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図面 (7)

課題

高精度の加工を要さず、表示領域の面積占有率の高い、横方向電界を利用した表示装置を提供する。

解決手段

表示装置は、それぞれ複数の表示領域を有する、積層された複数の表示層を有し、各表示層の表示領域が、協同してドットマトリクスを構成する。好ましくは、各表示層が、対向基板と、対向基板の一方の上に形成され、それぞれ複数の表示領域を含んで第1の方向に延在し、第1の方向と交差する第2の方向に沿って並列に配置された、複数の第1の電極と、対向基板の他方の上に形成され、それぞれ複数の表示領域の周囲を囲みつつ、第2の方向に延在し、第1の方向に沿って並列に配置された、複数の第2の電極と、各表示領域を囲むように、対向基板間に配置され、対向基板間距離を画定するリブと、対向基板と前記リブとによって画定される各空間に収容された作動媒質と、を有し、基板、電極、リブが、他層の表示を透過すべきものは透明である。

概要

背景

薄型表示装置として、液晶表示装置プラズマ表示装置が知られている。これらの表示装置は、高精細動画像及び静止画像を表示することができるが、製造原価は高く、表示に電力を必要とする。折り曲げることはできない。紙の代わりのような、より簡便に利用できる静止画表示装置に対する要求もある。

液晶などの誘電性流体粒子を分散させ、横方向電界により粒子の分布状態を制御する表示装置が知られている。対向基板上に横方向電界を発生する電極を形成し、逆方向の電界印加することにより表示を切り替えることができる。表示領域内に粒子が存在する状態では、入射光が粒子で反射散乱され、粒子の色に従った白表示黒表示などを行う。表示領域外に粒子が存在する状態では、入射光は透過する。対向基板外に光吸収板反射板を配置しておくと、入射光が吸収、反射され、黒表示、白表示などを行うことができる。ドットマトリクス状分布した表示領域ごとに白表示、黒表示を選択することにより、任意形状の表示が可能である。このような表示装置は、メモリ性を有し、電界をオフにしても表示を維持する。流体動きにより微粒子の位置を制御するMFPD(mobile fine particle display)や、電気泳動を利用する装置などが知られている。

特開2003−98556号公報
特開2004−294623号公報エレクトロクロミック技術でも、電気的に反射率透過率を制御できる。構成としては、液晶表示装置等とほぼ同じ構成を利用でき、表示領域の一方の電極上にエレクトロクロミック材料層を形成し、媒質として電解質を用いる。

これらの表示装置は、紙の様に薄く、電源を切り離しても表示を維持できる表示装置を実現する可能性を有する。プラスチック基板を用いることにより、ある程度までの折り曲げも可能となることが期待される。

任意に変更可能で、情報量の多い表示を行うには、ドットマトリクス状に画素を配置することが望ましい。液晶表示装置においては、薄膜トランジスタ(TFT)を画素毎に配置したアクティブマトリクス基板が用いられる。プラスチック基板上にTFTを形成することは容易ではない。液晶表示装置で、電源を切り離しても表示を維持することは困難である。液晶表示装置を折り曲げることもほとんどできない。

たとえば、X方向電極を一方の基板上に形成し、Y方向電極を他方の基板上に形成した、単純マトリクス基板は、デューティー比の低い動画表示には向いていないが、メモリ性を有する表示装置で静止画表示を行う場合には、画像切り替え時間を長くでき、問題なく利用できる。

並列に配置する電極を電気的に分離するため、隣接する電極間には所定のギャップが必要である。ギャップは非表示領域となる。ギャップを狭くするためには、高精度の加工が必要となる。

横方向電界を利用する場合、表示領域内と表示領域外に、電極を配置することになる。表示領域外の電極を大きくすると表示領域の面積占有率下がり画質が低下する。表示領域外の電極を狭くするには、加工に高精度を有し、製造原価を高くし、歩留まりも下がる。

