図面 (/)

技術 有害生物防除組成物

出願人 住友化学株式会社
発明者 下川床康孝山田浩二
出願日 2004年11月5日 (15年5ヶ月経過) 出願番号 2004-321492
公開日 2006年5月25日 (13年11ヶ月経過) 公開番号 2006-131534
状態 未査定
技術分野 1,3-ジアジン系化合物 複数複素環系化合物 農薬・動植物の保存
主要キーワード 記載頁 ジメチルペンタメチレン基 本発明組成 スメクタイト系鉱物 マイクロカプセルスラリー 高極性成分 バサミ メチルペンタメチレン基
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(2006年5月25日)のものです。
また、この項目は機械的に抽出しているため、正しく解析できていない場合があります

図面 (0)

図面はありません

課題

有害生物防除に優れた効力を有する有害生物防除組成物を提供すること。

解決手段

(1)一般式で示されるピリミジン化合物若しくは一般式 で示される1,2,4−チアジアゾール化合物と、(2)(E)−1−(2−クロロ−1,3−チアゾール−5−イルメチル)−3−メチル−2−ニトログアニジンとを有効成分として含有することを特徴とする有害生物防除組成物等。

概要

背景

従来より、有害生物防除のために多くの化合物が開発され実用に供されてきた。しかしながら、これらの化合物は必ずしも有害生物防除に十分な効力を示さない場合もあるため、有害生物防除に優れた効力を有する有害生物防除組成物の開発が望まれていた。

The Pesticide Manual、Thirteenth Edition (edited by Clive Tomlin,published by The British Crop Protection Council and The Royal Society of Chemistry、2003)、198〜199頁

概要

有害生物防除に優れた効力を有する有害生物防除組成物を提供すること。(1)一般式で示されるピリミジン化合物若しくは一般式 で示される1,2,4−チアジアゾール化合物と、(2)(E)−1−(2−クロロ−1,3−チアゾール−5−イルメチル)−3−メチル−2−ニトログアニジンとを有効成分として含有することを特徴とする有害生物防除組成物等。 なし

目的

有害生物防除に優れた効力を有する有害生物防除組成物を提供すること。

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
0件

この技術が所属する分野

(分野番号表示ON)※整理標準化データをもとに当社作成

ライセンス契約や譲渡などの可能性がある特許掲載中! 開放特許随時追加・更新中 詳しくはこちら

請求項1

(1) 式(I)〔式中、R1は水素原子またはC1−C4アルキル基を表し、R2はC3−C7アルキニルオキシ基を表し、R3は水素原子、ハロゲン原子またはC1−C3アルキル基を表し、Xは(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基及び/又はC1−C4アルキル基で置換されていてもよい)C4−C7ポリメチレン基を表す。〕で示されるピリミジン化合物、若しくは式(II)〔式中、R1はC3−C7アルキニル基を表し、Aは下記のA1又はA2を表し、X2はC4−C7アルカンジイル基又はC4−C7アルケンジイル基を表し、R5はハロゲン原子、トリフルオロメチル基又はC1−C4アルキル基を表し、R6はC1−C3アルキル基を表し、lは0〜4までの整数を表し、nは0〜2の整数を表す。lが2以上の整数である場合、R5は同一又は相異なる基を表し、nが2である場合、R6は同一又は相異なる基を表す。〕で示される1,2,4−チアジアゾール化合物と、(2) (E)−1−(2−クロロ−1,3−チアゾール−5−イルメチル)−3−メチル−2−ニトログアニジンとを有効成分として含有することを特徴とする有害生物防除組成物

請求項2

式(I)若しくは式(II)で示される化合物が、(I−1)〜(I−5)、(II-1)、(II−2a)及び(II−3a)のいずれかの化合物である請求項1記載の有害生物防除組成物。

請求項3

(1) 式(I)で示されるピリミジン化合物若しくは式(II)で示される1,2,4−チアジアゾール化合物と(2)(E)−1−(2−クロロ−1,3−チアゾール−5−イルメチル)−3−メチル−2−ニトログアニジンとの重量比が500:1〜1:50の範囲である請求項1及び2に記載の有害生物防除組成物

請求項4

請求項1〜3いずれか一項記載の有害生物防除組成物を有害生物または有害生物の生息場所施用することを特徴とする有害生物の防除方法

請求項5

(1) 式(I)〔式中、R1は水素原子またはC1−C4アルキル基を表し、R2はC3−C7アルキニルオキシ基を表し、R3は水素原子、ハロゲン原子またはC1−C3アルキル基を表し、Xは(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基及び/又はC1−C4アルキル基で置換されていてもよい)C4−C7ポリメチレン基を表す。〕で示されるピリミジン化合物、若しくは式(II)〔式中、R1はC3−C7アルキニル基を表し、Aは下記のA1又はA2を表し、X2はC4−C7アルカンジイル基又はC4−C7アルケンジイル基を表し、R5はハロゲン原子、トリフルオロメチル基又はC1−C4アルキル基を表し、R6はC1−C3アルキル基を表し、lは0〜4までの整数を表し、nは0〜2の整数を表す。lが2以上の整数である場合、R5は同一又は相異なる基を表し、nが2である場合、R6は同一又は相異なる基を表す。〕で示される1,2,4−チアジアゾール化合物と(2) (E)−1−(2−クロロ−1,3−チアゾール−5−イルメチル)−3−メチル−2−ニトログアニジンとを有害生物または有害生物の生息場所に施用することを特徴とする有害生物の防除方法。

技術分野

0001

本発明は、有害生物防除組成物に関するものである。

背景技術

0002

従来より、有害生物防除のために多くの化合物が開発され実用に供されてきた。しかしながら、これらの化合物は必ずしも有害生物防除に十分な効力を示さない場合もあるため、有害生物防除に優れた効力を有する有害生物防除組成物の開発が望まれていた。

0003

The Pesticide Manual、Thirteenth Edition (edited by Clive Tomlin,published by The British Crop Protection Council and The Royal Society of Chemistry、2003)、198〜199頁

発明が解決しようとする課題

0004

有害生物防除に優れた効力を有する有害生物防除組成物を提供すること。

課題を解決するための手段

0005

本発明は、上記の課題を解決するものであり、
(1)一般式化1

0006

〔式中、R1は水素原子またはC1−C4アルキル基を表し、
R2はC3−C7アルキニルオキシ基を表し、
R3は水素原子、ハロゲン原子またはC1−C3アルキル基を表し、
X1は(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基及び/又はC1−C4アルキル基で置換されていてもよい)C4−C7ポリメチレン基を表す。〕
で示されるピリミジン化合物(以下、化合物(I)と記すこともある。)若しくは
一般式化2

0007

〔式中、R1はC3−C7アルキニル基を表し、
Aは下記のA1又はA2を表し、

0008

X2はC4−C7アルカンジイル基又はC4−C7アルケンジイル基を表し、
R5はハロゲン原子、トリフルオロメチル基又はC1−C4アルキル基を表し、
R6はC1−C3アルキル基を表し、
lは0〜4までの整数を表し、nは0〜2の整数を表す。
lが2以上の整数である場合、R5は同一又は相異なる基を表し、
nが2である場合、R6は同一又は相異なる基を表す。〕
で示される1,2,4−チアジアゾール化合物(以下、化合物(II)と記すこともある。)と、
(2)クロチアニジン(以下、化合物(III)と記すこともある。)とを有効成分として含有することを特徴とする有害生物防除組成物(以下、本発明組成物と記すこともある。)及び本発明組成物を有害生物または有害生物の生息場所施用することを特徴とする有害生物の防除方法
等を提供するものである。

発明の効果

0009

本発明組成物は有害生物防除に優れた効果を有する。

発明を実施するための最良の形態

0010

まず、化合物(I)について説明する。
一般式化1において、
R1で示されるC1−C4アルキル基としては、例えばメチル基エチル基プロピル基イソプロピル基ブチル基、イソブチル基があげられる。

0011

R2で示されるC3−C7アルキニルオキシ基としては、例えば2位の炭素原子と3位の炭素原子との間の結合が三重結合であるC3−C7アルキニルオキシ基(以下、(C3−C7)2−アルキニルオキシ基と記す。)があげられ、具体的には例えば2−プロピニルオキシ基、2−ブチニルオキシ基、1−メチル−2−ブチニルオキシ基、2−ペンチニルオキシ基、4,4−ジメチル−2−ペンチニルオキシ基、1−メチル−2−プロピニルオキシ基及び1,1−ジメチル−2−プロピニルオキシ基があげられる。

0012

R3で示されるハロゲン原子としては、例えばフッ素原子及び塩素原子があげられ、C1−C3アルキル基としては、例えばメチル基及びエチル基があげられる。

0013

X1で示される(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基及び/又はC1−C4アルキル基で置換されていてもよい)C4−C7ポリメチレン基において、ハロゲン原子としては例えばフッ素原子、塩素原子及び臭素原子があげられ、C1−C4アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基及びtert−ブチル基があげられ、C4−C7ポリメチレン基としては、テトラメチレン基ペンタメチレン基ヘキサメチレン基及びヘプタメチレン基があげられる。

0014

X1で示される(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基及び/又はC1−C4アルキル基で置換されていてもよい)C4−C7ポリメチレン基としては、例えばテトラメチレン基、1−メチルテトラメチレン基、2−メチルテトラメチレン基、1−エチルテトラメチレン基、1−プロピルテトラメチレン基、1−イソプロピルテトラメチレン基、1−(tert−ブチル)テトラメチレン基、2−エチルテトラメチレン基、1,4−ジメチルテトラメチレン基、2,3−ジメチルテトラメチレン基、2,2−ジメチルテトラメチレン基、2−フルオロテトラメチレン基、2−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、3−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、ペンタメチレン基、1−メチルペンタメチレン基、2−メチルペンタメチレン基、3−メチルペンタメチレン基、1−エチルペンタメチレン基、2−エチルペンタメチレン基、1−プロピルペンタメチレン基、2−プロピルペンタメチレン基、3−プロピルペンタメチレン基、1−イソプロピルペンタメチレン基、2−イソプロピルペンタメチレン基、3−イソプロピルペンタメチレン基、1−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、2−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、3−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、1−(sec−ブチル)ペンタメチレン基、2−(sec−ブチル)ペンタメチレン基、1,5−ジメチルペンタメチレン基、1,3−ジメチルペンタメチレン基、1,4−ジメチルペンタメチレン基、2,4−ジメチルペンタメチレン基、1,1−ジメチルペンタメチレン基、2,2−ジメチルペンタメチレン基、3,3−ジメチルペンタメチレン基、2−エチル−5−メチルペンタメチレン基、2−エチル−4−メチルペンタメチレン基、2,4−ジエチルペンタメチレン基、1,2−ジメチルペンタメチレン基、2,2,4−トリメチルペンタメチレン基、1,2,4,5−テトラメチルペンタメチレン基、2,2,4,4−テトラメチルペンタメチレン基、2−フルオロペンタメチレン基、2−クロロペンタメチレン基、2−ブロモペンタメチレン基、3−フルオロペンタメチレン基、3−クロロペンタメチレン基、3−ブロモペンタメチレン基、2,2−ジフルオロペンタメチレン基、3,3−ジフルオロペンタメチレン基、2−フルオロ−2−メチルペンタメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、2−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、3−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、1−メチルヘキサメチレン基、2−メチルヘキサメチレン基、3−メチルヘキサメチレン基、4−メチルヘキサメチレン基、1−エチルヘキサメチレン基、2−エチルヘキサメチレン基、3−エチルヘキサメチレン基、1−プロピルヘキサメチレン基、2−プロピルヘキサメチレン基、3−プロピルヘキサメチレン基、1−イソプロピルヘキサメチレン基、2−イソプロピルヘキサメチレン基、3−イソプロピルヘキサメチレン基、1−(tert−ブチル)ヘキサメチレン基、1−イソブチルヘキサメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ヘキサメチレン基、1,4−ジメチルヘキサメチレン基、1,5−ジメチルヘキサメチレン基、1,6−ジメチルヘキサメチレン基、2,5−ジメチルヘキサメチレン基及びヘプタメチレン基があげられる。

0015

X1がテトラメチレン基である化合物(I)は、下記式

0016

〔式中、R1、R2及びR3は前記と同じ意味を表す。〕で示される。

0017

X1がペンタメチレン基である化合物(I)は、下記式

0018

〔式中、R1、R2及びR3は前記と同じ意味を表す。〕で示される。

0019

X1がヘキサメチレン基である化合物(I)は、下記式

0020

〔式中、R1、R2及びR3は前記と同じ意味を表す。〕で示される。

0021

X1がヘプタメチレン基である化合物(I)は、下記式

0022

〔式中、R1、R2及びR3は前記と同じ意味を表す。〕で示される。

0023

化合物(I)の態様としては、例えば以下のピリミジン化合物があげられる。
一般式化1において、R1が水素原子であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、R2が(C3−C7)2−アルキニルオキシ基であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、R2が2−ブチニルオキシ基または2−ペンチニルオキシ基であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、R3が水素原子であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、R3がハロゲン原子であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、R3がフッ素原子であるピリミジン化合物;

0024

一般式化1において、X1が(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基及び/又はC1−C4アルキル基で置換されていてもよい)テトラメチレン基であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、X1が(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基及び/又はC1−C4アルキル基で置換されていてもよい)ペンタメチレン基であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、X1が(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基及び/又はC1−C4アルキル基で置換されていてもよい)ヘキサメチレン基であるピリミジン化合物;

0025

一般式化1において、X1が(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基若しくはC1−C4アルキル基で置換されていてもよい)C4−C7ポリメチレン基であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、X1が(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基若しくはC1−C4アルキル基で置換されていてもよい)テトラメチレン基であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、X1が(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基若しくはC1−C4アルキル基で置換されていてもよい)ペンタメチレン基であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、X1が(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基若しくはC1−C4アルキル基で置換されていてもよい)ヘキサメチレン基であるピリミジン化合物;

0026

一般式化1において、X1がC1−C4アルキル基で置換されていてもよいテトラメチレン基であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、X1がC1−C4アルキル基で置換されていてもよいペンタメチレン基であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、X1がC1−C4アルキル基で置換されていてもよいヘキサメチレン基であるピリミジン化合物;

0027

一般式化1において、R1が水素原子であり、R3が水素原子であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、R1が水素原子であり、R3がハロゲン原子であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、R1が水素原子であり、R3がフッ素原子であるピリミジン化合物;

0028

一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が(C3−C7)2−アルキニルオキシ基であり、R3が水素原子であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、R1が水素原子であり、R2が(C3−C7)2−アルキニルオキシ基であり、R3がハロゲン原子であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、R1が水素原子であり、R2が(C3−C7)2−アルキニルオキシ基であり、R3がフッ素原子であるピリミジン化合物;

0029

一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が(C3−C7)2−アルキニルオキシ基であり、R3が水素原子であり、X1が(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基及び/又はC1−C4アルキル基)で置換されていてもよいヘキサメチレン基であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、R1が水素原子であり、R2が(C3−C7)2−アルキニルオキシ基であり、R3がハロゲン原子であり、X1が(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基及び/又はC1−C4アルキル基)で置換されていてもよいヘキサメチレン基であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、R1が水素原子であり、R2が(C3−C7)2−アルキニルオキシ基であり、R3がフッ素原子であり、X1が(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基及び/又はC1−C4アルキル基)で置換されていてもよいヘキサメチレン基であるピリミジン化合物;

