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技術 記録媒体用基板のトレー、記録媒体用基板の供給装置および供給方法

出願人 株式会社ユーシン精機來徳科技股分有限公司
発明者 国領秀機北村武彦
出願日 2002年6月24日 (18年6ヶ月経過) 出願番号 2002-182979
公開日 2004年1月29日 (16年10ヶ月経過) 公開番号 2004-030743
状態 特許登録済
技術分野 物理蒸着 光記録担体の製造
主要キーワード 側保持体 表面処理領域 重ね合せ状態 スパッタ金属層 外側平面 押えピン ピン貫通孔 天地逆転
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重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(2004年1月29日)のものです。
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図面 (8)

課題

光ディスク基板を挟持して収容させる一対の保持体からなるトレーに付着したスパッタ金属が剥がされ異物となって自動機内に拡散されることがないようにする。

解決手段

スパッタの金属雰囲気に晒されるA側保持体2は、光ディスク基板Dの配置位置には最小径部22が光ディスク基板Dのスパッタ処理領域と一致する透孔21が設けられ、且つ金属雰囲気が投影される外側平面24に金属雰囲気投影領域全域を窪ませた凹所25が設けられる。トレー1のフタ側となるB側保持体3は、光ディスク基板Dの配置位置に光ディスク基板Dのセンター孔D1と係合させる係合ピン30が設けられ、且つA側保持体2と重ね合わせる内側面39にA側保持体2をマグネット吸着させるマグネットMが埋設される。

概要

背景

例えば、上記記録媒体としての光ディスクは、記録層反射膜等を構成する金属膜を両面に有するものが広く知られている。この金属膜は、樹脂成形された光ディスク基板の表面にアルミニウムニッケル等の金属をスパッタ処理して形成されている。このスパッタ処理による表面処理は、上記スパッタ処理を行うスパッタ装置と、このスパッタ装置との間で光ディスク基板の受渡しを行うディスク供給装置とを備えたスパッタ処理自動機によって行われている。そして、このスパッタ処理自動機によって光ディスク基板を表面処理するに際し、光ディスク基板は、トレーに収容させた状態で取扱われる。

概要

光ディスク基板を挟持して収容させる一対の保持体からなるトレーに付着したスパッタ金属が剥がされ異物となって自動機内に拡散されることがないようにする。スパッタの金属雰囲気に晒されるA側保持体2は、光ディスク基板Dの配置位置には最小径部22が光ディスク基板Dのスパッタ処理領域と一致する透孔21が設けられ、且つ金属雰囲気が投影される外側平面24に金属雰囲気投影領域全域を窪ませた凹所25が設けられる。トレー1のフタ側となるB側保持体3は、光ディスク基板Dの配置位置に光ディスク基板Dのセンター孔D1と係合させる係合ピン30が設けられ、且つA側保持体2と重ね合わせる内側面39にA側保持体2をマグネット吸着させるマグネットMが埋設される。 

目的

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
0件

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請求項1

中心にセンター孔を有した記録媒体用基板を片面ずつ表面処理する自動機内で使用され、A側保持体とB側保持体とが一対に重ね合わされてその間に上記記録媒体用基板を挟持して収容させるトレーにおいて、上記A側保持体は、該トレーにおいて表面処理媒体投影される処理面側となるものであって、上記記録媒体用基板の配置位置には最小径部が該記録媒体用基板の表面処理領域と略一致する透孔が設けられ、且つ表面処理媒体が投影される外側平面には上記透孔を囲んだ表面処理媒体投影領域の略全域を窪ませた凹所が設けられており、上記B側保持体は、該トレーにおいてフタ側となるものであって、上記記録媒体用基板の配置位置には該記録媒体用基板のセンター孔に係合させる係合ピンが設けられ、且つ上記A側保持体と重ね合わせる内側面にはA側保持体をマグネット吸着させるマグネットMが埋設されていることを特徴とする記録媒体用基板のトレー。

請求項2

請求項1に記載の記録媒体用基板のトレーにおいて、上記B側保持体は、上記係合ピンの周囲に記録媒体用基板の表面処理領域と略一致する凹部が設けられていることを特徴とする記録媒体用基板のトレー。

請求項3

中心にセンター孔を有した記録媒体用基板の片面側に表面処理を施す処理部との間で上記記録媒体用基板を搬送する搬送部を備えた表面処理装置付設され、上記搬送部との間で上記記録媒体用基板の受け渡しを行う記録媒体用基板の供給装置において、該供給装置では、請求項1に記載のトレーが使用され、上記トレーを一時保持する基板載置部と、上記トレーをフタ開けし、該トレーに収容された片面が表面処理済みの記録媒体用基板を取り出して反転させ、未処理の基板面がトレーの透孔から露出されるように裏返す基板反転部と、上記表面処理装置の搬送部に対して上記基板載置部から受け取った両面未処理の記録媒体用基板を収容したトレーと上記基板反転部から受け取った片面処理済みの記録媒体用基板を収容したトレーとを交互に渡すようにした基板受け渡し部とを備えることを特徴とする記録媒体用基板の供給装置。

