図面 (/)

技術 光学機能フィルムの製造方法、光学機能フィルム、偏光板用保護フィルム及び偏光板、画像表示装置

出願人 富士フイルム株式会社
発明者 村松雄造
出願日 2004年9月8日 (16年3ヶ月経過) 出願番号 2004-260960
公開日 2006年3月23日 (14年9ヶ月経過) 公開番号 2006-075698
状態 未査定
技術分野 液晶4(光学部材との組合せ) 積層体(2) 回折格子、偏光要素、ホログラム光学素子 液晶4(光学部材との組合せ) 光学要素の表面処理 流動性材料の適用方法、塗布方法 偏光要素
主要キーワード 近接箇所 スロット間隙 サイドブレ 導電被覆 向上対策 防塵性能 金属キレート触媒 金属系微粒子
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(2006年3月23日)のものです。
また、この項目は機械的に抽出しているため、正しく解析できていない場合があります

図面 (18)

課題

塗布面状故障の改良された光学機能フィルムの製造方法、光学機能フィルム、偏光板用保護フィルムを提供する。また、適切な手段により反射防止処理がされている偏光板画像表示装置を提供する。

解決手段

5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化膜厚200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法であって、該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層が、バックアップロールに支持されて連続走行するウェブの表面にスロットダイ先端リップランド近接させ、該先端リップのスロットから吐出される塗布液を塗布する光学機能フィルムの製造方法、この製造方法で作製された光学機能フィルム、およびこの製造方法で作製された反射防止フィルムを適用した偏光板、画像表示装置によって達成された。

概要

背景

近年、液晶表示装置(LCD)は大画面化が進み、反射防止フィルムを配置した液晶表示装置が増大している。
反射防止フィルムは、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のような様々な画像表示装置において、外光反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために、ディスプレイの表面に配置される光学機能フィルムである。反射防止フィルムには高い物理強度耐擦傷性など)、透明性、耐薬品性耐候性耐湿熱性耐光性など)が要求される。さらにまた、ディスプレイの視認性を低下させる塵埃(埃など)が、反射防止フィルムの表面に付着するのを防止することも要求される。

光学機能フィルムに用いる反射防止層高屈折率層中屈折率層低屈折率層など)としては、金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が従来から普通に用いられている。金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着CVD)法や物理蒸着PVD)法、特に物理蒸着法一種である真空蒸着法により形成することが通常に行われてきた。しかし、蒸着による金属酸化物の透明薄膜の形成方法生産性が低く大量生産に適しておらず、生産性が高い塗布により形成する方法が提案されている(例えば特許文献1〜4参照)。
さらに光拡散によって反射防止効果を付与する方法も知られており、このために表面に凹凸を形成したり層内部に屈折率差を有するミクロな界面を形成する方法が提案されている。このような光拡散性を付与する方法に対しても塗布方式のほうが好適であり、種々の塗布方式が提案されている。
塗布方式の中で例えば、写真感光性乳剤液、磁性体液光学フィルム機能層顔料液等の高機能性薄層塗布液フィルムに塗布する方式が提案されている(例えば特許文献5〜16参照)。これらは湿潤膜厚数十ミクロン以下の薄層塗布液を、例えばプラスチックフィルムに特定のスロットダイ塗布方法を用いて塗布する方法を開示している。しかしながら、本発明に係る反射防止フィルムの塗布方式として該特定のスロットダイや塗布方法が好適であることを明確に示したものではなかった。また、該特定のスロットダイや塗布方法を用いて塗布面状故障の少ない反射防止層を形成するためには、従来の反射防止層では不十分であることが分かった。

一方、液晶表示装置において偏光板は不可欠な光学材料であり、一般に、偏光膜が2枚の保護フィルムによって保護されている構造をしている。これらの保護フィルムに反射防止機能を付与することによりコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
特開2002−116323号公報
特開2002−156508号公報
特開2002−361769号公報
特開2003−4903号公報
特開平7−151904号公報
特開2003−200097号公報
特開2003−211052号公報
特開2003−230862号公報
特開2003−236434号公報
特開2003−236451号公報
特開2003−245595号公報
特開2003−251260号公報
特開2003−260400号公報
特開2003−260402号公報
特開2003−275652号公報
特開2004−141806号公報

概要

塗布面状故障の改良された光学機能フィルムの製造方法、光学機能フィルム、偏光板用保護フィルムを提供する。また、適切な手段により反射防止処理がされている偏光板、画像表示装置を提供する。5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化膜厚200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法であって、該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層が、バックアップロールに支持されて連続走行するウェブの表面にスロットダイの先端リップランド近接させ、該先端リップのスロットから吐出される塗布液を塗布する光学機能フィルムの製造方法、この製造方法で作製された光学機能フィルム、およびこの製造方法で作製された反射防止フィルムを適用した偏光板、画像表示装置によって達成された。 なし

目的

本発明の目的は、塗布面状故障の改良された光学機能フィルムの製造方法、光学機能フィルム、偏光板用保護フィルムを提供することである。
また本発明は、適切な手段により反射防止処理がされている偏光板、画像表示装置を提供することを目的とする。

効果

実績

技術文献被引用数
3件
牽制数
3件

この技術が所属する分野

(分野番号表示ON)※整理標準化データをもとに当社作成

ライセンス契約や譲渡などの可能性がある特許掲載中! 開放特許随時追加・更新中 詳しくはこちら

請求項1

5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化膜厚が200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、バックアップロールに支持されて連続走行するウェブの表面にスロットダイ先端リップ平坦部近接させ、該先端リップのスロットから吐出される塗布液を塗布する方法であって、前記ウェブの進行方向側の先端リップの平坦部のウェブ走行方向における長さを30μm以上100μm以下とする塗布方法により形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。

請求項2

5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、スロットダイを塗布位置にセットしたときに、ウェブの進行方向と逆側の先端リップとウェブとの隙間を、ウェブ進行方向側の先端リップとウェブとの隙間よりも大きくなるように設置した塗布装置を用いて形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。

請求項3

5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、ウェブの表面に塗布された塗膜湿潤膜厚が20μm以下で、ウェブ表面中心線平均粗さRaが1μm以下のウェブまたは進行方向における前記Raが1μmより大きい凹凸部分が連続して10cm未満のウェブを用いて形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。

請求項4

5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、ウェブに近接させたスロットダイコーターまたはスライドビードコーターのダイの先端リップからウェブにかけてビードを形成し、前記ビード近傍をバックプレートを有する減圧チャンバーにより減圧して、バックアップロール上の前記ウェブに塗布液を塗布する方法であって、前記バックプレートと前記ウェブとの隙間を前記先端リップと前記ウェブとの隙間よりも大きくなるように前記減圧チャンバーを設置する塗布方法で形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。

請求項5

5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、スロットダイから吐出される塗布液を連続走行するウェブの表面に塗布する方法であって、前記スロットダイの下流側リップ先端とウェブとの距離L1が、ウェブに塗布された塗布液の湿潤膜厚L2に対してL1≧2×L2の関係を有し、前記スロットダイのポケット内の液圧大気圧以上とする塗布方法で形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。

請求項6

5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、バックアップロールで支持されたウェブにダイを近接させて、ダイからウェブに塗布液を塗布する方法であって、ダイに対してウェブ走行方向の上流側および下流側の一方に配置される光源と、他方に配置される撮像手段とを用いて、光源から照射されたダイとウェブとの隙間を前記撮像手段により撮像し、この撮像結果に基づいて前記隙間を計測することにより塗布する方法で形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。

請求項7

5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、スロットダイコーターまたはスライドビードコーターを用いて、回転による振れの振れ幅が10μm未満であるバックアップロールで支持されて走行するウェブに対して塗布液を塗布することにより形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。

請求項8

5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、バックアップロールに支持されて連続走行するウェブの表面にスロットダイの先端リップの平坦部を近接させて、少なくとも2層の塗膜を多層同時塗布で塗布する方法であって、前記ウェブの走行方向における最上流側の前記先端リップ以外の少なくとも一つの前記先端リップの平坦部のウェブ走行方向における長さを30μm以上100μm以下である塗布方法によって形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。

請求項9

5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、スロットが開口されたダイのスロット内に塗布幅規制のための幅規制部材が備えられ、前記スロット内に送液された塗布液を前記ダイの先端リップから、連続走行するウェブの表面に塗布する方法であって、前記ウェブ進行方向側の第一先端リップと前記ウェブとの隙間L1を、前記ウェブの進行方向とは逆側第二先端リップと前記ウェブとの隙間L2よりも小さくし、前記幅規制部材の先端位置を、前記第一先端リップの先端位置と同一または上流側で、かつ前記第二先端リップの先端位置と同一または下流側に設置した塗布装置を用いた塗布方法によって形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。

請求項10

5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、バックアップロールに支持されて連続走行するウェブの表面にスロットダイの先端リップを近接させ、スロットから塗布液を吐出して塗布する方法であって、スロットダイがスロット部分で分割可能な少なくとも2つのブロックから構成され、かつ前記先端リップが段差を有するスロットダイであり、基台基準平面に前記ブロックを先端リップとは反対側の面を揃えた状態で密着させてブロック同士を締結したスロットダイによって塗布する方法によって形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。

請求項11

5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、ウェブにダイを近接させ制御された減圧下でダイからウェブに塗布液を塗布する方法であって、前記ダイが塗布位置とウェブから離れた退避位置との間で移動するように構成されており、塗布開始前定常塗布時に必要な減圧度とする設定条件稼動させてから、前記ダイを塗布位置に移動させ、かつ退避位置から塗布位置へのダイの移動速度を3mm/秒以上30mm/秒以下とする塗布方法によって形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。

請求項12

光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層が、面状改良剤を含むことを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。

請求項13

面状改良剤がフルオロ脂肪族基を含有する化合物であることを特徴とする請求項12記載の光学機能フィルムの製造方法。

請求項14

フルオロ脂肪族基を含有する化合物が、下記一般式(i)で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーから形成されるポリマーであり、且つ該モノマーが全モノマー量に対して50モル%以上含有することを特徴とする請求項13記載の光学機能フィルムの製造方法。一般式(i)中、R21は水素原子ハロゲン原子又はメチル基を表す。X2は酸素原子イオウ原子又は−N(R22)−を表す。R22は水素原子又は、炭素数1〜8のアルキル基を表す。aは1〜6の整数を表し、bは1〜18の整数を表す。

請求項15

光学機能フィルムが帯電防止層を有し、該帯電防止層を最外層に隣接されて塗布することを特徴とする請求項1〜14のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。

請求項16

請求項1〜15のいずれかに記載の製造方法によって製造された光学機能フィルム。

請求項17

請求項1〜15のいずれかに記載の製造方法であって、支持体上に、光拡散層または該支持体より屈折率の高い高屈折率層の少なくとも1層と、該支持体より屈折率の低い低屈折率層の少なくとも1層を塗布することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。

請求項18

請求項17に記載の製造方法によって製造された反射防止フィルム。

請求項19

請求項17に記載の製造方法によって製造された反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして偏光膜の2枚の保護フィルムの少なくとも一方に有することを特徴とする偏光板

請求項20

請求項17記載の製造方法によって製造された反射防止フィルム又は請求項19に記載の偏光板が画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置

技術分野

0001

本発明は、光学機能フィルムの製造方法、光学機能フィルム、偏光板用保護フィルム及びこれらのフィルムを用いた偏光板及び画像表示装置に関する。

背景技術

0002

近年、液晶表示装置(LCD)は大画面化が進み、反射防止フィルムを配置した液晶表示装置が増大している。
反射防止フィルムは、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のような様々な画像表示装置において、外光反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために、ディスプレイの表面に配置される光学機能フィルムである。反射防止フィルムには高い物理強度耐擦傷性など)、透明性、耐薬品性耐候性耐湿熱性耐光性など)が要求される。さらにまた、ディスプレイの視認性を低下させる塵埃(埃など)が、反射防止フィルムの表面に付着するのを防止することも要求される。

0003

光学機能フィルムに用いる反射防止層高屈折率層中屈折率層低屈折率層など)としては、金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が従来から普通に用いられている。金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着CVD)法や物理蒸着PVD)法、特に物理蒸着法一種である真空蒸着法により形成することが通常に行われてきた。しかし、蒸着による金属酸化物の透明薄膜の形成方法生産性が低く大量生産に適しておらず、生産性が高い塗布により形成する方法が提案されている(例えば特許文献1〜4参照)。
さらに光拡散によって反射防止効果を付与する方法も知られており、このために表面に凹凸を形成したり層内部に屈折率差を有するミクロな界面を形成する方法が提案されている。このような光拡散性を付与する方法に対しても塗布方式のほうが好適であり、種々の塗布方式が提案されている。
塗布方式の中で例えば、写真感光性乳剤液、磁性体液光学フィルム機能層顔料液等の高機能性薄層塗布液をフィルムに塗布する方式が提案されている(例えば特許文献5〜16参照)。これらは湿潤膜厚数十ミクロン以下の薄層塗布液を、例えばプラスチックフィルムに特定のスロットダイ塗布方法を用いて塗布する方法を開示している。しかしながら、本発明に係る反射防止フィルムの塗布方式として該特定のスロットダイや塗布方法が好適であることを明確に示したものではなかった。また、該特定のスロットダイや塗布方法を用いて塗布面状故障の少ない反射防止層を形成するためには、従来の反射防止層では不十分であることが分かった。

0004

一方、液晶表示装置において偏光板は不可欠な光学材料であり、一般に、偏光膜が2枚の保護フィルムによって保護されている構造をしている。これらの保護フィルムに反射防止機能を付与することによりコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
特開2002−116323号公報
特開2002−156508号公報
特開2002−361769号公報
特開2003−4903号公報
特開平7−151904号公報
特開2003−200097号公報
特開2003−211052号公報
特開2003−230862号公報
特開2003−236434号公報
特開2003−236451号公報
特開2003−245595号公報
特開2003−251260号公報
特開2003−260400号公報
特開2003−260402号公報
特開2003−275652号公報
特開2004−141806号公報

発明が解決しようとする課題

0005

本発明の目的は、塗布面状故障の改良された光学機能フィルムの製造方法、光学機能フィルム、偏光板用保護フィルムを提供することである。
また本発明は、適切な手段により反射防止処理がされている偏光板、画像表示装置を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