0030

一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が(C3−C7)2−アルキニルオキシ基であり、R3が水素原子であり、X1が(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基及び/又はC1−C4アルキル基)で置換されていてもよいペンタメチレン基であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、R1が水素原子であり、R2が(C3−C7)2−アルキニルオキシ基であり、R3がハロゲン原子であり、X1が(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基及び/又はC1−C4アルキル基)で置換されていてもよいペンタメチレン基であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、R1が水素原子であり、R2が(C3−C7)2−アルキニルオキシ基であり、R3がフッ素原子であり、X1が(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基及び/又はC1−C4アルキル基)で置換されていてもよいペンタメチレン基であるピリミジン化合物;

0031

一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が(C3−C7)2−アルキニルオキシ基であり、R3が水素原子であり、X1が(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基若しくはC1−C4アルキル基)で置換されていてもよいヘキサメチレン基であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、R1が水素原子であり、R2が(C3−C7)2−アルキニルオキシ基であり、R3がハロゲン原子であり、X1が(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基若しくはC1−C4アルキル基)で置換されていてもよいヘキサメチレン基であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、R1が水素原子であり、R2が(C3−C7)2−アルキニルオキシ基であり、R3がフッ素原子であり、X1が(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基若しくはC1−C4アルキル基)で置換されていてもよいヘキサメチレン基であるピリミジン化合物;

0032

一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が(C3−C7)2−アルキニルオキシ基であり、R3が水素原子であり、X1が(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基若しくはC1−C4アルキル基)で置換されていてもよいペンタメチレン基であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、R1が水素原子であり、R2が(C3−C7)2−アルキニルオキシ基であり、R3がハロゲン原子であり、X1が(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基若しくはC1−C4アルキル基)で置換されていてもよいペンタメチレン基であるピリミジン化合物;
一般式 化1において、R1が水素原子であり、R2が(C3−C7)2−アルキニルオキシ基であり、R3がフッ素原子であり、X1が(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基若しくはC1−C4アルキル基)で置換されていてもよいペンタメチレン基であるピリミジン化合物;

0033

次に化合物(I)の製造法について説明する。
化合物(I)は、例えば以下に記載の製造工程例1または製造工程例2により製造することができる。

0034

製造工程例1
化合物(I)は、式(IV)で示される化合物と式(V)で示される化合物とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。

0035

〔式中、R1、R2、R3及びX1は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフランジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテルエチレングリコールジメチルエーテル、1,4−ジオキサン等のエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類アセトニトリル等のニトリル類ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム等の炭酸塩類カリウムtert−ブトキシドナトリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式(IV)で示される化合物1モルに対して、式(V)で示される化合物が通常1〜2モルの割合であり、塩基が通常1〜2モルの割合である。
該反応の反応温度は通常0〜80℃の範囲であり、反応時間は通常0.5〜12時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うにより、化合物(I)を単離することができる。単離された化合物(I)は、クロマトグラフィー再結晶等によりさらに精製することもできる。

0036

製造工程例2
化合物(I)は、式(VI)で示される化合物と式(VII)で示される化合物(またはその塩酸塩等の塩)とを反応させることにより、製造することもできる。

0037

〔式中、R1、R2、R3及びX1は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、溶媒の存在下または非存在下、塩基の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4−ジオキサン等のエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、アセトニトリル等のニトリル類、メタノールエタノール等のアルコール類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム等の炭酸塩類、トリエチルアミンエチルジイソプロピルアミン等の第3級アミン類があげられる。
反応に用いられる式(VII)で示される化合物の量は、式(VI)で示される化合物1モルに対して、通常1〜3モルの割合である。
塩基の存在下で反応が行われる場合、反応に用いられる塩基の量は、式(VI)で示される化合物1モルに対して、通常1〜4モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常0〜150℃の範囲であり、反応時間は通常0.1〜48時間である。
反応終了後は、例えば以下の方法により化合物(I)を単離することができる。
(i)反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する方法。
(ii) 反応混合物をそのまま濃縮する方法。
(iii) 反応混合物そのものを化合物(I)として単離する方法。
単離された化合物(I)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

0038

次に、化合物(I)の製造中間体の製造法について説明する。

0039

参考製造工程例1
式(IV)で示される化合物は、式(VIII)で示される化合物と式(VII)で示される化合物(又はその塩酸塩等の塩)とを反応させることにより、製造することができる。

0040

〔式中、R1、R3及びX1は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、溶媒の存在下または非存在下、塩基の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4−ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノール等のアルコール類、N,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム等の炭酸塩類、カリウムtert−ブトキシド、ナトリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類があげられる。
反応に用いられる式(VII)で示される化合物の量は、式(VIII)で示される化合物1モルに対して、通常1〜3モルの割合である。
塩基の存在下で反応が行われる場合、反応に用いられる塩基の量は、式(VII)で示される化合物1モルに対して、通常1〜4モルの割合である。
該反応の反応温度は通常0〜150℃の範囲であり、反応時間は通常0.1〜48時間の範囲である。
反応終了後は、例えば以下の方法により式(IV)で示される化合物を単離することができる。
(i)反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する方法。
(ii) 反応混合物をそのまま濃縮する方法。
(iii) 反応混合物そのものを式(IV)で示される化合物として単離する方法。
単離された式(IV)で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

0041

参考製造工程例2
式(VI)で示される化合物は、式(VIII)で示される化合物と式(V)で示される化合物とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。

0042

〔式中、R1、R2及びR3は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4−ジオキサン等のエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、アセトニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム等の炭酸塩類、カリウムtert−ブトキシド、ナトリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式(VIII)で示される化合物1モルに対して、式(V)で示される化合物が通常1〜2モルの割合であり、塩基が通常1〜2モルの割合である。
該反応の反応温度は通常0〜80℃の範囲であり、反応時間は通常0.5〜12時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式(VI)で示される化合物を単離することができる。単離された式(VI)で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

0043

参考製造工程例3
式(VII)で示される化合物は、例えば式(IX)で示される化合物から、以下のスキームにより製造することができる。

0044

〔式中、X’は(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基若しくはC1−C4アルキル基で置換されていてもよい)C3−C6ポリメチレン基を表し、X1は前記と同じ意味を表す。〕

0045

工程(3−1)
式(X)で示される化合物は、式(IX)で示される化合物とヒドロキシルアミン(またはその塩酸塩等の塩)とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類、ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、メタノール、エタノール等のアルコール類、水及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム水酸化カリウム等の無機塩基類、トリエチルアミン等の第3級アミン類、ピリジン等の含窒素芳香族類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式(IX)で示される化合物1モルに対して、ヒドロキシルアミン(またはその塩)が通常1〜3モルの割合であり、塩基が通常1〜5モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常0〜80℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式(X)で示される化合物を単離することができる。単離された式(X)で示される化合物はクロマトグラフィー等によりさらに精製することもできる。

0046

式(XI)で示される化合物は、例えばSynthesis,(1980),p.222−223あるいはJ.Am.Chem.Soc.,(1983),105,p.2381−2843に記載の化合物であるか、または例えば以下に記載の方法により製造することができる。
工程(3−2)
式(XI)で示される化合物は、式(X)で示される化合物を転位反応剤の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばジメチルホルムアミド等の酸アミド類、トルエンベンゼン等の芳香族炭化水素類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる転位反応剤としては、オキシ塩化リン等のリン塩化物塩化チオニル等の硫黄塩化物及びポリリン酸硫酸等の酸があげられる。
反応に用いられる転位反応剤の量は、式(X)で示される化合物1モルに対して、通常0.1モル〜過剰量の割合である。
該反応の反応温度は、通常0〜140℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式(XI)で示される化合物を単離することができる。単離された式(XI)で示される化合物は、クロマトグラフィー等によりさらに精製することもできる。

0047

式(VII)で示される化合物は、例えばJ.Am.Chem.Soc.,(1983),105,p.2381−2843あるいはJ.Heterocyclic.Chem.,(1980)17,p.603に記載の化合物であるか、または例えば以下に記載の方法により製造することができる。
工程(3−3)
式(VII)で示される化合物は、式(XI)で示される化合物を還元することにより製造することができる。
該反応は通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類があげられる。
反応に用いられる還元剤としては、例えば水素化アルミニウムリチウム等のアルミニウム水素化物類があげられる。
反応に用いられる還元剤の量は、式(XI)で示される化合物1モルに対して、通常0.5〜6モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常0〜120℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、例えば以下の方法により式(VII)で示される化合物を単離することができる。
(i)反応混合物に水、15%水酸化ナトリウム水溶液、水を順次加えて撹拌し、乾燥後、必要により濃縮して蒸留する方法。
(ii) 反応混合物に水、15%水酸化ナトリウム水溶液、水を順次加えて撹拌し、乾燥後、溶媒の存在下または非存在下で、塩化水素(またはその溶液)の存在下で撹拌後、濃縮して式(VII)で示される化合物の塩酸塩とする方法。

0048

参考製造工程例4
式(VII)で示される化合物は、式(XII)で示される化合物から、以下のスキームにより製造することできる。

0049

〔式中、X"は(ハロゲン原子、トリフルオロメチル基若しくはC1−C4アルキル基で置換されていてもよい)C2−C5ポリメチレン基を表し、X1は前記と同じ意味を表す。〕

0050

工程(4−1)
式(XIII)で示される化合物は、式(XII)で示される化合物と尿素とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の非存在下で行われる。
反応に用いられる尿素の量は、式(XII)で示される化合物1モルに対して、通常10モル〜過剰量の割合である。
該反応の反応温度は通常50〜170℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式(XIII)で示される化合物を単離することができる。単離された式(XIII)で示される化合物は、クロマトグラフィー等によりさらに精製することもできる。

0051

工程(4−2)
式(VII)で示される化合物は、式(XIII)で示される化合物を還元することにより製造することができる。
該反応は通常溶媒の存在下で製造することができる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類があげられる。
反応に用いられる還元剤としては、例えば水素化アルミニウムリチウム等のアルミニウム水素化物類があげられる。
反応に用いられる還元剤の量は、式(XIII)で示される化合物1モルに対して通常1〜6モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常0〜120℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、例えば以下の方法により式(VII)で示される化合物を単離することができる。
(i)反応混合物に水、15%水酸化ナトリウム水溶液、水を順次加えて撹拌し、乾燥後、必要により濃縮して蒸留する方法。
(ii) 反応混合物に水、15%水酸化ナトリウム水溶液、水を順次加えて撹拌し、乾燥後、溶媒の存在下または非存在下で、塩化水素(またはその溶液)の存在下で撹拌後、濃縮して式(VII)で示される化合物の塩酸塩とする方法。

0052

次に化合物(I)の具体例を以下に示す。
一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が2−プロピニルオキシ基であり、R3が水素原子であり、X1が以下に示されるいずれかであるピリミジン化合物;
テトラメチレン基、1−メチルテトラメチレン基、1−エチルテトラメチレン基、1−プロピルテトラメチレン基、1−イソプロピルテトラメチレン基、1−(tert−ブチル)テトラメチレン基、1,4−ジメチルテトラメチレン基、2−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、3−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、ペンタメチレン基、1−メチルペンタメチレン基、2−メチルペンタメチレン基、3−メチルペンタメチレン基、1−エチルペンタメチレン基、2−エチルペンタメチレン基、1−プロピルペンタメチレン基、2−プロピルペンタメチレン基、3−プロピルペンタメチレン基、3−イソプロピルペンタメチレン基、1−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、3−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、1−(sec−ブチル)ペンタメチレン基、1,5−ジメチルペンタメチレン基、1,3−ジメチルペンタメチレン基、1,4−ジメチルペンタメチレン基、2,2−ジメチルペンタメチレン基、3,3−ジメチルペンタメチレン基、2−エチル−5−メチルペンタメチレン基、2−フルオロペンタメチレン基、3−フルオロペンタメチレン基、2,2−ジフルオロペンタメチレン基、3,3−ジフルオロペンタメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、2−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、3−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、1−メチルヘキサメチレン基、2−メチルヘキサメチレン基、3−メチルヘキサメチレン基、4−メチルヘキサメチレン基、1−エチルヘキサメチレン基、2−エチルヘキサメチレン基、3−エチルヘキサメチレン基、1−プロピルヘキサメチレン基、1−イソプロピルヘキサメチレン基、1−(tert−ブチル)ヘキサメチレン基、1−イソブチルヘキサメチレン基、1,4−ジメチルヘキサメチレン基、1,5−ジメチルヘキサメチレン基、1,6−ジメチルヘキサメチレン基、2,5−ジメチルヘキサメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ヘキサメチレン基及びヘプタメチレン基。

0053

一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が2−ブチニルオキシ基であり、R3がメチル基であり、X1が以下に示されるいずれかであるピリミジン化合物;
テトラメチレン基、1−メチルテトラメチレン基、1−エチルテトラメチレン基、1,4−ジメチルテトラメチレン基、2−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、3−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、ペンタメチレン基、1−メチルペンタメチレン基、2−メチルペンタメチレン基、3−メチルペンタメチレン基、1−エチルペンタメチレン基、2−エチルペンタメチレン基、1,5−ジメチルペンタメチレン基、1,3−ジメチルペンタメチレン基、1,4−ジメチルペンタメチレン基、2,2−ジメチルペンタメチレン基、3,3−ジメチルペンタメチレン基、2−エチル−5−メチルペンタメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、2−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、3−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、1−メチルヘキサメチレン基、2−メチルヘキサメチレン基、3−メチルヘキサメチレン基、4−メチルヘキサメチレン基、1−エチルヘキサメチレン基、2−エチルヘキサメチレン基、3−エチルヘキサメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ヘキサメチレン基及びヘプタメチレン基。

0054

一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が2−プロピニルオキシ基であり、R3がフッ素原子であり、X1が以下に示されるいずれかであるピリミジン化合物;
テトラメチレン基、1−メチルテトラメチレン基、1−エチルテトラメチレン基、1−プロピルテトラメチレン基、1−イソプロピルテトラメチレン基、1−(tert−ブチル)テトラメチレン基、1,4−ジメチルテトラメチレン基、2−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、3−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、ペンタメチレン基、1−メチルペンタメチレン基、2−メチルペンタメチレン基、3−メチルペンタメチレン基、1−エチルペンタメチレン基、2−エチルペンタメチレン基、1−プロピルペンタメチレン基、2−プロピルペンタメチレン基、3−プロピルペンタメチレン基、3−イソプロピルペンタメチレン基、1−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、3−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、1−(sec−ブチル)ペンタメチレン基、1,5−ジメチルペンタメチレン基、1,3−ジメチルペンタメチレン基、1,4−ジメチルペンタメチレン基、2,2−ジメチルペンタメチレン基、3,3−ジメチルペンタメチレン基、2−エチル−5−メチルペンタメチレン基、2−フルオロペンタメチレン基、3−フルオロペンタメチレン基、2,2−ジフルオロペンタメチレン基、3,3−ジフルオロペンタメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、2−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、3−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、1−メチルヘキサメチレン基、2−メチルヘキサメチレン基、3−メチルヘキサメチレン基、4−メチルヘキサメチレン基、1−エチルヘキサメチレン基、2−エチルヘキサメチレン基、3−エチルヘキサメチレン基、1−プロピルヘキサメチレン基、1−イソプロピルヘキサメチレン基、1−(tert−ブチル)ヘキサメチレン基、1−イソブチルヘキサメチレン基、1,4−ジメチルヘキサメチレン基、1,5−ジメチルヘキサメチレン基、1,6−ジメチルヘキサメチレン基、2,5−ジメチルヘキサメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ヘキサメチレン基及びヘプタメチレン基。