請求項4

中心にセンター孔を有した記録媒体用基板の片面側に表面処理を施す表面処理装置に対する上記記録媒体用基板の供給方法において、請求項1に記載のトレーが使用され、上記トレーに収容した片面が表面処理済みの記録媒体用基板を、基板反転部によって取り出して反転させ、未処理の基板面がトレーの透孔から露出されるように裏返し、次いで、上記基板反転部から取り出した片面が表面処理済みの記録媒体用基板を収容したトレーを、基板載置部から取り出した両面未処理の記録媒体用基板を収容したトレーと交互に上記表面処理装置側に渡すようにしたことを特徴とする記録媒体用基板の供給方法。

技術分野

0001

本発明は、中心にセンター孔を有した記録媒体用基板を片面ずつ表面処理する自動機内で使用される記録媒体用基板のトレーに関する。また、本発明は、上記トレーを使用した記録媒体用基板の供給装置、および記録媒体用基板の供給方法に関する。

0002

例えば、上記記録媒体としての光ディスクは、記録層反射膜等を構成する金属膜を両面に有するものが広く知られている。この金属膜は、樹脂成形された光ディスク基板の表面にアルミニウムニッケル等の金属をスパッタ処理して形成されている。このスパッタ処理による表面処理は、上記スパッタ処理を行うスパッタ装置と、このスパッタ装置との間で光ディスク基板の受渡しを行うディスク供給装置とを備えたスパッタ処理自動機によって行われている。そして、このスパッタ処理自動機によって光ディスク基板を表面処理するに際し、光ディスク基板は、トレーに収容させた状態で取扱われる。

0003

図7に示すように、このような上記トレー700は、一対の保持体701,702からなり、これら保持体701,702間に所定枚数の光ディスク基板Dを挟持させる。また、これら保持体701,702は、ともに光ディスク基板Dの表面処理領域となる金属膜形成領域と一致する透孔710,720が形成されている。

0004

そして、上記スパッタ装置内においては、上記トレー700の片面側を保持し、その反対面側に金属雰囲気投射され、この反対面側における保持体701(702)の透孔710(720)を通して光ディスク基板Dの基板面にスパッタ処理が行われる。これによって、光ディスク基板Dの片面側にスパッタ処理による金属膜が形成される。また、この片面側のスパッタ処理が完了すると、上記ディスク供給装置によってトレー700を反転させた後、上記同様にしてスパッタ装置によって、もう一方の片面側にもスパッタ処理が行われる。

背景技術

0005

このようにして光ディスク基板Dの両面ともにスパッタ処理が行われるが、光ディスク基板Dを上記トレー700に収容させることによって、自動機における各装置のアーム等が記録面となる光ディスク基板Dの表面を直接触れることがない。その結果、光ディスクの表面にキズが付く等の不良品発生が防止される。

0006

しかしながら、上記スパッタ装置によって、光ディスク基板Dを片面側ずつスパッタ処理している間に、上記トレー700の表裏面にも金属雰囲気投影領域の範囲で金属膜が付着される。そして、スパッタ処理自動機内において、上記トレー700に対して搬送、受渡し、保持、フタ開け等の取扱い動作が行われるときは、各装置のアーム等がトレー700の表裏面を直接触れることとなる。その結果、トレー700に付着していた金属膜が剥がれ、これがゴミ等の異物となってスパッタ処理自動機内に拡散し、光ディスク基板Dの表面に付着して不良品を発生させる原因となっていた。

発明が解決しようとする課題

0007

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、トレーに付着した表面処理媒体剥離され異物となって自動機内に拡散されることがないようなトレーを実現するものである。
また、本発明は、このようなトレーを使用した記録媒体用基板の供給装置および記録媒体基板の供給方法を実現するものである。

0008

(1)第1の本発明に係る記録媒体用基板のトレー(請求項1)は、中心にセンター孔を有した記録媒体用基板を片面ずつ表面処理する自動機内で使用され、A側保持体とB側保持体とが一対に重ね合わされてその間に上記記録媒体用基板を挟持して収容させるトレーにおいて、
上記A側保持体は、該トレーにおいて表面処理媒体が投影される処理面側となるものであって、上記記録媒体用基板の配置位置には最小径部が該記録媒体用基板の表面処理領域と略一致する透孔が設けられ、且つ表面処理媒体が投影される外側平面には上記透孔を囲んだ表面処理媒体投影領域の略全域を窪ませた凹所が設けられており、
上記B側保持体は、該トレーにおいてフタ側となるものであって、上記記録媒体用基板の配置位置には該記録媒体用基板のセンター孔に係合させる係合ピンが設けられ、且つ上記A側保持体と重ね合わせる内側面にはA側保持体をマグネット吸着させるマグネットMが埋設されていることを特徴とするものである。
上記トレーとして、上記B側保持体は、上記係合ピンの周囲に記録媒体用基板の表面処理領域と略一致する凹部が設けられていてもよい(請求項2)。