0006

上記課題は、下記構成の光学機能フィルムの製造方法、光学機能フィルム、偏光板用保護フィルム及び、偏光板、画像表示装置により達成される。

0007

(1) 5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化膜厚が200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、バックアップロールに支持されて連続走行するウェブの表面にスロットダイの先端リップ平坦部近接させ、該先端リップのスロットから吐出される塗布液を塗布する方法であって、前記ウェブの進行方向側の先端リップの平坦部のウェブ走行方向における長さを30μm以上100μm以下とする塗布方法によって形成されたことを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
(2) 5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、スロットダイを塗布位置にセットしたときに、ウェブの進行方向と逆側の先端リップとウェブとの隙間を、ウェブ進行方向側の先端リップとウェブとの隙間よりも大きくなるように設置した塗布装置を用いて形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。

0008

(3) 5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、ウェブの表面に塗布された塗膜の湿潤膜厚が20μm以下で、ウェブ表面中心線平均粗さRaが1μm以下のウェブ、または進行方向における前記Raが1μmより大きい凹凸部分が連続して10cm未満のウェブを用いて形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
(4) 5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、ウェブに近接させたスロットダイコーターまたはスライドビードコーターのダイの先端リップからウェブにかけてビードを形成し、前記ビード近傍をバックプレートを有する減圧チャンバーにより減圧して、バックアップロール上の前記ウェブに塗布液を塗布する方法であって、前記バックプレートと前記ウェブとの隙間を前記先端リップと前記ウェブとの隙間よりも大きくなるように前記減圧チャンバーを設置する塗布方法で形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。

0009

(5) 5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、スロットダイから吐出される塗布液を連続走行するウェブの表面に塗布する方法であって、前記スロットダイの下流側リップ先端とウェブとの距離L1が、ウェブに塗布された塗布液の湿潤膜厚L2に対してL1≧2×L2の関係を有し、前記スロットダイのポケット内の液圧大気圧以上とする方法で形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
(6) 5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、バックアップロールで支持されたウェブにダイを近接させて、ダイからウェブに塗布液を塗布する方法であって、ダイに対してウェブ走行方向の上流側および下流側の一方に配置される光源と、他方に配置される撮像手段とを用いて、光源から照射されたダイとウェブとの隙間を前記撮像手段により撮像し、この撮像結果に基づいて前記隙間を計測することによって前記塗設層を塗布する方法で形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。

0010

(7) 5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、スロットダイコーターまたはスライドビードコーターを用いて、回転による振れの振れ幅が10μm未満であるバックアップロールで支持されて走行するウェブに対して塗布液を塗布する方法によって形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
(8) 5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、バックアップロールに支持されて連続走行するウェブの表面にスロットダイの先端リップの平坦部を近接させて、少なくとも2層の塗膜を多層同時塗布で塗布する方法であって、前記ウェブの走行方向における最上流側の前記先端リップ以外の少なくとも一つの前記先端リップの平坦部のウェブ走行方向における長さを30μm以上100μm以下である塗布方法によって形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。

0011

(9) 5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、スロットが開口されたダイのスロット内に塗布幅規制のための幅規制部材が備えられ、前記スロット内に送液された塗布液を前記ダイの先端リップから、連続走行するウェブの表面に塗布する方法であって、前記ウェブ進行方向側の第一先端リップと前記ウェブとの隙間L1を、前記ウェブの進行方向とは逆側第二先端リップと前記ウェブとの隙間L2よりも小さくし、前記幅規制部材の先端位置を、前記第一先端リップの先端位置と同一または上流側で、かつ前記第二先端リップの先端位置と同一または下流側に設置した塗布装置を用いる塗布法法で形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
(10) 5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、バックアップロールに支持されて連続走行するウェブの表面にスロットダイの先端リップを近接させ、スロットから塗布液を吐出して塗布する方法であって、スロットダイがスロット部分で分割可能な少なくとも2つのブロックから構成され、かつ前記先端リップが段差を有するスロットダイであり、基台基準平面に前記ブロックを先端リップとは反対側の面を揃えた状態で密着させてブロック同士を締結したスロットダイによって塗布する方法で形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。

0012

(11) 5m/分から200m/分で搬送されるセルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に、硬化後膜厚が200nm以下の光学機能層を少なくとも1層塗布する光学機能フィルムの製造方法において、
該光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層を、ウェブにダイを近接させ制御された減圧下でダイからウェブに塗布液を塗布する方法であって、前記ダイは塗布位置とウェブから離れた退避位置との間で移動するように構成されており、塗布開始前定常塗布時に必要な減圧度とする設定条件稼動させてから、前記ダイを塗布位置に移動させ、かつ退避位置から塗布位置へのダイの移動速度を3mm/秒以上30mm/秒以下とする塗布方法によって形成することを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。

0013

(12)光学機能フィルムの塗布層の少なくとも1層が、面状改良剤を含むことを特徴とする前記(1)〜(11)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(13)面状改良剤がフルオロ脂肪族基を含有する化合物であることを特徴とする前記(12)の光学機能フィルムの製造方法。
(14)前記フルオロ脂肪族基を含有する化合物が、下記一般式(i)で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーから形成されるポリマーであり、且つ該モノマーが全モノマー量に対して50モル%以上含有することを特徴とする前記(13)に記載の光学機能フィルムの製造方法。

0014

0015

一般式(i)中、R21は水素原子ハロゲン原子又はメチル基を表す。X2は酸素原子イオウ原子又は−N(R22)−を表す。R22は水素原子又は、炭素数1〜8のアルキル基を表す。aは1〜6の整数を表し、bは1〜18の整数を表す。

0016

(15)含フッ素化合物を含有する低屈折率層及び帯電防止層を有することを特徴とする前記(1)〜(14)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(16)前記低屈折率層を有する側の表面抵抗が1×1013Ω/□以下であることを特徴とする前記(15)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(17)前記低屈折率層を有する側の表面抵抗が1×1012Ω/□以下であることを特徴とする前記(16)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(18)前記低屈折率層を有する側の表面の動摩擦係数が0.25以下であることを特徴とする前記(15)〜(17)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(19)前記低屈折率層を有する側の表面の水に対する接触角が90゜以上であることを特徴とする前記(15)〜(18)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。

0017

(20)帯電防止層が電子伝導型の導電材を含有することを特徴とする前記(15)〜(19)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(21)電子伝導型の導電材が金属酸化物であることを特徴とする前記(20)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(22)電子伝導型の導電材が金属であることを特徴とする前記(20)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(23)電子伝導型の導電材が10〜400m2/gの比表面積を有する微粒子であることを特徴とする前記(20)〜(22)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(24)電子伝導型の導電材が平均粒径1〜200nmの微粒子であることを特徴とする前記(20)〜(23)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。

0018

(25)導電材が分散剤を用いて分散されていることを特徴とする前記(20)〜(24)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(26)分散剤がアニオン性基を有することを特徴とする前記(25)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(27)アニオン性基が、カルボキシル基スルホン酸基又はリン酸基であることを特徴とする前記(26)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(28)分散剤が架橋又は重合性官能基を有することを特徴とする前記(25)〜(27)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。

0019

(29)帯電防止層が、有機化合物バインダーを含有することを特徴とする前記(20)〜(28)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(30)帯電防止層が含有する有機化合物のバインダーが、架橋又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物を含有することを特徴とする前記(29)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(31)帯電防止層が含有する有機化合物のバインダーが、分散剤と架橋又は重合性の官能基を有する化合物から形成された硬化物を含有することを特徴とする前記(30)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(32)帯電防止層が含有する有機化合物のバインダーが、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成された硬化物を含有することを特徴とする前記(29)〜(31)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。

0020

(33)帯電防止層が透明支持体と最外層の間に塗設されたことを特徴とする前記(15)〜(32)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(34)帯電防止層が最外層と隣接して塗設されたことを特徴とする前記(33)に記載の光学機能フィルムの製造方法。

0021

(35)前記低屈折率層の含フッ素化合物が、架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物の架橋又は重合反応により形成されていることを特徴とす前記(15)〜(34)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(36)架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物が、該架橋又は重合性の官能基として電離放射線硬化性の官能基を有することを特徴とする前記(35)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(37)前記低屈折率層の含フッ素化合物が、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰り返し単位と側鎖に(メタアクリロイル基を有する繰り返し単位からなる共重合体を主成分として含有することを特徴とする前記(35)又は(36)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(38)前記共重合体が下記一般式(1)で表されることを特徴とする前記(37)に記載の光学機能フィルム。

0022

0023

一般式(1)中、Lは炭素数1〜10の連結基を表し、mは0または1を表す。Xは水素原子またはメチル基を表す。Aは任意のビニルモノマー重合単位を表し、単一成分であっても複数の成分で構成されていてもよい。x、y、zはそれぞれの構成成分のモル%を表し、30≦x≦60、5≦y≦70、0≦z≦65を満たす値を表す。

0024

(39)共重合体が下記一般式(2)で表されることを特徴とする前記(38)に記載の光学機能フィルムの製造方法。

0025

0026

一般式(2)中、X、x、yはそれぞれ一般式(1)と同義である。Bは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、単一成分であっても複数の成分で構成されていてもよい。z1およびz2はそれぞれの構成成分のモル%を表し、0≦z1≦65、0≦z2≦65を満たす値を表す。nは2≦n≦10を満たす整数を表す。

0027

(40)一般式(2)で表される共重合体が、40≦x≦60、30≦y≦60、z2=0を満たすことを特徴とする前記(39)に記載の光学機能フィルムの製造方法。

0028

(41)前記低屈折率層が下記一般式(A)で表されるポリシロキサン化合物及び/又はその誘導体を含有することを特徴とする前記(15)〜(40)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。

0029

0030

一般式(A)中、R1〜R4はそれぞれ独立に炭素数1〜20の置換基を表し、それぞれの基が複数ある場合それらは互いに同じであっても異なっていてもよく、R1、R3、R4のうち少なくとも一つの基が架橋又は重合性の官能基を表す。pは1≦p≦4を満たす整数を表す。qは10≦q≦500を満たす整数を表し、rは0≦r≦500を満たす整数を表し、ランダム共重合体であってもブロック共重合体であってもよい。

0031

(42)一般式(A)で表されるポリシロキサン化合物及び/又はその誘導体が、架橋又は重合性の官能基として、電離放射線硬化性の官能基を有することを特徴とする前記(41)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(43)低屈折率層が、含フッ素化合物と架橋又は重合するバインダーを含有することを特徴とする前記(15)〜(42)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。

0032

(44)前記低屈折率層の含フッ素化合物が、架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物と、前記一般式(A)で表されるポリシロキサン化合物及び/又はその誘導体、及び/又は、該架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物と架橋又は重合するバインダーと、から形成される硬化物であることを特徴とする上記(35)〜(40)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。

0033

(45)前記低屈折率層に、微粒子を含有することを特徴とする前記(15)〜(44)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(46)前記低屈折率層に含有する微粒子の少なくとも1種類が中空の微粒子であることを特徴とする前記(45)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(47)前記低屈折率層に含有する微粒子の平均粒径が該最外層の厚みの20〜100%であることを特徴とする前記(45)又は(46)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(48)前記低屈折率層に含有する微粒子が二酸化珪素微粒子であることを特徴とする前記(45)〜(48)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(49)前記低屈折率層が最外層であることを特徴とする前記(15)〜(48)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。

0034

(50)平均粒径が0.2〜10μmの粒子を含有する層を有することを特徴とする前記(1)〜(49)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(51)平均粒径が0.2〜10μmの粒子の屈折率と、該粒子を含有する層のマトリックスの屈折率との屈折率の差が0.02以上であることを特徴とする前記(50)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(52)平均粒径が0.2〜10μmの粒子の粒径分布を示す下記S値が2.0以下であることを特徴とする前記(50)又は(51)に記載の光学機能フィルムの製造方法。

0035

S=[D(0.9)−D(0.1)]/D(0.5)

0036

D(0.1):体積換算粒径積算値の10%値、
D(0.5):体積換算粒径の積算値の50%値、
D(0.9):体積換算粒径の積算値の90%値。

0037

(53)S値が1.0以下であることを特徴とする前記(52)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(54)平均粒径が0.2〜10μmの粒子を含有する層が、有機化合物のバインダーを含有することを特徴とする前記(50)〜(53)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(55)平均粒径が0.2〜10μmの粒子を含有する層が含有するバインダーが、架橋又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物を含有することを特徴とする前記(54)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(56)平均粒径が0.2〜10μmの粒子を含有する層が含有するバインダーが、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成された硬化物を含有することを特徴とする前記(54)又は(55)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(57)平均粒径が0.2〜10μmの粒子を含有する層がハードコート層であることを特徴とする前記(50)〜(56)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(58)平均粒径0.2〜10μmの粒子を含有する層が前記低屈折率層と隣接する層であることを特徴とする前記(50)〜(57)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。

0038

(59)前記低屈折率層を有する側の表面に凹と凸が形成されており、防眩性を有する反射防止フィルムを製造することを特徴とする前記(15)〜(58)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(60)反射防止フィルムの表面の1mm2の面積当たりに対し、面積が1000μm2以上の凹部分が存在しないことを特徴とする前記(59)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(61)反射防止フィルムの表面の1mm2の面積当たりに対する平均表面粗さ(Ra)が0.01〜1μmであることを特徴とする前記(59)又は(60)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(62)前記低屈折率層を有する側の表面の凹と凸が、上記(50)〜(58)のいずれかに記載の平均粒径が0.2〜10μmの粒子を含有する層の凹と凸によって形成されたものであり、該粒子含有層の上に該最外層を形成されたことを特徴とする前記(59)〜(61)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。

0039

(63)透明支持体と低屈折率層の間に、平均粒径1〜200nmの無機微粒子を含有する層を有することを特徴とする前記(1)〜(62)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(64)前記無機微粒子が、10〜400m2/gの比表面積を有することを特徴とする前記(63)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(65)前記無機微粒子が、分散剤を用いて分散されていることを特徴とする前記(63)又は(64)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(66)前記分散剤がアニオン性基を有することを特徴とする前記(65)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(67)前記アニオン性基が、カルボキシル基、スルホン酸基又はリン酸基であることを特徴とする前記(66)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(68)前記分散剤が、架橋又は重合性の官能基を有することを特徴とする前記(65)〜(67)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。