概要

高精度の加工を要さず、表示領域の面積占有率の高い、横方向電界を利用した表示装置を提供する。 表示装置は、それぞれ複数の表示領域を有する、積層された複数の表示層を有し、各表示層の表示領域が、協同してドットマトリクスを構成する。好ましくは、各表示層が、対向基板と、対向基板の一方の上に形成され、それぞれ複数の表示領域を含んで第1の方向に延在し、第1の方向と交差する第2の方向に沿って並列に配置された、複数の第1の電極と、対向基板の他方の上に形成され、それぞれ複数の表示領域の周囲を囲みつつ、第2の方向に延在し、第1の方向に沿って並列に配置された、複数の第2の電極と、各表示領域を囲むように、対向基板間に配置され、対向基板間距離を画定するリブと、対向基板と前記リブとによって画定される各空間に収容された作動媒質と、を有し、基板、電極、リブが、他層の表示を透過すべきものは透明である。

目的

本発明の目的は、高精度の加工を要さず、表示領域の面積占有率の高い表示装置を提供することである。

効果

実績

技術文献被引用数
2件
牽制数
0件

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請求項1

それぞれ複数の表示領域を有する、積層された複数の表示層を有し、前記各表示層の表示領域が、協同してドットマトリクスを構成する表示装置

請求項2

前記各表示層が、対向基板と、前記対向基板の一方の上に形成され、それぞれ複数の表示領域を含んで第1の方向に延在し、前記第1の方向と交差する第2の方向に沿って並列に配置された、複数の第1の電極と、前記対向基板の他方の上に形成され、前記第2の方向に延在し、前記第1の方向に沿って並列に配置された、複数の第2の電極と、前記各表示領域を囲むように、対向基板間に配置され、対向基板間距離を画定するリブと、前記対向基板と前記リブとによって画定される各空間に収容された作動媒質と、を有し、前記基板、前記電極、前記リブが、他層の表示を透過すべきものは透明である請求項1記載の表示装置。

請求項3

前記複数の表示層が4層である請求項2記載の表示装置。

請求項4

前記4層の表示層の表示領域が正方行列を構成し、各表示層において、前記第1の方向及び第2の方向に1つおきに配置されている請求項3記載の表示装置。

請求項5

前記複数の表示層が2層である請求項2記載の表示装置。

請求項6

前記2層の表示層の各々が、前記第1の方向にそって1つおきの表示領域を構成する請求項5記載の表示装置。

請求項7

前記基板がプラスチック基板である請求項2〜6のいずれか1項記載の表示装置。

請求項8

前記リブが、低融点ガラス、又はプラスチックを用いて形成されている請求項2〜7のいずれか1項記載の表示装置。

請求項9

前記作動媒質が、液晶よりなる誘電性流体微粒子を分散させた媒質である請求項2〜8のいずれか1項記載の表示装置。

請求項10

前記第1の電極の少なくとも前記表示領域上に配置されたエレクトロクロミック材料層、をさらに有し、前記作動媒質が電解質を含む請求項2〜8のいずれか1項記載の表示装置。

技術分野

0001

本発明は、表示装置に関し、特に電気的に制御可能な薄型表示装置に関する。

背景技術

0002

薄型表示装置として、液晶表示装置プラズマ表示装置が知られている。これらの表示装置は、高精細動画像及び静止画像を表示することができるが、製造原価は高く、表示に電力を必要とする。折り曲げることはできない。紙の代わりのような、より簡便に利用できる静止画表示装置に対する要求もある。

0003

液晶などの誘電性流体粒子を分散させ、横方向電界により粒子の分布状態を制御する表示装置が知られている。対向基板上に横方向電界を発生する電極を形成し、逆方向の電界印加することにより表示を切り替えることができる。表示領域内に粒子が存在する状態では、入射光が粒子で反射散乱され、粒子の色に従った白表示黒表示などを行う。表示領域外に粒子が存在する状態では、入射光は透過する。対向基板外に光吸収板反射板を配置しておくと、入射光が吸収、反射され、黒表示、白表示などを行うことができる。ドットマトリクス状分布した表示領域ごとに白表示、黒表示を選択することにより、任意形状の表示が可能である。このような表示装置は、メモリ性を有し、電界をオフにしても表示を維持する。流体動きにより微粒子の位置を制御するMFPD(mobile fine particle display)や、電気泳動を利用する装置などが知られている。