0009

(2)第2の本発明に係る記録媒体用基板の供給装置(請求項3)は、中心にセンター孔を有した記録媒体用基板の片面側に表面処理を施す処理部との間で上記記録媒体用基板を搬送する搬送部を備えた表面処理装置付設され、上記搬送部との間で上記記録媒体用基板の受け渡しを行う記録媒体用基板の供給装置において、
該供給装置では、上記トレー(請求項1または2)が使用され、
上記トレーを一時保持する基板載置部と、
上記トレーをフタ開けし、該トレーに収容された片面が表面処理済みの記録媒体用基板を取り出して反転させ、未処理の基板面がトレーの透孔から露出されるように裏返す基板反転部と、
上記表面処理装置の搬送部に対して上記基板載置部から受け取った両面未処理の記録媒体用基板を収容したトレーと上記基板反転部から受け取った片面処理済みの記録媒体用基板を収容したトレーとを交互に渡すようにした基板受け渡し部とを備えることを特徴とするものである。

課題を解決するための手段

0010

(3)第3の本発明に係る記録媒体用基板の供給方法(請求項4)は、中心にセンター孔を有した記録媒体用基板の片面側に表面処理を施す表面処理装置に対する上記記録媒体用基板の供給方法において、
請求項1に記載のトレーが使用され、
上記トレーに収容した片面が表面処理済みの記録媒体用基板を、基板反転部によって取り出して反転させ、未処理の基板面がトレーの透孔から露出されるように裏返し、
次いで、上記基板反転部から取り出した片面が表面処理済みの記録媒体用基板を収容したトレーを、基板載置部から取り出した両面未処理の記録媒体用基板を収容したトレーと交互に上記表面処理装置側に渡すようにしたことを特徴とするものである。

0011

以下に、本発明の実施の形態について添付図面を参照しながら説明する。
実施の形態による記録媒体用基板のトレーは、記録媒体用基板としての光ディスク基板の片面に表面処理を施す自動機内で使用されるものであって、A側保持体とB側保持体とが一対に重ね合わされてその間に複数枚の上記光ディスク基板を挟持して収容させる構成のものである。また、このトレーは、自動機内においてはその外周部分や上下の平面部分が把持されて搬送、受渡し等される。なお、図5に示すように、上記光ディスク基板Dとしては中心にセンター孔D1を有する円盤状のものである。

0012

図1は、実施の形態による記録媒体用基板のトレー1の断面図を示し、図2は、A側保持体2の外側の平面図を示し、図3は、B側保持体3の内側の平面図を示す。

0013

図1〜3に示すように、上記トレー1は、円盤状の外形を有し、表面処理媒体の投影される処理面側となるA側保持体2と、これに重ね合わされるフタ側となるB側保持体3との一対からなり、これらA側保持体2とB側保持体3とは、略同形の円盤状の外形を有する。そして、このトレー1は、A側保持体2とB側保持体3との間に6枚の上記光ディスク基板Dを円形状に並べて収容させる。

0014

上記A側保持体2は、B側保持体3との重ね合せ面に6枚の光ディスク基板Dをそれぞれ配置させる空所20が6箇所形成されている。この空所20は、上部が拡大されたテーパ状に形成され、光ディスク基板Dを空所20に配置させる際にこのテーパ面に沿って光ディスク基板Dが底部に確実に収容されるようにしている。

0015

また、空所20には、これと連通し、A側保持体2の外側平面24に貫通する透孔21が設けられている。この透孔21は、空所20との連通部分22から外側平面24へ向けて拡大するテーパ状に形成されている。この連通部分22が透孔21の最小径部となる。そして、上記連通部分22は、上記光ディスク基板Dの外径よりも小径であって、その基板面の表面処理領域と略一致する大きさの支持部23となっている。この支持部23によって、空所20に収容された光ディスク基板Dが支持されるようにしている。

0016

また、透孔21における外側平面24の開口が上記連通部分22での開口よりも大きく形成されることによって、例えば、スパッタ処理時の金属雰囲気のような表面処理媒体が空所20に収容された光ディスク基板Dの基板面全体ムラなく到達されるようにしている。

0017

また、上記A側保持体2は、外側平面24において上記透孔21を囲んだ表面処理媒体投影領域の全域を窪ませた凹所25が形成されている。これにより、自動機内のアーム等によってこのトレー1を搬送等する際にA側保持体2の外側平面24全域を把持するようにしても凹所25となった表面処理媒体投影領域には触れられることがない。従って、トレー1の表面処理媒体投影領域に付着した表面処理媒体が剥がされ、これがゴミとなって自動機内に拡散されることもないから、光ディスク基板表面には異物が付着されることなく綺麗な表面状態を保つことができる。

0018

また、A側保持体2の外周縁には、6箇所にピン貫通孔26が設けられている(図2を参照)。これらピン貫通孔26によって、トレー1のフタ開けの際に突上げピンを挿入させ、フタ側となるB側保持体3を下から突き上げることができ、フタ開け動作を円滑に行えるようにしている。

0019

一方、上記B側保持体3は、A側保持体2との重ね合せ面となる内側面39に係合ピン30が形成されている。この係合ピン30は、上記A側保持体2の空所20と対応する各々の個所に形成されており、空所20内に配置された光ディスク基板Dのセンター孔D1に係合される。これによって、トレー1に収容された光ディスク基板Dを不動に且つ位置決め状態に保持させるようにしている。従って、トレー1を立てた状態としたときでも、収容する光ディスク基板Dが動いてトレー1の透孔21から基板面の表面処理領域がズレることがない。よって、上記透孔21を通した光ディスク基板Dの表面処理は、この光ディスク基板Dの表面処理領域に対して偏ることなく正確に行うことができる。

