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技術 拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物、拡散反射下地層形成用感光性エレメント、これを用いた反射型液晶表示装置用拡散反射板、およびその製造方法、並びにこれを用いた反射型液晶表示装置

出願人 日立化成株式会社
発明者 向郁夫山崎宏
出願日 2003年6月18日 (17年5ヶ月経過) 出願番号 2003-173303
公開日 2005年1月13日 (15年10ヶ月経過) 公開番号 2005-010359
状態 未査定
技術分野 ホトレジストの材料 レンズ以外の光学要素 液晶4(光学部材との組合せ) フォトリソグラフィー用材料 液晶4(光学部材との組合せ)
主要キーワード 凹凸転写性 凹凸形状面 アクリル系ポリマ 転写フイルム 拡散反射特性 アミューズメント機器 インクジェットコーティング ジオキシレン
関連する未来課題
重要な関連分野

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図面はありません

課題

凹凸転写性解像性両立する拡散反射下地層を形成するための感光性樹脂感光性エレメント、これを用いた反射型液晶表示装置用拡散反射板、およびその製造方法、ならびにそれを用いた反射型液晶表示装置を提供する。

解決手段

(I)共重合成分として、不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物(a)、エポキシ基含有不飽和化合物(b)、を必須成分として得られるアクリル系ポリマ(c)、(II)少なくとも2個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、(III)光重合開始剤、を含有する拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物。前記樹脂組成物凹凸形状を有する仮支持体凹凸形状面上に積層されている拡散反射下地層形成用感光性エレメント。前記エレメントを使用した反射型液晶表示装置用核酸反射板

概要

背景

近年、液晶表示装置は、ノート型パソコン電子手帳携帯情報端末機アミューズメント機器携帯電話機等、あらゆる用途に利用されており、特にこれらのうち、携帯用機器については、バックライトが不要となるため消費電力が小さく、また薄型化や軽量化が可能な観点から、反射型液晶表示装置が多く用いられつつある。
一般に反射型液晶表示装置では、光源として外光反射を利用しているが、外光をより効率良く利用して明るい表示を得るためには、あらゆる角度からの入射光に対して、表示画面に垂直な方向に散乱する光の強度を増加させる必要がある。
これを実現するための有用な手法として、光を拡散反射し得る凹凸面となるようにした転写フイルムを使用し、転写フイルムの薄膜層被転写基板への接着面を基板表面に貼り合わせ、仮支持体はく離して基板に薄膜層を転写し、さらに薄膜層上に金属薄膜を賦与することにより拡散反射板を形成する方法(特許文献1参照)が提案されている。

概要

凹凸転写性解像性両立する拡散反射下地層を形成するための感光性樹脂感光性エレメント、これを用いた反射型液晶表示装置用拡散反射板、およびその製造方法、ならびにそれを用いた反射型液晶表示装置を提供する。(I)共重合成分として、不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物(a)、エポキシ基含有不飽和化合物(b)、を必須成分として得られるアクリル系ポリマ(c)、(II)少なくとも2個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、(III)光重合開始剤、を含有する拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物。前記樹脂組成物が凹凸形状を有する仮支持体の凹凸形状面上に積層されている拡散反射下地層形成用感光性エレメント。前記エレメントを使用した反射型液晶表示装置用核酸反射板。 なし

目的

しかしながら、この方法で拡散反射板を作製する際には、拡散反射下地層用材料の選定が難しく、従来の方法では歩留まり良く製造できないという問題点があった。それは凹凸転写性と解像性との両立の問題である。
特にこれは、例えば透過モード付属する反射型液晶表示装置において、拡散反射層の一部を除去してカラーフィルター膜厚差をつけ、透過モードと反射モードとでの色目補正する、というように、高精細な寸法で拡散反射層を部分的に除去することが必要となる場合に発生する問題である。
拡散反射板が光を拡散反射し得る凹凸形状を有するよう作製するためには、例えば感光性エレメントにより拡散反射下地層を形成する場合においては、仮支持体の凹凸形状をきちん再現させるために活性光線を十分照射して光反応を促進させる必要がある。しかし活性光線量が過剰になると、拡散反射層を設けたくない部分がネガマスク等で遮光しているにもかかわらず露光かぶりしてしまい、アルカリ水溶液等の現像液などで除去することができなくなってしまう。また逆に、拡散反射層を設けたくない部分をきちんと除去するために活性光線量を抑制すると、凹凸形状をきちんと再現することができなくなってしまい、凹凸転写性と解像性とを両立させることが困難であった。
本発明は、凹凸転写性と解像性が両立する拡散反射下地層を形成するための感光性樹脂、感光性エレメント、これを用いた反射型液晶表示装置用拡散反射板、およびその製造方法、ならびにそれを用いた反射型液晶表示装置を提供する。