0055

一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が2−プロピニルオキシ基であり、R3が塩素原子であり、X1が以下に示されるいずれかであるピリミジン化合物;
テトラメチレン基、1−メチルテトラメチレン基、1−エチルテトラメチレン基、1,4−ジメチルテトラメチレン基、2−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、3−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、ペンタメチレン基、1−メチルペンタメチレン基、2−メチルペンタメチレン基、3−メチルペンタメチレン基、1−エチルペンタメチレン基、2−エチルペンタメチレン基、1,5−ジメチルペンタメチレン基、1,3−ジメチルペンタメチレン基、1,4−ジメチルペンタメチレン基、2,2−ジメチルペンタメチレン基、3,3−ジメチルペンタメチレン基、2−エチル−5−メチルペンタメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、2−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、3−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、1−メチルヘキサメチレン基、2−メチルヘキサメチレン基、3−メチルヘキサメチレン基、4−メチルヘキサメチレン基、1−エチルヘキサメチレン基、2−エチルヘキサメチレン基、3−エチルヘキサメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ヘキサメチレン基及びヘプタメチレン基。

0056

一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が1−メチル−2−プロピニルオキシ基であり、R3が塩素原子であり、X1が以下に示されるいずれかであるピリミジン化合物;
テトラメチレン基、1−メチルテトラメチレン基、1−エチルテトラメチレン基、1,4−ジメチルテトラメチレン基、2−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、3−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、ペンタメチレン基、1−メチルペンタメチレン基、2−メチルペンタメチレン基、3−メチルペンタメチレン基、1−エチルペンタメチレン基、2−エチルペンタメチレン基、1,5−ジメチルペンタメチレン基、1,3−ジメチルペンタメチレン基、1,4−ジメチルペンタメチレン基、2,2−ジメチルペンタメチレン基、3,3−ジメチルペンタメチレン基、2−エチル−5−メチルペンタメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、2−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、3−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、1−メチルヘキサメチレン基、2−メチルヘキサメチレン基、3−メチルヘキサメチレン基、4−メチルヘキサメチレン基、1−エチルヘキサメチレン基、2−エチルヘキサメチレン基、3−エチルヘキサメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ヘキサメチレン基及びヘプタメチレン基。

0057

一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が2−ペンチニルオキシ基であり、R3が水素原子であり、X1が以下に示されるいずれかであるピリミジン化合物;
テトラメチレン基、1−メチルテトラメチレン基、2−メチルテトラメチレン基、1−エチルテトラメチレン基、1−プロピルテトラメチレン基、1−イソプロピルテトラメチレン基、1−(tert−ブチル)テトラメチレン基、2−エチルテトラメチレン基、1,4−ジメチルテトラメチレン基、2,3−ジメチルテトラメチレン基、2,2−ジメチルテトラメチレン基、2−フルオロテトラメチレン基、2−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、3−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、ペンタメチレン基、1−メチルペンタメチレン基、2−メチルペンタメチレン基、3−メチルペンタメチレン基、1−エチルペンタメチレン基、2−エチルペンタメチレン基、1−プロピルペンタメチレン基、2−プロピルペンタメチレン基、3−プロピルペンタメチレン基、1−イソプロピルペンタメチレン基、2−イソプロピルペンタメチレン基、3−イソプロピルペンタメチレン基、1−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、2−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、3−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、1−(sec−ブチル)ペンタメチレン基、2−(sec−ブチル)ペンタメチレン基、1,5−ジメチルペンタメチレン基、1,3−ジメチルペンタメチレン基、1,4−ジメチルペンタメチレン基、2,4−ジメチルペンタメチレン基、1,1−ジメチルペンタメチレン基、2,2−ジメチルペンタメチレン基、3,3−ジメチルペンタメチレン基、2−エチル−4−メチルペンタメチレン基、2−エチル−5−メチルペンタメチレン基、2,4−ジエチルペンタメチレン基、2−フルオロペンタメチレン基、2−クロロペンタメチレン基、2−ブロモペンタメチレン基、3−フルオロペンタメチレン基、3−クロロペンタメチレン基、3−ブロモペンタメチレン基、2,2−ジフルオロペンタメチレン基、3,3−ジフルオロペンタメチレン基、2−フルオロ−2−メチルペンタメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、2−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、3−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、1−メチルヘキサメチレン基、2−メチルヘキサメチレン基、3−メチルヘキサメチレン基、4−メチルヘキサメチレン基、1−エチルヘキサメチレン基、2−エチルヘキサメチレン基、3−エチルヘキサメチレン基、1−プロピルヘキサメチレン基、2−プロピルヘキサメチレン基、3−プロピルヘキサメチレン基、1−イソプロピルヘキサメチレン基、2−イソプロピルヘキサメチレン基、3−イソプロピルヘキサメチレン基、1−(tert−ブチル)ヘキサメチレン基、1−イソブチルヘキサメチレン基、1,4−ジメチルヘキサメチレン基、1,5−ジメチルヘキサメチレン基、1,6−ジメチルヘキサメチレン基、2,5−ジメチルヘキサメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ヘキサメチレン基及びヘプタメチレン基。

0058

一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が2−ペンチニルオキシ基であり、R3がメチル基であり、X1が以下に示されるいずれかであるピリミジン化合物;
テトラメチレン基、1−メチルテトラメチレン基、1−エチルテトラメチレン基、1,4−ジメチルテトラメチレン基、2−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、3−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、ペンタメチレン基、1−メチルペンタメチレン基、2−メチルペンタメチレン基、3−メチルペンタメチレン基、1−エチルペンタメチレン基、2−エチルペンタメチレン基、1,5−ジメチルペンタメチレン基、1,3−ジメチルペンタメチレン基、1,4−ジメチルペンタメチレン基、2,2−ジメチルペンタメチレン基、3,3−ジメチルペンタメチレン基、2−エチル−5−メチルペンタメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、2−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、3−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、1−メチルヘキサメチレン基、2−メチルヘキサメチレン基、3−メチルヘキサメチレン基、4−メチルヘキサメチレン基、1−エチルヘキサメチレン基、2−エチルヘキサメチレン基、3−エチルヘキサメチレン基、1,4−ジメチルヘキサメチレン基、1,5−ジメチルヘキサメチレン基、1,6−ジメチルヘキサメチレン基、2,5−ジメチルヘキサメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ヘキサメチレン基及びヘプタメチレン基。

0059

一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が2−ペンチニルオキシ基であり、R3がフッ素原子であり、X1が以下に示されるいずれかであるピリミジン化合物;
テトラメチレン基、1−メチルテトラメチレン基、2−メチルテトラメチレン基、1−エチルテトラメチレン基、1−プロピルテトラメチレン基、1−イソプロピルテトラメチレン基、1−(tert−ブチル)テトラメチレン基、2−エチルテトラメチレン基、1,4−ジメチルテトラメチレン基、2,3−ジメチルテトラメチレン基、2,2−ジメチルテトラメチレン基、2−フルオロテトラメチレン基、2−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、3−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、ペンタメチレン基、1−メチルペンタメチレン基、2−メチルペンタメチレン基、3−メチルペンタメチレン基、1−エチルペンタメチレン基、2−エチルペンタメチレン基、1−プロピルペンタメチレン基、2−プロピルペンタメチレン基、3−プロピルペンタメチレン基、1−イソプロピルペンタメチレン基、2−イソプロピルペンタメチレン基、3−イソプロピルペンタメチレン基、1−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、2−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、3−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、1−(sec−ブチル)ペンタメチレン基、2−(sec−ブチル)ペンタメチレン基、1,5−ジメチルペンタメチレン基、1,3−ジメチルペンタメチレン基、1,4−ジメチルペンタメチレン基、2,4−ジメチルペンタメチレン基、1,1−ジメチルペンタメチレン基、2,2−ジメチルペンタメチレン基、3,3−ジメチルペンタメチレン基、2−エチル−4−メチルペンタメチレン基、2−エチル−5−メチルペンタメチレン基、2,4−ジエチルペンタメチレン基、2−フルオロペンタメチレン基、2−クロロペンタメチレン基、2−ブロモペンタメチレン基、3−フルオロペンタメチレン基、3−クロロペンタメチレン基、3−ブロモペンタメチレン基、2,2−ジフルオロペンタメチレン基、3,3−ジフルオロペンタメチレン基、2−フルオロ−2−メチルペンタメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、2−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、3−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、1−メチルヘキサメチレン基、2−メチルヘキサメチレン基、3−メチルヘキサメチレン基、4−メチルヘキサメチレン基、1−エチルヘキサメチレン基、2−エチルヘキサメチレン基、3−エチルヘキサメチレン基、1−プロピルヘキサメチレン基、2−プロピルヘキサメチレン基、3−プロピルヘキサメチレン基、1−イソプロピルヘキサメチレン基、2−イソプロピルヘキサメチレン基、3−イソプロピルヘキサメチレン基、1−(tert−ブチル)ヘキサメチレン基、1−イソブチルヘキサメチレン基、1,4−ジメチルヘキサメチレン基、1,5−ジメチルヘキサメチレン基、1,6−ジメチルヘキサメチレン基、2,5−ジメチルヘキサメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ヘキサメチレン基及びヘプタメチレン基。

0060

一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が2−ペンチニルオキシ基であり、R3が塩素原子であり、X1が以下に示されるいずれかであるピリミジン化合物;
テトラメチレン基、1−メチルテトラメチレン基、1−エチルテトラメチレン基、1−プロピルテトラメチレン基、1−イソプロピルテトラメチレン基、1−(tert−ブチル)テトラメチレン基、1,4−ジメチルテトラメチレン基、2−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、3−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、ペンタメチレン基、1−メチルペンタメチレン基、2−メチルペンタメチレン基、3−メチルペンタメチレン基、1−エチルペンタメチレン基、2−エチルペンタメチレン基、1−プロピルペンタメチレン基、2−プロピルペンタメチレン基、3−プロピルペンタメチレン基、3−イソプロピルペンタメチレン基、1−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、3−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、1−(sec−ブチル)ペンタメチレン基、1,5−ジメチルペンタメチレン基、1,3−ジメチルペンタメチレン基、1,4−ジメチルペンタメチレン基、2,2−ジメチルペンタメチレン基、2,4−ジメチルペンタメチレン基、3,3−ジメチルペンタメチレン基、2−エチル−5−メチルペンタメチレン基、2−フルオロペンタメチレン基、3−フルオロペンタメチレン基、2,2−ジフルオロペンタメチレン基、3,3−ジフルオロペンタメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、2−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、3−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、1−メチルヘキサメチレン基、2−メチルヘキサメチレン基、3−メチルヘキサメチレン基、4−メチルヘキサメチレン基、1−エチルヘキサメチレン基、2−エチルヘキサメチレン基、3−エチルヘキサメチレン基、1−プロピルヘキサメチレン基、1−イソプロピルヘキサメチレン基、1−(tert−ブチル)ヘキサメチレン基、1−イソブチルヘキサメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ヘキサメチレン基及びヘプタメチレン基。

0061

一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が2−ブチニルオキシ基であり、R3が水素原子であり、X1が以下に示されるいずれかであるピリミジン化合物;
テトラメチレン基、1−メチルテトラメチレン基、2−メチルテトラメチレン基、1−エチルテトラメチレン基、1−プロピルテトラメチレン基、1−イソプロピルテトラメチレン基、1−(tert−ブチル)テトラメチレン基、2−エチルテトラメチレン基、1,4−ジメチルテトラメチレン基、2,3−ジメチルテトラメチレン基、2,2−ジメチルテトラメチレン基、2−フルオロテトラメチレン基、2−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、3−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、ペンタメチレン基、1−メチルペンタメチレン基、2−メチルペンタメチレン基、3−メチルペンタメチレン基、1−エチルペンタメチレン基、2−エチルペンタメチレン基、1−プロピルペンタメチレン基、2−プロピルペンタメチレン基、3−プロピルペンタメチレン基、1−イソプロピルペンタメチレン基、2−イソプロピルペンタメチレン基、3−イソプロピルペンタメチレン基、1−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、2−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、3−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、1−(sec−ブチル)ペンタメチレン基、2−(sec−ブチル)ペンタメチレン基、1,5−ジメチルペンタメチレン基、1,3−ジメチルペンタメチレン基、1,4−ジメチルペンタメチレン基、2,4−ジメチルペンタメチレン基、1,1−ジメチルペンタメチレン基、2,2−ジメチルペンタメチレン基、3,3−ジメチルペンタメチレン基、2−エチル−4−メチルペンタメチレン基、2−エチル−5−メチルペンタメチレン基、2,4−ジエチルペンタメチレン基、2−フルオロペンタメチレン基、2−クロロペンタメチレン基、2−ブロモペンタメチレン基、3−フルオロペンタメチレン基、3−クロロペンタメチレン基、3−ブロモペンタメチレン基、2,2−ジフルオロペンタメチレン基、3,3−ジフルオロペンタメチレン基、2−フルオロ−2−メチルペンタメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、2−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、3−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、1−メチルヘキサメチレン基、2−メチルヘキサメチレン基、3−メチルヘキサメチレン基、4−メチルヘキサメチレン基、1−エチルヘキサメチレン基、2−エチルヘキサメチレン基、3−エチルヘキサメチレン基、1−プロピルヘキサメチレン基、2−プロピルヘキサメチレン基、3−プロピルヘキサメチレン基、1−イソプロピルヘキサメチレン基、2−イソプロピルヘキサメチレン基、3−イソプロピルヘキサメチレン基、1−(tert−ブチル)ヘキサメチレン基、1−イソブチルヘキサメチレン基、1,4−ジメチルヘキサメチレン基、1,5−ジメチルヘキサメチレン基、1,6−ジメチルヘキサメチレン基、2,5−ジメチルヘキサメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ヘキサメチレン基及びヘプタメチレン基。