0020

また、この係合ピン30の周囲は、光ディスク基板Dの表面処理領域に一致する環状の凹部31が形成されている。この凹部31の存在によって、B側保持体3の内側面39との間でも光ディスク基板Dにおける基板面の表面処理領域を非接触としている。従って、光ディスク基板Dにおける表面処理前の基板面および表面処理後の基板面に対して上記B側保持体3からゴミ等が転写されることがなく、光ディスク基板表面には異物の付着がない綺麗な表面状態に保つことができ、しかも、基板表面にキズを付けることも防止できる。

0021

また、このB側保持体3は、上記凹部31に連続して外側平面32に貫通した窓孔33が2個ずつ設けられている(図3を参照)。この窓孔33は、トレー1内に光ディスク基板Dが収容されているか否かを確認できるようにしている。

0022

また、このB側保持体3の内側面39には、外周縁と中心部とに上記A側保持体2をマグネット吸着させるマグネットMが多数埋設されている(図3を参照)。なお、A側保持体2は、それ自体がマグネット吸着される金属で形成されていてもよいし、その内側面29にマグネット吸着される金属板などが適宜位置に貼着されていてもよい。これによって、上記A側保持体2と上記B側保持体3とが互いの内側面29,39を重ね合わせてマグネット吸着される構成としている。このように、フタ側となるB側保持体3にマグネットMを設置するようにし、処理面側となるA側保持体2にはマグネットMの設置を不要とすることができる。

0023

従って、上記トレー1に付着した表面処理媒体を除去するには、表面処理媒体が投影されるA側保持体2を繰り返して洗浄する必要があるが、頻繁に洗浄が必要な上記A側保持体2にはマグネットMが設けられていない。その結果、トレー1洗浄の繰り返しによって上記B側保持体3に埋設したマグネットMの磁力低下を来たすことがなく、よって、洗浄が繰り返して行われたトレー1であっても光ディスク基板Dの挟持を安定して行うことができる。

0024

また、このB側保持体3の外周縁には、対向する2箇所に切欠部34が形成されている(図3を参照)。そのため、B側保持体3とA側保持体2との重ね合わせ状態では、上記各切欠部34相当の範囲でA側保持体2の内側面29が露出される。これにより、トレー1のフタ開けの際にこの露出部分を押えピン等で押え付けておくことによって、フタ側となるB側保持体3がA側保持体2から容易に分離されるようになる。

0025

また、上記A側保持体2と上記B側保持体3とは、これらの重ね合せ状態のときに一致する切込部K2,K3と角部C2,C3とが形成されている(図2図3を参照)。これら切込部K2,K3と角部C2,C3とは、自動機内でのトレー1の周方向の位置合せや、フタ閉めするときのB側保持体3とA側保持体2との位置合せ等のため、ガイド部材等を当接させるのに利用される。なお、B側保持体3の中心部には、中心貫通孔35が設けられており、この中心貫通孔35は、トレー1のフタ開け時にB側保持体3を持ち上げる軸が挿入嵌合される。

0026

(供給装置について)
次に、上記トレー1が使用される自動機の例を説明する。以下では、この自動機として、光ディスク基板Dにスパッタ処理を行うものを例示する。
図4は、光ディスク基板Dにスパッタ膜を形成するスパッタ処理自動機の構成図を示す。図4に示すように、このスパッタ処理自動機は、光ディスク基板Dの表面処理装置としてのスパッタ装置Fと、このスパッタ装置Fに付設されて光ディスク基板Dをトレー1に収容させてスパッタ装置Fに供給するディスク供給装置Gとを備えるものである。

0027

上記スパッタ装置Fは、上述のトレー1に収容した光ディスク基板Dの片面側にスパッタ処理を施すスパッタチャンバー(処理部)41と、このスパッタチャンバー41と上記ディスク供給装置Gとの間で上記光ディスク基板Dを収容したトレー1の受渡しを行うディスクローダ(搬送部)42とを備える。なお、スパッタチャンバー41には、P1〜P4のポジションが設けられて順次反時計方向間欠回転し、ポジションP1〜P3に保持されたトレー1内の光ディスク基板Dにスパッタ処理が施され、ポジションP4ではトレー1の受渡しが行われる。

0028

このスパッタチャンバー41において、トレー1は、B側保持体3側が保持され、A側保持体2側がスパッタ処理による金属雰囲気の投影側に向けられる。従って、トレー1のA側保持体2には、スパッタチャンバー41の金属雰囲気に晒される外側平面24にスパッタ金属層が積層されていくが、上述のように、A側保持体2の金属雰囲気投影領域には凹所25となっているので、この凹所25の範囲内にのみスパッタ金属層が積層されることとなる。
上記ディスク供給装置Gは、ディスク供給部5と、ディスク載置部6と、ディスク受渡し部7と、ディスク反転部8と、ディスク回収部9とを備える。

