成される。

0045

このような構成によっても、スピンコート時の有機膜溶液の流れが下地となる膜パターン2及び3の外周端42及び43の形状に起因して妨げられることを抑制できる。このため、塗布ムラの発生が抑制され、スピンコート法により形成される膜層の厚みの均一化を図ることができ、ひいては液晶表示装置100の表示品質を向上させることが可能となる。なお、必ずしも、基板1が有する全てのコーナー部5の近傍において、膜パターン2及び3の外周端42及び43の形状を丸みを帯びた滑らかな曲線にする必要はない。例えば、スピンコートされる膜層の区画6内における厚さの均一性に影響しないコーナー5の近傍では、外周端42及び43の形状を曲線形状にしなくてもよい。

0046

図6の基板1とTFT基板103及び対向基板104との対応関係、膜パターン2及び3の形成方法、膜パターン2及び3の配置並びに積層数に関する制約条件等は、上述した実施の形態1と同様である。このため、これらについての詳細な説明を省略する。

0047

なお、上述した発明の実施の形態1乃至4は、液晶表示装置に本発明を適用した場合を例に説明したが、本発明の適用先は液晶表示装置に限られずエレクトロルミネッセンス表示装置等の他の表示装置に適用可能であることはもちろんである。

図面の簡単な説明

0048

本発明の実施の形態1にかかる液晶表示装置の構成を示す断面図である。
本発明の実施の形態1にかかる液晶表示装置の構成を示す平面図である。
本発明の実施の形態1にかかる液晶表示装置が有する基板の平面概略図である。
本発明の実施の形態2にかかる液晶表示装置が有する基板の平面概略図である。
本発明の実施の形態3にかかる液晶表示装置が有する基板の平面概略図である。
本発明の実施の形態4にかかる液晶表示装置が有する基板の平面概略図である。
従来の液晶表示装置が有する基板上に形成された配線形状を示す平面概略図である。

符号の説明

0049

1基板
2、3膜パターン
42、43 膜パターンの外周端
5 基板コーナー
6 表示領域となる区画
100液晶表示装置
101液晶表示パネル
102バックライト
103TFTアレイ基板
104対向基板
105シール材
106液晶
107柱状スペーサ
108ゲート線
109ソース線
110配向膜
111対向電極
112偏光板
113ゲートドライバIC
114ソースドライバIC
115 表示領域
116周辺領域
117画素電極
118 TFT
119、120外部配線
121ゲート電極
122ゲート絶縁膜
123ソース電極
124ドレイン電極
125容量電極
126絶縁膜
127カラーフィルタ
128樹脂ブラックマトリクス(樹脂BM)
129 オーバーコート層

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