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技術 除染方法、及び除染システム

出願人 株式会社エアレックス
発明者 川崎康司
出願日 2005年4月7日 (15年8ヶ月経過) 出願番号 2005-110861
公開日 2006年10月26日 (14年2ヶ月経過) 公開番号 2006-288527
状態 拒絶査定
技術分野 消毒殺菌装置 空気の消毒,殺菌または脱臭
主要キーワード 漏れテスト エアレーション時間 除染室 圧縮空気用 内圧センサー 非飽和状態 凝縮状態 スタート条件
関連する未来課題
重要な関連分野

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図面 (4)

課題

エアレーション時間が従来に比して短縮される除染方法、及び除染システムを提供することを目的とする。

解決手段

過酸化水素ガスチャンバー2に供給する除染ガス供給工程と、凝縮液を形成する凝縮液形成工程と、当該チャンバー2内で過酸化水素ガスが凝縮したことを凝縮センサー11が検知すると、チャンバー2の室温を上昇させて該凝縮液を消失させる凝縮液消失工程と、当該チャンバー2内における飽和率が、凝縮液が消失した時点の飽和率αである非凝縮状態を、所定時間だけ維持する非凝縮状態維持工程とを備えた除染方法を実行するようにした。なお、前記除染方法は、除染ガス供給制御内容、凝縮液消失制御内容、及び非凝縮状態維持制御内容を実行する除染システム1により実行するようにした。

概要

背景

密閉空間を構成する除染室除染する除染方法は、既に良く知られている(例えば、特許文献1参照。)。かかる除染方法は、過酸化水素ガス等の除染ガスを除染室に供給すると共に、該除染ガスを除染室内飽和させて、除染室の内壁や、除染対象となる容器等の表面上に凝縮液を形成し、さらに所定の時間のあいだその状態を維持するものである。

特表2003−527211号公報

概要

エアレーション時間が従来に比して短縮される除染方法、及び除染システムを提供することを目的とする。過酸化水素ガスをチャンバー2に供給する除染ガス供給工程と、凝縮液を形成する凝縮液形成工程と、当該チャンバー2内で過酸化水素ガスが凝縮したことを凝縮センサー11が検知すると、チャンバー2の室温を上昇させて該凝縮液を消失させる凝縮液消失工程と、当該チャンバー2内における飽和率が、凝縮液が消失した時点の飽和率αである非凝縮状態を、所定時間だけ維持する非凝縮状態維持工程とを備えた除染方法を実行するようにした。なお、前記除染方法は、除染ガス供給制御内容、凝縮液消失制御内容、及び非凝縮状態維持制御内容を実行する除染システム1により実行するようにした。

目的

そこで本発明は、エアレーション時間が従来に比して短縮され、それにより除染時間を短縮化できる除染方法、及び除染システムを提供することを目的とする。

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
1件

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請求項1

室内と外界とが気密的に遮断された除染室に、除染ガスを供給して、当該除染室を除染する除染方法において、除染ガスを除染室に供給する除染ガス供給工程と、当該除染室内で除染ガスが凝縮したことにより凝縮液が形成された場合に、該凝縮液を消失させる凝縮液消失工程と、当該除染室内の飽和率が、凝縮液が消失した時点の飽和率である非凝縮状態を、所定時間だけ維持する非凝縮状態維持工程とを備えたことを特徴とする除染方法。

請求項2

除染ガス供給工程により供給された除染ガスを除染室内で凝縮させることにより、凝縮液を形成する凝縮液形成工程を備え、凝縮液消失工程が、凝縮液形成工程で形成した凝縮液を消失させるものであることを特徴とする請求項1記載の除染方法。

請求項3

凝縮液消失工程が、除染室への除染ガス供給量を、除染ガス供給工程における除染ガス供給量に比して減少させることにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものであることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の除染方法。

請求項4

凝縮液消失工程が、除染室への除染ガス供給量を、凝縮液形成工程における除染ガス供給量に比して減少させることにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものであることを特徴とする請求項2記載の除染方法。

請求項5

凝縮液消失工程が、除染室の室温を上げることにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものであることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の除染方法。

請求項6

凝縮液消失工程が、除染室の内圧下げることにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものであることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の除染方法。

請求項7

凝縮液消失工程が、除染室で飽和しない不飽和ガスを当該除染室へ供給することにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものであることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の除染方法。

請求項8

除染ガスが、過酸化水素ガスであることを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の除染方法。

請求項9

室内と外界とが気密的に遮断された除染室と、除染ガスを発生させて、該除染ガスを所定量だけ前記除染室に供給する除染ガス供給手段とを備えた、除染室を除染する除染システムにおいて、除染室内で除染ガスが凝縮して凝縮液が形成されたことを検知する凝縮液検知手段と、除染ガス供給手段により除染ガスを除染室に供給する除染ガス供給制御内容、凝縮液検知手段が凝縮液の形成を検知すると、当該凝縮液を消失させる凝縮液消失制御内容、及び当該除染室内の飽和率が、凝縮液が消失した時点の飽和率である非凝縮状態を、所定時間だけ維持する非凝縮状態維持制御内容を具備し、各制御内容を順次実行する除染制御手段とを備えたことを特徴とする除染システム。

