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課題

例えば酢酸銅等の比較的安価な銅化合物を用いても、良好な立体選択性および光学純度で、光学活性シクロプロパン化合物を製造することができる新規不斉銅錯体を提供すること。

解決手段

強酸およびルイス酸からなる群から選ばれる少なくとも一つの酸、一般式(1)

(式中、R1およびR2は相異なって、アルキル基等を表わし、R3およびR4は同一または相異なって、水素原子、アルキル基等を表わす。ここで、R3とR4が結合して、アルキレン基を形成してもよい。R5は、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基を表わすか、あるいは二つのR5が結合して、3〜5のアルキレン基を表わす。)で示される光学活性ビスオキサゾリン化合物および銅化合物を反応せしめてなる不斉銅錯体。

概要

背景

光学活性シクロプロパン化合物は、医薬農薬中間体として重要な化合物である。例えば(+)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸は、β−ラクタム系抗生物質合成中間体として、また(+)−2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニルシクロプロパンカルボン酸は、合成ピレスロイド系殺虫剤の酸成分を構成するものとして、それぞれ重要な化合物として知られている。

かかる光学活性シクロプロパン化合物の製造方法として、例えば光学活性なビスオキサゾリン化合物配位子とする不斉銅錯体の存在下に、プロキラルオレフィン類ジアゾ酢酸エステルを反応させる方法(Tetrahedron Lett.,32,7373(1991)等)が知られている。

しかしながら、良好な立体選択性および光学純度で、光学活性シクロプロパン化合物を製造するためには、例えば塩素酸銅トリフルオロメタンスルホン酸銅、tert−ブトキシ銅等の比較的高価で、不安定な銅化合物を不斉銅錯体の調製原料として用いる必要があり、工業的な製造方法という観点からは、必ずしも十分満足し得るものではなかった。

概要

例えば酢酸銅等の比較的安価な銅化合物を用いても、良好な立体選択性および光学純度で、光学活性シクロプロパン化合物を製造することができる新規不斉銅錯体を提供すること。

強酸およびルイス酸からなる群から選ばれる少なくとも一つの酸、一般式(1)

(式中、R1およびR2は相異なって、アルキル基等を表わし、R3およびR4は同一または相異なって、水素原子、アルキル基等を表わす。ここで、R3とR4が結合して、アルキレン基を形成してもよい。R5は、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基を表わすか、あるいは二つのR5が結合して、3〜5のアルキレン基を表わす。)で示される光学活性ビスオキサゾリン化合物および銅化合物を反応せしめてなる不斉銅錯体。

目的

効果

実績

技術文献被引用数
6件
牽制数
4件

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請求項1

強酸およびルイス酸からなる群から選ばれる少なくとも一つの酸、一般式(1)ID=000003HE=030 WI=078 LX=0210 LY=0450(式中、R1およびR2は相異なって、アルキル基シクロアルキル基置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいアラルキル基または水素原子を表わし、R3およびR4は同一または相異なって、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基または置換されていてもよいアラルキル基を表わす。ここで、R3とR4が結合して、アルキレン基を形成してもよい。R5は、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基を表わすか、あるいは二つのR5が結合して、3〜5のアルキレン基を表わす。)で示される光学活性ビスオキサゾリン化合物および銅化合物を反応せしめてなる不斉銅錯体

請求項2

強酸およびルイス酸からなる群から選ばれる少なくとも一つの酸の使用量が、銅化合物に対して、0.3〜5モル倍で、かつ、一般式(1)で示される光学活性ビスオキサゾリン化合物の使用量が、銅化合物に対して、0.9〜2モル倍である請求項1に記載の不斉銅錯体。

請求項3

銅化合物が、炭素数1〜15の有機カルボン酸銅またはハロゲン化銅である請求項1または2に記載の不斉銅錯体。

請求項4

強酸およびルイス酸からなる群から選ばれる少なくとも一つの酸、一般式(1)ID=000004HE=030 WI=078 LX=0210 LY=1900(式中、R1およびR2は相異なって、アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいアラルキル基または水素原子を表わし、R3およびR4は同一または相異なって、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基または置換されていてもよいアラルキル基を表わす。ここで、R3とR4が結合して、アルキレン基を形成してもよい。R5は、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基を表わすか、あるいは二つのR5が結合して、炭素数3〜5のアルキレン基を表わす。)で示される光学活性ビスオキサゾリン化合物および銅化合物を反応させることを特徴とする不斉銅錯体の製造方法。