0029

そして、成形後の両面未スパッタの光ディスク基板Dは、ディスク供給部5に配置される。このディスク供給部5は、ディスク供給ステージ51と、スペーサーストックステージ52と、2つの把持部を持つアーム53とを備え、光ディスク基板Dは、図5に示すような、保持具HのポールPに中心孔S1を有したスペーサーSを1枚おきに介在させて串刺し状に保持させた状態でディスク供給ステージ15に配置される。そして、このディスク供給ステージ51の光ディスク基板Dは、アーム53の一方の把持部によって順次テンポラリーステージT1に6枚平置きにされ、次いでアーム53によって一度にディスク載置部6に移される。なお、ディスク供給ステージ51上のスペーサーSは、アーム53の他方の把持部によってスペーサーストックステージ52に移される。

0030

上記ディスク載置部6は、メインステージ61と、フタ開けユニット62とを備え、メインステージ61の両端には、上述のトレー1がA側保持体2側を下向きにして載置され、一端側のトレー1は、フタ開けユニット62によってB側保持体3を持ち上げフタ開けされている。このフタ開け状態のトレー1に収容したスパッタ処理済みの光ディスク基板DがアームL1の他方の把持部によって一度にテンポラリーステージT2に移されると、アームL1の一方の把持部によってテンポラリーステージT1上の6枚の新たな光ディスク基板Dがトレー1のA側保持体2内に置かれる。そして、このトレー1がフタ開けユニット62によってフタ閉めされた後、メインステージ61が180度回転される。

0031

なお、このメインステージ61上において、上記トレー1は、そのA側保持体2を下向きにして載置されるが、上述のようにA側保持体2にはスパッタ処理時における金属雰囲気(表面処理媒体)の投影領域全域が凹所25となっているので、この金属雰囲気投影領域がメインステージ61と接触されることがない。従って、この金属雰囲気投影領域にスパッタ処理での金属層が付着されていても剥がされることがなく、これが異物となってスパッタ処理自動機内に拡散されることもない。その結果、光ディスク基板Dの基板面に異物の付着によって不良品が発生するような事態を防止することができる。

0032

次に、メインステージ61上の新たな光ディスク基板Dが収容されたトレー1は、ディスク受渡し部72によって取り出されてスパッタ装置Fに渡される。すなわち、ディスク受渡し部7は、アームユニット71と、移載ユニット72とを備え、アームユニット71がお辞儀動作してメインステージ61のトレー1をそのU字状ツメ部711で挟んで取り出し、そして、このトレー1を移載ユニット72の一方の把持部721に渡す。すると、移載ユニット72は、180度回転し、アームユニット71から受け取ったトレー1をスパッタ装置Fのディスクローダ42に渡す。このディスクローダ42でも、上記トレー1のA側保持体2側を把持するが、上述のとおり凹所25によって非接触とされ、トレー1に付着した金属層が剥がされることもない。

0033

このとき、移載ユニット72は、スパッタ済みの光ディスク基板Dを収容したトレー1を他方の把持部722に保持しており、このトレー1は、上記アームユニット71が上記メインステージ61からのトレー1を渡した後に受け取る。そして、アームユニット71は、移載ユニット7から受け取ったトレー1が片面スパッタ済みの光ディスク基板Dを収容したものであれば、このトレー1をディスク反転部8に置く。なお、このときも、ディスク反転部8に置かれたトレー1は、A側保持体2を下向きにして載置されるが、上述したように、A側保持体2には金属雰囲気の投影領域全域が凹所25となっているので、この金属雰囲気投影領域がディスク反転部8と接触されることがなく、そのため、トレー1に付着した金属層が剥がされてスパッタ処理自動機内にまき散されることもない。従って、光ディスク基板Dの基板面に異物が付着されるような事態を防止できる。

0034

上記ディスク反転部8は、上記ディスク載置部6に備えたものと略同様のフタ開けユニット81と、反転板82と載置板83とを有した反転ユニット80と、光ディスク基板Dを6枚同時に把持する1本の把持部を有したアーム84とを備える。

0035

そして、このディスク反転部8に置かれたトレー1は、まず、フタ開けユニット81によってフタ開けし、次いでアーム84によってトレー1から6枚の光ディスク基板Dを一度に取り出して反転ユニット80に移す。すると、反転ユニット80の反転板82は、上面部に6枚の光ディスク基板Dを保持した状態で、天地逆転するように回動されると同時に載置板83上に対向される。この状態で反転板82に保持した6枚の光ディスク基板Dが載置板83に移される。従って、この載置板83上の6枚の光ディスク基板Dは、反転された状態となる。すると、アーム84によって載置板83から反転された6枚すべての光ディスク基板Dが取り出され、トレー1に収容させる。そして、フタ開けユニットでフタ閉めされる。

0036

このようにしてディスク反転部8で裏返された片面スパッタ済みの光ディスク基板Dを収容したトレー1は、再びディスク受渡し部7のアームユニット71によって移載ユニット72に渡され、スパッタ装置Fに供給される。

0037

なお、このとき、アームユニット71は、ディスク反転部8からの片面スパッタ済みの光ディスク基板Dを収容したトレー1と、ディスク載置部6からの両面未スパッタの光ディスク基板Dを収容したトレー1とを交互に移載ユニット72に渡すようにして、スパッタ装置Fへ供給させる。従って、スパッタ装置Fには、両面未スパッタの光ディスク基板Dと片面スパッタ済みの光ディスク基板Dとが交互に供給されるから、スパッタ工程の前後の工程ではスパッタ工程が完了する度に待機状態とフル稼動状態とが繰り返されるという事態が起こらず、平準化される。従って、スパッタ工程の前後の工程における作業ユニットを効率良く稼動させることができる。