請求項10

除染制御手段が、除染室内で除染ガスを凝縮させることにより凝縮液を形成する凝縮液形成制御内容を具備したものであることを特徴とする請求項9記載の除染システム。

請求項11

除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、除染ガス供給手段に、除染ガス供給制御内容実行時における除染ガス供給量に比して少ない量の除染ガスを供給させるものであることを特徴とする請求項9又は請求項10記載の除染システム。

請求項12

除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、除染ガス供給手段に、凝縮液形成制御内容実行時における除染ガス供給量に比して少ない量の除染ガスを供給させるものであることを特徴とする請求項10記載の除染システム。

請求項13

除染室の室温を調節する室温調節手段を備え、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、室温調節手段により除染室の室温を上げることによって、凝縮液を蒸発させて消失させるものであることを特徴とする請求項9又は請求項10記載の除染システム。

請求項14

除染室の内圧を調節する内圧調節手段を備え、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、内圧調節手段により除染室の内圧を下げることによって、凝縮液を蒸発させて消失させるものであることを特徴とする請求項9又は請求項10記載の除染システム。

請求項15

除染室で飽和しない不飽和ガスを当該除染室へ所定量供給する不飽和ガス供給手段を備え、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、不飽和ガス供給手段により不飽和ガスを除染室へ供給することによって、凝縮液を蒸発させて消失させるものであることを特徴とする請求項9又は請求項10記載の除染システム。

請求項16

除染ガスが、過酸化水素ガスであることを特徴とする請求項9乃至請求項15のいずれかに記載の除染システム。

技術分野

0001

本発明は、過酸化水素ガス等の除染ガスを用いて、除染対象となる除染室除染する除染方法、及び除染システムに関する。

背景技術

0002

密閉空間を構成する除染室を除染する除染方法は、既に良く知られている(例えば、特許文献1参照。)。かかる除染方法は、過酸化水素ガス等の除染ガスを除染室に供給すると共に、該除染ガスを除染室内飽和させて、除染室の内壁や、除染対象となる容器等の表面上に凝縮液を形成し、さらに所定の時間のあいだその状態を維持するものである。

0003

特表2003−527211号公報

発明が解決しようとする課題

0004

しかしながら、前記特許文献1に示される除染方法は、凝縮液を除染対象物等の表面上に形成して当該面を除染する構成であるため、菌を死滅させた後に除染ガス成分を当該除染室から除去(エアレーション)するときは、形成させた凝縮液を全て蒸発させてガス化し、それからそのガス化した状態の除染成分(除染ガス)を排気して除去する必要があった。このように、特許文献1に示される従来構成は、エアレーション時に、凝縮液の蒸発工程が必ず含まれるため、全体として除染時間(除染ガスを除染室内に供給開始してからエアレーションが完了するまでの時間)が長くなってしまう問題がある。

0005

そこで本発明は、エアレーション時間が従来に比して短縮され、それにより除染時間を短縮化できる除染方法、及び除染システムを提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

0006

本発明は、室内と外界とが気密的に遮断された除染室に、除染ガスを供給して、当該除染室を除染する除染方法において、除染ガスを除染室に供給する除染ガス供給工程と、当該除染室内で除染ガスが凝縮したことにより凝縮液が形成された場合に、該凝縮液を消失させる凝縮液消失工程と、当該除染室内の飽和率が、凝縮液が消失した時点の飽和率である非凝縮状態を、所定時間だけ維持する非凝縮状態維持工程とを備えたことを特徴とする除染方法である。ここで、除染とは、化学T期除染、無菌、殺菌、滅菌等が含まれる。また、除染室内の飽和率は、(除染室内における除染ガスの実際の濃度/露点での濃度)×100(%)で示されるものである。すなわち、除染ガスを除染室に供給する前にあっては飽和率はゼロ%であり、これに対し除染ガスが除染室で飽和したときは飽和率が100%(=露点濃度)となる。

0007

かかる構成にあっては、実質的に、非凝縮状態維持工程を実行して、除染室を除染する構成である。さらに詳述すると、除染成分をガス化し、この除染ガスを除染室の内壁又はそこに内在する除染対象物の表面に接触させて、当該接触部分を除染する構成である。すなわち、凝縮液が形成されてなる凝縮状態を維持しない除染方法であることを特徴としている。したがって、菌を死滅させた後にエアレーションを実行するときは、除染室に残留する除染ガスをそのまま分解・排気すれば完了することとなるため、本発明は、従来構成(特許文献1参照)では必要であった凝縮液の蒸発工程が不要となり、エアレーション時間が短くなる。また、除染するのに必要な除染剤の量を従来構成に比して低減させることができ、経済的である。ところで、除染ガスを除染対象物に接触させる構成は、凝縮液を除染対象物に接触させる構成に比して除染効果が劣るという見解がある。これは、高濃度の除染成分を除染対象物に接触させるほど除染効果が高いという除染ガスの特性に基づくものである。しかしながら本発明は、前記の見解に鑑み、除染効果を可及的に高めるべく、凝縮液が消失した時点の除染ガス濃度を所定時間維持して除染室を除染する構成としたものである。かかる構成とすることにより、先に述べたエアレーション時間の短縮化を図りつつ、高い除染効果を確保することができる。