効果

実績

技術文献被引用数
1件
牽制数
0件

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請求項1

(I)共重合成分として、不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物(a)、エポキシ基含有不飽和化合物(b)、を必須成分として得られるアクリル系ポリマ(c)、(II)少なくとも2個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、(III)光重合開始剤、を含有する拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物

請求項2

請求項1記載の感光性樹脂組成物が、凹凸形状を有する仮支持体凹凸形状面上に積層されている拡散反射下地層形成用感光性エレメント

請求項3

請求項2記載の拡散反射下地層形成用感光性エレメントに、活性光線照射して露光部を光硬化させた後、仮支持体を剥離し、必要に応じて熱硬化させて凹凸形状を有する拡散反射下地層を形成し、さらに拡散反射下地層上に反射膜を形成した、反射型液晶表示装置用拡散反射板

請求項4

凹凸形状を有する仮支持体の凹凸形状面上に請求項1に記載の拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物を積層し、活性光線を照射して露光部を光硬化させた後、仮支持体をはく離、必要に応じて熱硬化させ、所望の凹凸形状を有する拡散反射下地層を形成し、さらに拡散反射下地層上に反射膜を形成する、反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方法。

請求項5

請求項3記載の反射型液晶表示装置用拡散反射板を用いた反射型液晶表示装置

技術分野

0001

本発明は、液晶表示装置、なかでも反射型液晶表示装置に使用する拡散反射下地層を形成するための感光性樹脂感光性エレメント、これを用いた反射型液晶表示装置用拡散反射板、およびその製造方法に関する。

0002

近年、液晶表示装置は、ノート型パソコン電子手帳携帯情報端末機アミューズメント機器携帯電話機等、あらゆる用途に利用されており、特にこれらのうち、携帯用機器については、バックライトが不要となるため消費電力が小さく、また薄型化や軽量化が可能な観点から、反射型液晶表示装置が多く用いられつつある。
一般に反射型液晶表示装置では、光源として外光反射を利用しているが、外光をより効率良く利用して明るい表示を得るためには、あらゆる角度からの入射光に対して、表示画面に垂直な方向に散乱する光の強度を増加させる必要がある。
これを実現するための有用な手法として、光を拡散反射し得る凹凸面となるようにした転写フイルムを使用し、転写フイルムの薄膜層被転写基板への接着面を基板表面に貼り合わせ、仮支持体はく離して基板に薄膜層を転写し、さらに薄膜層上に金属薄膜を賦与することにより拡散反射板を形成する方法(特許文献1参照)が提案されている。

背景技術

0003

【特許文献1】
特開2000−47199号

発明が解決しようとする課題

0004

しかしながら、この方法で拡散反射板を作製する際には、拡散反射下地層用材料の選定が難しく、従来の方法では歩留まり良く製造できないという問題点があった。それは凹凸転写性解像性との両立の問題である。
特にこれは、例えば透過モード付属する反射型液晶表示装置において、拡散反射層の一部を除去してカラーフィルター膜厚差をつけ、透過モードと反射モードとでの色目補正する、というように、高精細な寸法で拡散反射層を部分的に除去することが必要となる場合に発生する問題である。
拡散反射板が光を拡散反射し得る凹凸形状を有するよう作製するためには、例えば感光性エレメントにより拡散反射下地層を形成する場合においては、仮支持体の凹凸形状をきちん再現させるために活性光線を十分照射して光反応を促進させる必要がある。しかし活性光線量が過剰になると、拡散反射層を設けたくない部分がネガマスク等で遮光しているにもかかわらず露光かぶりしてしまい、アルカリ水溶液等の現像液などで除去することができなくなってしまう。また逆に、拡散反射層を設けたくない部分をきちんと除去するために活性光線量を抑制すると、凹凸形状をきちんと再現することができなくなってしまい、凹凸転写性と解像性とを両立させることが困難であった。
本発明は、凹凸転写性と解像性が両立する拡散反射下地層を形成するための感光性樹脂、感光性エレメント、これを用いた反射型液晶表示装置用拡散反射板、およびその製造方法、ならびにそれを用いた反射型液晶表示装置を提供する。