0004

特開2003−98556号公報
特開2004−294623号公報エレクトロクロミック技術でも、電気的に反射率透過率を制御できる。構成としては、液晶表示装置等とほぼ同じ構成を利用でき、表示領域の一方の電極上にエレクトロクロミック材料層を形成し、媒質として電解質を用いる。

0005

これらの表示装置は、紙の様に薄く、電源を切り離しても表示を維持できる表示装置を実現する可能性を有する。プラスチック基板を用いることにより、ある程度までの折り曲げも可能となることが期待される。

0006

任意に変更可能で、情報量の多い表示を行うには、ドットマトリクス状に画素を配置することが望ましい。液晶表示装置においては、薄膜トランジスタ(TFT)を画素毎に配置したアクティブマトリクス基板が用いられる。プラスチック基板上にTFTを形成することは容易ではない。液晶表示装置で、電源を切り離しても表示を維持することは困難である。液晶表示装置を折り曲げることもほとんどできない。

0007

たとえば、X方向電極を一方の基板上に形成し、Y方向電極を他方の基板上に形成した、単純マトリクス基板は、デューティー比の低い動画表示には向いていないが、メモリ性を有する表示装置で静止画表示を行う場合には、画像切り替え時間を長くでき、問題なく利用できる。

0008

並列に配置する電極を電気的に分離するため、隣接する電極間には所定のギャップが必要である。ギャップは非表示領域となる。ギャップを狭くするためには、高精度の加工が必要となる。

0009

横方向電界を利用する場合、表示領域内と表示領域外に、電極を配置することになる。表示領域外の電極を大きくすると表示領域の面積占有率下がり画質が低下する。表示領域外の電極を狭くするには、加工に高精度を有し、製造原価を高くし、歩留まりも下がる。

発明が解決しようとする課題

0010

本発明の目的は、高精度の加工を要さず、表示領域の面積占有率の高い表示装置を提供することである。

0011

本発明の他の目的は、プラスチック基板を利用できる薄型表示装置を提供することである。

課題を解決するための手段

0012

本発明の1観点によれば、
それぞれ複数の表示領域を有する、積層された複数の表示層を有し、
前記各表示層の表示領域が、協同してドットマトリクスを構成する表示装置が提供される。

0013

好ましくは、前記各表示層が、
対向基板と、
前記対向基板の一方の上に形成され、それぞれ複数の表示領域を含んで第1の方向に延在し、前記第1の方向と交差する第2の方向に沿って並列に配置された、複数の第1の電極と、
前記対向基板の他方の上に形成され、前記第2の方向に延在し、前記第1の方向に沿って並列に配置された、複数の第2の電極と、
前記各表示領域を囲むように、対向基板間に配置され、対向基板間距離を画定するリブと、
前記対向基板と前記リブとによって画定される各空間に収容された作動媒質と、
を有し、
前記基板、前記電極、前記リブが、他層の表示を透過すべきものは透明である。

発明の効果

0014

複数層でドットマトリクスを構成するため、1層当たりの負担が軽減する。高精度の加工を行わなくても、表示領域の面積占有率の高い表示が可能となる。

発明を実施するための最良の形態

0015

以下、図面を参照して本発明の実施例を説明する。

0016

図1A1、1B1、1C1は、本発明の第1の実施例による表示装置の下部基板の製造工程を示す平面図、図1A2、1B2、1C2は、図1A1、1B1、1C1の一点鎖線に沿う断面図を示す。図1A1と1A2とを併せて図1Aと呼ぶ。他も同様の呼び方をする。図中、水平方向をX方向、垂直方向をY方向と呼ぶ。形成するドットマトリクスのピッチは、例としてX方向、Y方向共に450μmとする。