0008

また、かかる構成にあって、除染ガス供給工程により供給された除染ガスを除染室内で凝縮させることにより、凝縮液を形成する凝縮液形成工程を備え、凝縮液消失工程が、凝縮液形成工程で形成した凝縮液を消失させるものである構成が提案される。換言すれば、除染システムが、除染室内で凝縮液を積極的に形成する工程を含むことを特徴とする構成である。

0009

このように、除染室で凝縮液を積極的に形成して、それから凝縮液消失工程を実行する構成としたのは、凝縮液が消失する臨界的な除染ガス濃度を短時間で特定することを簡便かつ確実に可能とするためである。したがって、本発明にかかる凝縮液は、除染を目的として形成するものではない。ここで、凝縮液が消失した時点の除染ガス濃度を得るために、飽和率がほぼゼロ%の状態から徐々に除染ガスを投入して飽和率を連続的に増加させて、一度も凝縮液を発生させずに所望の飽和率を得る構成が提案され得るが、かかる構成は所望の飽和率を得るまでの濃度管理負担が大きい。一方、本発明にかかる構成は、差し当たって凝縮液が形成された状態(飽和率が100%の状態)を得ることを目的としているため、凝縮液が形成されるまでの濃度管理は不要となり、管理負担が軽いという利点がある。また、何ら飽和率について制御することなく凝縮液が形成されるのを静観する構成は、その待機時間が無駄となり、除染時間が無用に長くなる。また、かかる構成では、除染効果の高い飽和率も長時間保持することが困難である。

0010

また、上記構成にあって、凝縮液消失工程が、除染室への除染ガス供給量を、除染ガス供給工程における除染ガス供給量に比して減少させることにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成が提案される。

0011

かかる構成とすることにより、除染ガスを除染室に供給するための除染ガス供給装置を用いて、凝縮液消失工程を実行することが可能となり、設備の複雑化・大型化を防ぐことができる。

0012

また、凝縮液消失工程が、除染室への除染ガス供給量を、凝縮液形成工程における除染ガス供給量に比して減少させることにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成が提案される。

0013

かかる構成とすることにより、除染ガスを除染室に供給するための除染ガス供給装置を用いて、凝縮液消失工程を実行することが可能となり、設備の複雑化・大型化を防ぐことができる。

0014

また、凝縮液消失工程が、除染室の室温を上げることにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成としても良い。

0015

かかる構成は、室内を温度調節し得る既存設備を利用できるという点で好適である。

0016

また、凝縮液消失工程が、除染室の内圧下げることにより凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成としても良い。

0017

かかる構成は、除染室の内圧を調節し得る既存設備を利用できるという点で好適である。

0018

また、凝縮液消失工程が、除染室で飽和しない不飽和ガスを当該除染室へ供給して凝縮液を消失させるものである構成としても良い。

0019

かかる構成とすることにより、除染室の室温又は内圧を変化させること無く、凝縮液を蒸発させることができる。

0020

なお、上記構成にあっては、除染ガスが、過酸化水素ガスである構成が好適である。

0021

このように過酸化水素ガスが好適に用いられる理由としては、過酸化水素ガスが、10-3から10-12に至るまでの除染のバリデーションへの対応を可能とする強力な除染能力を備え、かつ安価で入手し易いことが挙げられる。また、この過酸化水素ガスは、最終的に酸素と水とに分解されるため、環境に対して影響が少ない点も理由の一つとして挙げられる。

0022

また、本発明は、室内と外界とが気密的に遮断された除染室と、除染ガスを発生させて、該除染ガスを所定量だけ前記除染室に供給する除染ガス供給手段とを備えた、除染室を除染する除染システムにおいて、除染室内で除染ガスが凝縮して凝縮液が形成されたことを検知する凝縮液検知手段と、除染ガス供給手段により除染ガスを除染室に供給する除染ガス供給制御内容、凝縮液検知手段が凝縮液の形成を検知すると、当該凝縮液を消失させる凝縮液消失制御内容、及び当該除染室内の飽和率が、凝縮液が消失した時点の飽和率である非凝縮状態を、所定時間だけ維持する非凝縮状態維持制御内容を具備し、各制御内容を順次実行する除染制御手段とを備えたことを特徴とする除染システムである。なお、飽和率は前記した通りである。