0040

(69)平均粒径1〜200nmの無機微粒子を含有する層が有機化合物のバインダーを含有することを特徴とする前記(63)〜(68)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(70)平均粒径1〜200nmの無機微粒子を含有する層が含むバインダーが、架橋又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物を含有することを特徴とする前記(69)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(71)平均粒径1〜200nmの無機微粒子を含有する層が含むバインダーが、分散剤と架橋又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物を含有することを特徴とする前記(70)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(72)平均粒径1〜200nmの無機微粒子を含有する層が含むバインダーが、電離放射線硬化反応により硬化した硬化物を含有することを特徴とする前記(70)または(71)に記載の光学機能フィルムの製造方法。

0041

(73)平均粒径1〜200nmの無機微粒子を含有する層の屈折率が、1.55〜2.40であることを特徴とする前記(63)〜(72)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(73)平均粒径1〜200nmの無機微粒子を含有する層の屈折率が、1.65〜2.20であることを特徴とする前記(72)に記載の反射防止フィルムの製造方法。
(75)平均粒径1〜200nmの無機微粒子を含有する層が、ハードコート層であることを特徴とする前記(63)〜(74)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(76)平均粒径1〜200nmの無機微粒子を含有する層が光学干渉層であることを特徴とする前記(63)〜(74)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(77)平均粒径1〜200nmの無機微粒子を含有する層が、低屈折率層と隣接する層であることを特徴とする前記(63)〜(76)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。

0042

(78)透明支持体上のいずれかの層に、下記一般式(a)で表されるオルガノシラン化合物及び/又はその誘導体を含有することを特徴とする前記(1)〜(77)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。

0043

一般式(a) (R10)s−Si(Z)4-s

0044

(一般式(a)中、R10は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Zは水酸基または加水分解可能な基を表す。sは1〜3の整数を表す。)
(79)一般式(a)で表されるオルガノシラン化合物の誘導体が、金属キレート触媒または酸触媒の存在下で調製されたオルガノシラン化合物誘導体であることを特徴とする前記(78)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(80)R10で表される基が、架橋又は重合性の官能基を有することを特徴とする前記(78)または(79)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(81)R10で表される基が、アシルオキシ基アシルアミノ基又はエポキシ基のいずれかを有することを特徴とする前記(80)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(82)一般式(a)で表されるオルガノシラン化合物が、下記一般式(b)で表されることを特徴とする前記(78)〜(81)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。

0045

0046

(一般式(b)中、R11は水素原子、メチル基、メトキシ基アルコキシカルボニル基シアノ基フッ素原子、又は塩素原子を表す。Yは単結合エステル基アミド基エーテル基、又はウレア基を表す。L1は2価の連結鎖を表す。tは0または1を表す。R10は置換もしくは無置換のアルキル基、又は、置換もしくは無置換のアリール基を表す。Zは水酸基または加水分解可能な基を表す。)

0047

(83)前記オルガノシラン化合物及び/又はその誘導体が、該オルガノシラン化合物及び/又はその誘導体を含有する層の他の成分と架橋又は重合反応することを特徴とする前記(78)〜(82)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(84)前記オルガノシラン化合物及び/又はその誘導体を含有する層が、前記低屈折率層及び/又は前記低屈折率層の隣接層であることを特徴とする前記(78)〜(83)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。

0048

(85)透明支持体上のいずれかの層が、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成される硬化物を含み、該架橋または重合反応における開始剤光重合開始剤であることを特徴とする前記(1)〜(84)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(86)光重合開始剤が光ラジカル重合開始剤であることを特徴とする前記(85)に記載の光学機能フィルムの製造方法。

0049

(87)透明支持体上のいずれかの層が、酸素濃度が4体積%以下の雰囲気で形成されていることを特徴とする前記(1)〜(86)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(88)窒素ガス置換により他の気体を除去すること(窒素パージ)で、酸素濃度が4体積%以下の雰囲気としたことを特徴とする前記(87)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(89)透明支持体上のいずれかの層が、酸素濃度が1体積%以下の雰囲気で形成されていることを特徴とする前記(88)に記載の光学機能フィルムの製造方法。

0050

(90)透明支持体上のいずれかの層が、架橋又は重合性の官能基を有する化合物を含む塗料の塗布と同時または塗布後に、該架橋又は重合性の官能基を有する化合物を架橋又は重合反応させることにより形成された層であることを特徴とする前記(1)〜(89)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(91)透明支持体がトリアセチルセルロースから形成されたことを特徴とする前記(1)〜(90)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。

0051

(92)透明支持体上の少なくとも一層の主成分がケトン類芳香族炭化水素類及びエステル類から選択される少なくとも1種の溶媒を含む塗料を塗布して形成することを特徴とする前記(1)〜(91)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(93)溶媒の主成分がケトン類又はエステル類であることを特徴とする前記(92)に記載の光学機能フィルムの製造方法。

0052

(94)前記面状改良剤が、面状改良剤を含有しない塗料と比較して、塗料の表面張力を1mN/m以上下げることを特徴とする前記(12)〜(93)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(95)面状改良剤が、層の形成後に層の表面に存在することを特徴とする前記(94)に記載の光学機能フィルムの製造方法。
(96)面状改良剤が表面に存在する層の上に、該面状改良剤を溶解する溶媒を含有する塗料を塗布することにより、該面状改良剤を該塗料の中に溶出させて塗布することを特徴とする前記(95)に記載の光学機能フィルムの製造方法。

0053

(97)ウェブ状支持体の搬送速度を20m/分〜100m/分で塗布したことを特徴とする前記(1)〜(96)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
(98)光学機能層の硬化後の膜厚が0.04μm〜30μmであることを特徴とする前記(1)〜(97)のいずれかに記載の光学機能フィルムの製造方法。

0054

(99)前記(1)〜(98)のいずれかに記載の製造方法によって製造された光学機能フィルム。
(100)前記(1)〜(98)のいずれかに記載の製造方法で作製した、少なくとも1層の低屈折率層を有する反射防止フィルムを鹸化処理することを特徴とする偏光板用保護フィルム。
(101)低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体表面の水に対する接触角が40°以下であることを特徴とする前記(100)に記載の偏光板用保護フィルム。

0055

(102)前記(1)〜(98)のいずれかに記載の製造方法で作製した、少なくとも1層の低屈折率層を有する反射防止フィルムを鹸化処理することを特徴とする偏光板用保護フィルムの製造方法。

0056

(103)前記(100)または(101)のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムを偏光膜の2枚の保護フィルムの少なくとも一方に有することを特徴とする偏光板。
(104)前記(100)または(101)のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムを偏光膜の2枚の保護フィルムの一方に有し、他方の保護フィルムに光学異方性層を有する光学補償フィルムを有することを特徴とする偏光板。
(105)光学補償フィルムが、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる負の複屈折を有する光学異方性層を有し、該ディスコティック構造単位の円盤面がフィルム面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面とフィルム面とのなす角度が、光学異方性層の深さ方向において変化していることを特徴とする前記(104)に記載の偏光板。

0057

(106)前記(1)〜(98)のいずれかに記載の製造方法によって製造された光学機能フィルム、前記(100)もしくは(101)に記載の偏光板用保護フィルム、または前記(103)〜(105)のいずれかに記載の偏光板が画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。
(107)液晶セルの両側に配置された2枚の偏光板のうち、表示側の偏光板として前記(103)〜(105)のいずれかに記載の偏光板を有し、且つ、該偏光板の保護フィルムである反射防止フィルムが偏光膜に対し液晶セルとは反対側に配置されている液晶表示装置であることを特徴とする前記(106)に記載の画像表示装置。
(108)画像表示装置が、TN、STN、IPS、VA又はOCBモードの、透過型反射型又は半透過型の液晶表示装置であることを特徴とする前記(106)または(107)に記載の画像表示装置。

発明の効果

0058

本発明によれば、塗布面状が良好で、耐擦傷性が高く、埃など塵埃に対する防塵性防汚性に優れた光学機能フィルムを安価で大量に提供することができる。
さらにこれらにより、上記特徴を保持した偏光板用保護フィルム、偏光板、画像表示装置を提供することができる。

発明を実施するための最良の形態

0059

以下に、本発明について更に詳細に説明する。
本発明の光学機能フィルムは、セルロースアシレートフィルムからなるウェブ状支持体上に光学機能層を少なくとも1層有するものであり、例えば、反射防止フィルム、視野角拡大フィルム、光学補償フィルム、防眩フィルム、輝度上昇フィルム光学フィルター等が挙げられる。また、光学機能層としては、低屈折率層、光拡散層、光学干渉層(高屈折率層及び/又は中屈折率層)、光学異方性層、反射層フィルター層等が挙げられ、かかる光学機能フィルムを構成する塗布層の少なくとも1層が、本発明に従う上記塗布方法で形成されていることを特徴とする。
以下、順に説明する。なお、本明細書において、数値物性値特性値等を表す場合に、「(数値1)〜(数値2)」という記載は「(数値1)以上(数値2)以下」の意味を表す。

0060

<帯電防止層>
本発明の帯電防止層について説明する。
本発明の光学機能フィルムにおいて、帯電防止層を構築することで、光学機能フィルム表面に塵埃(埃など)が付着するのを防止する、すなわち優れた防塵性を発現させることができる。防塵性は、光学機能フィルム(反射防止フィルム等)表面の表面抵抗値を下げることで発現され、帯電防止層の導電性が高いほど高い効果が得られる。本発明の反射防止フィルムにおいては、含フッ素化合物を含有する低屈折率層を有する側の表面の表面抵抗値が、1×1013Ω/□以下であることが好ましく、1×1012Ω/□以下であることがより好ましく、好ましく1×1011Ω/□以下であることが更に好ましく、1×109Ω/□以下であることが更に
より好ましく、1×108Ω/□以下であることが特に好ましい。

0061

本発明の光学機能フィルムにおいて、帯電防止層は、気相法(真空蒸着法、スパッタリング法イオンプレーティング法プラズマCVD法等)、塗布法のどちらで作製してもよいが、低コストで帯電防止層を作製できる点で塗布法が好ましい。
帯電防止層は、透明支持体上に少なくとも1層以上が作製される。帯電防止層は、透明支持体と含フッ素化合物を有する最外の低屈折率層との間、透明支持体に対し前記低屈折率層とは反対側、のどちらにも作製することができ、好ましくは透明支持体と前記低屈折率層の間、特に透明支持体と前記低屈折率層の間で前記低屈折率層により近い方に設置されることが好ましい。

0062

気相法による帯電防止層の作製は、例えば、フィルム上に導電性物質真空蒸着スパッタリングすることで実施できる。導電性物質としては、具体的にはアルミニウム、銅、金、銀、ニッケルクロム、鉄、モリブデンチタンタングステンタンタル等の金属単体若しくは合金、又は、アンチモンをドープした酸化錫ATO)、スズをドープした酸化インジウム(ITO)、アルミニウムをドープした酸化亜鉛等の金属酸化物などを用いることができる。

0063

帯電防止層を塗布で作製する場合、導電材(電子伝導型の導電性粒子イオン伝導型の有機化合物など)を結着剤(バインダーなど)に含有させて、帯電防止層を作製することが好ましい。特に、電子伝導型の導電材は、環境の変化を受け難く導電性能が安定し、特に低湿環境下でも良好な導電性能を発現する点で好ましい。
以下、塗布法で帯電防止層を作製する好ましい態様について記載する。

0064

(導電材)
帯電防止層に用いられる好ましい導電材としては、π共役系導電性有機化合物導電性微粒子などの電子伝導型の導電材が好ましい。
π共役系導電性有機化合物としては、脂肪族共役系のポリアセチレン芳香族共役系のポリパラフェニレン)、複素環式共役系のポリピロールポリチオフェン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン混合型共役系のポリ(フェニレンビニレン)等が挙げられる。

0065

導電性微粒子としては、カーボン系、金属系、金属酸化物系導電被覆系微粒子等が挙げられる。
カーボン系微粒子としては、カーボンブラックケッチェンブラックアセチレンブラック等のカーボン粉末PAN系炭素繊維ピッチ系炭素繊維等のカーボン繊維膨張化黒鉛粉砕品のカーボンフレーク等が挙げられる。
金属系微粒子としては、アルミニウム、銅、金、銀、ニッケル、クロム、鉄、モリブデン、チタン、タングステン、タンタル等の金属、及び、それらの金属を含有する合金の粉末や、金属フレーク、鉄、銅、ステンレス銀メッキ銅、黄銅等の金属繊維等が挙げられる。
金属酸化物系微粒子としては、酸化錫、アンチモンをドープした酸化錫(ATO)、酸化インジウム、スズをドープした酸化インジウム(ITO)、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、などが挙げられる。
導電被覆系微粒子としては、例えば、酸化チタン(球状、針状)、チタン酸カリウムホウ酸アルミニウム硫酸バリウムマイカシリカ等の各種微粒子表面を、酸化錫、ATO、ITO等の導電材で被覆した導電性微粒子、金及び/又はニッケルなどの金属で表面処理されたポリスチレンアクリル樹脂エポキシ樹脂ポリアミド樹脂ポリウレタン樹脂等の樹脂ビーズが好ましい。

0066

帯電防止層の導電材としては、π共役系導電性有機化合物(特に、ポリチオフェン系導電性ポリマー)、導電性微粒子としては金属系微粒子(特に、金、銀、銀/パラジウム合金、銅、ニッケル、アルミニウム)や金属酸化物系微粒子(特に、酸化錫、ATO、ITO、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛)が好ましい。特に、金属や金属酸化物などの電子伝導型の導電材が好ましく、なかでも金属酸化物系微粒子が特に好ましい。

0067

導電材の一次粒子質量平均粒径は1〜200nmであることが好ましく、より好ましくは1〜150nm、さらに好ましくは1〜100nm、特に好ましくは1〜80nmである。導電材の平均粒径は、光散乱法電子顕微鏡写真により測定できる。
導電材の比表面積は、10〜400m2/gであることが好ましく、20〜200m2/gであることがさらに好ましく、30〜150m2/gであることが最も好ましい。
導電材の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状鱗片状、針状あるいは不定形状であることが好ましく、特に好ましくは、不定形状、針状、鱗片状である。

0068

(帯電防止層の形成法
帯電防止層を塗布法で作製する場合、導電材は、分散物の状態で帯電防止層の形成に使用することが好ましい。
導電材の分散においては、分散剤の存在下で、分散媒体中に分散することが好ましい。
分散剤を用いて分散することにより、導電材は極めて微細に分散することができ、透明な帯電防止層の作製を可能にする。特に、帯電防止層を光学干渉層として用いて層に反射防止機能ももたせる場合には、導電材を微細に分散することで層の透明性が上がり反射防止性能も向上させることができる点で好ましい。