0017

図1Aに示すように、透明基板11の上に複数のストライプ状透明下部電極12を形成する。透明基板11は、プラスチック基板又はガラス基板であり、透明下部電極12は例えばインジウム錫酸化物(ITO)で形成する。透明下部電極12は、ITO膜スパッタリングし、ホトリソグラフィを用いてパターニングするか、スクリーン印刷等の印刷法で形成する。印刷法を用いる時は、ITOや金属粒子を分散させたペースト等を用いる。導電性高分子を用いることもできる。図では、Y方向に延在する電極をX方向に並列に配列している。例えば幅450μmのストライプ状電極を間隔450μmで配置する。透明下部電極上に表示領域が画定される。

0018

図1Bに示すように、透明下部電極12の表示領域を取り囲むように、低融点ガラス透明プラスチック材料で格子状フレームないしリブ13を形成する。例えば、径75μmのプラスチックボールスペーサ)を4wt%添加したPb含有低融点ガラスをスクリーン印刷し、行列状に分布した400μm平方の開口を有する、高さ75μmの格子状リブを形成する。リブ13の開口が各表示領域を包摂する。

0019

図1Cに示すように、リブ13の開口内に微粒子を分散させた作動媒質14をディスペンサ滴下する。例えば、流体中に微粒子を添加した混合流体をディスペンサで滴下する。滴下量は、充填されるべき体積と等しくなるように制御する。流体は表面張力でリブ13上面よりも盛り上がっている。流体としては、液晶等の絶縁性誘電性材料を用いるのが好ましい。液晶の場合、誘電率異方性は正でも負でもよい。液晶の誘電率異方性により、微粒子の挙動が影響を受け、誘電率異方性の絶対値の大きいほうが微粒子の移動速度が速い傾向がある。例えば、液晶としてRDP−00333(大日本インキ製)を用いる。液晶中に分散させる微粒子の添加量は1〜50wt%程度、望ましくは10〜30wt%程度がよい。例えば20wt%の微粒子を添加する。微粒子の粒径は0.5〜100μm程度、望ましくは2〜20μm程度がよい。例えば粒径6μmの微粒子を用いる。微粒子の材質は、例えばTiO2、SiO2、ZnO等の酸化物及びスチレンボール等の有機物を用いることができる。中実の粒子又は中空の粒子を用いることができる。白色顔料黒色顔料等を添加してもよい。

0020

図1Dは、上部基板の製造工程を示す。透明基板21の上に、開口を有する透明電極22を形成する。開口が表示領域と整合する。例えば450μm平方の複数の開口を含み、X方向に延在する上部電極22が、Y方向に並列に配列される。下部基板同様、透明上部基板21は、プラスチック基板又はガラス基板で形成し、透明上部電極22は例えばインジウム−錫酸化物(ITO)で形成する。透明上部電極22の開口部は、透明下部電極上に表示領域を画定する。

0021

図1Eは、下部基板上に上部基板を重ね合わせた状態を示す。上部基板21の透明上部電極22の開口が下部基板の透明下部電極12上、リブ13の開口内に配置され表示領域を画定する。表示領域内に作動媒質14が収容される。気泡を生じないように、例えば、真空中で下部基板上に上部基板を重ね合わせ、熱圧着することができる。例えば、真空パック中に適当なスペーサを挟んで両基板をセットし、真空パック内部を真空に排気した後、スペーサを抜き取り両基板を圧着大気に戻す。

0022

図1Fは、上部基板、下部基板を重ね合わせた状態を上面から透視した状態を示す。水平方向に並列に配置された上部電極22の開口(表示領域)下方に作動媒質が収容され、縦方向に並んだ表示領域を連結するように下部電極12が配置されている。このような構成で1層の表示層が形成される。同様の工程により他の表示層も作成し、4層の表示層を準備する。各表示層の表示領域は、横方向/縦方向に表示領域分ずらした配置とする。