0023

かかる構成は、非凝縮状態維持制御内容を実行して、ガス化した除染成分を除染室の内壁等の表面に接触させて、当該接触部分を除染する構成である。すなわち、除染室では、凝縮液が形成されない状態が保持されることとなる。したがって、菌を死滅させた後にエアレーションを実行するときは、除染室に残留する除染ガスをそのまま分解・排気すれば良いため、本発明は、上記した従来構成では必要であった凝縮液の蒸発工程が不要となり、エアレーション時間が短くなる。また、除染するのに必要な除染剤の量を従来構成に比して低減させることができ、経済的である。一方、上述のように、除染ガスを除染対象物に接触させる構成は、特許文献1に示される構成よりも除染効果が劣るという見解がある。しかしながら本発明にかかる除染システムは、除染室内における除染ガス濃度が高い程、除染ガスの除染効果が高いという公知事実に鑑み、除染効果を可及的に高めるべく、凝縮液が消失した時点の飽和率を所定時間維持して除染室を除染する構成としたものである。かかる構成とすることにより、先に述べたエアレーション時間の短縮化を図りつつ、高い除染効果を確保することができる。

0024

また、かかる構成にあって、除染制御手段が、除染室内で除染ガスを凝縮させることにより凝縮液を形成する凝縮液形成制御内容を具備した構成が提案される。

0025

このように、積極的に凝縮液を形成し、それから凝縮液消失制御内容を実行する構成としたのは、簡便かつ確実に、凝縮液が消失する臨界的な飽和率を短時間で特定するためである。したがって、本発明にかかる凝縮液は、除染を目的として形成するものではない。

0026

また、上述の本発明にかかる除染システムにあっては、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、除染ガス供給手段に、除染ガス供給制御内容実行時における除染ガス供給量に比して少ない量の除染ガスを供給させるものである構成が提案される。

0027

かかる構成とすることにより、除染ガス供給制御内容を実行するための除染ガス供給手段を用いて、凝縮液消失制御内容を実行することが可能となり、設備の複雑化・大型化を防ぐことができる。

0028

また、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、除染ガス供給手段に、凝縮液形成制御内容実行時における除染ガス供給量に比して少ない量の除染ガスを供給させるものである構成が提案される。

0029

かかる構成とすることにより、凝縮液形成制御内容を実行するための除染ガス供給手段を用いて、凝縮液消失制御内容を実行することが可能となり、設備の複雑化・大型化を防ぐことができる。

0030

また、除染室の室温を調節する室温調節手段を備え、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、室温調節手段により除染室の室温を上げることによって、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成としても良い。

0031

かかる構成とすることにより、周知な設備を用いて凝縮液消失制御内容を実行することが可能となり、製造コストを低く抑えることが可能となる。

0032

また、除染室の内圧を調節する内圧調節手段を備え、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、内圧調節手段により除染室の内圧を下げることによって、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成としても良い。

0033

かかる構成とすることにより、周知な設備を用いて凝縮液消失制御内容を実行することが可能となり、製造コストを低く抑えることが可能となる。

0034

また、除染室で飽和しない不飽和ガスを当該除染室へ所定量供給する不飽和ガス供給手段を備え、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、不飽和ガス供給手段により不飽和ガスを除染室へ供給することによって、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成としても良い。

0035

かかる構成とすることにより、除染室の室温又は内圧を変化させること無く、凝縮液消失制御内容を実行することが可能となる。

0036

また、上述の本発明にかかる除染システムにあっては、除染ガスが、過酸化水素ガスである構成が好適である。

0037

過酸化水素ガスとすることが好適な理由は、上述した通りである。

発明の効果

0038

本発明にかかる除染方法は、除染ガス供給工程と、凝縮液消失工程と、非凝縮状態を所定時間だけ維持する非凝縮状態維持工程とを備えた構成としたため、菌を死滅させた後にエアレーションを実行するときは、除染室に残留する除染ガスを分解・排気すれば良いこととなり、エアレーション時間が従来構成に比して短くなる。これにより、除染時間が短縮化されるという優れた効果を生ずることとなる。また、除染するのに必要な除染剤の量を従来構成に比して低減させることができ、経済的にも有利である。さらに、前記非凝縮状態維持工程は、凝縮液が消失した時点の飽和率を所定時間維持する構成としたため、エアレーション時間の短縮化を図りつつ、高い除染効果を確保することができる利点がある。

0039

また、凝縮液を形成する凝縮液形成工程を備え、凝縮液消失工程が、凝縮液形成工程で形成した凝縮液を消失させるものである構成とした場合は、凝縮液が消失する臨界的な飽和率を簡便かつ確実に短時間で特定することが可能となる効果がある。

0040

また、凝縮液消失工程が、除染室への除染ガス供給量を、除染ガス供給工程における除染ガス供給量に比して減少させることにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成とした場合は、除染ガスを除染室に供給するための除染ガス供給装置を用いて、凝縮液消失工程を実行することが可能となり、設備の複雑化・大型化を防ぐことができる効果がある。