0069

本発明の導電材の分散には、アニオン性基を有する分散剤を用いることが好ましい。アニオン性基としては、カルボキシル基、スルホン酸基(スルホ基)、リン酸基(ホスホノ基)、スルホンアミド基等の酸性プロトンを有する基、またはその塩が有効であり、特にカルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基またはその塩が好ましく、カルボキシル基、リン酸基が特に好ましい。1分子当たりの分散剤に含有されるアニオン性基の数は、1個以上が含有されていればよい。導電材の分散性をさらに改良する目的で分散材にはアニオン性基が1分子当たり複数個含有されていてもよい。1分子当たり平均で2個以上であることが好ましく、より好ましくは5個以上、特に好ましくは10個以上である。また、分散剤に含有されるアニオン性基は、1分子中に複数種類が含有されていてもよい。
アニオン性極性基を有する分散剤としては、ホスファノール(PE−510、PE−610、LB−400、EC−6103、RE−410など;東邦化学工業(株)製)、Disperbyk(−110、−111、−116、−140、−161、−162、−163、−164、−164、−170、−171など;ビックケミー・ジャパン社製)などが挙げられる。

0070

分散剤は、さらに架橋又は重合性の官能基を含有することが好ましい。架橋又は重合性の官能基としては、ラジカル種による架橋反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基(例えば(メタ)アクリロイル基、アリル基スチリル基ビニルオキシ基等)、カチオン重合性基(エポキシ基、オキサニル基、ビニルオキシ基等)、重縮合反応性基加水分解性シリル基等、N−メチロール基)等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基を有する官能基である。分散剤の架橋又は重合性の官能基は側鎖に有することが特に好ましい。

0071

アニオン性基、及び、架橋又は重合性の官能基を有し、かつ、該架橋又は重合性の官能基を側鎖に有する分散剤の質量平均分子量(Mw)は、特に限定されないが1000以上であることが好ましい。該分散剤のより好ましい質量平均分子量(Mw)は2000〜1000000であり、さらに好ましくは5000〜200000、特に好ましくは10000〜100000である。

0072

分散剤の導電材に対する使用量は、1〜50質量%の範囲であることが好ましく、5〜30質量%の範囲であることがより好ましく、5〜20質量%であることが最も好ましい。また、分散剤は2種類以上を併用してもよい。
導電材は分散剤の存在下で、分散媒体中に分散することが好ましい。

0073

分散媒体は、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散媒体の例には、水、アルコール(例、メタノールエタノールイソプロパノールブタノールベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトンメチルエチルケトンメチルイソブチルケトンシクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル酢酸エチル酢酸プロピル酢酸ブチル蟻酸メチル蟻酸エチル蟻酸プロピル蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサンシクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライドクロロホルム四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼントルエンキシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミドジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテルジオキサンテトラヒドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ2−プロパノール)が含まれる。トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびブタノールが好ましい。
特に好ましい分散媒体は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンである。

0074

導電材は、分散機を用いて分散することが好ましい。分散機の例には、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、ダイノミル、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミルアトライターおよびコロイドミルなどが含まれる。サンドグラインダーミル、ダイノミルなどのメディア分散機が特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル三本ロールミルニーダーおよびエクストルーダーが含まれる。
導電材は、分散媒体中でなるべく微細化されていることが好ましく、質量平均粒径は1〜200nmである。好ましくは5〜150nmであり、さらに好ましくは10〜100nm、特に好ましくは10〜80nmである。
導電材を200nm以下に微細化することで透明性を損なわない帯電防止層を作製できる。

0075

本発明の帯電防止層は、上記導電材以外に有機化合物のバインダーを含有することが好ましく、該バインダーにより層のマトリックスを形成し、導電材を分散させることが好ましい。このため帯電防止層は、分散媒体中に導電材を分散した分散液に、好ましくは、バインダーまたはバインダー前駆体を添加して作製することが好ましい。バインダーまたはバインダー前駆体としては、非硬化系の熱可塑性樹脂、あるいは熱硬化性樹脂電離放射線硬化性樹脂のような硬化系樹脂等を用いることができる。
バインダーまたはバインダー前駆体の軟化温度又はガラス転移点は、50℃以上であることが好ましく、70℃以上であることがより好ましく、100℃以上であることが特に好ましい。

0076

本発明の帯電防止層のバインダー前駆体としての架橋又は重合性の官能基を有する化合物としては、電離放射線硬化性化合物が好ましく、例えば、後述する電離放射線硬化性の多官能モノマー多官能オリゴマーなどが好ましい。
上記作製法において帯電防止層のバインダーは、架橋又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物として形成される。さらに、帯電防止層のバインダーを層の塗布と同時または塗布後に、分散剤と架橋反応又は重合反応させて硬化させて形成することが好ましい。

0077

電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。尚、本明細書においては、「(メタ)アクリレート」、「(メタ)アクリロイル」、「(メタ)アクリル酸」は、それぞれ「アクリレート又はメタクリレート」、「アクリロイル又はメタクリロイル」、「アクリル酸又はメタクリル酸」を表す。

0078

光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、ネオペンチルグリコールアクリレート、1,6−ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート等の多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、2,2−ビス{4−(アクリロキシジエトキシフェニルプロパン、2−2−ビス{4−(アクリロキシ・ポリプロポキシ)フェニル}プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類、等を挙げることができる。

0079

さらにはエポキシ(メタ)アクリレート類ウレタン(メタ)アクリレート類、ポリエステル(メタ)アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。

0080

中でも、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。具体的には、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、1,2,4−シクロヘキサンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールトリアクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールペンタアクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート等が挙げられる。
多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。

0081

光重合性多官能モノマーの重合反応には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類ベンゾフェノン類ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン類等が挙げられる。

0082

市販の光ラジカル重合開始剤としては、日本化薬(株)製のKAYACURE(DETX-S、BP-100、BDMK、CTX、BMS、2-EAQ、ABQ、CPTX、EPD、ITX、QTX、BTC、MCAなど)、チバ・スペシャルティケミカルズ(株)製のイルガキュア(651、184、500、907、369、1173、2959、4265、4263など)、サートマー社製のEsacure(KIP100F、KB1、EB3、BP、X33、KT046、KT37、KIP150、TZT)等が挙げられる。

0083

特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、高薄一弘著「最新UV硬化技術」((株)技術情報協会、159頁、1991年)に記載されている。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製のイルガキュア(651、184、907)等が挙げられる。

0084

光重合開始剤は、多官能モノマー100質量部に対して、0.1〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、n−ブチルアミントリエチルアミントリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
市販の光増感剤としては、日本化薬(株)製のKAYACURE(DMBI、EPA)などが挙げられる。
光重合反応は、帯電防止層の塗布および乾燥後、紫外線照射により行うことが好ましい。
紫外線照射には、超高圧水銀灯高圧水銀灯低圧水銀灯カーボンアークキセノンアークメタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。

0085

帯電防止層の架橋又は重合しているバインダーは、ポリマーの主鎖が架橋又は重合している構造を有することが好ましい。ポリマーの主鎖の例には、ポリオレフィン飽和炭化水素)、ポリエーテルポリウレアポリウレタン、ポリエステル、ポリアミンポリアミドおよびメラミン樹脂が含まれる。ポリオレフィン主鎖ポリエーテル主鎖およびポリウレア主鎖が好ましく、ポリオレフィン主鎖およびポリエーテル主鎖がさらに好ましく、ポリオレフィン主鎖が最も好ましい。

0086

アニオン性基は、連結基を介してバインダーの側鎖として、主鎖に結合していることが好ましい。
アニオン性基とバインダーの主鎖とを結合する連結基は、−CO−、−O−、アルキレン基アリーレン基、およびこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ましい。架橋又は重合構造は、二つ以上の主鎖を化学的に結合(好ましくは共有結合)する。架橋又は重合構造は、三つ以上の主鎖を共有結合することが好ましい。架橋又は重合構造は、−CO−、−O−、−S−、窒素原子リン原子脂肪族残基芳香族残基およびこれらの組み合わせから選ばれる二価以上の基からなることが好ましい。

0087

バインダーは、アニオン性基を有する繰り返し単位と、架橋又は重合構造を有する繰り返し単位とを有するコポリマーであることが好ましい。コポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、2〜96モル%であることが好ましく、4〜94モル%であることがさらに好ましく、6〜92モル%であることが最も好ましい。繰り返し単位は、二つ以上のアニオン性基を有していてもよい。コポリマー中の架橋又は重合構造を有する繰り返し単位の割合は、4〜98モル%であることが好ましく、6〜96モル%であることがさらに好ましく、8〜94モル%であることが最も好ましい。

0088

バインダーの繰り返し単位は、アニオン性基と架橋又は重合構造の双方を有していてもよい。バインダーには、その他の繰り返し単位(アニオン性基も架橋又は重合構造もない繰り返し単位)が含まれていてもよい。
架橋又は重合しているバインダーは、帯電防止層形成用の塗料を透明支持体上に塗布して、塗布と同時または塗布後に、架橋又は重合反応によって作製することが好ましい。

0089

帯電防止層の中において、導電材はなるべく微細に分散されていることが好ましく、質量平均粒径は1〜200nmである。帯電防止層中の導電材の質量平均粒径は、5〜150nmであることが好ましく、10〜100nmであることがさらに好ましく、10〜80nmであることが最も好ましい。
導電材を200nm以下に微細化することで透明性を損なわない帯電防止層を作製できる。

0090

帯電防止層における導電材の含有量は、帯電防止層の質量に対し30〜90質量%であることが好ましく、より好ましくは40〜80質量%、特に好ましくは50〜75質量%である。導電材は帯電防止層内で二種類以上を併用してもよい。

0091

帯電防止層の好ましい塗布溶媒としては、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、エーテル類(テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、水などを挙げることができる。
特に好ましい塗布溶媒としては、ケトン類、芳香族炭化水素類、又は、エステル類であり、最も好ましい溶媒としては、ケトン類である。ケトン類の中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが特に好ましい。
塗布溶媒は、その他の溶媒を含んでいてもよい。例えば、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が含まれる。

0092

塗布溶媒は、ケトン系溶媒の含有量が塗料に含まれる全溶媒の10質量%以上であることが好ましい。好ましくは30質量%以上、さらに好ましくは60質量%以上である。

0093

帯電防止層の形成は、特に帯電防止層を電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成する場合には、酸素濃度が4体積%以下の雰囲気で実施することが好ましい。
帯電防止層を酸素濃度が4体積%以下の雰囲気で作製することにより、帯電防止層の物理強度(耐擦傷性など)、耐薬品性、耐候性、更には、帯電防止層と帯電防止層と隣接する層との接着性を改良することができる。
好ましくは酸素濃度が3体積%以下の雰囲気で電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により作製することであり、更に好ましくは酸素濃度が2体積%以下、特に好ましくは酸素濃度が1体積%以下、最も好ましくは0.5体積%以下である。
酸素濃度を4体積%以下にする手法としては、大気窒素濃度約79体積%、酸素濃度約21体積%)を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換(窒素パージ)することである。

0094

帯電防止層の膜厚は用途により適切に設計することができる。優れた透明性を有する帯電防止層を作製する場合、膜厚は1μm以下であることが好ましく、より好ましくは500nm以下、更に好ましくは200nm以下、特に好ましくは150nm以下である。
また、帯電防止層がハードコート処理されハードコート層を兼ねる場合、1〜10μmが好ましく、より好ましくは2〜7μm、特に好ましくは3〜5μmである。

0095

帯電防止層のヘイズは、低いほど好ましい。5%以下であることが好ましく、さらに好ましくは3%以下、特に好ましくは1%以下である。
帯電防止層の強度は、JIS K5400に従う鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
また、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片摩耗量が少ないほど好ましい。このために帯電防止層がハードコート処理されていることも好ましい。

0096

帯電防止層には、前記の成分(導電材、重合開始剤、光増感剤、バインダーなど)以外に、樹脂界面活性剤カップリング剤増粘剤着色防止剤着色剤(顔料、染料)、消泡剤レベリング剤難燃剤紫外線吸収剤赤外線吸収剤接着付与剤重合禁止剤酸化防止剤表面改質剤、などを添加することもできる。

0097

<低屈折率層>
本発明の低屈折率層は、含フッ素化合物を含有することが好ましい。特に、含フッ素化合物を主体とする低屈折率層を構築することが好ましい。含フッ素化合物を主体とする低屈折率層は最外層として保護層又は防汚層として機能することができる。ここで、「含フッ素化合物を主体とする」とは、低屈折率層の中に含まれる構成成分のうち、含フッ素化合物の質量比が最も大きいことを意味し、含フッ素化合物の含有率が低屈折率層の全質量に対し50質量%以上であることが好ましく、60質量%以上含まれることがより好ましい。

0098

本発明の含フッ素化合物を有する低屈折率層は、気相法(真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法等)、塗布法のどちらで作製してもよいが、低コストで作製できる点で塗布法が好ましい。
塗布法で作製する場合、低屈折率層の含フッ素化合物は、架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物の架橋又は重合反応により形成することが好ましく、該架橋又は重合性の官能基は電離放射線硬化性の官能基であることが好ましい。以下、低屈折率層に含まれる含フッ素化合物について記載する。

0099

(含フッ素化合物)
低屈折率層に含まれる含フッ素化合物の屈折率は1.35〜1.50であることが好ましい。より好ましくは1.36〜1.47、さらに好ましくは1.38〜1.45である。
含フッ素化合物には、含フッ素ポリマー含フッ素シラン化合物含フッ素界面活性剤含フッ素エーテルなどが挙げられる。
含フッ素ポリマーとしては、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの架橋又は重合反応により合成されたものが挙げられる。フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの例には、フルオロオレフィン(例、フルオロエチレンビニリデンフルオライドテトラフルオロエチレンヘキサフルオロプロピレンパーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、フッ素化ビニルエーテルおよびフッ素置換アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルが含まれる。