0038

一方、アームユニット71は、移載ユニット72から受け取ったトレー1が両面スパッタ済みの光ディスク基板Dを収容したものであれば、このトレー1を上記ディスク載置部6に渡す。そして、メインステージ61が180度回転され、フタ開けユニット62によってトレー1のフタ開けが行われると、アームL1によってトレー1から両面スパッタ済みの光ディスク基板Dが取り出され、テンポラリーステージT2に移される。

0039

テンポラリーステージT2に置かれた両面スパッタ済みの光ディスク基板Dは、アームL2によって1枚ずつスキャナーSCに通されて光ディスク基板Dの両面ともにスパッタ膜が形成されているか否かの確認が行われた後、テンポラリーステージT3上に光ディスク基板Dを開放する。そして、テンポラリーステージT3上の光ディスク基板Dは、ディスク回収部9によって回収される。

0040

ディスク回収部9は、ディスク回収ステージ91と、スペーサーストックステージ92と、2つの把持部を持つアーム93と、品質検査ステージ94と、NGステージ95とを備える。

0041

テンポラリーステージT3が180度回転された後、上記アーム93によってテンポラリーステージT3上の光ディスク基板Dを把持し品質検査ステージ94に移す。この品質検査ステージ94で一定の品質を満たしている光ディスク基板Dは、上記アーム93によってディスク回収ステージ91に移されるが、一定以上の品質を満たしていない光ディスク基板Dは、上記NGステージ95に移される。

0042

アーム93の他方の把持部はスペーサーストックステージ92からスペーサーSを1つずつ取り出し、ディスク回収ステージ91に渡す。このディスク回収ステージ91には、上述したディスク供給部5のディスク供給ステージ51に置かれたものと同じ保持具H(図5を参照)が置かれている。これによって、ディスク回収ステージ91上では、上記保持具Hに両面スパッタ済みの光ディスク基板DとスペーサーSとが交互に積み重ねられた状態となり、光ディスク基板D同士の接触によりスパッタ処理面が傷付けられることもない。
以上で、上記スパッタ処理自動機による成形後の光ディスク基板Dの両面に表面処理としての一通りのスパッタ処理動作が完了する。

0043

(供給方法について)
次に、ディスク供給装置Gによるスパッタ装置Fへの光ディスク基板Dの供給方法として、上記ディスク受渡し部7での動作を説明する。

0044

図6は、ディスク受渡し部7の動作を説明するための模式図である。なお、図6中、+を付したトレー1は、仮に表面側とする基板面側を上向きにした光ディスク基板Dを収容していることを示し、−を付したトレー1は、その反対の裏面側とする基板面側を上向きにした光ディスク基板Dを収容していることを示す。

0045

ディスク受渡し部7のアームユニット71は、ディスク載置部6のメインステージ61から表面側の光ディスク基板Dを収容したトレー1を受け取る。また、ディスク反転部8では、片面スパッタ済みの表面側の光ディスク基板Dを収容したトレー1がフタ開けされている(図6(1))。なお、光ディスク基板Dのスパッタ膜は、まず最初に上記裏面側に形成される。つまり、トレー1は、裏側が上述した処理面側のA側保持体2となっているからである。

0046

次いで、アームユニット71は、移載ユニット72の対向位置までスライドし、表面側の光ディスク基板Dを収容したトレー1を移載ユニット72に渡す。また、ディスク反転部8では、トレー1から取り出された表面側の光ディスク基板Dが反転板82に移される(図6(2))。

0047

そして、移載ユニット72は、アームユニット71から表面側の光ディスク基板Dを収容したトレー1を受け取ると、180度回転された後(図6(3))、表面側の光ディスク基板Dを収容したトレー1をスパッタ装置Fに供給する(図6(4)(5))。これにより、スパッタ装置Fには、両面未スパッタの光ディスク基板Dを収容したトレー1が供給されたこととなる。なお、この間、アームユニット71は、上記移載ユニット72から両面スパッタ済みの裏面側の光ディスク基板Dを収容したトレー1を受け取り図6(4))、このトレー1をメインステージ61へ渡す(図6(5))。また、ディスク反転部8では、反転板82が天地逆転され、表面側の光ディスク基板Dが裏返されて裏向きとなって載置板83に移されると(図6(3))、この裏面側の光ディスク基板Dをトレー1に移し、フタ閉めされる(図6(4)(5))。これにより、ディスク反転部8のトレー1は、裏面側の光ディスク基板Dを収容したこととなり、未スパッタの表面側が次にスパッタ処理されることとなる。

0048

次に、アームユニット71は、ディスク反転部8から裏面側の光ディスク基板Dを収容したトレー1を取り込み(図6(6))、このトレー1を移載ユニット72へ渡す(図6(7))。そして、移載ユニット72は、アームユニット71から裏面側の光ディスク基板Dを収容したトレー1を受け取ると、180度回転された後(図6(8))、裏面側の光ディスク基板Dを収容したトレー1をスパッタ装置Fに供給する(図6(9)(10))。これにより、スパッタ装置Fには、片面未スパッタの光ディスク基板Dを収容したトレー1が供給されたこととなる。