0023

各表示領域は格子状リブで囲まれる。従って作動媒質も各表示領域に分割される。リブを微粒子を透過させない材料で構成すれば、画素から画素への微粒子の移動は防止される。

0024

図2A、2Bは、4層の表示層を重ね合わせて組み立てた状態を示す平面図、断面図である。

0025

図2Aに示すように、水平方向に表示領域D1、D2が交互に並び、1行下には表示領域D3、D4が交互に並ぶ。表示領域D1〜D4は、第1表示層〜第4表示層の表示領域である。図2Aの1点鎖線に沿う断面を図2Bに示す。最上表示層DL1は、下部基板11−1、下部電極12−1、リブ13−1、作動媒質14−1、上部電極22−1、上部基板21−1を含み、さらに黒色絶縁材料等で形成されたブラックマトリクスBMを含む。第2表示層DL2、第3表示層DL3、第4表示層DL4は、ブラックマトリクスBMを有さない点以外第1表示層DL1と同様の構成を有する。第4表示層DL4は、下部基板11−4の上又は下に光吸収層BSを有する。

0026

なお、第3表示層DL3、第4表示層DL4では上部電極や作動媒質が示されていないが、これはこの断面が第1表示層DL1及び第2表示層DL2が表示を行なう位置であり、第3表示層DL3、第4表示層DL4は表示を行なわない位置であるためである。1行下の断面を取れば、第1表示層DL1、第2表示層DL2が上部電極及び作動媒質を有さない配置となり、第3表示層DL3、第4表示層DL4が上部電極及び作動媒質を有する構成となる。第1表示層DL1、第2表示層DL2の表示領域は、横方向に1画素分ずれている。第3表示層DL3、第4表示層DL4の表示領域も同様の構成となる。

0027

層積層した表示層によりドットマトリクス表示を行なうため、各表示層においては横(X)方向及び縦(Y)方向それぞれにおいて1画素おきに表示領域を形成すればよいことになる。空いた領域を用いて電極を配置できるため、位置精度が格段に緩やかになる。例えば、1画素サイズを450μm□とした場合、図1Aに示す下部電極は幅450μmのストライプ状電極を間隔450μmで配置すればよく、スクリーン印刷等を利用して容易に作成することができる。

0028

図1Dに示す上部電極も、開口部が450μm□であるが、開口間の間隔が450μmあり、開口の両側に150μm幅の電極を形成しても、電極間の間隔は100μm程度であり、印刷技術を用いて作成することができる。

0029

MFPD表示装置の場合、セルギャップ基板間距離ないし電極間距離)はおおむね10μm〜200μm程度である。例えば75μmの基板間距離とした場合、リブ13は高さ75μmとなるが、格子状であり幅の狭い領域でも400μm位の幅となる。従って、印刷法で形成でき、十分な自己保持能力を容易に与えることができる。

0030

図2Aに示すように、4層積層した状態では正方行列のドットマトリクス表示であり、周知の駆動方法が利用できる。なお、MFPD装置の製造方法等に関しては特許文献1、2の[発明の実施の形態]の開示を参照することができる。

0031

図3A、3Bは、MFPD表示の駆動を概略的に示す断面図である。図3Aは、表示領域内に白色微粒子が分布した状態を示す。上方から光が入射すると、入射光は白色微粒子により反射、散乱され、上方から観察する観察者は表示領域を白く感じる。なお、下部電極12、上部電極22の表面を覆って基板上に配向膜16、26が形成されている。

0032

図3Bは、白色微粒子が下部電極上から排斥された状態を示す。表示領域に白色微粒子が存在しなくなると、上方からの入射光は作動媒質を透過し、下部電極も透過して表示層下方に配置された光吸収板ABSに入射して吸収される。上部から観察する観察者は表示領域を黒く感じる。