0100

含フッ素ポリマーとしてフッ素原子を含む繰り返し構造単位とフッ素原子を含まない繰り返し構造単位からなる共重合体も用いることができる。
上記共重合体は、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーとフッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることができる。
フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーとしては、オレフィン(例、エチレンプロピレンイソプレン塩化ビニル塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル(例、アクリル酸メチルアクリル酸エチルアクリル酸−2−エチルヘキシル等)、メタクリル酸エステル(例、メタクリル酸メチルメタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチルエチレングリコールジメタクリレート等)、スチレンおよびその誘導体(例、スチレン、ジビニルベンゼンビニルトルエンα−メチルスチレン等)、ビニルエーテル(例、メチルビニルエーテル等)、ビニルエステル(例、酢酸ビニルプロピオン酸ビニル桂皮酸ビニル等)、アクリルアミド(例、N−tert−ブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミドおよびアクリロニトリルが挙げられる。

0101

含フッ素シラン化合物としては、パーフルオロアルキル基を含むシラン化合物などが挙げられる。

0102

含フッ素界面活性剤は、疎水性部分を構成する炭化水素の水素原子の一部または全部が、フッ素原子により置換されているもので、その親水性部分はアニオン性、カチオン性ノニオン性および両性のいずれであってもよい。

0103

含フッ素エーテルは、一般に潤滑剤として使用されている化合物である。含フッ素エーテルとしては、パーフルオロポリエーテル等が挙げられる。

0104

低屈折率層の含フッ素化合物としては、架橋又は重合構造が導入された含フッ素ポリマーが特に好ましい。架橋又は重合構造が導入された含フッ素ポリマーは、架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物を架橋又は重合させることにより得られる。

0105

架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物は、架橋又は重合性の官能基を有さない含フッ素化合物に、架橋又は重合性の官能基を側鎖として導入することにより得ることができる。架橋又は重合性の官能基としては、光(好ましくは紫外線照射)、電子ビーム(EB)照射あるいは加熱などにより反応して含フッ素ポリマーが架橋又は重合構造を有するようになる官能基であることが好ましい。架橋又は重合性の官能基としては、(メタ)アクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジンオキサゾリンアルデヒドカルボニルヒドラジンカルボキシルメチロールおよび活性メチレン等の基が挙げられる。架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物として、市販品を用いてもよい。

0106

低屈折率層の含フッ素化合物は、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する繰返し単位をからなる共重合体を主成分として含有することが好ましい。該共重合体由来の成分は最外層の全質量に対し50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましく、90質量%以上であることが特に好ましい。以下に、最外層に用いられるのに好ましい上記共重合体について説明する。

0107

含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコートFM商品名、大阪有機化学工業(株)製)やM−2020(商品名、ダイキン工業(株)製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
共重合体のフッ素含率が20〜60質量%となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは25〜55質量%であり、特に好ましくは30〜50質量%である。

0108

上記共重合体は(メタ)アクリロイル基を有する繰返し単位を有する。(メタ)アクリロイル基の導入法は特に限定されるものではないが、例えば、(i)水酸基、アミノ基等の求核基を有するポリマーを合成した後に、(メタ)アクリル酸クロリド、(メタ)アクリル酸無水物、(メタ)アクリル酸とメタンスルホン酸混合酸無水物等を作用させる方法、(ii)上記求核基を有するポリマーに、硫酸等の触媒存在下、(メタ)アクリル酸を作用させる方法、(iii)上記求核基を有するポリマーにメタクリロイルオキシプロピルイソシアネート等のイソシアネート基と(メタ)アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、(iv)エポキシ基を有するポリマーを合成した後に(メタ)アクリル酸を作用させる方法、(v)カルボキシル基を有するポリマーにグリシジルメタクリレート等のエポキシ基と(メタ)アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、(vi)3−クロプロピオン酸エステル部位を有するビニルモノマーを重合させた後で脱塩化水素を行う方法などが挙げられる。これらの中で本発明では特に水酸基を含有するポリマーに対して(i)または(ii)の手法によって(メタ)アクリロイル基を導入することが好ましい。

0109

側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する繰返し単位は、上記共重合体中に5〜90質量%を占めることが好ましく、30〜70質量%を占めることがより好ましく、40〜60質量%を占めることが特に好ましい。

0110

上記共重合体には、上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、透明支持体など下層への密着性、ポリマーのTg(皮膜硬度に寄与する)、溶剤への溶解性、透明性、滑り性防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合させることもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、共重合体中の0〜65モル%の範囲で導入されていることが好ましく、より好ましくは0〜40モル%、特に好ましくは0〜30モル%である。

0111

併用可能なビニルモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸2‐ヒドロキシエチル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル等)、スチレン誘導体(スチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン、p−メトキシスチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテルシクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、不飽和カルボン酸類(アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸マレイン酸イタコン酸等)、アクリルアミド類(N,N−ジメチルアクリルアミド、N−tert−ブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類(N,N−ジメチルメタクリルアミド)、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。

0112

本発明に用いられる含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する繰返し単位からなる共重合体の好ましい形態として、下記一般式(1)で表されるものが挙げられる。

0113

0114

一般式(1)中、Lは炭素数1〜10の連結基を表し、より好ましくは炭素数1〜6の連結基であり、特に好ましくは2〜4の連結基であり、直鎖、分岐環構造を有していてもよく、O、N、Sから選ばれるヘテロ原子を有していてもよい。
好ましい例としては、*−(CH2)2−O−**、*−(CH2)2−NH−**、*−(CH2)4−O−**、*−(CH2)6−O−**、*−(CH2)2−O−(CH2)2−O−**、−CONH−(CH2)3−O−**、*−CH2CH(OH)CH2−O−**、*−CH2CH2OCONH(CH2)3−O−**(*はポリマー主鎖側の連結部位を表し、**は(メタ)アクリロイル基側の連結部位を表す。)等が挙げられる。mは0または1を表す。

0115

一般式(1)中、Xは水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。

0116

一般式(1)中、Aは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表し、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能単量体の構成成分であれば特に制限はなく、透明支持体など下層への密着性、ポリマーのTg(皮膜硬度に寄与する)、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていてもよい。

0117

好ましい例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、t−ブチルビニルエーテル、シクロキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジルメタアクリレートアリル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の(メタ)アクリレート類、スチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。

0118

x、y、zはそれぞれの構成成分のモル%を表し、30≦x≦60、5≦y≦70、0≦z≦65を満たす値を表す。好ましくは、35≦x≦55、30≦y≦60、0≦z≦20であり、特に好ましくは40≦x≦55、40≦y≦55、0≦z≦10である。

0119

さらに上記共重合体の特に好ましい形態として一般式(2)で表されるものが挙げられる。

0120

0121

一般式(2)中、X、x、yはそれぞれ一般式(1)と同義であり、好ましい範囲も同じである。
nは2≦n≦10の整数を表し、2≦n≦6であることが好ましく、2≦n≦4であることが特に好ましい。
Bは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表し、単一組成であっても複数組成によって構成されていてもよい。例としては、前記一般式(1)におけるAの例として説明したものが当てはまる
z1およびz2はそれぞれの繰返し単位のモル%を表し、0≦z1≦65、0≦z2≦65を満たす値を表す。それぞれ0≦z1≦30、0≦z2≦10であることが好ましく、0≦z1≦10、0≦z2≦5であることが特に好ましい。
一般式(2)で表される共重合体としては、40≦x≦60、30≦y≦60、z2=0を満たすものが特に好ましい。

0122

一般式(1)又は一般式(2)で表される共重合体は、例えば、ヘキサフルオロプロピレン成分とヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に前記のいずれかの手法により(メタ)アクリロイル基を導入することにより合成できる。

0123

本発明で有用な共重合体の好ましい例として、特開2004−45462号公報の[0043]〜[0047]に記載されたものが挙げられる。また、それらの共重合体の合成法も該公報に詳しく記載されている。

0124

また、本発明に用いられる共重合体の合成は、上記以外の種々の重合方法、例えば溶液重合沈澱重合懸濁重合沈殿重合塊状重合乳化重合によって水酸基含有重合体等の前駆体を合成した後、前記高分子反応によって(メタ)アクリロイル基を導入することによって行なうこともできる。重合反応は回分式、半連続式、連続式等の公知の操作で行なうことができる。

0125

重合の開始方法ラジカル開始剤を用いる方法、光または放射線を照射する方法等がある。これらの重合方法、重合の開始方法は、例えば鶴田禎二「高分子合成方法改定版(日刊工業新聞社刊、1971)や大津隆行、木下雅悦共著「高分子合成の実験法」化学同人、昭和47年刊、124〜154頁に記載されている。

0126

上記重合方法のうち、特にラジカル開始剤を用いた溶液重合法が好ましい。溶液重合法で用いられる溶剤は、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノールのような種々の有機溶剤の単独又は2種以上の混合物でもよいし、水との混合溶媒としてもよい。

0127

重合温度は生成するポリマーの分子量、開始剤の種類などと関連して設定する必要があり0℃以下から100℃以上まで可能であるが、50〜100℃の範囲で重合を行うことが好ましい。

0128

反応圧力は、適宜選定可能であるが、通常は、1〜100kg/cm2、特に、1〜30kg/cm2程度が望ましい。反応時間は、5〜30時間程度である。

0129

得られたポリマーの再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。

0130

本発明の低屈折率層を作製するのに用いる組成物は、塗料の形態をとることが好ましく、含フッ素化合物を必須の構成成分とし、必要に応じて各種添加剤およびラジカル重合開始剤を適当な溶剤に溶解して作製される。この際固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが0.01〜60質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜50質量%、特に好ましくは1%〜20質量%程度である。

0131

低屈折率層は、目的に応じて充填剤(例えば、無機微粒子や有機微粒子等)、滑り剤ジメチルシリコーンなどのポリシロキサン化合物等)、オルガノシラン化合物及びその誘導体、バインダー、界面活性剤等の添加剤を含有することができる。特に、充填剤(例えば、無機微粒子や有機微粒子等)、滑り剤(ジメチルシリコーンなどのポリシロキサン化合物等)を添加することは好ましい。
以下に、低屈折率層に用いる好ましい充填剤、滑り剤等について記載する。

0132

(低屈折率層の好ましい充填剤)
充填剤(例えば、無機微粒子や有機微粒子等)は、低屈折率層の物理強度(耐擦傷性など)を改良する点で、添加することが好ましい。低屈折率層に添加する充填剤としては無機微粒子が好ましく、中でも屈折率が低い二酸化珪素(シリカ)、含フッ素粒子(フッ化マグネシウムフッ化カルシウム、フッ化バリウム)などが好ましい。特に好ましいのは二酸化珪素(シリカ)である。

0133

充填剤の一次粒子の質量平均粒径は、1〜150nmであることが好ましく、1〜100nmであることがさらに好ましく、1〜80nmであることが最も好ましい。低屈折率層において充填剤は、より微細に分散されていることが好ましい。充填剤の形状は米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、短繊維状リング状、あるいは不定形状であることが好ましい。特に好ましいのは、球形状、不定形状である。充填剤は、結晶質、非晶質のいずれでも良い。

0134

充填剤は、分散液中又は塗料中で、分散安定化を図るために、あるいは低屈折率層の構成成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理コロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていてもよい。カップリング剤による表面処理が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシ化合物(例、チタネートカップリング剤シランカップリング剤)が好ましく用いられる。特に、シランカップリング剤処理が有効である。

0135

充填剤の表面処理は、低屈折率層の塗料の調製前にあらかじめ表面処理を実施しておくことが好ましいが、カップリング剤による表面処理の場合、塗料の調製時に塗料中にカップリング剤を添加して実施することも好ましい。

0136

充填剤は、媒体(溶媒など)中に予め分散されていることが好ましい。
充填剤の添加量は、低屈折率層の全質量に対し5〜70質量%であることが好ましく、より好ましくは10〜50質量%、特に好ましくは20〜40質量%である。少なすぎると物理強度(耐擦傷性など)の改良効果が減り、多すぎると低屈折率層が白濁することがある。

0137

充填剤の平均粒径は、低屈折率層の膜厚に対し20〜100%が好ましく、より好ましくは30〜80%、特に好ましくは30%〜50%である。

0138

低屈折率層に添加する充填剤が二酸化珪素微粒子の場合、中空の二酸化珪素微粒子を用いることが特に好ましい。
中空のシリカ微粒子は屈折率が1.17〜1.40が好ましく、更に好ましくは1.17〜1.35、最もに好ましくは1.17〜1.30である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、下記数式(VIII)で表される空隙率xは、好ましくは10〜60%、更に好ましくは20〜60%、最も好ましくは30〜60%である。

0139

(数式VIII)
x=(4πa3/3)/(4πb3/3)×100

0140

中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から1.17未満の低屈折率の粒子は成り立たない。
なお、これら中空シリカ粒子の屈折率はアッベ屈折率計(アタゴ(株)製)にて測定をおこなった。
中空シリカの製造方法は、例えば特開2001−233611号や特開2002−79616号に記載されている。

0141

中空シリカの塗布量は、1mg/m2〜100mg/m2が好ましく、より好ましくは5mg/m2〜80mg/m2、更に好ましくは10mg/m2〜60mg/m2である。少なすぎると、低屈折率化の効果や耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観積分反射率が悪化する。
中空シリカの平均粒径は、低屈折率層の厚みの30%以上150%以下が好ましく、より好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。即ち、低屈折率層の厚みが100nmであれば、中空シリカの粒径は30nm以上150nm以下が好ましく、より好ましくは35nm以上80nm以下、更に好ましくは、40nm以上60nm以下である。
シリカ微粒子の粒径が小さすぎると、空腔部の割合が減り屈折率の低下が見込めず、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子が好ましい。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
ここで、中空シリカの平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。

0142

本発明においては、中空シリカと併用して空腔のないシリカ粒子を用いることができる。空腔のないシリカの好ましい粒子サイズは、30nm以上150nm以下、更に好ましくは35nm以上80nm以下、最も好ましくは40nm以上60nm以下である。
また、平均粒径が低屈折率層の厚みの25%未満であるシリカ微粒子(「小サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)の少なくとも1種を上記の粒径のシリカ微粒子(「大サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)と併用することが好ましい。
小サイズ粒径のシリカ微粒子は、大サイズ粒径のシリカ微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒径のシリカ微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ粒径のシリカ微粒子の平均粒径は、1nm以上20nm以下が好ましく、5nm以上15nm以下が更に好ましく、10nm以上15nm以下が特に好ましい。このようなシリカ微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。