課題を解決するための手段

0005

(1)本発明は、(I)共重合成分として、不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物(a)、エポキシ基含有不飽和化合物(b)、を必須成分として得られるアクリル系ポリマ(c)、
(II)少なくとも2個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物
(III)光重合開始剤
を含有する拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物に関する。
(2)また、本発明は、(1)記載の感光性樹脂組成物が、凹凸形状を有する仮支持体の凹凸形状面上に積層されている拡散反射下地層形成用感光性エレメントに関する。
(3)また、本発明は、(2)記載の拡散反射下地層形成用感光性エレメントに、活性光線を照射して露光部を光硬化させた後、仮支持体を剥離し、必要に応じて熱硬化させて凹凸形状を有する拡散反射下地層を形成し、さらに拡散反射下地層上に反射膜を形成した、反射型液晶表示装置用拡散反射板に関する。
(4)また、本発明は、凹凸形状を有する仮支持体の凹凸形状面上に(1)に記載の拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物を積層し、活性光線を照射して露光部を光硬化させた後、仮支持体をはく離、必要に応じて熱硬化させ、所望の凹凸形状を有する拡散反射下地層を形成し、さらに拡散反射下地層上に反射膜を形成する、反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方法に関する。
(5)また、本発明は、(3)記載の反射型液晶表示装置用拡散反射板を用いた反射型液晶表示装置に関する。

0006

以下、本発明を詳細に説明する。

0007

本発明における感光性樹脂組成物は、(I)共重合成分として、不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物(a)、エポキシ基含有不飽和化合物(b)、を必須成分として得られるアクリル系ポリマ(c)を必須成分として含有する。

0008

不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物(a)としては、例えばアクリル酸メタクリル酸クロトン酸、2ーカルボキシエチルメタクリル酸などのモノカルボン酸マレイン酸フマル酸シトラコン酸メサコン酸イタコン酸などのジカルボン、およびこれらジカルボン酸無水物が挙げられる。これらのうち、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸などが共重合反応性、および入手が容易である点から好ましく用いられる。これらは単独で用いても、混合して用いてもよい。

0009

これらの不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物(a)は、好ましくは5〜50重量部、特に好ましくは10〜40重量部含有している。含有量が5重量部未満の場合、現像性が著しく劣る恐れがある。また50重量部を超えると、感光性樹脂組成物の保存安定性硬化後の塗膜耐湿性耐アルカリ性等が悪くなる。

0010

本発明に使用される、エポキシ基含有不飽和化合物(b)としては、例えば、アクリル酸グリシジルメタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−n−プロピルアクリルグリシジル、α−n−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−3,4−エポキシブチル、メタクリル酸−3,4−エポキシブチル、メタクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、アクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、メタクリル酸−β−メチルグリシジル、メタクリル酸−β−エチルグリシジル、メタクリル酸−−プロピルグリシジル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル等が挙げられ、これらは単独で用いても、混合して用いてもよい。これらの中でも、共重合反応性、凹凸転写性、入手容易性、廉価性の点から、グリシジルメタクリレートが特に好ましい。これらは単独で用いても、混合して用いてもよい。

0011

これらのエポキシ基含有不飽和化合物(b)は、好ましくは3〜50重量部、特に好ましくは10〜30重量部含有している。含有量が5重量部未満の場合、凹凸転写性が十分得られなくなる恐れがあり、また50重量部を超えると、感光性樹脂組成物の保存安定性が悪くなる恐れがある。

0012

アクリル系ポリマ(c)は、メタクリル酸を必須成分とし、それ以外の共重合成分として、通常公知の、その他のエチレン性不飽和単量体を使用することができる。

0013

アクリル系ポリマ(c)は、不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物(a)、エポキシ基含有不飽和化合物(b)、を必須成分とし、必要に応じてその他のエチレン性不飽和単量体を使用し、例えば、有機溶媒中、重合開始剤の存在下でラジカル重合することにより製造できる。