0049

なお、この間、アームユニット71は、上記移載ユニット72から片面スパッタ済みの表面側の光ディスク基板Dを収容したトレー1を受け取り(図6(9))、このトレー1をディスク反転部8へ渡す(図6(10))。また、この間、メインステージ61は、180度回転し次のトレー1が準備される一方(図6(6))、スパッタ済みのトレー1は、フタ開けし(図6(7))、両面スパッタ済みの光ディスク基板Dが取り出され(図6(8))、次いで、両面未スパッタの新たな光ディスク基板Dが収容された後(図6(9))、フタ閉めされる(図6(10))。

0050

以後は、上記動作を繰り返す。
このように、上記ディスク受渡し部7によってスパッタ装置Fには、表面側の光ディスク基板Dを収容したトレー1と、裏面側の光ディスク基板Dを収容したトレー1とが交互に供給される。すなわち、表面側の光ディスク基板Dは、メインステージから取り出したトレー1に収容されたものであり、これは両面未スパッタのものである。一方、裏面側の光ディスク基板Dは、ディスク反転部8から取り出したトレー1に収容されたものであり、これは片面スパッタ済みのものである。従って、スパッタ装置Fには、ディスク供給装置Gから両面未スパッタの光ディスク基板Dと片面スパッタ済みの光ディスク基板Dとが交互に供給されることとなる。

0051

そして、スパッタチャンバー41内でのスパッタ工程が完了すると、片面スパッタ済みの光ディスク基板Dと両面スパッタ済みの光ディスク基板Dとが交互に排出され、両面スパッタ済みの光ディスク基板Dはメインステージ61に渡され、上記片面スパッタ済みの光ディスク基板Dはディスク反転部8によって基板面を反転させてから両面未スパッタの光ディスク基板Dと交互にスパッタ装置Fに渡される。

0052

このようにして、片面スパッタ済みの光ディスク基板Dと両面スパッタ済みの光ディスク基板Dとが交互に出来上がってくるので、スパッタ工程が完了する度に前工程から両面未スパッタの光ディスク基板Dの供給作業が発生し、且つ、後工程では両面スパッタ済みの光ディスク基板Dを受け取り作業が発生する。その結果、両面未スパッタの光ディスク基板Dか、片面スパッタ済みの光ディスク基板Dかのいずれかを連続して上記スパッタ装置Fに渡す場合と比べ、スパッタ工程の前後の工程ではスパッタ工程が完了する度に待機状態とフル稼動状態とが繰り返されるという事態が起こらない。

0053

以上の供給方法によれば、スパッタ装置Fにおけるスパッタ工程の前後の工程ではスパッタ工程が完了する度に待機状態とフル稼動状態との繰り返しという事態が起こらず、平準化されるので、スパッタ工程の前後の工程における作業ユニットを効率良く稼動させることができる。

0054

(その他)
なお、本実施の形態において、ディスク受渡し部7のアームユニット71は、1本のアームにて構成するが、2本のアームにより構成してもよい。
また、トレー1は、光ディスク基板Dを6枚収容するものとするが、これに限らず任意の枚数を収容するようにしてもよい。

発明を実施するための最良の形態

0055

さらに、本発明における供給装置および供給方法は、上記実施の形態のようなスパッタ装置Fとの関係以外の表面処理装置にも適用できることの他に、表面処理対象の記録媒体用基板としては、光ディスクのみならず磁気ディスク光磁気ディスク等の記録媒体等も含めたメディア全体の基板、さらには半導体基板等における表裏両面に表面処理を施す装置への供給について適用可能なことは言うまでもない。

0056

(1)第1の本発明に係る記録媒体用基板のトレー(請求項1)によれば、表面処理媒体が投影される処理面側となるA側保持体の外側平面には、透孔を囲んだ表面処理媒体投影領域の略全域を窪ませた凹所が設けられているので、表面処理を行う自動機内では、該A側保持体の表面処理媒体投影領域を触ることなく該トレーの搬送、受渡し、載置等の取扱いが可能となる。従って、該トレーにおける表面処理媒体投影領域に付着した表面処理媒体を剥がし、これがゴミとなって自動機内に拡散されることもないから、記録媒体用基板表面には異物の付着がない綺麗な表面状態に保つことができる。

0057

また、フタ側となるB側保持体の上記記録媒体用基板の配置位置には、該記録媒体用基板のセンター孔に係合させる係合ピンが設けられているので、上記係合ピンによって記録媒体用基板をトレー内で動かず位置決め状態で保持させることができる。これにより、例えば、トレーを立てた状態としたときでも、収容する記録媒体用基板が動いて該トレーの透孔から記録媒体用基板の表面処理領域がズレてしまうことがない。従って、上記透孔を通した記録媒体用基板の表面処理は、該記録媒体用基板の表面処理領域に対して偏ることなく正確に行うことができる。