0143

(低屈折率層の好ましい滑り剤)
滑り剤は、低屈折率層の物理強度(耐擦傷性など)、防汚性を改良する点で添加することが好ましい。
滑り剤としては、含フッ素エーテル化合物(パーフルオロポリエーテル、及び、その誘導体など)、ポリシロキサン化合物(ジメチルポリシロキサン、及び、その誘導体など)などが挙げられる。ポリシロキサン化合物が好ましい。

0144

ポリシロキサン化合物の好ましい例としてはジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物の末端、及び/又は、側鎖に置換基を有するものが挙げられる。
ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として含む化合物中にはジメチルシリルオキシ単位以外の構造単位(置換基)を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。

0145

好ましい置換基の例としては(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。

0146

滑り剤の分子量に特に制限はないが、10万以下であることが好ましく、5万以下であることが特に好ましく、3000〜30000であることが最も好ましい。シロキサン化合物Si原子含有量には特に制限はないが5質量%以上であることが好ましく、10〜60質量%であることが特に好ましく、15〜50質量%であることが最も好ましい。

0147

特に好ましい滑り剤は、下記一般式(A)で表される架橋又は重合性の官能基を有するポリシロキサン化合物及びその誘導体(誘導体とは、例えば、一般式(A)で表されるポリシロキサン化合物の架橋又は重合体、一般式(A)で表されるポリシロキサン化合物とポリシロキサン化合物以外の架橋又は重合可能な官能基を有する化合物との反応生成物など)である。

0148

0149

一般式(A)中、R1〜R4はそれぞれ独立に炭素数1〜20の置換基を表し、それぞれの基が複数ある場合それらは互いに同じであっても異なっていてもよく、R1、R3、R4のうち少なくとも一つの基が架橋又は重合性の官能基を表す。
pは1≦p≦4を満たす整数を表す。qは10≦q≦500を満たす整数を表し、rは0≦r≦500を満たす整数を表し、{ }で囲われているポリシロキサン部分はランダム共重合体であってもブロック共重合体であってもよい。

0150

本発明の低屈折率層は、一般式(A)で表される架橋又は重合性の官能基を有するポリシロキサン化合物及び/又はその誘導体と含フッ素化合物とを含む硬化物を含有することが好ましい。

0151

ポリシロキサン化合物及び/又はその誘導体の含有量は、含フッ素化合物に対し、0.1〜30質量%であることが好ましく、より好ましくは0.5〜15質量%、特に好ましくは1〜10質量%である。

0152

ポリシロキサン化合物及び/又はその誘導体において、好ましい架橋又は重合性の官能基は、低屈折率層の他の構成成分(含フッ素化合物、バインダー、など)と架橋又は重合反応して結合を形成することができる官能基であればよく、例えば、活性水素原子を有する基(たとえば水酸基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基メルカプト基、β−ケトエステル基ヒドロシリル基シラノール基等)、カチオン重合可能な基(エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニル基、ビニルオキシ基等)、ラジカル種による架橋または重合が可能な不飽和二重結合を有する基((メタ)アクリロイル基、アリル基等)、加水分解性シリル基(例えばアルコキシシリル基アシルオキシシリル基等)、酸無水物、イソシアネート基、求核剤によって置換され得る基(活性ハロゲン原子スルホン酸エステル等)等が挙げられる。

0153

これらの架橋又は重合性官能基は最外層の構成成分に合わせて適宜選択される。好ましくは、電離放射線硬化性の官能基である。

0154

また、一般式(A)の架橋又は重合性の官能基は、含フッ素化合物が有する架橋又は、重合性の官能基と架橋又は重合反応することが好ましく、特に好ましい官能基はカチオン開環重合反応性基(特に、エポキシ基、オキセタニル基など)、ラジカル重合反応性基(特に、(メタ)アクリロイル基)である。

0155

一般式(A)のR2が表す置換基は、炭素数1〜20の置換又は無置換の有機基であり、好ましくは炭素数1〜10のアルキル基(例えばメチル基、エチル基ヘキシル基等)、フッ素化アルキル基トリフルオロメチル基ペンタフルオロエチル基等)または炭素数6〜20のアリール基(例えばフェニル基ナフチル基等)であり、より好ましくは炭素数1〜5のアルキル基、フッ素化アルキル基またはフェニル基であり、特に好ましくはメチル基である。これらはさらに置換基で置換されていてもよい。
一般式(A)のR1、R3、R4が架橋又は重合性の官能基でない場合、上記有機基をとることができる。

0156

pは1≦p≦4を満たす整数を表す。qは10≦q≦500を満たす整数を表し、好ましくは50≦q≦400であり、特に好ましくは100≦q≦300である。rは0≦r≦500を満たす整数を表し、好ましくは0≦r≦qであり、特に好ましくは0≦r≦0.5qである。

0157

一般式(A)で表される化合物のポリシロキサン構造は、その繰り返し単位(−OSi(R2)2−)が単一の置換基(R2)のみで構成された単独重合体であっても、異なる
置換基を有する繰り返し単位の組み合わせによって構成されたランダム共重合体であっても、ブロック共重合体であってもよい。

0158

一般式(A)で表される化合物の質量平均分子量は、103〜106であることが好ましく、より好ましくは5×103〜5×105であり、特に好ましくは104〜105である。

0159

一般式(A)で表されるポリシロキサン化合物は市販されているもの、例えば、KF-100T、X-22-169AS、KF-102、X-22-3701IE、X-22-164B、X-22-164C、X-22-5002、X-22-173B、X-22-174D、X-22-167B、X-22-161AS、X-22-174DX、X-22-2426、X-22-170DX、X-22-176D、X-22-1821(信越化学工業(株)製)、AK-5、AK-30、AK-32(東亜合成化学(株)製)、サイラプレーンFM-0275、FM-0721、FM-0725、FM-7725、DMS-U22、RMS-033、RMS-083、UMS-182(チッソ(株)製)等を用いることもできる。また、市販のポリシロキサン化合物が含有する水酸基、アミノ基、メルカプト基等に架橋、又は、重合性官能基を導入することで作製することもできる。

0160

以下に、一般式(A)で表される好ましいポリシロキサン化合物の具体例としては、特開2003−329804号公報の[0041]〜[0045]に記載された化合物S−(1)〜S−(32)が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

0161

一般式(A)で表されるポリシロキサン化合物及び/又はその誘導体の添加量は、最外層の全固形分に対し、0.05〜30質量%であることが好ましく、より好ましくは0.1〜20質量%、更に好ましくは0.5〜15質量%、特に好ましくは1〜10質量%である。

0162

(低屈折率層及びその形成法)
低屈折率層は、上記含フッ素化合物、さらに必要に応じて、上記充填剤、上記ポリシロキサン化合物及び/又はその誘導体、を溶媒に溶解、又は、分散した塗料を塗布することにより作製することが好ましい。
好ましい溶媒としては、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、エーテル類(テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、水などを挙げることができる。
特に好ましい溶媒としては、ケトン類、芳香族炭化水素類、エステル類であり、最も好ましい溶媒としては、ケトン類である。ケトン類の中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが特に好ましい。溶媒には、ケトン系溶媒の含有量が塗料に含まれる全溶媒の10質量%以上であることが好ましい。好ましくは30質量%以上、さらに好ましくは60質量%以上である。
2種類以上の溶剤を併用することもできる。

0163

架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物であれば、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に、含フッ素化合物を架橋又は重合反応させ、低屈折率層を作製することが好ましい。
含フッ素化合物が、ラジカルで架橋又は重合する官能基を有していれば、ラジカル重合開始剤、特に光ラジカル重合開始剤を用いて架橋又は重合反応させることが好ましい。また、カチオンで架橋又は重合する官能基を有していれば、カチオン重合開始剤、特に光カチオン重合開始剤を用いて架橋又は重合反応させることが好ましい。

0164

ラジカル重合開始剤としては熱の作用によりラジカルを発生するもの、あるいは光の作用によりラジカルを発生するものが好ましい。特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。光ラジカル重合開始剤は前記帯電防止層の項に記載のものが好ましく用いられる。

0165

光ラジカル重合開始剤は、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましくこれについては、高薄一弘著「最新UV硬化技術」((株)技術情報協会、159頁、1991年)に記載されている。

0166

光重合開始剤は、含フッ素化合物100質量部に対して、0.1〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。
さらには、これらの光重合開始剤と併用して光増感剤も好ましく用いることができ、例えば、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
市販の光増感剤も好ましく用いることができ、帯電防止層で記載した増感剤等が挙げられる。

0167

バインダーは、低屈折率層の物理強度(耐擦傷性など)、低屈折率層と隣接する層との密着性を改良する点で、添加することが好ましい。
含フッ素化合物が、架橋又は重合性の官能基を有する化合物であれば、バインダーは含フッ素化合物と架橋又は重合する官能基を有するバインダーであることが好ましい。
特に、含フッ素化合物が、光架橋又は光重合性の官能基を有する化合物であれば、バインダーとして光架橋又は光重合性の官能基を有する多官能モノマーであることが好ましい。光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、帯電防止層で記載したものが挙げられる。多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
最外層の含フッ素化合物は、架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物と、一般式(A)で表されるポリシロキサン化合物及び/又はその誘導体、及び/又は、該架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物と架橋又は重合するバインダーとから形成される硬化物であることが好ましい。

0168

低屈折率層は、含フッ素化合物、その他最外層の構成成分を溶解あるいは分散させた塗料を、塗布と同時又は塗布後に、光照射電子線ビーム照射加熱処理などを実施して、架橋又は重合反応させ、作製することが好ましい。
紫外線照射の場合、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。

0169

低屈折率層の作製は、特に最外層として電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成する場合には、酸素濃度が4体積%以下の雰囲気で実施することが好ましい。
低屈折率層を酸素濃度が4体積%以下の雰囲気で作製することにより、低屈折率層の物理強度(耐擦傷性など)、耐薬品性、耐候性、更には、低屈折率層と低屈折率層と隣接する層との接着性を改良することができる。
好ましくは酸素濃度が3体積%以下の雰囲気で、電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により作製することであり、更に好ましくは酸素濃度が2体積%以下、特に好ましくは酸素濃度が1体積%以下、最も好ましくは0.5体積%以下である。
酸素濃度を4体積%以下にする手法としては、大気(窒素濃度約79体積%、酸素濃度約21体積%)を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換(窒素パージ)することである。

0170

低屈折率層の膜厚は30〜200nmが好ましく、より好ましくは50〜150nm、特に好ましくは60〜120nmである。
また低屈折率層の上にさらに最外層(例えば防汚層)を用いる場合、最外層の膜厚は3〜50nmが好ましく、より好ましくは5〜35nm、特に好ましくは7〜25nmである。

0171

低屈折率層は反射防止フィルムの物理強度を改良するために、表面の動摩擦係数が0.25以下であることが好ましい。ここで記載した動摩擦係数は、直径5mmのステンレス剛球に0.98Nの荷重をかけ、速度60cm/分で表面を移動させたときの、表面と直径5mmのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。好ましくは0.17以下であり、特に好ましくは0.15以下である。

0172

また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が90゜以上であることが好ましい。更に好ましくは95゜以上であり、特に好ましくは100゜以上である。
また、低屈折率層の表面の水に対する接触角は後述する鹸化処理の前後で変わらないことが望ましく、鹸化処理の前後で変化量が10°以内であることが好ましく、特に好ましくは5°以内である。

0173

低屈折率層のヘイズは、低いほど好ましい。3%以下であることが好ましく、さらに好ましくは2%以下、特に好ましくは1%以下である。

0174

低屈折率層の強度は、JIS K5400に従う鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。また、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

0175

低屈折率層には、前記の成分(含フッ素化合物、重合開始剤、光増感剤、充填剤、滑り剤、バインダーなど)以外に、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤(顔料、染料)、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。

0176

低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は、ケイ素化合物を含むことが好ましい。
また、低屈折率層の屈折率は1.20〜1.55であることが好ましい。より好ましくは1.30〜1.50、更に好ましくは1.35〜1.48、特に好ましくは1.37〜1.45である。
低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は塗布法または気相法(真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法等)により作製することができる。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。

0177

低屈折率層を塗布で作製する場合、下記一般式(I)で表されるケイ素化合物、及び、その誘導体(加水分解物、および該加水分解物が縮合して生成した架橋ケイ素化合物など)からなる群から選ばれた化合物で作製することもできる。この場合架橋、又は、重合ケイ素化合物で作製することが好ましい。

0178

一般式(I) (X1)a(Y1)bSi(Z1)4-a-b

0179

一般式(I)中:X1は、炭素数1〜12の有機基(例えばアルキルアリールハロゲン化アルキルハロゲン化アリールアルケニル、またはエポキシ基、(メタ)アクリルオキシ基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基等)を表す。Y1は、炭素数1〜3の炭化水素基である。Z1は、ハロゲン原子またはアルコキシ基(例えば、OCH3、OC2H5、OC3H7等)を表す。aおよびbは、同一または異なってもよく、0〜2の整数である。

0180

特に限定されないが、一般式(I)の具体例として、メチルシリケートエチルシリケート等のテトラアルコキシシラン類メチルトリメトキシシランメチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシランエチルトリメトキシシランビニルトリメトキシシランビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシランフェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、3,3,3−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリドキエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、β−シアノエチルトリエトキシシランなどのトリアルコキシ又はトリアシルオキシシラン類、ジメチルジメトキシシランジメチルジエトキシシランフェニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシランなどのジアルコキシ又はジアシルオキシシラン類などが挙げられる。

0181

特に硬度を必要とする場合には、電離放射線硬化性ケイ素化合物、特に、電離放射線によって架橋又は重合反応する複数の官能基を有する分子量5,000以下のケイ素化合物が好ましい。例えば、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、或いはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、又はビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。エポキシ基、(メタ)アクリロイル基を含むケイ素化合物が好ましい。これらのケイ素化合物は単独又は2種類以上組み合わせることができる。

0182

これらのケイ素化合物は各種硬化剤、触媒を用いて硬化することが好ましく、例えば、ルイス酸ルイス塩基を含む各種酸・塩基、及びこれらから作製される中性又は塩基性塩、例えば有機カルボン酸クロム酸次亜塩素酸ホウ酸臭素酸亜セレン酸チオ硫酸オルトケイ酸チオシアン酸亜硝酸アルミン酸炭酸金属塩、特にアルカリ金属塩又はアンモニウム塩、更にアルミニウム、ジルコニウムチタニウムアルコキシド又はこれらの錯化合物などが挙げられる。特に、好ましいのはアルミキレート化合物で、例えば、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレートアルミニウムトリスエルアセトアセテート、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセトネートビスエチルアセトアセテート、アルミニウムトリスアセチルアセテートなどである。