0014

その他のエチレン性不飽和単量体としては、例えば、アクリル酸メチルアクリル酸エチル、アクリル酸イソプロピルアクリル酸n−ブチルアクリル酸イソブチル、アクリル酸n−ヘキシルアクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸ラウリル等のアクリル酸アルキルエステルメタクリル酸メチルメタクリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸n−ブチルメタクリル酸イソブチル、メタクリル酸n−ヘキシル、メタクリル酸2−エチルヘキシルメタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸アルキルエステルアクリロニトリルメタクリロニトリルアクリルアミドメタクリルアミド、メタクリル酸アミノメチル、メタクリル酸N−メチルアミノメチル、メタクリル酸N,N−ジメチルアミノメチル等のメタクリル酸アミノアルキル、アクリル酸N−メチルアミノメチル、アクリル酸N,N−ジメチルアミノエチル等のアクリル酸アミノアルキル、スチレンビニルトルエンα−メチルスチレン等のスチレン系単量体酢酸ビニル等が挙げられる。

0015

上記により得られるアクリル系ポリマ(c)の重量平均分子量ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定され、標準ポリスチレンを用いて作成した検量線により換算される)は、耐熱性、耐湿性、塗工性及び溶媒への溶解性等の点から、5,000〜200,000であることが好ましく、20,000〜80,000であることが特に好ましい。

0016

さらに、上記により得られる不飽和基含有アクリル系ポリマ(c)の酸価は10〜300(KOHmg/g)、好ましくは20〜200(KOHmg/g)であるとよい。酸価が10(KOHmg/g)未満の場合、希アルカリ水溶液による現像性が劣る。逆に酸価が300を越えると、感光性樹脂組成物の保存安定性、硬化後の塗膜の耐湿性、耐アルカリ性等が悪くなる。

0017

(I)成分の使用量は、(I)及び(II)成分の総量100重量部に対して、20〜80重量部とすることが好ましい。この使用量が20重量部未満では、塗工性が低下する傾向があり、80重量部を超えると、耐熱性、光硬化性が低下する傾向がある。

0018

本発明に用いられる(II)少なくとも2個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物としては、例えば、多価アルコールにα,β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、2,2−ビス(4−(ジ(メタアクリロキシポリエトキシフェニルプロパングリシジル基含有化合物にα、β−不飽和カルボン酸を反応させで得られる化合物、ウレタンモノマーノニルフェニルジオキシレン(メタ)アクリレート、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β′−(メタ)アクリロイルオキシエチル−o−フタレート、β−ヒドロキシエチル−β′−(メタ)アクリロイルオキシエチル−o−フタレート、β−ヒドロキシプロピル−β′−(メタ)アクリロイルオキシエチル−o−フタレート、(メタ)アクリル酸アルキルエステル等が挙げられる。

0019

上記多価アルコールにα,β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物としては、例えば、エチレン基の数が2〜14であるポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレン基の数が2〜14であるポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジエトキシトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンテトラエトキシトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンペンタエトキシトリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、プロピレン基の数が2〜14であるポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。

0020

上記α,β−不飽和カルボン酸としては、例えば、(メタ)アクリル酸等が拳げられる。

0021

上記2,2−ビス(4−(ジ(メタ)アクリロキシポリエトキシ)フェニル)プロパンとしては、例えば、2,2−ビス(4−(ジ(メタ)アクリロキシジエトキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(ジ(メタ)アクリロキシトリエトキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(ジ(メタ)アクリロキシペンタエトキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(ジ(メタ)アクリロキシデカエトキシ)フェニル)等が挙げられ、2,2−ビス(4−(メタクリロキシペンタエトキシ)フェニル)プロパンは、BPE−500(新中化学工業(株)製、商品名)として商業的に入手可能である。

0022

上記グリシジル基含有化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)フェニル等が拳げられる。

0023

上記ウレタンモノマーとしては、例えば、β位にOH基を有する(メタ)アクリルモノマーイソホロンジイソシアネート、2,6−トルエンジイソシアネート、2,4−トルエンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート等との付加反応物、トリス((メタ)アクリロキシテトラエチレングリコールイソシアネートヘキサメチレンイソシアヌレート、EO変性ウレタンジ(メタ)アクリレート、EO,PO変性ウレタンジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。なお、EOはエチレンオキサイドを示し、EO変性された化合物はエチレンオキサイド基ブロック構造を有する。また、POはプロピレンオキサイドを示し、PO変性された化合物はプロピレンオキサイド基のブロック構造を有する。