0062

一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が2−ブチニルオキシ基であり、R3がフッ素原子であり、X1が以下に示されるいずれかであるピリミジン化合物;
テトラメチレン基、1−メチルテトラメチレン基、2−メチルテトラメチレン基、1−エチルテトラメチレン基、1−プロピルテトラメチレン基、1−イソプロピルテトラメチレン基、1−(tert−ブチル)テトラメチレン基、2−エチルテトラメチレン基、1,4−ジメチルテトラメチレン基、2,3−ジメチルテトラメチレン基、2,2−ジメチルテトラメチレン基、2−フルオロテトラメチレン基、2−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、3−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、ペンタメチレン基、1−メチルペンタメチレン基、2−メチルペンタメチレン基、3−メチルペンタメチレン基、1−エチルペンタメチレン基、2−エチルペンタメチレン基、1−プロピルペンタメチレン基、2−プロピルペンタメチレン基、3−プロピルペンタメチレン基、1−イソプロピルペンタメチレン基、2−イソプロピルペンタメチレン基、3−イソプロピルペンタメチレン基、1−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、2−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、3−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、1−(sec−ブチル)ペンタメチレン基、2−(sec−ブチル)ペンタメチレン基、1,5−ジメチルペンタメチレン基、1,3−ジメチルペンタメチレン基、1,4−ジメチルペンタメチレン基、2,4−ジメチルペンタメチレン基、1,1−ジメチルペンタメチレン基、2,2−ジメチルペンタメチレン基、3,3−ジメチルペンタメチレン基、2−エチル−4−メチルペンタメチレン基、2−エチル−5−メチルペンタメチレン基、2,4−ジエチルペンタメチレン基、2−フルオロペンタメチレン基、2−クロロペンタメチレン基、2−ブロモペンタメチレン基、3−フルオロペンタメチレン基、3−クロロペンタメチレン基、3−ブロモペンタメチレン基、2,2−ジフルオロペンタメチレン基、3,3−ジフルオロペンタメチレン基、2−フルオロ−2−メチルペンタメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、2−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、3−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、1−メチルヘキサメチレン基、2−メチルヘキサメチレン基、3−メチルヘキサメチレン基、4−メチルヘキサメチレン基、1−エチルヘキサメチレン基、2−エチルヘキサメチレン基、3−エチルヘキサメチレン基、1−プロピルヘキサメチレン基、2−プロピルヘキサメチレン基、3−プロピルヘキサメチレン基、1−イソプロピルヘキサメチレン基、2−イソプロピルヘキサメチレン基、3−イソプロピルヘキサメチレン基、1−(tert−ブチル)ヘキサメチレン基、1−イソブチルヘキサメチレン基、1,4−ジメチルヘキサメチレン基、1,5−ジメチルヘキサメチレン基、1,6−ジメチルヘキサメチレン基、2,5−ジメチルヘキサメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ヘキサメチレン基及びヘプタメチレン基。

0063

一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が2−ブチニルオキシ基であり、R3が塩素原子であり、X1が以下に示されるいずれかであるピリミジン化合物;
テトラメチレン基、1−メチルテトラメチレン基、1−エチルテトラメチレン基、1−プロピルテトラメチレン基、1−イソプロピルテトラメチレン基、1−(tert−ブチル)テトラメチレン基、1,4−ジメチルテトラメチレン基、2−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、3−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、ペンタメチレン基、1−メチルペンタメチレン基、2−メチルペンタメチレン基、3−メチルペンタメチレン基、1−エチルペンタメチレン基、2−エチルペンタメチレン基、1−プロピルペンタメチレン基、2−プロピルペンタメチレン基、3−プロピルペンタメチレン基、3−イソプロピルペンタメチレン基、1−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、3−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、1−(sec−ブチル)ペンタメチレン基、1,5−ジメチルペンタメチレン基、1,3−ジメチルペンタメチレン基、1,4−ジメチルペンタメチレン基、2,2−ジメチルペンタメチレン基、3,3−ジメチルペンタメチレン基、2−エチル−5−メチルペンタメチレン基、2−フルオロペンタメチレン基、3−フルオロペンタメチレン基、2,2−ジフルオロペンタメチレン基、3,3−ジフルオロペンタメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、2−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、3−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、1−メチルヘキサメチレン基、2−メチルヘキサメチレン基、3−メチルヘキサメチレン基、4−メチルヘキサメチレン基、1−エチルヘキサメチレン基、2−エチルヘキサメチレン基、3−エチルヘキサメチレン基、1−プロピルヘキサメチレン基、1−イソプロピルヘキサメチレン基、1−(tert−ブチル)ヘキサメチレン基、1−イソブチルヘキサメチレン基、1,4−ジメチルヘキサメチレン基、1,5−ジメチルヘキサメチレン基、1,6−ジメチルヘキサメチレン基、2,5−ジメチルヘキサメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ヘキサメチレン基及びヘプタメチレン基。

0064

一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が1−メチル−2−プロピニルオキシ基であり、R3が水素原子であり、X1が以下に示されるいずれかであるピリミジン化合物;
テトラメチレン基、1−メチルテトラメチレン基、1−エチルテトラメチレン基、1−プロピルテトラメチレン基、1−イソプロピルテトラメチレン基、1−(tert−ブチル)テトラメチレン基、1,4−ジメチルテトラメチレン基、2−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、3−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、ペンタメチレン基、1−メチルペンタメチレン基、2−メチルペンタメチレン基、3−メチルペンタメチレン基、1−エチルペンタメチレン基、2−エチルペンタメチレン基、1−プロピルペンタメチレン基、2−プロピルペンタメチレン基、3−プロピルペンタメチレン基、3−イソプロピルペンタメチレン基、1−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、3−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、1−(sec−ブチル)ペンタメチレン基、1,5−ジメチルペンタメチレン基、1,3−ジメチルペンタメチレン基、1,4−ジメチルペンタメチレン基、2,2−ジメチルペンタメチレン基、3,3−ジメチルペンタメチレン基、2−エチル−5−メチルペンタメチレン基、2−フルオロペンタメチレン基、3−フルオロペンタメチレン基、2,2−ジフルオロペンタメチレン基、3,3−ジフルオロペンタメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、2−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、3−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、1−メチルヘキサメチレン基、2−メチルヘキサメチレン基、3−メチルヘキサメチレン基、4−メチルヘキサメチレン基、1−エチルヘキサメチレン基、2−エチルヘキサメチレン基、3−エチルヘキサメチレン基、1−プロピルヘキサメチレン基、1−イソプロピルヘキサメチレン基、1−(tert−ブチル)ヘキサメチレン基、1−イソブチルヘキサメチレン基、1,4−ジメチルヘキサメチレン基、1,5−ジメチルヘキサメチレン基、1,6−ジメチルヘキサメチレン基、2,5−ジメチルヘキサメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ヘキサメチレン基及びヘプタメチレン基。

0065

一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が1−メチル−2−プロピニルオキシ基であり、R3がフッ素原子であり、X1が以下に示されるいずれかであるピリミジン化合物;
テトラメチレン基、1−メチルテトラメチレン基、1−エチルテトラメチレン基、1−プロピルテトラメチレン基、1−イソプロピルテトラメチレン基、1−(tert−ブチル)テトラメチレン基、1,4−ジメチルテトラメチレン基、2−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、3−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、ペンタメチレン基、1−メチルペンタメチレン基、2−メチルペンタメチレン基、3−メチルペンタメチレン基、1−エチルペンタメチレン基、2−エチルペンタメチレン基、1−プロピルペンタメチレン基、2−プロピルペンタメチレン基、3−プロピルペンタメチレン基、3−イソプロピルペンタメチレン基、1−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、3−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、1−(sec−ブチル)ペンタメチレン基、1,5−ジメチルペンタメチレン基、1,3−ジメチルペンタメチレン基、1,4−ジメチルペンタメチレン基、2,2−ジメチルペンタメチレン基、3,3−ジメチルペンタメチレン基、2−エチル−5−メチルペンタメチレン基、2−フルオロペンタメチレン基、3−フルオロペンタメチレン基、2,2−ジフルオロペンタメチレン基、3,3−ジフルオロペンタメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、2−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、3−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、1−メチルヘキサメチレン基、2−メチルヘキサメチレン基、3−メチルヘキサメチレン基、4−メチルヘキサメチレン基、1−エチルヘキサメチレン基、2−エチルヘキサメチレン基、3−エチルヘキサメチレン基、1−プロピルヘキサメチレン基、1−イソプロピルヘキサメチレン基、1−(tert−ブチル)ヘキサメチレン基、1−イソブチルヘキサメチレン基、1,4−ジメチルヘキサメチレン基、1,5−ジメチルヘキサメチレン基、1,6−ジメチルヘキサメチレン基、2,5−ジメチルヘキサメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ヘキサメチレン基及びヘプタメチレン基。

0066

一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が1−メチル−2−ブチニルオキシ基であり、R3が水素原子であり、X1が以下に示されるいずれかであるピリミジン化合物;
テトラメチレン基、1−メチルテトラメチレン基、1−エチルテトラメチレン基、1−プロピルテトラメチレン基、1−イソプロピルテトラメチレン基、1−(tert−ブチル)テトラメチレン基、1,4−ジメチルテトラメチレン基、2−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、3−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、ペンタメチレン基、1−メチルペンタメチレン基、2−メチルペンタメチレン基、3−メチルペンタメチレン基、1−エチルペンタメチレン基、2−エチルペンタメチレン基、1−プロピルペンタメチレン基、2−プロピルペンタメチレン基、3−プロピルペンタメチレン基、3−イソプロピルペンタメチレン基、1−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、3−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、1−(sec−ブチル)ペンタメチレン基、1,5−ジメチルペンタメチレン基、1,3−ジメチルペンタメチレン基、1,4−ジメチルペンタメチレン基、2,2−ジメチルペンタメチレン基、3,3−ジメチルペンタメチレン基、2−エチル−5−メチルペンタメチレン基、2−フルオロペンタメチレン基、3−フルオロペンタメチレン基、2,2−ジフルオロペンタメチレン基、3,3−ジフルオロペンタメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、2−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、3−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、1−メチルヘキサメチレン基、2−メチルヘキサメチレン基、3−メチルヘキサメチレン基、4−メチルヘキサメチレン基、1−エチルヘキサメチレン基、2−エチルヘキサメチレン基、3−エチルヘキサメチレン基、1−プロピルヘキサメチレン基、1−イソプロピルヘキサメチレン基、1−(tert−ブチル)ヘキサメチレン基、1−イソブチルヘキサメチレン基、1,4−ジメチルヘキサメチレン基、1,5−ジメチルヘキサメチレン基、1,6−ジメチルヘキサメチレン基、2,5−ジメチルヘキサメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ヘキサメチレン基及びヘプタメチレン基。

0067

一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が1−メチル−2−ブチニルオキシ基であり、R3がフッ素原子であり、X1が以下に示されるいずれかであるピリミジン化合物;
テトラメチレン基、1−メチルテトラメチレン基、1−エチルテトラメチレン基、1−プロピルテトラメチレン基、1−イソプロピルテトラメチレン基、1−(tert−ブチル)テトラメチレン基、1,4−ジメチルテトラメチレン基、2−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、3−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、ペンタメチレン基、1−メチルペンタメチレン基、2−メチルペンタメチレン基、3−メチルペンタメチレン基、1−エチルペンタメチレン基、2−エチルペンタメチレン基、1−プロピルペンタメチレン基、2−プロピルペンタメチレン基、3−プロピルペンタメチレン基、3−イソプロピルペンタメチレン基、1−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、3−(tert−ブチル)ペンタメチレン基、1−(sec−ブチル)ペンタメチレン基、1,5−ジメチルペンタメチレン基、1,3−ジメチルペンタメチレン基、1,4−ジメチルペンタメチレン基、2,2−ジメチルペンタメチレン基、3,3−ジメチルペンタメチレン基、2−エチル−5−メチルペンタメチレン基、2−フルオロペンタメチレン基、3−フルオロペンタメチレン基、2,2−ジフルオロペンタメチレン基、3,3−ジフルオロペンタメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、2−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、3−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、1−メチルヘキサメチレン基、2−メチルヘキサメチレン基、3−メチルヘキサメチレン基、4−メチルヘキサメチレン基、1−エチルヘキサメチレン基、2−エチルヘキサメチレン基、3−エチルヘキサメチレン基、1−プロピルヘキサメチレン基、1−イソプロピルヘキサメチレン基、1−(tert−ブチル)ヘキサメチレン基、1−イソブチルヘキサメチレン基、1,4−ジメチルヘキサメチレン基、1,5−ジメチルヘキサメチレン基、1,6−ジメチルヘキサメチレン基、2,5−ジメチルヘキサメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ヘキサメチレン基及びヘプタメチレン基。

0068

一般式化1において、R1が水素原子であり、R2が1−メチル−2−ブチニルオキシ基であり、R3が塩素原子であり、X1が以下に示されるいずれかであるピリミジン化合物;
テトラメチレン基、1−メチルテトラメチレン基、1−エチルテトラメチレン基、1,4−ジメチルテトラメチレン基、2−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、3−(トリフルオロメチル)テトラメチレン基、ペンタメチレン基、1−メチルペンタメチレン基、2−メチルペンタメチレン基、3−メチルペンタメチレン基、1−エチルペンタメチレン基、2−エチルペンタメチレン基、1,5−ジメチルペンタメチレン基、1,3−ジメチルペンタメチレン基、1,4−ジメチルペンタメチレン基、2,2−ジメチルペンタメチレン基、3,3−ジメチルペンタメチレン基、2−エチル−5−メチルペンタメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、2−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、3−(トリフルオロメチル)ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、1−メチルヘキサメチレン基、2−メチルヘキサメチレン基、3−メチルヘキサメチレン基、4−メチルヘキサメチレン基、1−エチルヘキサメチレン基、2−エチルヘキサメチレン基、3−エチルヘキサメチレン基、1−(トリフルオロメチル)ヘキサメチレン基及びヘプタメチレン基。

0069

以下、本発明組成物において用いられる化合物(I)の製造例をさらに詳しく説明するが、本発明は、これらの例のみに限定されるものではない。
本発明組成物において用いられる化合物(I)の、前記の製造工程(化8)、(化9)及びその各工程における反応条件等に係る記載に準じて製造された具体的な製造例を示す。 尚、製造例及び参考製造例中、1H−NMR特記したものを除き、重クロロホルム溶媒中でテトラメチルシラン内部標準として測定したデータを示す。

0070

製造例1〔化合物(I−1)の製造例〕
N,N−ジメチルホルムアミド4mlに、4−(2−ブチニルオキシ)−6−クロロ−5−フルオロピリミジン0.36g、炭酸カリウム0.62gおよび3,3−ジメチルピロリジン塩酸塩0.25gを加え、80℃で6時間撹拌した。その後、室温付近まで放冷した反応混合物に飽和塩アンモニウム水溶液を注加し、tert−ブチルメチルエーテルで3回抽出した。有機層を合わせて、飽和食塩水洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、4−(2−ブチニルオキシ)−5−フルオロ−6−(3,3−ジメチルピロリジン−1−イルピリミジン(以下、化合物(I−1)と記す。)0.15gを得た。
化合物(I−1)

0071

1H−NMR:1.13(s,6H),1.73(t,2H),1.87(t,3H),3.42(d,2H),3.76(td,2H),4.97(q,2H,), 8.02(s,1H)

0072

製造例2〔化合物(I−2)の製造例〕
4−クロロ−5−フルオロ−6−(2−ペンチニルオキシ)ピリミジン0.2gとヘキサメチレンイミン0.28gとを混合し、室温で3時間放置した。その後、反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサヒドロ−1−{5−フルオロ−6−(2−ペンチニルオキシ)−4−ピリミジニルアゼピン(以下、化合物(I−2)と記す。)0.26gを得た。
化合物(I−2)

0073

1H−NMR:1.15(t,3H),1.52〜1.61(m,4H),1.72〜1.79(m,4H),2.24(qt,2H),3.65〜3.74(m,4H),4.99(t,2H),8.01(s,1H)

0074

製造例3〔化合物(I−3)の製造例〕
4−クロロ−6−(2−ブチニルオキシ)ピリミジン0.3gと3−トリフルオロメチルピペリジン0.25gを混合し、室温で10時間放置した。室温付近まで放冷した反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、4−(2−ブチニルオキシ)−6−(3−トリフルオロメチルピペリジノ)ピリミジン(以下、化合物(I−3)と記す。)0.30gを得た。
化合物(I−3)

0075

1H−NMR:1.36〜1.60(m,2H),1.72〜1.83(m,4H,involving a triplet at 1.87),1.95〜2.14(m,1H),2.19〜2.24(m,1H),2.75〜2.84(m,2H),4.13(brd,1H),4.53(brd,1H),4.84(q,2H),5.82(s,1H),8.24(s,1H)