0033

表示装置の表示原理は、MFPDに限らない。

0034

図3C、3Dは、エレクトロクロミック表示装置の場合を示す。下部電極12の上にエレクトロクロミック材料層18が配置され、作動媒質14は微粒子を含む液晶の代わりに電解質である。画素毎の作動媒質14がリブ13によって分離されるので、画素間の干渉を防止することができる。上部電極22は開口を有する必要はなく、液晶表示装置のように下部電極と対向配置できる。図3Cは作動媒質14の電解質との相互作用により、エレクトロクロミック材料層18が着色した状態を示す。上部より観察する観察者は表示領域の表示を着色状態と感じる。

0035

図3Dは、作動媒質14との相互作用により、エレクトロクロミック材料層18が無色になった状態を示す。上部よりの入射光はエレクトロクロミック材料層18、下部電極12を透過し、下方に配置された白色反射板REFで反射する。上部より観察する観察者は表示領域を白く感じる。エレクトロクロミック表示装置は、エレクトロクロミック材料層を形成せずにエレクトロクロミック材料を電解質中に分散させ、作動媒質自体を透明にしたり着色させる表示原理のものでもよい。本実施例では、エレクトロクロミック材料層を下側基板に設けているが、エレクトロクロミック材料層を上側基板に設けて作動媒質を介さずに観察される構成としてもよい。その際、作動媒質に白色顔料などを分散させることで外付け反射板を不要とした反射型の表示装置とすることもできる。反射型とした表示装置を多層構成最下層に設けることで、多層の表示装置を反射型として構成することもできる。

0036

4層の積層構造によれば、X方向、Y方向の間隔余裕度が大幅に上昇する。なお、積層構造は4層積層構造に限らない。

0037

ドットマトリクス表示を行う場合、例えば行方向ピッチと列方向ピッチを同一の値に選ぶ。図2Aにおいて、表示領域Dの行方向ピッチと列方向ピッチを500μm、パターン最小ルール(幅及び間隔)を100μmとする場合を考察する。まず、単一表示層でドットマトリクスを形成する場合を考える。図1Aに示すような下部電極はY方向に延在するストライプ状であり、X方向間隔を100μm取れば、X方向幅400μmの電極を全列に配列できる。表示領域のX方向幅は400μm取れる。

0038

図1Dに示すような上部電極は、表示領域を開口とし、表示領域の外側に電極を配置する必要がある。電極間の間隔を100μmとすると、さらに開口両側に最小100μm幅の電極が必要であり、計300μmとなる。ピッチ500μmから300μmを差し引くと、開口、すなわち表示領域のY方向幅は200μmとなる。500μm×500μmの単位面積に400μm×200μmの表示領域を形成することになり、表示領域の面積占有率は、8/25=0.32である。上部電極の開口両側の電極は幅の合計が200μmであり、抵抗が高くなる可能性がある。電極幅を増加させれば、開口はさらに狭くなる。

0039

第1の実施例によれば、4層の表示層を組み合わせ、X方向、Y方向で分割を行っている。電極幅を十分取っても、各表示領域は500μm×500μmとでき、表示領域の面積占有率は1となる。面積占有率は上げたいが、4層までは積層したくない場合は、面積占有率を大きく低下させている1方向(Y方向)のみで分割を行い、2層を積層する構成を取ることができる。

0040

図4Aは、2層積層表示装置の1表示層の電極配置を示す平面図である。Y方向に延在する下部電極12は、幅400μmで、100μmの間隔を置いてX方向に並列に配置される。X方向に延在する上部電極は、1行おきに配列され、幅400μm×高さ500μmの開口を有し、開口の両側にそれぞれ幅200μmの電極を有し、間隔100μmでY方向に並列に配置される。開口の両側に計400μmの電極幅が得られ、下部電極幅400μmとのバランスもよい。他の1層をY方向に半ピッチ(500μm)ずらした形状で形成する。

0041

図4Bは、2層を積層した状態の平面図である。Y方向を表示領域D1と表示領域D2に2分割したので、2層を合成すると、表示領域はY方向では連続する。各表示領域のX方向幅は400μmであり、Y方向高さは500μmである。表示領域の面積占有率は、400×500/500×500=0.8である。単層で形成した時の面積占有率0.32と比べると、2倍以上の改善となる。