0024

上記(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸メチルエステル、(メタ)アクリル酸エチルエステル、(メタ)アクリル酸ブチルエステル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシルエステル等が挙げられる。
これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。

0025

本発明で用いる(II)成分の使用量は、(I)及び(II)成分の総量100重量部に対して、20〜80重量部とすることが好ましい。この使用量が20重量部未満では、光感度が低い傾向があり、80重量部を超えると、塗膜性が低下する傾向がある。

0026

本発明で用いる(III)光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、N,N′−テトラメチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、N,N′−テトラエチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、4−メトキシ−4′−ジメチルアミノベンゾフェノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−プロパノン−1等の芳香族ケトン、2−エチルアントラキノンフェナントレンキノン、2ーtertーブチルアントラキノンオクタメチルアントラキノン、1,2ーベンズアントラキノン、2,3ーベンズアントラキノン、2ーフェニルアントラキノン、2,3ージフェニルアントラキノン、1ークロロアトラキノン、2ーメチルアントラキノン、1,4−ナフトキノン、9,10−フェナンタラキノン、2−メチル1,4−ナフトキノン、2,3−ジメチルアントラキノン等のキノン類ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物、ベンゾイン、メチルベンゾインエチルベンゾイン等のベンゾイン化合物、ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(メトキシフェニル)イミダゾール二量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体等の2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体、9−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9,9′−アクリジニルヘプタン等のアクリジン誘導体N−フェニルグリシン、N−フェニルグリシン誘導体クマリン系化合物などが挙げられる。また、2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体において、2つの2,4,5−トリアリールイミダゾール置換した置換基は同一でも相違していてもよい。また、ジエチルチオキサントンジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン系化合物と3級アミン化合物とを組み合わせてもよい。また、解像度密着性及び感度見地からは、2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体がより好ましい。これらは、単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。

0027

本発明で用いる(III)成分の使用量は、(I)及び(II)成分の総量100重量部に対して、0.1〜20重量部とすることが好ましい。この使用量が0.1重量部未満では、光感度が低い傾向があり、20重量部を超えると、光透過性、耐熱性が低下する傾向がある。

0028

また、本発明における感光性樹脂組成物には、必要に応じて、シランカップリング剤などの密着性付与剤レベリング剤、はく離促進剤、可塑剤充填剤消泡剤難燃剤、安定剤、酸化防止剤香料熱架橋剤などを(I)成分及び(II)成分の総量100重量部に対して各々0.01〜20重量部程度含有することができる。これらは、単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。

0029

さらに、本発明における感光性樹脂組成物は、必要に応じて、メタノールエタノールアセトンメチルエチルケトン、メチルセロソルブエチルセロソルブトルエン、N,N−ジメチルホルムアミドプロピレングリコールモノメチルエーテル等の溶剤又はこれらの混合溶剤に溶解して固形分30〜60重量%程度の溶液として塗布することができる。

0030

本発明における凹凸形状を有する仮支持体としては、特に制限なく公知のものを使用することができるが、基板上に感光性エレメントを貼り合わせる点、及び感光性エレメントを貼り付け、光硬化させた後、はく離する点で特に好適であるという理由から、ポリプロピレンポリエチレンテレフタレートポリエステル等を材質としたフイルムベースフイルムとして用い、それをサンドブラスト処理等で直接凹凸形状を設けて仮支持体とすることや、前記したベースフイルム上に光硬化性樹脂及びまたは熱硬化樹脂性樹脂を積層して、像状露光や熱成形等により凹凸形状を設けてベースフイルムと合わせて仮支持体とすること等が特に好ましい。

0031

また、このときの凹凸形状については、外光をより効率良く利用して明るい表示を得るために、垂直な方向に散乱する光の強度を増加させることができるような構造を有するものであれば、特に制限はない。

0032

本発明における感光性樹脂組成物の層を積層する方法としては、公知の方法を用いることができ、例えば、ドクターブレードコーティング法マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法ディップコーティング法、グラビアコーティング法カーテンコーティング法等が挙げられる。