0183

また、低屈折率層には、無機微粒子、例えばLiF、MgF2、SiO2等の微粒子を添加することが好ましく、なかでもSiO2が特に好ましい。

0184

<ハードコート層>
本発明の光学機能フィルム(反射防止フィルム等)には、物理強度を付与するためにハードコート層を設けることができる。特に、透明支持体と前記最外層の間に設けることが好ましい。
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成されることが好ましく、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成された層は、広義にハードコート層と称することができる。ハードコート層は、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗料を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋又は重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。

0185

光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、帯電防止層で例示したものが挙げられ、光重合開始剤、光増感剤を用いて重合することが好ましい。光重合反応は、ハードコート層の塗布および乾燥後、紫外線照射により行うことが好ましい。
ハードコート層は、透明支持体の表面に、ハードコート層形成用の塗料を塗布することで構築することが好ましい。

0186

塗布溶媒としては、帯電防止層で例示したケトン類、エステル類、芳香族炭化水素類であることが好ましい。特に、ケトン系溶媒を用いることで、例えば、透明支持体(特に、トリアセチルセルロース支持体)の表面とハードコート層との接着性がさらに改良する。
特に好ましい塗布溶媒は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンである。
塗布溶媒は、帯電防止層で例示したケトン系溶媒以外の溶媒を含んでいてもよい。
塗布溶媒は、ケトン系溶媒の含有量が塗布組成物に含まれる全溶媒の10質量%以上であることが好ましい。好ましくは30質量%以上、さらに好ましくは60質量%以上である。

0187

ハードコート層が電離放射線硬化性の化合物の架橋又は重合反応により作製される場合、架橋又は重合反応は酸素濃度が4体積%以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が4体積%以下の雰囲気で作製することにより、物理強度(耐擦傷性など)や耐薬品性に優れたハードコート層を作製することができる。
好ましくは酸素濃度が3体積%以下の雰囲気で電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により作製することであり、更に好ましくは酸素濃度が2体積%以下、特に好ましくは酸素濃度が1体積%以下、最も好ましくは0.5体積%以下である。
酸素濃度を4体積%以下にする手法としては、大気(窒素濃度約79体積%、酸素濃度約21体積%)を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換(窒素パージ)することである。

0188

ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、1〜10μmであることが好ましく、より好ましくは2〜7μm、特に好ましくは3〜5μmである。
ハードコート層の強度は、JIS K5400に従う鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。また、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

0189

ハードコート層には樹脂、分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤(顔料、染料)、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。
また、ハードコート層には、層の硬度を硬くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御するなどの目的で、後述する一次粒子の平均粒径が1〜200nmの無機微粒子を添加することができる。
さらには、光拡散機能を付与する目的で後述する平均粒径0.2〜10μmの粒子を含有することもできる。

0190

<光学機能フィルムの表面の凹凸>
本発明に用いる光学機能フィルムは、低屈折率層を有する側の表面に凹凸を形成し、防眩性を付与することもできる。
防眩性は表面の平均表面粗さ(Ra)と相関している。表面の凹凸は100cm2の面積の中からランダムに1mm2を取り出し、取り出した表面の1mm2の面積当たりに対し、平均表面粗さ(Ra)が0.01〜1μm以下であり、0.01〜0.4μmであることが好ましく、より好ましくは0.03〜0.3μm、さらに好ましくは0.05〜0.25μm、特に好ましくは0.07〜0.2μmである。平均表面粗さ(Ra)に関しては、奈良次郎著、テクコンパクトシリーズ(6)「表面粗さの測定・評価法」((株)総合技術センター)に記載されている。

0191

また、上記表面の1mm2の面積当たりに対し、面積が100μm2以上の凹部分が存在しないことが好ましい。面積100μm2以上の凹が存在すると反射防止フィルムを画素のサイズが小さい画像表示装置の表面に配置したとき、画素中に存在する3原色(赤,緑,青)のいずれかの色が強調されて目に見える故障(ギラツキ故障)を引き起こし、著しく画質を悪化させることがある。特に、断面積80μm2以上の凹部分が存在しないことが好ましい。
本発明に用いる反射防止フィルムの表面のこのような凹と凸の形状は、原子間力顕微鏡AFM)により評価することができる。

0192

表面の凹凸の形成法としては公知の手法が用いられる。本発明では、フィルムの表面に高い圧力で凹凸の形状を有する版を押し当てる(例えば、エンボス加工)ことにより形成する手法、また、後述する反射防止フィルム上のいずれかの層に粒子を含有させて、反射防止フィルムの表面に凹凸を形成する手法が好ましい。特に、後述する平均粒径が0.2〜10μmの粒子をいずれかの層に含有させ、該層表面に凹凸を形成し、該層上に最外層を形成することで最外層の表面に凹凸を形成する手法が好ましい。
エンボス加工により表面に凹凸を形成する方法では、公知の手法が適用できるが、特開2000−329905号公報に記載されている手法により凹凸を形成することが特に好ましい。

0193

<光拡散層>
本発明に係る光学機能フィルムにおいて、透明支持体と最外層の間に光拡散層を設けることが好ましい。光拡散層は実質的にハードコート機能を兼ねることもでき、前記ハードコート層に光拡散機能を付与した層を光拡散層と称することもできる。光拡散層は低屈折率層を有する側の表面に凹凸を形成して防眩機能を付与したり、液晶表示装置の視野角拡大機能を付与する目的でマトリックスと屈折率差を設けて光を拡散させるために、平均粒径0.2〜10μmの粒子を含有する。光拡散層は前記、表面凹凸形成、内部での光拡散機能のうちのどちらか一方の機能を有するだけでもよい。

0194

(平均粒径が0.2〜10μmの粒子)
光拡散層に含有する粒子としては、無機粒子有機粒子が挙げられる。ここでいう平均粒径は、二次粒子(粒子が凝集していない場合は一次粒子)の質量平均径である。

0195

無機粒子の具体例としては、二酸化珪素、二酸化チタン酸化ジルコニウム酸化アルミニウム、酸化錫、ITO、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルクカオリンおよび硫酸カルシウムなどの粒子が挙げられる。二酸化珪素、酸化アルミニウムが好ましい。

0196

有機粒子としては樹脂粒子が好ましい。樹脂粒子の具体例としては、シリコン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂ポリメチルメタクリレート樹脂ポリスチレン樹脂、ポリ(メチルメタクリレート/スチレン)共重合樹脂ポリ弗化ビニリデン樹脂から作製される粒子などが挙げられる。好ましくは、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ(メチルメタクリレート/スチレン)共重合樹脂、から作製される粒子であり、特に好ましくはポリメチルメタクリレート樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ(メチルメタクリレート/スチレン)共重合樹脂、から作製される粒子である。
これらの樹脂粒子は共重合樹脂粒子でもよく、さらには、架橋剤成分を含有した架橋樹脂粒子であることが好ましい。

0197

粒子の平均粒径は、好ましくは0.2〜10μm、更に好ましくは0.5〜7.0μm、特に好ましくは1.0〜5.0μmである。
粒子の粒径分布は狭いほど好ましい。粒子の粒径分布を示すS値は下記式で表され、2.0以下であることが好ましく、さらに好ましくは1.0以下、特に好ましくは0.7以下である。

0198

S=[D(0.9)−D(0.1)]/D(0.5)

0199

D(0.1):体積換算粒径の積算値の10%値、
D(0.5):体積換算粒径の積算値の50%値、
D(0.9):体積換算粒径の積算値の90%値。

0200

粒子の屈折率は1.35〜1.80であることが好ましく、より好ましくは1.40〜1.75、さらに好ましくは1.45〜1.75である。
粒子の屈折率と、層のマトリックスの屈折率をほぼ同じにすることで、反射防止フィルムを画像表示面に装着したときのコントラストが改良される。一方、粒子の屈折率と層のマトリックスの屈折率との間に屈折率の差を付けることで、反射防止フィルムを液晶表示面に装着したときの視認性(ギラツキ故障、液晶表示装置の視野角特性など)が改良される。
粒子の屈折率と層のマトリックスの屈折率との間に屈折率の差を付ける場合、その差は0.03〜0.5であることが好ましく、より好ましくは0.03〜0.4、特に好ましくは0.05〜0.3である。

0201

平均粒径が0.2〜10μmの粒子を含有する層は、光拡散層以外には、前記のハードコート層、帯電防止層、最外層、低屈折率層、後述する高屈折率層、中屈折率層であってもよい。好ましくは光拡散層、ハードコート層、帯電防止層、高屈折率層、である。また、粒子を含有する層は最外層と隣接する層であることが最も好ましい。

0202

平均粒径が0.2〜10μmの粒子は、平均粒径の異なる粒子を複数組み合わせて使用してもよい。また、異なる材質の粒子を複数組み合わせて使用することも好ましい。

0203

平均粒径が0.2〜10μmの粒子を含有する層は、有機化合物のバインダーを含有することが好ましい。また、上記帯電防止層、ハードコート層と同様に、バインダーが架橋又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物であることが好ましく、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成されることが好ましい。

0204

平均粒径が0.2〜10μmの粒子を含有する層のヘイズは、3〜80%であることが好ましく、さらに好ましくは5〜60%、特に好ましくは7〜50%、最も好ましくは10〜40%である。
平均粒径が0.2〜10μmの粒子を含有する層の強度は、JIS K5400に従う鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。また、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

0205

(平均粒径が1〜200nmの無機微粒子)
本発明の光学機能フィルムにおいて、透明支持体と最外層の間に一次粒子の平均粒径が1〜200nmの無機微粒子を含有する層を構築することが好ましい。ここでいう平均粒径は質量平均径である。一次粒子の平均粒径を1〜200nmにすることで透明性を損なわない層を作製できる。
一次粒子の平均粒径が1〜200nmの無機微粒子は、層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御するなどの目的で用いられる。
無機微粒子としては、帯電防止層、最外層で例示した無機微粒子(導電性微粒子、充填剤など)に加え、酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛などの微粒子が挙げられる。好ましくは、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化錫、ATO、ITO、酸化亜鉛である。
平均粒径が1〜200nmの無機微粒子は、平均粒径の異なる粒子を複数組み合わせて使用してもよい。また、異なる材質の粒子を複数組み合わせて使用することも好ましい。

0206

無機微粒子の一次粒子の平均粒径は好ましくは5〜200nmであり、より好ましくは10〜150nm、さらに好ましくは20〜100nm、特に好ましくは20〜50nmである。
層の中において、無機微粒子はなるべく微細に分散されていることが好ましく、分散剤を用いて分散されていることが好ましい。層の中における無機微粒子の粒子サイズは、好ましくは平均粒径で5〜300nm、より好ましくは10〜200nmであり、さらに好ましくは20〜150nm、特に好ましくは20〜80nmである。特に、光学干渉層に用いる場合は、200nm以下であることが好ましい。
分散剤および分散方法については、前述の帯電防止層で説明した事項を適用できる。

0207

層における無機微粒子の含有量は、層の全質量に対し10〜90質量%であることが好ましく、より好ましくは15〜80質量%、特に好ましくは15〜75質量%である。
高い屈折率を有する層(例えば、高屈折率層、中屈折率層など)を作製する場合、帯電防止層で記載した手法を用いて高い屈折率を有する無機微粒子(例えば、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化錫、ATO、ITO、酸化亜鉛など)を微細に分散して層に含有させて作製することが好ましい。

0208

平均粒径が1〜200nmの無機微粒子を含有する層として好ましいのは、前記ハードコート層、光拡散層、後述する光学干渉層(高屈折率層、中屈折率層など)である。また、平均粒径が1〜200nmの無機微粒子を含有する層は最外層と隣接する層であることが好ましい。

0209

平均粒径が1〜200nmの無機微粒子を含有する層は、有機化合物のバインダーを含有することが好ましい。また、バインダーが架橋又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物であることが好ましく、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成されることが好ましい。

0210

平均粒径が1〜200nmの無機微粒子を含有する層の屈折率は、1.55〜2.40であることが好ましく、より好ましくは1.65〜2.20、特に好ましくは1.65〜2.00である。
平均粒径が1〜200nmの無機微粒子を含有する層のヘイズは、5%以下であることが好ましく、さらに好ましくは3%以下、特に好ましくは2%以下、最も好ましくは1%以下である。
平均粒径が1〜200nmの無機微粒子を含有する層の強度は、JIS K5400に従う鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。また、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

0211

光拡散層には塗布液の粘度調整の目的で、ウレタン、セルロースアセテートブチレートセルロースアセテートプロピオネート、アクリル樹脂(ポリメタクリル酸メチル等)の樹脂類を含有することも好ましい。

0212

<光学機能フィルムのその他の層>
より優れた反射防止性能を有する光学機能フィルムを作製するためは、ハードコート層と低屈折率層の間に、低屈折率層より高い屈折率を有する光学干渉層(高屈折率層、及び/又は、中屈折率層)を設けることが好ましい。
高屈折率層、中屈折率層は、前述の帯電防止層の説明であげた、高い屈折率を有する無機微粒子(例えば、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化錫、ATO、ITO、酸化亜鉛など)を皮膜中に微細に分散させて作製することが好ましい。分散剤および分散方法については、前述の帯電防止層で説明した事項を適用できる。
また、高屈折率層、中屈折率層には、芳香環、及び/又は、フッ素以外のハロゲン化元素(例えば、Br、I、Cl等)を含む電離放射線硬化性化合物、S、N、P等の原子を含む電離放射線硬化性化合物などの架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。高屈折率層、中屈折率層の屈折率は、適宜制御することができ、高い屈折率を有する微粒子を含有する場合、皮膜中の微粒子の含有率を制御することで屈折率の調整が可能である。高屈折率層、中屈折率層の膜厚も適宜調整できる。ここで、高屈折率中屈折率とは、層相互の相対的な屈折率の高低を意味する。

0213

高屈折率層、中屈折率層の好ましい屈折率と膜厚に関しては、後述する反射防止フィルムの構成において説明する。高屈折率層の屈折率は1.65〜2.40が好ましく、より好ましくは1.70〜2.20、さらに好ましくは1.75〜2.10、特に好ましくは1.80〜2.10である。中屈折率層の屈折率は1.55〜1.80が好ましく、より好ましくは1.60〜1.80、さらに好ましくは1.60〜1.75、特に好ましくは1.60〜1.70である。