0041

また、凝縮液消失工程が、除染室への除染ガス供給量を、凝縮液形成工程における除染ガス供給量に比して減少させることにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成とした場合は、除染ガスを除染室に供給するための除染ガス供給装置を用いて、凝縮液消失工程を実行することが可能となり、設備の複雑化・大型化を防ぐことができる効果がある。

0042

また、凝縮液消失工程が、除染室の室温を上げることにより、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成とした場合は、室内を温度調節し得る既存設備を利用できるという利点がある。

0043

また、凝縮液消失工程が、除染室の内圧を下げることにより凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成とした場合は、除染室の内圧を調節し得る既存設備を利用できるという利点がある。

0044

また、凝縮液消失工程が、除染室で飽和しない不飽和ガスを当該除染室へ供給して凝縮液を消失させるものである構成とした場合は、除染室の室温又は内圧を変化させること無く、凝縮液を蒸発させることができるという効果がある。

0045

また、除染ガスが、過酸化水素ガスである構成とした場合は、10-3から10-12に至るまでの除染のバリデーションへの対応を可能とする強力な除染能力が得られ、かつ安価で入手し易いという効果がある。また、環境に対して影響が少ない利点もある。

0046

また、本発明にかかる除染システムは、凝縮液検知手段と、除染ガス供給制御内容、凝縮液消失制御内容、及び非凝縮状態を所定時間だけ維持する非凝縮状態維持制御内容を具備した除染制御手段とを備えた構成としたため、菌を死滅させた後にエアレーションを実行するときは、除染室に残留する除染ガスをそのまま分解・排気すれば良いため、エアレーション時間が短くなる効果がある。また、除染するのに必要な除染剤の量を従来構成に比して低減させることができ、経済的に有利である。また、前記の非凝縮状態維持制御内容を、凝縮液が消失した時点の除染ガス濃度を所定時間維持して除染室を除染する構成としたため、エアレーション時間の短縮化を図りつつ、高い除染効果を確保することができる効果がある。

0047

また、除染制御手段が、除染室内で除染ガスを凝縮させることにより凝縮液を形成する凝縮液形成制御内容を具備した構成とした場合は、簡便かつ確実に、凝縮液が消失する臨界的な飽和率を短時間で特定することができる効果がある。

0048

また、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、除染ガス供給手段に、除染ガス供給制御内容実行時における除染ガス供給量に比して少ない量の除染ガスを供給させるものである構成とした場合は、除染ガス供給制御内容を実行するための除染ガス供給手段を用いて、凝縮液消失制御内容を実行することが可能となり、設備の複雑化・大型化を防ぐことができる利点がある。

0049

また、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、除染ガス供給手段に、凝縮液形成制御内容実行時における除染ガス供給量に比して少ない量の除染ガスを供給させるものである構成とした場合は、凝縮液形成制御内容を実行するための除染ガス供給手段を用いて、凝縮液消失制御内容を実行することが可能となり、設備の複雑化・大型化を防ぐことができる利点がある。

0050

また、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、室温調節手段により除染室の室温を上げることによって、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成とした場合は、周知な設備を用いて凝縮液消失制御内容を実行することが可能となり、製造コストを低く抑えることが可能となる利点がある。

0051

また、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、内圧調節手段により除染室の内圧を下げることによって、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成とした場合は、周知な設備を用いて凝縮液消失制御内容を実行することが可能となり、製造コストを低く抑えることが可能となる利点がある。

0052

また、除染制御手段の凝縮液消失制御内容が、不飽和ガス供給手段により不飽和ガスを除染室へ供給することによって、凝縮液を蒸発させて消失させるものである構成とした場合は、除染室の室温又は内圧を変化させること無く、凝縮液消失制御内容を実行することが可能となる利点がある。

0053

また、除染ガスが、過酸化水素ガスである構成とした場合は、上述のように、10-3から10-12に至るまでの除染のバリデーションへの対応を可能とする強力な除染能力が得られ、かつ安価で入手し易いという効果がある。また、環境に対して影響が少ない利点もある。

発明を実施するための最良の形態

0054

以下に、本発明にかかる除染システム1について説明する。
図1に示されるように、本発明にかかる除染システム1は、チャンバー2と、ガス発生装置4とを備えている。ここで、チャンバー2は、室内と外界とが気密的に遮断された密閉空間を形成するものである。また、ガス発生装置4は、除染ガスとしての過酸化水素ガスを発生させ、前記チャンバー2に過酸化水素ガスを供給するものである。具体的には、ガス発生装置4とチャンバー2とにそれぞれ接続されたガス管X1を介して供給される。なお、本実施例にかかるチャンバー2により、本発明にかかる除染室が構成される。