0033

本発明における、光硬化させるための活性光線としては、カーボンアーク灯超高圧水銀灯高圧水銀灯キセノンランプ等の紫外線を有効に放射するものであれば特に制限されない。

0034

本発明においては、アートワークと呼ばれるネガマスクパターンを通して活性光線をパターン状に照射した後、現像液等で現像して未露光部を除去し、部分的に拡散反射層を形成しても良い。

0035

この際、現像液としては、安全かつ安定であり、操作性が良好なものが用いられ、例えば、20〜50℃の炭酸ナトリウム希薄溶液(1〜5重量%水溶液)などが用いられる。

0036

また現像後、熱硬化及び又は架橋反応を促進させ凹凸転写性を良好とすることを目的として、80〜250℃程度で加熱を行うことが特に好適である。

0037

【実施例】
次に本発明を実施例により詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例1
凹凸形状を有する仮支持体としてサンドブラスト処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、表1の配合で調整した感光性樹脂組成物を、このフィルム上にコンマコーターで5μmの厚さに塗布し、110℃の熱風対流式乾燥機で3分間乾燥した後ポリエチレンフィルム被覆することで、感光性エレメントを作製した。
得られた感光性エレメントのポリエチレンフィルムをはがしながら、厚さ1mmのソーダガラス基板の上に感光性樹脂組成物の層を、ロール温度120℃、ロール圧0.4MPa、速度0.5m/分の条件でラミネートして、ガラス基板上に感光性樹脂組成物の層、仮支持体が積層した基板を作製した。
仮支持体上にネガマスク(部分的に幅30μmを遮光するパターン有り)を載置し、仮支持体側から、3KW超高圧水銀灯(HMW−590、(株)オーク製作所製)で30、150mJ/cm2の紫外線を照射してから、仮支持体を引きはがした。
【表1】
感光性樹脂組成物の配合

(*)メタクリル酸/グリシジルメタクリレート/メタクリル酸メチル/アクリル酸ブチル/スチレン共重合体重量比で20/20/30/15/15)を共重合したポリマ(プロピレングリコールモノメチルエーテル溶媒で固形分40%);重量平均分子量は35,000

0038

比較例1
(I)成分として、メタクリル酸/メタクリル酸メチル/アクリル酸ブチル/スチレン共重合体(重量比で20/40/15/25)100重量部とグリシジルメタクリレート15重量部を開環付加反応させて不飽和基を導入したポリマ(プロピレングリコールモノメチルエーテル溶媒で固形分42%、重量平均分子量は37,000)を用いた以外はすべて実施例1と同様にして感光性樹脂組成物を調整し、これを用いて実施例1と同様の方法により基板を作製し、現像性と凹凸転写性を評価した。

0039

現像性と凹凸転写性の評価
実施例では、活性光線照射後の基板を、30℃、1重量%炭酸ナトリウム水溶液スプレー現像を行った後、230℃の熱風対流式乾燥機で30分間熱硬化したところ、30、150mJ/cm2の紫外線を照射して作製した基板のいずれも、感光性樹脂層の表面はサンドブラスト加工された凹凸が転写されており、拡散反射特性に優れた凹凸形状であった。
また紫外線照射時にネガマスクで遮光した幅30μmのパターンは、150mJ/cm2の紫外線を照射して作製した基板では露光かぶりしており解像されなかったが、30mJ/cm2の紫外線を照射して作製した基板では露光かぶりすることなく解像されていた。

発明を実施するための最良の形態

0040

比較例では、150mJ/cm2の紫外線を照射して作製した基板は、感光性樹脂層の表面はサンドブラスト加工された凹凸が転写されており、拡散反射特性に優れた凹凸形状であったが、紫外線照射時にネガマスクで遮光した幅30μmのパターンは、露光かぶりしており解像されなかった。
また、30mJ/cm2の紫外線を照射して作製した基板では露光かぶりすることなく解像されていたが、感光性樹脂層の表面は露光不足及び熱反応不足により、サンドブラスト加工された凹凸が転写されていなかった。

発明の効果

0041

本発明により、解像性と凹凸転写性に優れた拡散反射板を歩留り良く製造することができる。また、これによりさらに外光をより効率良く利用して明るい表示を得られる信頼性に優れた拡散反射板及び反射型液晶表示装置を歩留り良く製造することができる。

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