0076

製造例4〔化合物(I−4)の製造例〕
4−(2−ブチニルオキシ)−6−クロロ−5−フルオロピリミジン0.3gをエタノール3mlに溶解した溶液に、3,5−ジメチルピペリジン(シス:トランス=約8:2)0.51gを加えて、還流下8時間撹拌した。その後、室温付近まで放冷した反応混合物を濃縮した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を注加し、tert−ブチルメチルエーテルで3回抽出した。有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、4−(2−ブチニルオキシ)−5−フルオロ−6−(3,5−ジメチルピペリジノ)ピリミジン(以下、化合物(I−4)と記す。)0.40gを得た。
なお、本発明化合物においては、ピペリジン環上の2つのメチル基に係るシス−トランス異性体が存在する。該製造例ではシス:トランス=約8:2の生成物を得た。
化合物(I−4)

0077

1H−NMR:0.80(dd,1H),0.91(d,6H),1.60〜1.72(m,2H),1.81〜1.89(m,4H,involving a triplet at 1.87),2.35〜2.43(m,2H),4.35〜4.41(m,2H),4.97(q,2H),8.03(s,1H);
0.94(s),1.46〜1.49(m),3.31(dd),3.75(dd),8.01(s)

0078

製造例5〔化合物(I−5)の製造例〕
テトラヒドロフラン3mlに水素化ナトリウム(60%油性)0.07gを懸濁し、ここにテトラヒドロフラン0.5mlに2−ブチン−1−オール0.11gを溶解した溶液を室温で滴下し、10分間撹拌した。この混合液にテトラヒドロフラン0.5mlに1−(6−クロロピリミジン−4−イル)−シス−2,6−ジメチルヘキサハイドロアゼピン0.30gを溶解した溶液を室温で滴下し、60℃で8時間撹拌した。その後、室温付近まで放冷した反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液に注加して、tert−ブチルメチルエーテルで3回抽出した。有機層を合わせて水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−(6−(2−ブチニルオキシ)−ピリミジン−4−イル)−シス−2,6−ジメチルヘキサハイドロアゼピン(以下、化合物(I−5)と記す。)0.25gを得た。
化合物(I−5)

0079

GC−MS:273(M+)

0080

次に化合物(I−1)〜(I−5)の製造中間体の製造について参考製造例を示す。

0081

参考製造例1
テトラヒドロフラン20mlに水素化ナトリウム(60%油性)0.61gを懸濁し、ここにテトラヒドロフラン1mlに2−ブチン−1−オール0.73gを溶解した溶液を0℃で滴下し、10分間撹拌した。この混合液にテトラヒドロフラン5mlに4,6−ジクロロ−5−フルオロピリミジン1.75gを溶解した溶液を滴下し、0℃で90分間撹拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液に注加して、tert−ブチルメチルエーテルで3回抽出した。有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、4−(2−ブチニルオキシ)−6−クロロ−5−フルオロピリミジン1.8gを得た。
4−(2−ブチニルオキシ)−6−クロロ−5−フルオロピリミジン

0082

1H−NMR:1.79(t,3H),5.00(q,2H),8.29(s,1H)

0083

参考製造例2
テトラヒドロフラン24mlに水素化ナトリウム(60%油性)1.05gを懸濁し、ここにテトラヒドロフラン8mlに2−ブチン−1−オール1.42gを溶解した溶液を室温でゆっくり滴下し、20分間撹拌した。この混合液にテトラヒドロフラン8mlに4,6−ジクロロピリミジン3gを溶解した溶液を0℃でゆっくり滴下し、4時間撹拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液に注加して、クロロホルムで3回抽出した。有機層を合わせて水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、4−クロロ−6−(2−ブチニルオキシ)ピリミジン3.16gを得た。
4−クロロ−6−(2−ブチニルオキシ)ピリミジン

0084

融点:43.5℃

0085

参考製造例3
テトラヒドロフラン20mlに水素化ナトリウム(60%油性)0.58gを懸濁し、ここにテトラヒドロフラン1mlに2−ペンチン−1−オール0.88gを溶解した溶液を0℃で滴下し、10分間撹拌した。この混合液にテトラヒドロフラン5mlに4,6−ジクロロ−5−フルオロピリミジン2gを溶解した溶液を0℃で滴下し、70分間撹拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液に注加して、tert−ブチルメチルエーテルで3回抽出した。有機層を合わせて水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、4−クロロ−5−フルオロ−6−(2−ペンチニルオキシ)ピリミジン2.31gを得た。
4−クロロ−5−フルオロ−6−(2−ペンチニルオキシ)ピリミジン

0086

1H−NMR:1.15(t,3H),2.24(qt,2H),5.09(t,2H),8.36(s,1H)

0087

参考製造例4
アセトニトリル4mlに4,6−ジクロロピリミジン0.3g、炭酸カリウム0.83gおよびシス−2,6−ジメチルヘキサハイドロアゼピン塩酸塩0.43gを加え、60℃で4時間撹拌した。その後、室温付近まで放冷した反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を注加し、tert−ブチルメチルエーテルで3回抽出した。有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−(6−クロロピリミジン−4−イル)−シス−2,6−ジメチルヘキサハイドロアゼピン0.3gを得た。
1−(6−クロロピリミジン−4−イル)−シス−2,6−ジメチルヘキサハイドロアゼピン

0088

1H−NMR:0.92〜2.13(m,13H),2.71(dd,0.4H),2.98〜3.09(m,1.2H),3.60〜3.69(m,0.4H),4.06(d,0.4H),4.74〜4.85(m,0.6H),6.25(s,0.6H),6.40(s,0.4H),8.35(s,1H)
GC−MS:239(M+)

0089

参考製造例5
テトラヒドロフラン20mlに水素化アルミニウムリチウム0.54gを懸濁させ、ヘキサハイドロ−シス−3,7−ジメチルアゼピン−2−オン1gを0℃少量ずつ加え、10時間加熱還流した。0℃に冷却後、水0.54ml、15%水酸化ナトリウム水溶液0.54ml、水1.62mlを順に加え、30分撹拌後、無水硫酸マグネシウムを加え、セライト濾過した。得られたろ液に0℃で塩化水素−ジエチルエーテル溶液(1モル/L)8.4mlを加え、1時間撹拌後、濃縮し、シス−2,6−ジメチルヘキサハイドロアゼピン塩酸塩1gを得た。
シス−2,6−ジメチルヘキサハイドロアゼピン塩酸塩

0090

1H−NMR:1.01(d,3H),1.21〜1.33(m,1H),1.48(d,3H),1.60〜1.72(m,2H),1.79〜2.01(m,3H),2.12〜2.21(m,1H),2.77〜2.88(m,1H),3.22(brd,1H),3.54(brs,1H),9.44(br,2H)

0091

参考製造例6
エタノール80mlに、2,6−ジメチルシクロヘキサノン5gとヒドロキシルアミン塩酸塩5.51gとを懸濁させ、0℃でピリジン9.4gを滴下した。室温で4時間撹拌した後、反応混合物を濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチルで3回抽出した。有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、シス−2,6−ジメチルシクロヘキサノンオキシム3.1g及びトランス−2,6−ジメチルシクロヘキサノンオキシム1.3gを得た。
シス−2,6−ジメチルシクロヘキサノンオキシム

0092

1H−NMR:1.19(d,3H),1.21(d,3H),1.42〜1.51(m,1H),1.53〜1.85(m,5H),2.58〜2.67(m,1H),3.39〜3.48(m,1H),8.58(brs,1H)
トランス−2,6−ジメチルシクロヘキサノンオキシム

0093

1H−NMR:1.08(d,3H),1.12(d,3H),1.14〜1.25(m,1H),1.52〜1.72(m,4H),1.83〜1.91(m,1H),2.32〜2.46(m,1H),3.64〜3.69(m,1H),8.81(s,1H)

0094

参考製造例7
キシレン40mlにシス−2,6−ジメチルシクロヘキサノンオキシム3.1gとポリリン酸12gを加え、100℃で10時間撹拌した。その後、室温付近まで放冷した反応混合物に氷水を注加し、炭酸カリウムを加え、酢酸エチルで3回抽出した。有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサハイドロ−シス−3,7−ジメチルアゼピン−2−オン2.5gを得た。
ヘキサハイドロ−シス−3,7−ジメチルアゼピン−2−オン

0095

1H−NMR:1.31(d,3H),1.91(d,3H),1.26〜1.36(m,1H),1.40〜1.51(m,1H),1.60〜1.76(3H),1.91〜1.97(m,1H),2.48〜2.56(m,1H),3.49〜3.58(m,1H),5.36(brs,1H)

0096

参考製造例8
テトラヒドロフラン15mlに水素化アルミニウムリチウム0.96gを懸濁し、ここに3,3−ジメチル−2,5−ピロリジンジオン1gを0℃少量ずつ加え、12時間加熱還流した。0℃に冷却後、水0.96ml、15%水酸化ナトリウム水溶液0.96ml、水2.88mlを順に加え、30分間撹拌後、無水硫酸マグネシウムを加え、セライト濾過した。得られたろ液に0℃で塩化水素−ジエチルエーテル溶液(1モル/L)15.74mlを加え、1時間撹拌後、濃縮し、3,3−ジメチルピロリジン塩酸塩0.45gを得た。
3,3−ジメチルピロリジン塩酸塩

0097

1H−NMR:1.19(s,6H),1.79〜1.84(m,2H),3.01〜3.07(m,2H),3.43〜3.51(m,2H),9.37(br,2H)

0098

参考製造例9
3,3−ジメチルコハク酸10g及び尿素102.7gを160℃で10時間撹拌した。その後、100℃付近まで放冷した反応混合物に水を加え、室温付近まで放冷し、酢酸エチルで3回抽出した。有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、3,3−ジメチル−2,5−ピロリジンジオン7.8gを得た。
3,3−ジメチル−2,5−ピロリジンジオン

0099

1H−NMR:1.35(s,6H),2.60(s,2H),8.36(br,1H)

0100

次に、化合物(II)について、説明する。
一般式化2において、
R4で示されるC3−C7アルキニル基としては、例えば2−プロピニル基、2−ブチニル基、1−メチル−2−ブチニル基、2−ペンチニル基、4,4−ジメチル−2−ペンチニル基、1−メチル−2−プロピニル基及び1,1−ジメチル−2−プロピニル基が挙げられ、
X2で示されるC4−C7アルカンジイル基としては、ブタン−1,4−ジイル基ペンタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基、ヘプタン−1、7−ジイル基が挙げられ、
C4−C7アルケンジイル基としては、例えば2−ブテン−1,4−ジイル基、2−ペンテン−1,5−ジイル基、2−ヘキセン−1,6−ジイル基、3−ヘキセン−1,6−ジイル基等が挙げられ、
R5で示されるハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子及び臭素原子が挙げられ、C1−C4アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、sec-プロピル基及びtert-ブチル基が挙げられる。
R6で示されるC1−C3アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基が挙げられる。
Aで示される基としては上記のA1及びA2が挙げられ、
A1としては、例えばピロリジノ基、2−メチルピロリジノ基、2−エチルピロリジノ基、2−n−プロピルピロリジノ基、2−イソプロピルピロリジノ基、2−tert−ブチルピロリジノ基、2−フルオロピロリジノ基、2−トリフルオロメチルピロリジノ基、3−メチルピロリジノ基、3−エチルピロリジノ基、3−トリフルオロメチルピロリジノ基、2,5−ジメチルピロリジノ基、3,4−ジメチルピロリジノ基、3,3−ジメチルピロリジノ基、ピペリジノ基、2−メチルピペリジノ基、2−エチルピペリジノ基、2−n−プロピルピペリジノ基、2−イソプロピルピペリジノ基、2-tert−ブチルピペリジノ基、2−sec−ブチルピペリジノ基、2−フルオロピペリジノ基、2−ブロモピペリジノ基、2−トリフルオロメチルピペリジノ基、3−メチルピペリジノ基、3−エチルピペリジノ基、3−n−プロピルピペリジノ基、3−イソプロピルピペリジノ基、3-tert−ブチルピペリジノ基、3−sec−ブチルピペリジノ基、3−フルオロピペリジノ基、3−ブロモピペリジノ基、3−トリフルオロメチルピペリジノ基、4−メチルピペリジノ基、4−エチルピペリジノ基、4−n−プロピルピペリジノ基、4−イソプロピルピペリジノ基、4-tert−ブチルピペリジノ基、4−トリフルオロメチルピペリジノ基、2,6−ジメチルピペリジノ基、2,4-ジメチルピペリジノ基、2,5−ジメチルピペリジノ基、3,5−ジメチルピペリジノ基、2,2、−ジメチルピペリジノ基、3,3−ジメチルピペリジノ基、4,4−ジメチルピペリジノ基、3−エチル−6−メチルピペリジノ基、3−エチル−5−メチルピペリジノ基、3,5−ジエチルピペリジノ基、3,5−ジn−プロピルピペリジノ基、3,5−ジイソプロピルピペリジノ基、2,3−ジメチルピペリジノ基、3,3,5−トリメチルピペリジノ基、2,3,5,6−テトラメチルピペリジノ基、3,3,5,5−テトラメチルピペリジノ基、3,3−ジフルオロピペリジノ基、4,4−ジフルオロピペリジノ基、3−フルオロ−3−メチルピペリジノ基、ヘキサメレンイミノ基、2−メチルヘキサメレンイミノ基、2−エチルヘキサメレンイミノ基、2−n−プロピルヘキサメレンイミノ基、2−イソプロピルヘキサメレンイミノ基、2−tert−ブチルヘキサメレンイミノ基、3−メチルヘキサメレンイミノ基、3−エチルヘキサメレンイミノ基、3−n−プロピルヘキサメレンイミノ基、3−イソプロピルヘキサメレンイミノ基、4−メチルヘキサメレンイミノ基、4−エチルヘキサメレンイミノ基、4−n−プロピルヘキサメレンイミノ基、4−イソプロピルヘキサメレンイミノ基、5−メチルヘキサメレンイミノ基、ヘプタメチレンイミノ基、3−ピロリノ基、3−メチル−3−ピロリノ基、3,4−ジメチル−3−ピロリノ基、2,5−ジメチル−3−ピロリノ基、1,2,3,6−テトラヒドロピリジノ基、6−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロピリジノ基、5−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロピリジノ基、4−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロピリジノ基、3−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロピリジノ基、2−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロピリジノ基、2,6−ジメチル−1,2,3,6−テトラヒドロピリジノ基、1,2,3,4,7−ペンタヒドロアゼピノ基、1,2,3,6,7−ペンタヒドロアゼピノ基が挙げられ、
A2としては、例えばモルホリノ基、2−メチルモルホリノ基、2−エチルモルホリノ基、3−メチルモルホリノ基、3−エチルモルホリノ基、2,6−ジメチルモルホリノ基、2,6−ジエチルモルホリノ基が挙げられる。

0101

化合物(II)の態様としては、例えば以下の1,2,4−チアジアゾール化合物が挙げられる。
一般式化2において、R4が(C3−C7)2−アルキニル基で示されるチアジアゾール化合物;
一般式 化2において、R4が2−ブチニル基で示されるチアジアゾール化合物;
一般式 化2において、R4が2−ペンチニル基で示されるチアジアゾール化合物;
一般式 化2において、AがA1で示されるチアジアゾール化合物;
一般式 化2において、AがA2で示されるチアジアゾール化合物;