0055

また、チャンバー2には、凝縮センサー11が配設されている。この凝縮センサー11は、当該チャンバー2内で過酸化水素ガスが凝縮したことを検知するもので、公知品が好適に用いられる。さらに、この凝縮センサー11は、図1に示されるように、中央制御装置CPUに電気的に接続されている。そして、凝縮センサー11が過酸化水素ガスの凝縮液を検知すると、前記中央制御装置CPUに検知信号を送信する構成としている。なお、本実施例にかかる凝縮センサー11により、本発明にかかる凝縮液検知手段が構成される。

0056

また、本除染システム1は、温度センサー9と、温度調節装置10とを備えている。前記温度センサー9は、チャンバー2内の室温を測定するものである。また、温度調節装置10は、チャンバー2内の室温を調節するものである。これら温度センサー9と、温度調節装置10は、公知品が好適に採用される。

0057

また、温度センサー9と温度調節装置10は、図1に示されるように、それぞれ中央制御装置CPUに電気的に接続されている。そして、温度センサー9が室温を測定すると、前記中央制御装置CPUに測定信号を送信する構成としている。また、中央制御装置CPUは、温度センサー9によって測定された室温に基づいて、所定の室温とする指令信号を温度調節装置10に送信する構成としている。なお、このような制御内容を備えた中央制御装置CPU、温度センサー9、及び温度調節装置10により、本発明にかかる室温調節手段が構成される。

0058

また、ガス発生装置4は、蒸発装置5、液体タンク6、送液ポンプ15、及び送風機7を具備している。前記蒸発装置5は、過酸化水素水を蒸発させる加熱面(図示省略)を備えている。また、液体タンク6には、過酸化水素ガスが溶解した過酸化水素水が入っている。また、送液ポンプ15は、液体タンク6内の過酸化水素水を前記蒸発装置5の加熱面に送るものである。また、送風機7は、蒸発装置5で発生した過酸化水素ガスを一方向へ送風するものである。

0059

かかる構成にあって、液体タンク6の過酸化水素水は、送液ポンプ15の駆動により、蒸発装置5の加熱面(図示省略)に滴下され、これにより過酸化水素水が蒸発され、過酸化水素ガスが発生する。そして、この過酸化水素ガスが送風機7の駆動によりチャンバー2内に送り込まれる。なお、この蒸発装置5は、フラッシュ蒸発(いわゆる急速蒸発法)によりガスを発生させる公知品が好適に用いられる。

0060

ところで、前記送液ポンプ15は、図1に示されるように、中央制御装置CPUに電気的に接続されている。そして、中央制御装置CPUからの指令信号に従って所定量の過酸水素水を蒸発装置5に供給し、所望量の過酸化水素ガスをチャンバー2内に供給可能としている。なお、このような制御内容を備えた中央制御装置CPU、及びガス発生装置4により除染ガス供給手段が構成される。

0061

また、チャンバー2とガス発生装置4には、ガス管X2が配設されている。そして、このガス管X2には、循環用送風機8が配設されている。かかる構成にあって、循環用送風機8が駆動すると、過酸化水素ガスが、ガス管X1,X2により構成される循環回路Xを循環することとなる。

0062

また、前記中央制御装置CPUは、四つの制御内容を備えている。一つ目は、ガス発生装置4を駆動させて過酸化水素ガスをチャンバー2内に供給する除染ガス供給制御内容である。二つ目は、過酸化水素ガスをチャンバー2内で飽和状態として凝縮させる凝縮液形成制御内容である。三つ目は、チャンバー2内に形成された凝縮液を消失させる凝縮液消失制御内容である。四つ目は、チャンバー2内における飽和率を、凝縮液が消失した時点の飽和率αに維持する非凝縮状態維持制御内容である。なお、本実施例にかかる上記四つの制御内容を備え、各制御内容を順次実行する中央制御装置CPUにより、本発明にかかる除染制御手段が構成される。

0063

次に、本除染システム1の除染態様を説明すると共に、当該除染システム1によって実現される除染方法を説明する。
まず、未だ除染されていない状態のチャンバー2について、漏れテストを実行する。具体的には、漏れテスト用エアーをチャンバー2内に供給し、チャンバー2を陽圧状態とした後、流量計(図示省略)でチャンバー2への流量変化を測定し、判定する。

0064

次に、湿度調整を実行する。これは、過酸化水素ガスを供給する前に予めチャンバー2内を可及的に除湿(0%<W≦40%)しておき、除染環境を良好とするものである。なお、チャンバー2内が除湿されると、後で過酸化水素ガスを供給した際に、チャンバー2内における飽和率を高くすることができる。