0214

高屈折率層、中屈折率層は、有機化合物のバインダーを含有することが好ましい。また、上記帯電防止層、ハードコート層と同様に、バインダーが架橋又は重合性の官能基を有する化合物の硬化物であることが好ましく、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成されることが好ましい。したがって、高、中屈折率層はハードコート層を兼ねることもでき、広義にはハードコート層の定義に入ることもできる。

0215

高屈折率層、中屈折率層のヘイズは、5%以下であることが好ましく、さらに好ましくは3%以下、特に好ましくは2%以下、最も好ましくは1%以下である。
高屈折率層、中屈折率層の強度は、JIS K5400に従う鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。また、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

0216

光学機能フィルムには、以上に述べた以外の層を設けてもよい。例えば、接着層、シールド層などを設けてもよい。シールド層は電磁波や赤外線遮蔽するために設けられる。

0217

光学機能フィルムの各層を塗布法で作製する上で、層を作製するのに用いる塗布液には、面状改良剤を添加することが好ましい。以下に、面状改良剤について説明する。

0218

(面状改良剤)
本発明の透明支持体上のいずれかの層を作製するのに用いる塗料には、面状故障塗布ムラ乾燥ムラ点欠陥など)を改良するために、フッ素系及び/又はシリコーン系の面状改良剤を添加することが好ましい。

0219

面状改良剤は、塗料の表面張力を1mN/m以上変化させることが好ましい。ここで、塗料の表面張力が1mN/m以上変化するとは、面状改良剤を添加後の塗料の表面張力が、塗布/乾燥時での濃縮過程を含めて、面状改良剤を添加してない塗料の表面張力と比較して、1mN/m以上変化することを意味する。
好ましくは、塗料の表面張力を1mN/m以上下げる効果がある面状改良剤であり、更に好ましく2mN/m以上下げる面状改良剤、特に好ましくは3mN/m以上下げる面状改良剤である。

0220

フッ素系の面状改良剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基を含有する化合物(「フッ素系面改良剤」と略記する)が挙げられる。特に、下記一般式(i)のモノマーに相当する繰り返し単位、及び、下記一般式(ii)のモノマーに相当する繰り返し単位を含むことを特徴とするアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が好ましい。
このような単量体としては、Polymer Handbook 2nd ed.,J.Brandrup,Wiley lnterscience(1975)Chapter 2,Page1〜483記載のものを用いることが好ましい。
例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を1個有する化合物等をあげることができる。

0221

0222

一般式(i)においてR21は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。X2は酸素原子、イオウ原子又は−N(R22)−を表し、酸素原子又は−N(R22)−がより好ましく、特に酸素原子が好ましい。R22は水素原子又は、炭素数1〜8のアルキル基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基、特に好ましくは水素原子又はメチル基である。aは1〜6の整数を表し、1〜3がより好ましく、1であることが特に好ましい。bは1〜18の整数を表し、4〜12がより好ましく、6〜8が特に好ましい。
フッ素系面状改良剤中に一般式(i)で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーが2種類以上構成成分として含まれていてもよい。

0223

0224

一般式(ii)において、R23は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Y2は酸素原子、イオウ原子又は−N(R25)−を表し、酸素原子又は−N(R25)−がより好ましく、特に酸素原子が好ましい。R25は水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基、特に好ましくは水素原子又はメチル基である。
R24は水素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜20の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、ポリ(アルキレンオキシ)基を含むアルキル基、又は置換もしくは無置換の芳香族基(例えば、フェニル基またはナフチル基)を表す。炭素数1〜12の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、又は総炭素数6〜18の芳香族がより好ましく、炭素数1〜8の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基が更に好ましい。以下でポリ(アルキレンオキシ)基について説明する。

0225

ポリ(アルキレンオキシ)基は、−(OR)−を繰り返し単位とした基であり、Rは2〜4個の炭素原子を有するアルキレン基、例えば−CH2CH2−、−CH2CH2CH2−、−CH(CH3)CH2−、−CH(CH3)CH(CH3)−が挙げられる。
前記のポリ(オキシアルキレン基中オキシアルキレン単位(前記−OR−)はポリ(オキシプロピレン)におけるように同一であってもよく、また互いに異なる2種以上のオキシアルキレンが不規則分布されたものであってもよく、直鎖もしくは分岐状のオキシプロピレンもしくはオキシエチレン単位であったり、または直鎖もしくは分岐状のオキシプロピレン単位のブロックもしくはオキシエチレン単位のブロックのように存在するものであってもよい。

0226

このポリ(オキシアルキレン)鎖は1つまたはそれ以上の連鎖結合(例えば−CONH−Ph−NHCO−、−S−など:Phはフェニレン基を表す)で連結されたものも含むことができる。連鎖の結合が3つまたはそれ以上の原子価を有する場合には、これは分岐鎖のオキシアルキレン単位を得るための手段を供する。またこの共重合体を本発明に用いる場合には、ポリ(オキシアルキレン)基の分子量は250〜3000が適当である。
ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及びメタクリレートは、市販のヒドロキシポリ(オキシアルキレン)材料、例えば商品名“プルロニック”[Pluronic(旭電化工業(株)製)、アデカポリエーテル(旭電化工業(株)製)“カルボワックス”[Carbowax(グリコ・プロダクス)]、“トリトン”[Toriton(ロームアンドハース(Rohm and Haas製))およびP.E.G(第一工業製薬(株)製)として販売されているものを公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリドメタクリルクロリドまたは無水アクリル酸等と反応させることによって製造できる。別に、公知の方法で製造したポリ(オキシアルキレン)ジアクリレート等を用いることもできる。

0227

本発明で用いられるフッ素系面状改良剤において、フッ素系面状改良剤の形成に用いられる全モノマー量に対する一般式(i)で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量が50モル%以上であることが好ましく、より好ましくは70〜100モル%であり、特に好ましくは80〜100モル%の範囲である。

0228

本発明で用いられるフッ素系面状改良剤の好ましい質量平均分子量は、3000〜100,000が好ましく、6,000〜80,000がより好ましく、8,000〜60,000が更に好ましい。
ここで、質量平均分子量は、TSKgelGMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(何れも東ソー(株)製の商品名)のカラムを使用したGPC分析装置により、溶媒THF、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量であり、含有量は、分子量が300以上の成分のピーク面積を100%とした場合の、前記分子量範囲ピークの面積%である。

0229

更に、本発明で用いられるフッ素系面状改良剤の好ましい添加量は、添加する層の塗料に対して0.001〜5質量%の範囲であり、好ましくは0.005〜3質量%の範囲であり、更に好ましくは0.01〜1質量%の範囲である。

0230

以下、本発明によるフッ素系面状改良剤の具体的な構造の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Mwは質量平均分子量を表す。

0231

0232

0233

0234

0235

0236

0237

0238

本発明の面状改良剤は、ケトン系溶媒(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど)、エステル系溶媒(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、エーテル類(テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等)、芳香族炭化水素系溶媒(トルエン、キシレン等)を含有する塗料に用いることが好ましくい。特に、ケトン系溶媒が好ましい。ケトン系溶媒の中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが好ましい。
また、特にケトン系溶媒を全溶媒の10質量%以上含有する塗料であることが好ましい。好ましくは30質量%以上、さらに好ましくは60質量%以上である。

0239

塗料の溶媒は、ケトン系溶媒以外の溶媒を含んでいてもよい。例えば、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)などがあげられる。

0240

面状改良剤は、層と層の界面の密着性を悪化させることがある。従って、層の表面に存在する面状改良剤を、該層の隣接層を形成する塗料中に溶出させて、層と層の界面近傍に面状改良剤が残らないようにすることが好ましい。そのため、隣接層の塗料中に面状改良剤を溶解する溶媒を含有させることが好ましい。そのような溶媒としては、上記ケトン系溶媒が好ましい。

0241

透明支持体上に形成する層の塗料において、面状改良剤を添加するのが特に好ましいのは、ハードコート層、光散乱層、帯電防止層、高屈折率層、低屈折率層を形成するための塗料であり、特に好ましいのはハードコート層、光拡散層、を形成するための塗料である。

0242

(オルガノシラン化合物)
本発明において、反射防止フィルムの各層に特に好ましく用いることができるオルガノシラン化合物について記載する。
皮膜の物理強度(耐擦傷性など)、皮膜と皮膜に隣接する層の密着性を改良する点でオルガノシラン化合物及び/又はその誘導体を透明支持体上のいずれかの層に添加することが好ましい。

0243

オルガノシラン化合物及び/又はその誘導体としては、下記一般式(a)で表される化合物及び/又はその誘導体を用いることができる。好ましいのは、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基を含有するオルガノシラン化合物であり、特に好ましいのはエポキシ基、重合性のアシルオキシ基((メタ)アクリロイルなど)、重合性のアシルアミノ基(アクリルアミノ、メタクリルアミノなど)を含有するオルガノシラン化合物である。

0244

一般式(a) (R10)s−Si(Z)4-s

0245

一般式(a)中、R10は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、t−ブチル、sec−ブチル、ヘキシル、デシルヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは1〜6である。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Zは水酸基または加水分解可能な基を表す。例えばアルコキシ基(炭素数1〜5のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる)、ハロゲン原子(例えばCl、Br、I等)、及びR12COO(R12は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基が好ましい。例えばCH3COO、C2H5COO等が挙げられる)で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
sは1〜3の整数を表す。好ましくは1または2であり、特に好ましくは1である。
R10あるいはZが複数存在するとき、複数のR10あるいはZはそれぞれ異なっていてもよい。

0246

R10に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子(フッ素、塩素臭素等)、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基(メチル、エチル、i−プロピル、プロピル、t−ブチル等)、アリール基(フェニル、ナフチル等)、芳香族ヘテロ環基フリルピラゾリルピリジル等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、i−プロポキシヘキシルオキシ等)、アリールオキシ基フェノキシ等)、アルキルチオ基メチルチオエチルチオ等)、アリールチオ基フェニルチオ等)、アルケニル基(ビニル、1−プロペニル等)、アルコキシシリル基(トリメトキシシリルトリエトキシシリル等)、アシルオキシ基(アセトキシアクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニルエトキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル等)、カルバモイル基(カルバモイル、N−メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−メチル−N−オクチルカルバモイル等)、アシルアミノ基(アセチルアミノベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等)等が挙げられ、これら置換基は更にこれらの置換基で置換されていてもよい。

0247

これらのうちで更に好ましくは水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基である。特に、架橋又は重合性の官能基が好ましく、エポキシ基、重合性のアシルオキシ基((メタ)アクリロイル)、重合性のアシルアミノ基(アクリルアミノ、メタクリルアミノ)が好ましい。またこれら置換基は更に上記の置換基で置換されていてもよい。

0248

R10が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。一般式(a)で表されるオルガノシラン化合物及びその誘導体の中でも、下記一般式(b)で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物及び/又はその誘導体が好ましい。

0249

0250

一般式(b)において、R11は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、又は塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Yは単結合、*−COO−**、*−CONH−**、*−O−**、又は*−NH−CO−NH−**を表し、単結合、*−COO−**、*−CONH−**が好ましく、単結合、*−COO−**が更に好ましく、*−COO−**が特に好ましい。ここで、*は=C(R11)−に結合する位置を、**はLに結合する位置を表す。

0251

L1は2価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基(例えば、エーテル、エステル、アミドなど)を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていてもよい。

0252

tは0または1を表す。tとして好ましくは0である。
R10は一般式(a)と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
Zは一般式(a)と同義であり、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数1〜6のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数1〜3のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。Zが複数存在するとき、複数のZはそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。

0253

一般式(a)、一般式(b)の化合物、及びその誘導体は、2種類以上を併用してもよい。
一般式(a)、一般式(b)で表されるオルガノシラン化合物の好ましい具体例としては、特開2004−170901号公報の[0036]〜[0044]に記載されたM−1〜M−60が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

0254

これらのうち、(M−1)、(M−2)、および(M−5)が特に好ましい。

ページトップへ

この技術を出願した法人

この技術を発明した人物

ページトップへ

関連する挑戦したい社会課題

関連する公募課題

該当するデータがありません

ページトップへ

技術視点だけで見ていませんか?

この技術の活用可能性がある分野

分野別動向を把握したい方- 事業化視点で見る -

(分野番号表示ON)※整理標準化データをもとに当社作成

ページトップへ

おススメ サービス

おススメ astavisionコンテンツ

新着 最近 公開された関連が強い技術

  • 株式会社リンレイの「 手すりベルトのコーティング方法」が 公開されました。( 2020/10/29)

    【課題】 手すりベルトの表面と保護膜との高い密着性を確保しつつ、高い光沢度を得ることができ、更には作業時間を短縮することができる手すりベルトのコーティング方法を得る。【解決手段】 手すりベルトのコ... 詳細

  • 住友化学株式会社の「 穴あき積層体の製造方法及び製造装置」が 公開されました。( 2020/10/29)

    【課題】積層方向に貫通する穴を有する穴あき積層体を効率よく製造するための穴あき積層体の製造方法及び製造装置を提供する。【解決手段】積層方向に貫通する穴11cを有する穴あき積層体10cの製造方法は、1以... 詳細

  • 日本電気硝子株式会社の「 透明物品」が 公開されました。( 2020/10/29)

    【課題・解決手段】本発明は、解像度の低下を抑制しつつ、指の滑りを良くすることのできる透明物品を提供することを課題とする。透明物品(10)は、透明基材(11)を備えている。透明基材(11)の主面には、粗... 詳細

この 技術と関連性が強い人物

関連性が強い人物一覧

この 技術と関連する社会課題

関連する挑戦したい社会課題一覧

この 技術と関連する公募課題

該当するデータがありません

astavision 新着記事

サイト情報について

本サービスは、国が公開している情報(公開特許公報、特許整理標準化データ等)を元に構成されています。出典元のデータには一部間違いやノイズがあり、情報の正確さについては保証致しかねます。また一時的に、各データの収録範囲や更新周期によって、一部の情報が正しく表示されないことがございます。当サイトの情報を元にした諸問題、不利益等について当方は何ら責任を負いかねることを予めご承知おきのほど宜しくお願い申し上げます。

主たる情報の出典

特許情報…特許整理標準化データ(XML編)、公開特許公報、特許公報、審決公報、Patent Map Guidance System データ