0102

一般式化2において、AがA1であり、lが0で示されるチアジアゾール化合物;
一般式 化2において、AがA1であり、lが1又は2で示されるチアジアゾール化合物;
一般式 化2において、AがA1であり、R5がC1−C4アルキル基であり、lが1又は2で示されるチアジアゾール化合物;
一般式 化2において、AがA1であり、R5がメチル基であり、lが1又は2で示されるチアジアゾール化合物;
一般式 化2において、AがA1であり、X2がブタン−1,4−ジイル基で示されるチアジアゾール化合物;
一般式 化2において、AがA1であり、X2がペンタン−1,5−ジイル基で示されるチアジアゾール化合物;
一般式 化2において、AがA1であり、X2がヘキサン−1,6−ジイル基で示されるチアジアゾール化合物;

0103

一般式化2において、AがA1であり、R5がC1−C4アルキル基で示されるチアジアゾール化合物;
一般式 化2において、AがA1であり、R5がメチル基で示されるチアジアゾール化合物;
一般式 化2において、AがA1であり、X2がブタン−1,4−ジイル基で示されるチアジアゾール化合物;
一般式 化2において、AがA1であり、X2がペンタン−1,5−ジイル基で示されるチアジアゾール化合物;

0104

一般式化2において、AがA2であり、nが0で示されるチアジアゾール化合物;
一般式 化2において、AがA2であり、R6がメチル基で示されるチアジアゾール化合物;
一般式 化2において、AがA2であり、nが1又は2であり、R6がC1−C3アルキル基で示されるチアジアゾール化合物;
一般式 化2において、R4が(C3−C7)2−アルキニル基であり、AがA2であり、nが0で示されるチアジアゾール化合物;
一般式 化2において、R4が(C3−C7)2−アルキニル基であり、AがA2であり、R6がメチル基で示されるチアジアゾール化合物;
一般式 化2において、R4が(C3−C7)2−アルキニル基であり、AがA2であり、nが1又は2であり、R6がC1−C3アルキル基で示されるチアジアゾール化合物;

0105

次に化合物(II)の製造法について説明する。
化合物(II)は、例えば以下に記載の製造工程例1により製造することができる。

0106

製造工程例3
化合物(II)は、式(XIV)で示される化合物と式(XV)で示される化合物とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。

0107

〔式中、R4及びAは前記と同じ意味を表し、qは1又は2を表す。〕
該反応は通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4−ジオキサン等のエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、アセトニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム等の炭酸塩類、カリウムtert-ブトキシド、ナトリウムtert-ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式(XIV)で示される化合物1モルに対して、式(XV)で示される化合物が通常1〜2モルの割合であり、塩基が通常1〜2モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常0〜80℃の範囲であり、反応時間は通常0.5〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(II)を単離することができる。単離された化合物(II)はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

0108

次に、化合物(II)の製造中間体の製造法について説明する。

0109

参考製造工程例5

0110

〔式中、A及びqは前記と同じ意味を表す。〕
(工程1)
式(XVI)で示される化合物は、3−メチルチオ−5−クロロ−1,2,4−チアジアゾールと式(XV)で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は溶媒の存在下又は非存在下、塩基の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert-ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4−ジオキサン等のエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、アセトニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、メタノール、エタノール等のアルコール類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては例えば水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム等の炭酸塩類、カリウムtert-ブトキシド、ナトリウムtert-ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、3−メチルチオ−5−クロロ−1,2,4−チアジアゾール1モルに対して、式(XV)で示される化合物が通常1〜2モルの割合であり、塩基が通常1〜2モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常0〜80℃の範囲であり、反応時間は通常0.5〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作により、式(XVI)で示される化合物を単離することができる。単離された式(XVI)で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(工程2)
式(XIV)で示される化合物は、式(XVI)で示される化合物を酸化剤の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類及び水が挙げられる。
反応に用いられる酸化剤としては、例えば3−クロロ過安息香酸過酸化水素水等の過酸化物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式(XVI)で示される化合物1モルに対して、通常1モル〜過剰量の割合である。
該反応の反応温度は、通常−20〜30℃の範囲であり、反応時間は通常瞬時〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、得られた有機層を必要に応じて還元剤(例えば亜硫酸ナトリウムチオ硫酸ナトリウム)の水溶液、塩基(例えば炭酸水素ナトリウム)の水溶液で洗浄し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式(XIV)で示される化合物を単離することができる。単離された式(XIV)で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

0111

次に化合物(II)の具体例を以下に示す。
一般式化2において、R4が2−プロピニル基であり、Aが以下に示されるいずれかの基であるチアジアゾール化合物;
ピロリジノ基、2−メチルピロリジノ基、2−エチルピロリジノ基、2−n−プロピルピロリジノ基、2−イソプロピルピロリジノ基、2−tert−ブチルピロリジノ基、2−フルオロピロリジノ基、2−トリフルオロメチルピロリジノ基、3−メチルピロリジノ基、3−エチルピロリジノ基、3−トリフルオロメチルピロリジノ基、2,5−ジメチルピロリジノ基、3,4−ジメチルピロリジノ基、3,3−ジメチルピロリジノ基、
ピペリジノ基、2−メチルピペリジノ基、2−エチルピペリジノ基、2−n−プロピルピペリジノ基、2−イソプロピルピペリジノ基、2-tert−ブチルピペリジノ基、2−sec−ブチルピペリジノ基、2−フルオロピペリジノ基、2−ブロモピペリジノ基、2−トリフルオロメチルピペリジノ基、3−メチルピペリジノ基、3−エチルピペリジノ基、3−n−プロピルピペリジノ基、3−イソプロピルピペリジノ基、3-tert−ブチルピペリジノ基、3−sec−ブチルピペリジノ基、3−フルオロピペリジノ基、3−ブロモピペリジノ基、3−トリフルオロメチルピペリジノ基、4−メチルピペリジノ基、4−エチルピペリジノ基、4−n−プロピルピペリジノ基、4−イソプロピルピペリジノ基、4-tert−ブチルピペリジノ基、4−トリフルオロメチルピペリジノ基、2,6−ジメチルピペリジノ基、2,4-ジメチルピペリジノ基、2,5−ジメチルピペリジノ基、3,5−ジメチルピペリジノ基、2,2、−ジメチルピペリジノ基、3,3−ジメチルピペリジノ基、4,4−ジメチルピペリジノ基、3−エチル−6−メチルピペリジノ基、3−エチル−5−メチルピペリジノ基、3,5−ジエチルピペリジノ基、3,5−ジn−プロピルピペリジノ基、3,5−ジイソプロピルピペリジノ基、2,3−ジメチルピペリジノ基、3,3,5−トリメチルピペリジノ基、2,3,5,6−テトラメチルピペリジノ基、3,3,5,5−テトラメチルピペリジノ基、3,3−ジフルオロピペリジノ基、4,4−ジフルオロピペリジノ基、3−フルオロ−3−メチルピペリジノ基、
ヘキサメレンイミノ基、2−メチルヘキサメレンイミノ基、2−エチルヘキサメレンイミノ基、2−n−プロピルヘキサメレンイミノ基、2−イソプロピルヘキサメレンイミノ基、2−tert−ブチルヘキサメレンイミノ基、3−メチルヘキサメレンイミノ基、3−エチルヘキサメレンイミノ基、3−n−プロピルヘキサメレンイミノ基、3−イソプロピルヘキサメレンイミノ基、4−メチルヘキサメレンイミノ基、4−エチルヘキサメレンイミノ基、4−n−プロピルヘキサメレンイミノ基、4−イソプロピルヘキサメレンイミノ基、5−メチルヘキサメレンイミノ基、
ヘプタメチレンイミノ基、
モルホリノ基、2−メチルモルホリノ基、2−エチルモルホリノ基、3−メチルモルホリノ基、3−エチルモルホリノ基、2,6−ジメチルモルホリノ基及び2,6−ジエチルモルホリノ基。

0112

一般式化2において、R4が2−ブチニル基であり、Aが以下に示されるいずれかの基であるチアジアゾール化合物;
ピロリジノ基、2−メチルピロリジノ基、2−エチルピロリジノ基、2−n−プロピルピロリジノ基、2−イソプロピルピロリジノ基、2−tert−ブチルピロリジノ基、2−フルオロピロリジノ基、2−トリフルオロメチルピロリジノ基、3−メチルピロリジノ基、3−エチルピロリジノ基、3−トリフルオロメチルピロリジノ基、2,5−ジメチルピロリジノ基、3,4−ジメチルピロリジノ基、3,3−ジメチルピロリジノ基、
ピペリジノ基、2−メチルピペリジノ基、2−エチルピペリジノ基、2−n−プロピルピペリジノ基、2−イソプロピルピペリジノ基、2-tert−ブチルピペリジノ基、2−sec−ブチルピペリジノ基、2−フルオロピペリジノ基、2−ブロモピペリジノ基、2−トリフルオロメチルピペリジノ基、3−メチルピペリジノ基、3−エチルピペリジノ基、3−n−プロピルピペリジノ基、3−イソプロピルピペリジノ基、3-tert−ブチルピペリジノ基、3−sec−ブチルピペリジノ基、3−フルオロピペリジノ基、3−ブロモピペリジノ基、3−トリフルオロメチルピペリジノ基、4−メチルピペリジノ基、4−エチルピペリジノ基、4−n−プロピルピペリジノ基、4−イソプロピルピペリジノ基、4-tert−ブチルピペリジノ基、4−トリフルオロメチルピペリジノ基、2,6−ジメチルピペリジノ基、2,4-ジメチルピペリジノ基、2,5−ジメチルピペリジノ基、3,5−ジメチルピペリジノ基、2,2、−ジメチルピペリジノ基、3,3−ジメチルピペリジノ基、4,4−ジメチルピペリジノ基、3−エチル−6−メチルピペリジノ基、3−エチル−5−メチルピペリジノ基、3,5−ジエチルピペリジノ基、3,5−ジn−プロピルピペリジノ基、3,5−ジイソプロピルピペリジノ基、2,3−ジメチルピペリジノ基、3,3,5−トリメチルピペリジノ基、2,3,5,6−テトラメチルピペリジノ基、3,3,5,5−テトラメチルピペリジノ基、3,3−ジフルオロピペリジノ基、4,4−ジフルオロピペリジノ基、3−フルオロ−3−メチルピペリジノ基、
ヘキサメレンイミノ基、2−メチルヘキサメレンイミノ基、2−エチルヘキサメレンイミノ基、2−n−プロピルヘキサメレンイミノ基、2−イソプロピルヘキサメレンイミノ基、2−tert−ブチルヘキサメレンイミノ基、3−メチルヘキサメレンイミノ基、3−エチルヘキサメレンイミノ基、3−n−プロピルヘキサメレンイミノ基、3−イソプロピルヘキサメレンイミノ基、4−メチルヘキサメレンイミノ基、4−エチルヘキサメレンイミノ基、4−n−プロピルヘキサメレンイミノ基、4−イソプロピルヘキサメレンイミノ基、5−メチルヘキサメレンイミノ基、
ヘプタメチレンイミノ基、
モルホリノ基、2−メチルモルホリノ基、2−エチルモルホリノ基、3−メチルモルホリノ基、3−エチルモルホリノ基、2,6−ジメチルモルホリノ基及び2,6−ジエチルモルホリノ基。

0113

一般式化2において、R4が1−メチル−2−ブチニル基であり、Aが以下に示されるいずれかの基であるチアジアゾール化合物;
ピロリジノ基、2−メチルピロリジノ基、2−エチルピロリジノ基、2−n−プロピルピロリジノ基、2−イソプロピルピロリジノ基、2−tert−ブチルピロリジノ基、2−フルオロピロリジノ基、2−トリフルオロメチルピロリジノ基、3−メチルピロリジノ基、3−エチルピロリジノ基、3−トリフルオロメチルピロリジノ基、2,5−ジメチルピロリジノ基、3,4−ジメチルピロリジノ基、3,3−ジメチルピロリジノ基、
ピペリジノ基、2−メチルピペリジノ基、2−エチルピペリジノ基、2−n−プロピルピペリジノ基、2−イソプロピルピペリジノ基、2-tert−ブチルピペリジノ基、2−sec−ブチルピペリジノ基、2−フルオロピペリジノ基、2−ブロモピペリジノ基、2−トリフルオロメチルピペリジノ基、3−メチルピペリジノ基、3−エチルピペリジノ基、3−n−プロピルピペリジノ基、3−イソプロピルピペリジノ基、3-tert−ブチルピペリジノ基、3−sec−ブチルピペリジノ基、3−フルオロピペリジノ基、3−ブロモピペリジノ基、3−トリフルオロメチルピペリジノ基、4−メチルピペリジノ基、4−エチルピペリジノ基、4−n−プロピルピペリジノ基、4−イソプロピルピペリジノ基、4-tert−ブチルピペリジノ基、4−トリフルオロメチルピペリジノ基、2,6−ジメチルピペリジノ基、2,4-ジメチルピペリジノ基、2,5−ジメチルピペリジノ基、3,5−ジメチルピペリジノ基、2,2、−ジメチルピペリジノ基、3,3−ジメチルピペリジノ基、4,4−ジメチルピペリジノ基、3−エチル−6−メチルピペリジノ基、3−エチル−5−メチルピペリジノ基、3,5−ジエチルピペリジノ基、3,5−ジn−プロピルピペリジノ基、3,5−ジイソプロピルピペリジノ基、2,3−ジメチルピペリジノ基、3,3,5−トリメチルピペリジノ基、2,3,5,6−テトラメチルピペリジノ基、3,3,5,5−テトラメチルピペリジノ基、3,3−ジフルオロピペリジノ基、4,4−ジフルオロピペリジノ基、3−フルオロ−3−メチルピペリジノ基、
ヘキサメレンイミノ基、2−メチルヘキサメレンイミノ基、2−エチルヘキサメレンイミノ基、2−n−プロピルヘキサメレンイミノ基、2−イソプロピルヘキサメレンイミノ基、2−tert−ブチルヘキサメレンイミノ基、3−メチルヘキサメレンイミノ基、3−エチルヘキサメレンイミノ基、3−n−プロピルヘキサメレンイミノ基、3−イソプロピルヘキサメレンイミノ基、4−メチルヘキサメレンイミノ基、4−エチルヘキサメレンイミノ基、4−n−プロピルヘキサメレンイミノ基、4−イソプロピルヘキサメレンイミノ基、5−メチルヘキサメレンイミノ基、
ヘプタメチレンイミノ基、
モルホリノ基、2−メチルモルホリノ基、2−エチルモルホリノ基、3−メチルモルホリノ基、3−エチルモルホリノ基、2,6−ジメチルモルホリノ基及び2,6−ジエチルモルホリノ基。