0065

所定時間経過し、除湿が完了すると、中央制御装置CPUは、除染ガス供給制御内容を実行して、過酸化水素ガスをチャンバー2内に供給する。そしてさらに、凝縮液形成制御内容を実行して、チャンバー2内で過酸化水素ガス飽和させ、当該チャンバー2の内壁に凝縮液を形成する。この凝縮液が形成されたときのチャンバー2内における飽和率は、100%(飽和状態)である。さらに詳述すると、予め定められた所望時間内にチャンバー2内で凝縮液が形成開始されるために必要な過酸化水素ガスを供給できるように、所定量の過酸化水素水を蒸発装置5に送る指令信号を送液ポンプ15に送信する。また、温度センサー9による室内温度に関する情報を適宜処理しながら、温度調節装置10に室温を下げる指令信号を送信する。これにより、過酸化水素ガスがチャンバー2内に供給され、かつ凝縮液が形成される除染ガス供給工程が実行されることとなる。このような制御内容を積極的に実行することにより、凝縮液をチャンバー2内に短時間で形成させることができる。なお、凝縮液を形成するための制御内容は上記構成に限定されず、例えば、過酸化水素水の供給量のみを管理して凝縮液を形成する構成としても勿論良い。すなわち、ある単独のパラメータを変更させる構成や、様々なパラメータの組み合わせによる構成が提案され得る。

0066

上記除染ガス供給制御内容、及び凝縮液形成制御内容を実行すると、凝縮センサー11は、チャンバー2内に凝縮液が形成されたことを検知する。そして、中央制御装置CPUは、凝縮センサー11からの検知信号を受信すると、凝縮液消失制御内容を実行する。具体的には、ガス発生装置4に、過酸化水素ガスの供給量を減じる指令信号を送信する。また、温度調節装置10に、室温を上げる指令信号を送信する。このように、除染ガス供給制御内容、及び凝縮液形成制御内容実行時に比して、過酸化水素ガスの供給量を減じ、室温を上昇させることにより、チャンバー2内は飽和状態から非飽和状態移行し、凝縮液が蒸発して凝縮液が消失することとなる。これにより、凝縮液を消失させる凝縮液消失工程が実行されることとなる。なお、過酸化水素ガスの供給量を減じる指令信号には、過酸化水素ガスの供給を一時的に停止させる(供給量をゼロとする)ものも含まれる。また、凝縮液を消失させるための制御内容は上記構成に限定されず、例えば、過酸化水素水の供給量のみを管理して凝縮液を消失させる構成としても勿論良い。すなわち、ある単独のパラメータを変更させる構成や、様々なパラメータの組み合わせによる構成が提案され得る。

0067

次に、中央制御装置CPUは、非凝縮状態維持制御内容を実行し、チャンバー2内における飽和率が、凝縮液が消失した時点の飽和率αである非凝縮状態を所定時間だけ維持する。換言すれば、凝縮液が消失した直後の非凝縮状態であるチャンバー2内の雰囲気を保持することとなる。具体的には、本除染システム1は、濃度センサー30を備えている。この濃度センサー30は、チャンバー2内における過酸化水素ガスの実際の濃度(単位:例えばppm)を検知し得るものである。この濃度センサー30は、公知品が好適に用いられる。また、この濃度センサー30は、中央制御装置CPUに電気的に接続されており、測定信号を当該中央制御装置CPUに送信する構成としている。

0068

そして、前記濃度センサー30により濃度管理しながら、飽和率を、50%以上100%未満の範囲で保持し、好ましくは、80%以上100%未満の範囲で保持する。具体的には、室温及び過酸化水素ガスの供給量を適宜増減させて、かかる非凝縮状態を維持する。これにより、非凝縮状態が所定時間だけ維持する非凝縮状態維持工程が実現されることとなる。ここで、凝縮液が消失した時点の飽和率αは、上述のように露点濃度に近く、除染効果が高い。したがって、かかる非凝縮状態維持制御内容を実行することにより、高い除染効果が得られることとなる。なお、非凝縮状態を維持する時間は、所望の除染レベルを得るのに必要な時間が設定される。

0069

次に、他の実施例を説明する。
これまでに述べた構成は、中央制御装置CPUが、過酸化水素ガスの供給量を減少させ、かつ室温を上昇させる凝縮液消失制御内容を実行して、凝縮液消失工程を実現させる構成であったが、かかる構成に代えて、チャンバー2の内圧を下げることにより凝縮液を消失させる構成としても良い。また、既に述べた構成と組み合わせた構成としても良い。具体的には、図2に示されるように、内圧センサー12と、内圧調節装置13とを備えた除染システム1aが提案される。この内圧センサー12は、チャンバー2の内圧を検知できるものである。また、内圧調節装置13は、チャンバー2内の内圧を調節できるものである。これら内圧センサー12と内圧調節装置13は、公知品が好適に採用される。また、内圧センサー12と内圧調節装置13は、図2に示されるように、それぞれ中央制御装置CPUに電気的に接続されている。

0070

そして、内圧センサー12が内圧を測定すると、内圧センサー12は中央制御装置CPUに測定信号を送信する構成としている。また、中央制御装置CPUは、内圧センサー12によって測定された内圧に基づいて、所定の内圧とする指令信号を内圧調節装置13に送信する構成としている。なお、このような制御内容を備えた中央制御装置CPU、内圧センサー12、及び内圧調節装置13により、本発明にかかる内圧調節手段が構成される。