0042

なお、上記数値は単なる例示であり、制限的なものではない。要求に応じて、種々変更することができる。面積占有率も変化するが、単層で表示装置を構成する場合と比べ大幅な改善が得られることは、理解できるであろう。同様の構成でエレクトロクロミック表示装置を形成することもできる。エッレクトロクロミック表示装置の場合は、電極に開口を設ける必要がなく、電極配置はより容易となる。

0043

なお、4層積層構造、2層積層構造の場合を説明したが、積層構造の総数は4又は2に限らない。任意の複数層を積層して表示装置を形成できる。

0044

図5は、3層構造の表示装置の例を示す。表示層DL1、DL2、DL3の各層が赤(R)表示、緑(G)表示、青(B)表示を行う。3層の表示を重ねた表示DISは、RGBのカラー表示を行う。例えばエレクトロクロミック表示で3色を表示する。

0045

図6A、6Bは、積層電極間にオーバーラップを設けた場合を示す断面図、平面図である。表示装置を斜方より観察するときもより確実な表示を行わせることが可能となろう。積層数は2,3,4に限らない。また、表示装置の製造方法も上記のものに限らない。

0046

図6Cは、リブの形成を、基板上にレジストパターンを形成し、サンドブラストで行う場合を示す。基板11上にリブ形状のレジストパターンRPを形成し、レジストパターンをマスクとしたサンドブラストを行う。レジストパターンRPに覆われていない部分で基板11がサンド30で削られ、残る部分がリブを形成する。

0047

上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。例えば、種々の変形、改良、組合せが可能なことは当業者に自明であろう。

図面の簡単な説明

0048

図1A1,1B1,1C1は下部基板の平面図、図1A2、1B2、1C2は下部基板の断面図、図1Dは上部基板の平面図、図1Eは上下部基板を重ね合わせた状態の断面図、図1Fは重ね合せ基板透視平面図である。
図2Aは、積層表示装置の平面図、図2Bは積層表示装置の断面図である。
図3A、3BはMFPD表示の動作原理を示す概略断面図、図3C、3Dはエレクトロクロミック表示の動作原理を示す概略断面図である。
図4A、4Bは2層積層表示装置の1表示層の電極配置、および積層構造の表示領域配置を示す平面図である。
図5は、3層積層表示装置の例を示す斜視図である。
図6A,6Bは、電極間にオーバーラップを設けた構成例を示す断面図、平面図である。図6Cは、リブを形成する他の方法である選択的サンドブラストを示す断面図である。

符号の説明

0049

11 下部基板
12 下部電極
13リブ
14作動媒質
21 上部基板
22 上部電極
BMブラックマトリクス
ABS吸収材層
16、26配向膜
18エレクトロクロミック材料層
REF反射板
D 表示領域

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  • 堺ディスプレイプロダクト株式会社の「 有機EL表示装置および有機EL表示装置の製造方法」が 公開されました。( 2019/07/18)

    【課題・解決手段】有機EL表示装置は、第1電極を備えた基板と、マトリクス状に整列された複数の画素を形成すべく第1電極の上に蒸着された有機材料によって形成された有機層と、有機層の上に形成された第2電極と... 詳細

  • 株式会社ジャパンディスプレイの「 表示装置」が 公開されました。( 2019/07/18)

    【課題】 表示品位を向上することが可能な表示装置を提供する。【解決手段】 本実施形態の表示装置は、第1方向に沿って隣り合う第1信号線及び第2信号線と、第1信号線及び第2信号線の上に位置する有機絶縁... 詳細

  • 株式会社ジャパンディスプレイの「 表示装置」が 公開されました。( 2019/07/18)

    【課題】表示ムラが低減された表示装置を提供する。【解決手段】表示装置は、基板と、発光素子と、ソース及びドレインの一方が発光素子と電気的に接続され、ソース及びドレインの他方が駆動電源線と接続される第1ト... 詳細

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