0114

一般式化2において、R4が2−ペンチニル基であり、Aが以下に示されるいずれかの基であるチアジアゾール化合物;
ピロリジノ基、2−メチルピロリジノ基、2−エチルピロリジノ基、2−n−プロピルピロリジノ基、2−イソプロピルピロリジノ基、2−tert−ブチルピロリジノ基、2−フルオロピロリジノ基、2−トリフルオロメチルピロリジノ基、3−メチルピロリジノ基、3−エチルピロリジノ基、3−トリフルオロメチルピロリジノ基、2,5−ジメチルピロリジノ基、3,4−ジメチルピロリジノ基、3,3−ジメチルピロリジノ基、
ピペリジノ基、2−メチルピペリジノ基、2−エチルピペリジノ基、2−n−プロピルピペリジノ基、2−イソプロピルピペリジノ基、2-tert−ブチルピペリジノ基、2−sec−ブチルピペリジノ基、2−フルオロピペリジノ基、2−ブロモピペリジノ基、2−トリフルオロメチルピペリジノ基、3−メチルピペリジノ基、3−エチルピペリジノ基、3−n−プロピルピペリジノ基、3−イソプロピルピペリジノ基、3-tert−ブチルピペリジノ基、3−sec−ブチルピペリジノ基、3−フルオロピペリジノ基、3−ブロモピペリジノ基、3−トリフルオロメチルピペリジノ基、4−メチルピペリジノ基、4−エチルピペリジノ基、4−n−プロピルピペリジノ基、4−イソプロピルピペリジノ基、4-tert−ブチルピペリジノ基、4−トリフルオロメチルピペリジノ基、2,6−ジメチルピペリジノ基、2,4-ジメチルピペリジノ基、2,5−ジメチルピペリジノ基、3,5−ジメチルピペリジノ基、2,2、−ジメチルピペリジノ基、3,3−ジメチルピペリジノ基、4,4−ジメチルピペリジノ基、3−エチル−6−メチルピペリジノ基、3−エチル−5−メチルピペリジノ基、3,5−ジエチルピペリジノ基、3,5−ジn−プロピルピペリジノ基、3,5−ジイソプロピルピペリジノ基、2,3−ジメチルピペリジノ基、3,3,5−トリメチルピペリジノ基、2,3,5,6−テトラメチルピペリジノ基、3,3,5,5−テトラメチルピペリジノ基、3,3−ジフルオロピペリジノ基、4,4−ジフルオロピペリジノ基、3−フルオロ−3−メチルピペリジノ基、
ヘキサメレンイミノ基、2−メチルヘキサメレンイミノ基、2−エチルヘキサメレンイミノ基、2−n−プロピルヘキサメレンイミノ基、2−イソプロピルヘキサメレンイミノ基、2−tert−ブチルヘキサメレンイミノ基、3−メチルヘキサメレンイミノ基、3−エチルヘキサメレンイミノ基、3−n−プロピルヘキサメレンイミノ基、3−イソプロピルヘキサメレンイミノ基、4−メチルヘキサメレンイミノ基、4−エチルヘキサメレンイミノ基、4−n−プロピルヘキサメレンイミノ基、4−イソプロピルヘキサメレンイミノ基、5−メチルヘキサメレンイミノ基、
ヘプタメチレンイミノ基、
モルホリノ基、2−メチルモルホリノ基、2−エチルモルホリノ基、3−メチルモルホリノ基、3−エチルモルホリノ基、2,6−ジメチルモルホリノ基及び2,6−ジエチルモルホリノ基。

0115

以下、本発明組成物において用いられる化合物(II)の製造例をさらに詳しく説明するが、本発明は、これらの例のみに限定されるものではない。
本発明組成物において用いられる化合物(II)の、前記の製造工程(化29)、(化30)及びその各工程における反応条件等に係る記載に準じて製造された具体的な製造例を示す。 尚、製造例及び参考製造例中、1H−NMRは特記したものを除き、重クロロホルム溶媒中でテトラメチルシランを内部標準として測定したデータを示す。

0116

製造例6〔化合物(II−1)の製造例〕
5−クロロ−3−メチルチオ−1,2,4−チアジアゾール333mgをN,N−ジメチルホルムアミド4mlに溶解し、ここに室温で3−メチルピペリジン198mgを滴下し、6時間撹拌した。反応混合物をtert-ブチルメチルエーテルで希釈し、10%塩酸を加えてtert-ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、得られた残渣にクロロホルム4mlを混合した。該混合液に氷冷下で3−クロロ過安息香酸(含量;65重量%)1.52gを加え、室温で6時間撹拌した。反応混合物を10%−亜硫酸ナトリウム水溶液及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、得られた残渣にN,N−ジメチルホルムアミド4ml及び2−ペンチン−1−オール168mgを混合した。ここに氷冷下で水素化ナトリウム(油性、含量;60重量%)120mgを加えて15分間撹拌し、さらに室温で6時間撹拌した。反応混合物に飽和食塩水を加え、tert-ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、3−(2−ペンチニルオキシ)−5−(3−メチルピペリジノ)−1,2,4−チアジアゾール(以下、化合物(II−1)と記す。)145mgを得た。
化合物(II−1)

0117

1H−NMR(CDCl3、TMS)、δ(ppm):4.91(s、2H),3.73(br、2H),3.05(t、1H),2.72(t、1H),2.22(m、2H),1.89−1.54(m、4H),1.21−1.06(m、4H),0.94(d、3H)
EI-EI-Mass:m/e=265(M+)

0118

製造例7〔化合物(II−2)の製造例〕
3−メチルピペリジンの代わりに3,5−ジメチルピペリジン(8:2の異性体混合物)226mgを用い、2−ペンチン−1−オールの代わりに2−ブチン−1−オールを用いた以外は製造例6と同様の操作を行い、3−(2−ブチニルオキシ)−5−(3,5−ジメチルピペリジノ)−1,2,4−チアジアゾールのシリカゲル薄層クロマトグラフィー展開溶媒;ヘキサン/酢酸エチル)において低極性成分の化合物(以下、化合物(II−2a)と記す。)55mg及び高極性成分の化合物(以下、化合物(II−2b)と記す。)22mgを得た。

0119

化合物(II−2a)
融点104.4℃
1H−NMR(CDCl3、TMS)、δ(ppm):4.89(s、2H),3.74(br、2H),2.57(t、2H),1.92−1.70(m、6H),0.92(d、6H),0.81(q、1H)
EI-Mass:m/e=265(M+)
化合物(II−2b)
1H−NMR(CDCl3、TMS)、δ(ppm):4.88(s、2H),3.50(br、2H),3.06(br、2H),2.03(m、2H),1.86(s、3H),1.48(m、2H),0.95(m、6H)
EI-Mass:m/e=265(M+)

0120

製造例8〔化合物(II−3)の製造例〕
3−メチルピペリジンの代わりに2,6−ジメチルモルホリン(異性体混合物)235mgを用いた以外は製造例6と同様の操作を行い、3−(2−ペンチニルオキシ)−5−(2,6−ジメチルモルホリノ)−1,2,4−チアジアゾールの低極性成分の化合物(以下、化合物(II−3a)と記す。)172mg及び高極性成分の化合物(以下、化合物(II−3b)と記す。)66mgを得た。

0121

化合物(II−3a)
1H−NMR(CDCl3、TMS)、δ(ppm):4.91(d、2H),3.77−3.44(m、4H),2.85(t、2H),2.21(m、2H),1.23(m、6H),1.12(t、3H)
EI-Mass:m/e=281(M+)
化合物(II−3b)
1H−NMR(CDCl3、TMS)、δ(ppm):4.91(t、2H),4.12(m、2H),3.56(m、2H),3.17(m、2H),2.24(m、2H),1.25(d、6H),1.14(t、3H)
EI-Mass:m/e=281(M+)

0122

次に、化合物(III)について説明する。尚、下記において、化合物名の後に記載される各頁は、The Pesticide Manual, Thirteenth Edition (edited by Clive Tomlin,published by The British Crop Protection Council and The Royal Society of Chemistry、2003)の記載頁を意味している。本発明組成物において、クロチアニジン(一般名)とは、(E)−1−(2−クロロ−1,3−チアゾール−5−イルメチル)−3−メチル−2−ニトログアニジン(198〜199頁)を意味する。

0123

本発明組成物が効力を有する有害生物としては、例えば昆虫ダニ等の節足動物及び線虫等の線形動物があげられ、具体的には例えば以下に示すものがあげられる。

0124

半翅目害虫ヒメトビウンカ(Laodelphax striatellus)、トビイロウンカ(Nilaparvata lugens)、セジロウンカ(Sogatella furcifera)等のウンカ類ツマグロヨコバイ(Nephotettix cincticeps)、チャノミドリヒメヨコバイ(Empoasca onukii)等のヨコバイ類、ワタアブラムシ(Aphis gossypii)、モモアカアブラムシ(Myzus persicae)等のアブラムシ類カメムシ類オンシツコナジラミ(Trialeurodes vaporariorum)、タバココナジラミ(Bemisia tabaci)、シルバーリーフコナジラミ(Bemisia argentifolii)等のコナジラミ類カイガラムシ類、グンバイムシ類、キジラミ類等;

0125

鱗翅目害虫:ニカメイガ(Chilo suppressalis)、コブノメイガ(Cnaphalocrocis medinalis)、ヨーロピアコーンボーラー(Ostrinia nubilalis)、シバツトガ(Parapediasia teterrella)等のメイガ類、ハスモンヨトウ(Spodoptera litura)、シロチモジヨトウ(Spodoptera exigua)、アワヨトウ(Pseudaletia separata)、ヨトウガ(Mamestra brassicae)、タマナヤガ(Agrotis ipsilon)、トリプルシア属(Trichoplusia spp.)、ヘリティス属(Heliothis spp.)、ヘリコベルパ属(Helicoverpa spp.)、エアリアス属(Earias spp.)等のヤガ類、モンシロチョウ(Pieris rapae crucivora)等のシロチョウ類、リンゴコカクモハマキ(Adoxophyes orana fasciata)、ナシヒメシンクイ(Grapholita molesta)、コドリングモス(Cydia pomonella)等のハマキガ類、モモシンクイガ(Carposina niponensis)等のシンクイガ類、モモハモグリガ(Lyonetia clerkella)等のチビガ類、キンモンホソガ(Phyllonorycter ringoniella)等のホソガ類、ミカンハモグリガ(Phyllocnistis citrella)等のコハモグリガ類、コナガ(Plutela xylostella)等のスガ類、ピンクボールワーム(Pectinophora gossypiella)等のキバガ類、ヒトリガ類、ヒロズコガ類等;

0126

双翅目害虫アカイエカ(Culex pipiens pallens)、コガタアカイエカ(Culex tritaeniorhynchus)、ネッタイイエカ(Culex quinquefasciatus)等のイエカ類、(Aedes aegypti)、(Aedes albopictus)等のエーデス属、(Anopheles sinensis)等のアノフェレス属、ユスリカ類、イエバエ(Musca domestica)、オオイエバエ(Muscina stabulans)等のイエバエ類、クロバエ類ニクバエ類、ヒメイエバエ類、タネバエ(Delia platura)、タマネギバエ(Delia antiqua)等のハナバエ類、ミバエ類、ショウジョウバエ類、チョウバエ類、ブユ類、アブ類、サシバエ類、ハモグリバエ類等;

0127

鞘翅目害虫ウエスタンコーンルートワーム(Diabrotica virgifera virgifera)、サザンコーンルートワーム(Diabrotica undecimpunctata howardi)等のコーンルートワーム類、ドウネブイブイ(Anomala cuprea)、ヒメコガネ(Anomala rufocuprea)等のコガネムシ類、メイズウィビル(Sitophilus zeamais)、イネミズゾウムシ(Lissorhoptrus oryzophilus)、アズキゾウムシ(Callosobruchuys chienensis)等のゾウムシ類、チャイロコメノゴミムシダマシ(Tenebrio molitor)、コクストモドキ(Tribolium castaneum)等のゴミムシダマシ類、イネドロオイムシ(Oulema oryzae)、ウリハムシ(Aulacophora femoralis)、キスジノミハムシ(Phyllotreta striolata)、コロラドハムシ(Leptinotarsa decemlineata)等のハムシ類、シバンムシ類、ニジュウヤホシテントウ(Epilachna vigintioctopunctata)等のエピラクナ類、ヒラタキクイムシ類、ナガシンクイムシ類カミキリムシ類、アオバアリガタハネクシ(Paederus fuscipes)等;

0128

アザミウマ目害虫:ミナミキイロアザミウマ(Thrips palmi)等のスリップス属、ミカンキイロアザミウマ(Frankliniella occidentalis)等のフランクリニエラ属、チャノキイロアザミウマ(Sciltothrips dorsalis)等のシルトスリップス属等のアザミウマ類クダアザミウマ類等;

0129

膜翅目害虫:ハバチ類、アリ類、スズメバチ類等;
翅目害虫ゴキブリ類チャバネゴキブリ類等;
直翅目害虫:バッタ類ケラ類等;
隠翅目害虫:ヒトノミ等;
シラミ目害虫:ヒトジラミ等;
シロアリ目害虫:シロアリ類等;

0130

ダニ目害虫ナミハダニ(Tetranychus urticae)、カンザワハダニ(Tetranychus kanzawai)、ミカンハダニ(Panonychus citri)、リンゴハダニ(Panonychus ulmi)、オリゴカス属等のハダニ類、ミカンサビダニ(Aculopspelekassi)、リンゴサビダニ(Aculus schlechtendali)等のフシダニ類、チャノホコリダニ(Polyphagotarsonemus latus)等のホコリダニ類、ヒメハダニ類、ケナガハダニ類、フタトゲチマダニ(Haemaphysalis longicornis)、ヤマトチマダニ(Haemaphysalis flava)、タイワンクマダニ(Dermacentor taiwanicus)、ヤマトマダニ(Ixodes ovatus)、シュルツマダニ(Ixodes persulcatus) 、オウシマダニ(Boophilus microplus)等のマダニ類ケナガコナダニ(Tyrophagus putrescentiae)等のコナダニ類コナヒョウヒダニ(Dermatophagoides farinae)、ヤケヒョウヒダニ(Dermatophagoides ptrenyssnus)等のヒョウヒダニ類、ホソツメダニ(Cheyletus eruditus)、クワガタツメダニ(Cheyletus malaccensis)、ミナミツメダニ(Cheyletus moorei)等のツメダニ類、ワクモ類等;

0131

線虫類:ミナミネグサレセンチュウ(Pratylenchus coffeae)、キタネグサレセンチュウ(Pratylenchus fallax)、ダイズシストセンチュウ(Heterodera glycines)、ジャガイモシストセンチュウ(Globodera rostochiensis)、キタネコブセンチュウ(Meloidogyne hapla)、サツマイモネコブセンチュウ(Meloidogyne incognita)等。

0132

本発明組成物において、化合物(I)若しくは化合物(II)と化合物(III)との混合割合は特に限定されないが、重量比で通常500:1〜1:50の割合であり、好ましくは50:1〜1:42の割合である。

0133

次に、本発明組成物の製剤例を示す。

0134

本発明組成物は、化合物(I)若しくは化合物(II)と化合物(III)とを混合しただけでも用いることができるが、通常、化合物(I)若しくは化合物(II)と化合物(III)とを混合し、それと固体担体液体担体又は/及びガス状担体と混合し、必要により界面活性剤固着剤分散剤、安定剤等の製剤用補助剤を添加して、水和剤懸濁剤粒剤ドライフロアブル剤乳剤水性液剤油剤燻煙剤エアゾール剤マイクロカプセル剤等に製剤化して用いるか、或いは、化合物(I)若しくは化合物(II)と化合物(III)との各々を上記のように製剤化し、場合によりさらに水で希釈したのち、各々の製剤品を混合して用いる。これらの製剤中には、有効成分化合物が合計量で通常0.05〜95重量%含有される。