0071

かかる構成にあっては、凝縮センサー11が凝縮液を検知すると、中央制御装置CPUは、内圧調節装置13に、内圧を下げる指令信号を送信する。これにより、チャンバー2内は飽和状態から非飽和状態に移行し、凝縮液が蒸発して凝縮液が消失することとなる。

0072

また、さらに別の構成として、凝縮液消失工程が、圧縮空気をチャンバー2に供給して凝縮液を消失させる内容の構成が提案される。また、既に述べた構成と適宜組み合わせた構成としても良い。ここで、圧縮空気は、チャンバー2内で飽和しない不飽和ガスに属するものであって、図3に示されるように、不飽和ガス発生装置20を備えた除染システム1bが提案される。前記不飽和ガス発生装置20は、圧縮空気を発生させる圧縮機21、圧縮空気用フィルター22、圧縮空気を除湿する除湿機23、及び流量の調整機能を備えた流量計24を具備し、低湿度(例えば、湿度Wが0%<W≦40%)で、かつチャンバー2内で凝縮しないものである。また、前記流量計24は、図3に示されるように、中央制御装置CPUに電気的に接続されている。

0073

かかる構成にあって、前記圧縮機21により発生された圧縮空気は、図3に示されるように、圧縮空気用フィルター22を介して除湿機23に送り込まれる。そして、中央制御装置CPUが、流量計52に、流量を規定する指令信号を送信する。そうすると、除湿機23からは、除湿された所定量の圧縮空気が放出される。そして、当該圧縮空気は、一端が除湿機23に接続され、他端がチャンバー2と接続されたガス管25を介してチャンバー2内に供給される。なお、このように、圧縮空気がチャンバー2へ供給されると、相対的にチャンバー2内における過酸化水素ガス濃度が減少し、過酸化水素ガスの飽和状態が解消されて、凝縮液が消失することとなる。かかる構成は、チャンバー2内の温度や内圧を変更する必要がないため、凝縮液消失工程を迅速に実行することが可能となる。なお、本実施例にかかる中央制御装置CPU、及び不飽和ガス発生装置20により、本発明にかかる不飽和ガス供給手段が構成される。

0074

なお、菌を死滅させた後は、チャンバー2内から過酸化水素ガスを抜き取ることとなる(エアレーション)。具体的には、触媒を備えた排気用回路(図示省略)に過酸化水素ガスを含む室内ガスを通過させ、過酸化水素ガスを分解し、さらに清浄化した後、外界に排気する。このように本発明は、チャンバー2に内在する過酸化水素ガスを排気すればエアレーションが完了するため、従来構成では必要であった凝縮液の蒸発工程が不要となり、エアレーション時間が短くなる利点がある。

0075

また、これまでに述べた凝縮センサー11としては、例えば、凝縮液が形成されるガラス板を備え、当該ガラス板内を通過する光の受光量変化から凝縮液の形成の有無を検知する構成が提案される。また、チャンバー2に配設された湿度センサーを配設し、この湿度センサーを凝縮センサー11として用いても良い。

0076

また、中央制御装置CPUに、データを随時読み書きできる記憶装置RAMと、演算処理に用いる動作プログラムやデータが格納される記憶装置ROMとが備えられた周知な構成にあって、除染ガス供給制御内容、凝縮液消失制御内容、及び非凝縮状態維持制御内容を予め定められた内容で順に実行するプログラムを、所定のスタート条件契機として自動実行させる構成としても良い。

0077

また、本発明にあっては、除染ガス供給工程を、凝縮液を形成することを構成要件としないものとしても良い。すなわち、中央制御装置CPUの除染ガス供給制御内容が、単に、ガス発生装置4を駆動して過酸化水素ガスをチャンバー2に供給するというものであり、チャンバー2内で凝縮液が形成された場合に限り、凝縮液消失制御内容を実行するものである。かかる構成としても、凝縮液消失制御内容実行後に、飽和率が高い非凝縮状態を維持することが可能である。

0078

また、除染ガスとしては、ホルムアルデヒドエチレンオキサイド過酢酸水溶液オゾン水等の除染剤をガス化したものが例示される。

0079

また、前記した不飽和ガスとしては、不活性ガスを用いた構成としても良い。不活性ガスとしては、窒素、又はアルゴンガス等が例示される。かかる構成とすることにより、過酸化水素ガスの飽和状態を解消し、凝縮液を消失させることが可能となる。

0080

また、本発明にかかる除染室は、アイソレータ等であっても良く、これまでに述べた構成は、その態様を適宜変更することが可能である。

図面の簡単な説明

0081

除染システム1の概略図である。
除染システム1aの概略図である。
除染システム1bの概略図である。

符号の説明

0082

1,1a,1b除染システム
2チャンバー
4ガス発生装置
9温度センサー
10温度調節装置
11凝縮センサー
12内圧センサー
13内圧調節装置
20 不飽和ガス発生装置

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