0058

そして、B側保持体における上記A側保持体と重ね合わせる内側面にはA側保持体をマグネット吸着させるマグネットMが埋設されているので、トレー洗浄の繰り返しによって該B側保持体に埋設した上記マグネットMの磁力低下を来たすことがない。すなわち、トレーに付着した表面処理媒体を除去するには、表面処理媒体が投影されるA側保持体を繰り返して洗浄する必要があるが、頻繁に洗浄が必要な上記A側保持体にはフタ閉めのためのマグネットMを設けなくてもよい。また、B側保持体は、トレーのフタ側となり表面処理媒体が投影されることがない。よって、上記B側保持体は、頻繁に洗浄しなくてもよいため、トレー洗浄が繰り返して行われても、B側保持体のマグネットMは、半永久的に所定磁力を保持できる。その結果、A側保持体とB側保持体とのマグネット吸着も半永久的に保持できるから、上記記録媒体用基板の挟持を安定して行うことができる。

0059

(2)また、上記トレー(請求項1)として、上記B側保持体は、上記係合ピンの周囲に記録媒体用基板の表面処理領域と略一致する凹部が設けられているもの(請求項2)では、A側保持体との間では上記透孔によって記録媒体用基板の表面処理領域を非接触状態にして保持させているが、上記凹部によってB側保持体との間でも上記記録媒体用基板の表面処理領域を非接触状態にして保持させることができる。従って、このものでは、表面処理前の基板面、および表面処理後の基板面に対して上記B側保持体からもゴミ等が転写されることがなく、記録媒体用基板表面には異物の付着がない綺麗な表面状態に保つことができ、また、基板面へのキズ防止もできる。

0060

(3)一方、第2の本発明に係る記録媒体用基板の供給装置(請求項3)によれば、基板受け渡し部によって上記表面処理装置の搬送部に対して上記基板載置部から受け取った両面未処理の記録媒体用基板を収容したトレーと上記基板反転部から受け取った片面処理済みの記録媒体用基板を収容したトレーとを交互に渡すようにしたので、上記搬送部からは上記処理部に両面未処理の記録媒体用基板を収容したトレーと片面処理済みの記録媒体用基板を収容したトレーとが交互に送られる。そして、上記処理部内での表面処理が完了すると、片面処理済みの記録媒体用基板を収容したトレーと両面処理済みの記録媒体用基板を収容したトレーとが交互に排出されてくる。上記両面処理済みの記録媒体用基板を収容したトレーは、上記基板載置部に渡され、記録媒体用基板における表面処理工程が完了する。

0061

このように、上記処理部からは片面処理済みの記録媒体用基板と両面処理済みの記録媒体用基板とが交互に出来上がってくることとなり、上記処理部での表面処理が完了する度に前工程から両面未処理の記録媒体用基板の供給作業が発生し、且つ後工程では両面処理済みの記録媒体用基板の受け取り作業が発生する。従って、両面未処理の記録媒体用基板か、片面処理済みの記録媒体用基板かのいずれかをバッチ式に連続して上記搬送部に渡す場合と比べ、表面処理工程の前後の工程では表面処理工程が完了する度に待機状態とフル稼動状態とが繰り返されるという事態が起こらず、各作業が平準化される。その結果、表面処理工程の前後の工程における作業ユニットを効率良く稼動させることができ、ひいては記録媒体の製造作業効率を向上することができる。

発明の効果

0062

しかも、上記供給装置では、上記第1の本発明に係る記録媒体用基板のトレー(請求項1または2)が使用されるので、各装置内では、該A側保持体の表面処理媒体投影領域を触ることなく該トレーの搬送、載置等の取扱いが可能となる。従って、該トレーにおける表面処理媒体投影領域に付着した表面処理媒体を剥がし、これがゴミとなって各装置内に拡散されることもないから、記録媒体用基板表面には異物の付着がない綺麗な表面状態を保たせることができる。

図面の簡単な説明

0063

(4)また、第3の本発明に係る記録媒体用基板の供給方法(請求項4)にあっても、上記供給装置と同様の効果を奏する。

図1
本発明の実施の形態による光ディスク基板を収容するトレーを示した断面図である。
図2
トレーのA側保持体の外側を示した平面図である。
図3
トレーのB側保持体の内側を示した平面図である。
図4
トレーを使用したスパッタ処理自動機を示した構成図である。
図5
光ディスク基板の保持具を示した側面図である。
図6
ディスク受渡し部での動作を説明するための模式図である。
図7
従来の光ディスク基板を収容するトレーを示した断面図である。
【符号の説明】
1 トレー
2 A側保持体
3 B側保持体
5 ディスク供給部
6 ディスク載置部(基板載置部)
7 ディスク受渡し部(基板受渡し部)
8 ディスク反転部(基板反転部)
9 ディスク回収部
20 空所
21 透孔
22 連通部分(透孔の最小径部)
23 支持部
24 A側保持体の外側平面
25 凹所
26 ピン貫通孔
29 A側保持体の内側面
30 係合ピン
31 凹部
32 B側保持体の外側平面
33 窓孔
34 切欠部
35 中心貫通孔
39 B側保持体の内側面
C2 A側保持体の角部
C3 B側保持体の角部
D 光ディスク基板(記録媒体用基板)
F スパッタ装置(記録媒体用基板の表面処理装置)
G ディスク供給装置(記録媒体用基板の供給装置)
K2 A側保持体の切込部
K3 B側保持体の切込部
M マグネット

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