0135

製剤化の際に用いられる固体担体としては、たとえば粘土類カオリンクレー珪藻土、合成含水酸化珪素ベントナイト、フバサミクレー酸性白土等)、タルク類、セラミック、その他の無機鉱物セリサイト石英、硫黄、活性炭炭酸カルシウム水和シリカ等)、化学肥料硫安、燐安、硝安、尿素、塩安等)等の微粉末あるいは粒状物があげられ、液体担体としては、たとえば水、アルコール類(メタノール、エタノール等)、ケトン類アセトンメチルエチルケトン等)、芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンメチルナフタレン等)、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、シクロヘキサン灯油軽油等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、ニトリル類(アセトニトリル、イソブチロニトリル等)、エーテル類(ジイソプロピルエーテル、ジオキサン等)、酸アミド類(N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、ハロゲン化炭化水素類(ジクロロメタン、トリクロロエタン四塩化炭素等)、ジメチルスルホキシド及び植物油大豆油綿実油等)があげられる。

0136

ガス状担体としては、たとえばフルオロカーボンブタンガスLPG液化石油ガス)、ジメチルエーテル及び炭酸ガスがあげられる。

0138

その他の製剤用補助剤としては、固着剤、分散剤及び安定剤等、具体的には例えばカゼインゼラチン多糖類でんぷん粉、アラビアガムセルロース誘導体アルギン酸等)、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子ポリビニルアルコールポリビニルピロリドンポリアクリル酸類等)、PAP酸性りん酸イソプロピル)、BHT(2,6−ジ−ターシャリーブチル−4−メチルフェノール)、BHA(2−ターシャリーブチル−4−メトキシフェノールと3−ターシャリーブチル−4−メトキシフェノールとの混合物)、植物油、鉱物油、及び脂肪酸またはそのエステルがあげられる。

0139

毒餌基材としては、たとえば穀物粉、植物油、糖、結晶セルロース等の成分、ジブチルヒドロキシトルエンノルジヒドログアイアレチン酸等の酸化防止剤デヒドロ酢酸等の保存料トウガラシ粉末等の子どもペットによる誤食防止剤チーズ香料、タマネギ香料ピーナッツオイルなどの害虫誘引性香料等があげられる。

0140

本発明の有害生物防除方法は、通常、本発明組成物を有害生物または有害生物の生息場所に施用することにより行われる。

0141

本発明組成物を農林用として用いる場合、その施用量は通常1000m2あたり本発明化合物の量で0.1〜1000gであり、好ましくは10〜500gである。本発明組成物が乳剤、水和剤、フロアブル剤、マイクロカプセル剤等に製剤化されたものである場合は、通常有効成分濃度が1〜10000ppmとなるように、好ましくは10〜500ppmとなるように水で希釈して散布することにより施用し、本発明組成物が粒剤、粉剤等に製剤化されたものである場合には、通常そのまま施用する。

0142

本発明組成物は有害生物から保護すべき作物等の植物に対して茎葉処理することにより使用することができ、作物の植え付ける前の苗床植付けの時に植穴株元に処理することにより使用することもできる。さらに、耕作地土壌に生息する有害生物を防除する目的で該土壌に処理することにより使用してもよい。また、シート状やひも状等に加工した樹脂製剤を作物に巻き付ける、作物の近傍に張り渡す及び/又は株元の土壌表面に敷く等の方法で使用することもできる。

0143

以下、製剤例及び試験例等にて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は以下の例のみに限定されるものではない。尚、以下の例において、部は特にことわりのない限り重量部を表す。まず、製剤例を示す。

0144

製剤例1乳剤(1:1)
化合物(I−1)〜(I−5)若しくは化合物(II−1)〜(II−3)のいずれかの化合物9部及び化合物(III)9部を、キシレン33.5部及びジメチルホルムアミド33.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部及びドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム5部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
製剤例2水和剤(1:2)
化合物(I−1)〜(I−5)若しくは化合物(II−1)〜(II−3)のいずれかの化合物3部及び化合物(III)6部を、ラウリル硫酸ナトリウム4部、リグニンスルホン酸カルシウム2部、合成含水酸化珪素微粉末20部及び珪素土65部を混合した中に加え、よく撹拌混合して水和剤を得る。

0145

製剤例3粉剤(8:1)
化合物(I−1)〜(I−5)若しくは化合物(II−1)〜(II−3)のいずれかの化合物4部、化合物(III)0.5部、合成含水酸化珪素微粉末1部、凝集剤としてドリレスB(三共社製)1部、クレー7部を乳鉢でよく混合した後にジュースミキサーで撹拌混合する。得られた混合物にカットクレー86.5部を加えて、充分撹拌混合し、粉剤を得る。
製剤例4フロアブル剤(4:1)
ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテルサルフェート塩5部、1%ザンサンガム水溶液20部、スメクタイト系鉱物3部及び水62部を均一に溶解し、化合物(I−1)〜(I−5)若しくは化合物(II−1)〜(II−3)のいずれかの化合物8部及び化合物(III)2部を加えてよく攪拌後、サンドミルにて湿式粉砕してフロアブル剤を得る。

0146

製剤例5マイクロカプセル剤(2:1)
化合物(I−1)〜(I−5)若しくは化合物(II−1)〜(II−3)のいずれかの化合物6部、化合物(III)3部、フェニルキシルエタン10部及びスミジュールL−75(住友バイエルウレタン株式会社製トリレンジイソシアネート)0.5部を混合した後、アラビアガムの10%水溶液20部中に加え、ホモミキサーで攪拌して、平均粒径20μmのエマルションを得る。次に、これにエチレングリコール2部を加え、さらに60℃の温浴中で24時間反応させてマイクロカプセルスラリーを得る。一方、ザンサンガム0.2部、ビーガムR(三洋化成株式会社製アルミニウムマグネシウムシリケート)1部をイオン交換水57.3部に分散させて増粘剤溶液を得る。
上記マイクロカプセルスラリー42.5部及び増粘剤溶液57.5部を混合して、10%マイクロカプセル剤を得る。
製剤例6油剤(3:1)
化合物(I−1)〜(I−5)若しくは化合物(II−1)〜(II−3)のいずれかの化合物0.6部及び化合物(III)0.2部をキシレン5部及びトリクロロエタン5部に溶解し、これを脱臭灯油89.2部に混合して湯剤を得る。

0147

製剤例7粒剤(2:1)
化合物(I−1)〜(I−5)若しくは化合物(II−1)〜(II−3)のいずれかの化合物2部、化合物(III)1部、合成含水酸化珪素微粉末5部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム5部、ベントナイト30部及びクレー57部を加え、よく撹拌混合し、ついでこれらの混合物に適当量の水を加え、さらに撹拌し、増粒機で製粒し、通風乾燥して粒剤を得る。

0148

次に、本発明組成物が有害生物防除に効力を有することを試験例として示す。

0149

試験例1
化合物(I−1)10部をキシレン40部及びジメチルホルムアミド40部に溶解し、これにソルポール3005X(東邦化学工業株式会社製)10部を加え、よく撹拌混合して製剤を作製した。
化合物(I−1)の製剤の所定濃度水希釈液に化合物(III)の水溶剤商品ダントツ水溶剤:住化武田農薬株式会社製)を所定濃度となるように加えた希釈液に各々、展着剤(新リノー:日本農薬株式会社製)を該展着剤の添加量が容量にして1/5000となるように加え、試験用散布液を調製した。
また、化合物(I−1)の製剤の所定濃度の水希釈液、化合物(III)の水溶剤(商品名ダントツ水溶剤:住化武田農薬株式会社製)の所定濃度の水希釈液に各々、展着剤(新リノー:日本農薬株式会社製)を該展着剤の添加量が容量にして1/5000となるように加え、試験用の比較散布液を調製した。
各散布液の有効成分処理濃度は下記に示した通りである。

0150

0151

一方、ポリエチレンカップキュウリを植え、第1本葉展開するまで生育させ、そこにワタアブラムシ約20頭を寄生させた。1日後、そのキュウリに上記の散布液を20ml/カップの割合で散布した。散布6日後にワタアブラムシの数を調査し、次の式により防除価を求めた。
防除価(%)={1−(Cb×Tai)/(Cai×Tb)}×100
なお、式中の文字は以下の意味を表す。
Cb:無処理区の処理前の虫数
Cai:無処理区の観察時の虫数
Tb:処理区の処理前の虫数
Tai:処理区の観察時の虫数
その結果、散布液1は、比較散布液1及び3が示した以上の防除価を示し、散布液2は、比較散布液2及び4以上の防除価を示した。

0152

試験例2〜8
化合物(I−1)の代わりに化合物(I−2)〜(I−5)、(II−1)、(II−2a)及び(II−3a)を代りに用いた以外は試験例1と同様の操作を行った結果、化合物(I−2)〜(I−5)、(II−1)、(II−2a)及び(II−3a)のいずれに化合物においても、散布液1は、比較散布液1及び3が示した以上の防除価を示し、散布液2は、比較散布液2及び4以上の防除価を示した。

0153

試験例9
化合物(I−1)と化合物(III)の濃度を下記の表2に変える以外は、試験例1と同様の操作を行う場合、散布液1はほぼ100%の防除価を示し、比較散布液1及び2においてもほぼ100%の防除価を示す。

0154

0155

尚、一般に、与えられた2種類の有効成分化合物を混合して処理した際に期待される防除効果は、下記の数1で示されるColbyの計算式により求められる。

0156

0157

X:有効成分化合物Aをm ppmで処理した時の防除価(%)
Y:有効成分化合物Bをn ppmで処理した時の防除価(%)
E:有効成分化合物Aをm ppmでBをn ppmで処理した時に期待される防除価(%)(以下、防除価期待値と記す。)
そして、一般に、実際に混合して処理した防除価(%)が防除価期待値(%)より小さくなければ、その組み合わせに拮抗的な作用はなくスペクトル補完などによる混合効果があると言える。以上、当該試験を実施することにより、本発明組成物が有害生物の防除に優れた効果を有することを簡単に確認する事もできる。

0158

試験例10〜16
化合物(I−1)の代わりに化合物(I−2)〜(I−5)、(II−1)、(II−2a)及び(II−3a)を代りに用いる以外は試験例9と同様の操作を行う場合、化合物(I−2)〜(I−5)、(II−1)、(II−2a)及び(II−3a)のいずれに化合物においても、散布液1はほぼ100%の防除価を示し、比較散布液1及び2においてもほぼ100%の防除価を示す。

0159

試験例17
化合物(I−1)10部をキシレン40部及びジメチルホルムアミド40部に溶解し、これにソルポール3005X(東邦化学工業株式会社製)10部を加え、よく撹拌混合して製剤を作製した。
化合物(I−1)の製剤の所定濃度の水希釈液に化合物(III)の水溶剤(商品名ダントツ水溶剤:住化武田農薬株式会社製)を所定濃度となるように加えた希釈液に各々、展着剤(新リノー:日本農薬株式会社製)を該展着剤の添加量が容量にして1/5000となるように加え、試験液を調製した。
また、化合物(I−1)の製剤の所定濃度の水希釈液、化合物(III)の水溶剤(商品名ダントツ水溶剤:住化武田農薬株式会社製)の所定濃度の水希釈液に各々、展着剤(新リノー:日本農薬株式会社製)を該展着剤の添加量が容量にして1/5000となるように加え、比較試験液を調製した。
各試験液の有効成分処理濃度は下記に示した通りである。

0160

0161

20mlプッシュバイアル(株式会社相互理化学硝子製作所製)に40℃まで冷ました10%寒天溶液を10ml流し込み、寒天が固まるまで放置した。固まった寒天上にキャベツリーフディスク(直径25mm)を置き、該プッシュバイアル内にシルバーリーフコナジラミ成虫10頭を入れ、人工気象器(25℃/湿度80%/6〜21時明条件)内で24時間放置し、リーフディスクに産卵させた。産卵後、該プッシュバイアル内の成虫を除去し、50〜100程度産卵されたキャベツを8日間、人工気象器(25℃/湿度80%/6〜21時明条件)内に保持し、幼虫孵化させた。上記の試験液10mlを、幼虫が孵化したキャベツのリーフディスクが入ったプッシュバイアルに注ぎ込み、30秒後に該試験液を取り除き、容器倒立させて風乾し、孵化幼虫数を実体顕微鏡カウント調査した。調査後のリーフディスクは、人工気象器(25℃/湿度80%/6-21自明条件)内で保管し、処理10日後に実体顕微鏡を用い生存虫数(3齢幼虫およびを生存虫とみなした)をカウント調査し、次の式により防除価を求めた。
防除価(%)={1−(Cb×Tai)/(Cai×Tb)}×100
なお、式中の文字は以下の意味を表す。
Cb:無処理区の処理前の虫数
Cai:無処理区の観察時の生存虫数
Tb:処理区の処理前の虫数
Tai:処理区の観察時の生存虫数
その結果、試験液1は、比較試験液1及び3が示した以上の防除価を示し、試験液2は、比較試験液2及び4以上の防除価を示した。

0162

試験例18〜24
化合物(I−1)の代わりに化合物(I−2)〜(I−5)、(II−1)、(II−2a)及び(II−3a)を代りに用いた以外は試験例9と同様の操作を行った結果、化合物(I−2)〜(I−5)、(II−1)、(II−2a)及び(II−3a)のいずれに化合物においても、試験液1は、比較試験液1及び3が示した以上の防除価を示し、試験液2は、比較試験液2及び4以上の防除価を示した。

0163

試験例25
化合物(I−1)と化合物(III)の濃度を下記の表4に変える以外は、試験例17と同様の操作を行う場合、散布液1はほぼ100%の防除価を示し、比較散布液1及び2においてもほぼ100%の防除価を示す。

0164

0165

試験例26〜32
化合物(I−1)の代わりに化合物(I−2)〜(I−5)、(II−1)、(II−2a)及び(II−3a)を代りに用いる以外は試験例25と同様の操作を行う場合、化合物(I−2)〜(I−5)、(II−1)、(II−2a)及び(II−3a)のいずれに化合物においても、散布液1はほぼ100%の防除価を示し、比較散布液1及び2においてもほぼ100%の防除価を示す。

0166

本発明組成物は、有害生物防除に優れた効力を示す。

ページトップへ

この技術を出願した法人

この技術を発明した人物

ページトップへ

関連する挑戦したい社会課題

関連する公募課題

該当するデータがありません

ページトップへ

技術視点だけで見ていませんか?

この技術の活用可能性がある分野

分野別動向を把握したい方- 事業化視点で見る -

(分野番号表示ON)※整理標準化データをもとに当社作成

ページトップへ

おススメ サービス

おススメ astavisionコンテンツ

新着 最近 公開された関連が強い技術

この 技術と関連性が強い人物

関連性が強い人物一覧

この 技術と関連する社会課題

関連する挑戦したい社会課題一覧

この 技術と関連する公募課題

該当するデータがありません

astavision 新着記事

サイト情報について

本サービスは、国が公開している情報(公開特許公報、特許整理標準化データ等)を元に構成されています。出典元のデータには一部間違いやノイズがあり、情報の正確さについては保証致しかねます。また一時的に、各データの収録範囲や更新周期によって、一部の情報が正しく表示されないことがございます。当サイトの情報を元にした諸問題、不利益等について当方は何ら責任を負いかねることを予めご承知おきのほど宜しくお願い申し上げます。

主たる情報の出典

特許情報…特許整理標準化データ(XML編)、公開特許公報、特許公報、審決公報、Patent Map Guidance System データ