請求項5

強酸およびルイス酸からなる群から選ばれる少なくとも一つの酸の使用量が、銅化合物に対して、0.3〜5モル倍で、かつ、一般式(1)で示される光学活性ビスオキサゾリン化合物の使用量が、銅化合物に対して、0.9〜2モル倍である請求項4に記載の不斉銅錯体の製造方法。

請求項6

銅化合物が、炭素数2〜15の有機カルボン酸銅またはハロゲン化銅である請求項4または5に記載の不斉銅錯体の製造方法。

請求項7

強酸およびルイス酸からなる群から選ばれる少なくとも一つの酸、一般式(1)ID=000005HE=030 WI=078 LX=1110 LY=0900(式中、R1およびR2は相異なって、アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいアラルキル基または水素原子を表わし、R3およびR4は同一または相異なって、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基または置換されていてもよいアラルキル基を表わす。ここで、R3とR4が結合して、アルキレン基を形成してもよい。R5は、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基を表わすか、あるいは二つのR5が結合して、炭素数3〜5のアルキレン基を表わす。)で示される光学活性ビスオキサゾリン化合物および銅化合物を反応させて得られる不斉銅錯体の存在下に、一般式(2)ID=000006 HE=020 WI=061 LX=1195 LY=1800(式中、R6、R7、R8およびR9は、それぞれ同一または相異なって、水素原子;ハロゲン原子;ハロゲン原子もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよいアルキル基;ハロゲン原子、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基もしくはハロアルコキシカルボニル基で置換されていてもよいアルケニル基;ハロゲン原子、低級アルキル基もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよいアリール基;またはハロゲン原子、低級アルキル基もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよいアラルキル基を表わす。ここで、R6とR7またはR6とR9が結合して炭素数2〜4のアルキレン基を表わしてもよい。ただし、R6とR9が同一の基である場合には、R7とR8とは異なる基を表わす。)で示されるプロキラルオレフィンと一般式(3)ID=000007 HE=015 WI=102 LX=0540 LY=0300(式中、R10は炭素数1〜8のアルキル基;低級アルキル基で置換されていてもよいシクロアルキル基;低級アルキル基、低級アルコキシ基もしくはフェノキシ基で置換されていてもよいフェニル基;または低級アルキル基、低級アルコキシ基もしくはフェノキシ基で置換されていてもよいベンジル基を表わす。)で示されるジアゾ酢酸エステル類とを反応させることを特徴とする一般式(4)ID=000008 HE=030 WI=055 LX=0325 LY=0850(式中、R6、R7、R8、R9およびR10は、前記と同じ意味を表わす。)で示される光学活性シクロプロパン化合物の製造方法。

請求項8

強酸およびルイス酸からなる群から選ばれる少なくとも一つの酸の使用量が、銅化合物に対して、0.3〜5モル倍で、かつ、一般式(1)で示される光学活性ビスオキサゾリン化合物の使用量が、銅化合物に対して、0.9〜2モル倍である請求項7に記載の光学活性シクロプロパン化合物の製造方法。

請求項9

銅化合物が、炭素数2〜15の有機カルボン酸銅またはハロゲン化銅である請求項7または8に記載の光学活性シクロプロパン化合物の製造方法。

技術分野

0001

本発明は、不斉銅錯体の製造方法および該不斉銅錯体を触媒として用いる光学活性シクロプロパン化合物の製造方法に関する。

背景技術

0002

光学活性シクロプロパン化合物は、医薬農薬中間体として重要な化合物である。例えば(+)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸は、β−ラクタム系抗生物質合成中間体として、また(+)−2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニルシクロプロパンカルボン酸は、合成ピレスロイド系殺虫剤の酸成分を構成するものとして、それぞれ重要な化合物として知られている。

0003

かかる光学活性シクロプロパン化合物の製造方法として、例えば光学活性なビスオキサゾリン化合物配位子とする不斉銅錯体の存在下に、プロキラルオレフィン類ジアゾ酢酸エステルを反応させる方法(Tetrahedron Lett.,32,7373(1991)等)が知られている。

0004

しかしながら、良好な立体選択性および光学純度で、光学活性シクロプロパン化合物を製造するためには、例えば塩素酸銅トリフルオロメタンスルホン酸銅、tert−ブトキシ銅等の比較的高価で、不安定な銅化合物を不斉銅錯体の調製原料として用いる必要があり、工業的な製造方法という観点からは、必ずしも十分満足し得るものではなかった。

発明が解決しようとする課題

0005

このような状況のもと、本発明者らは、不斉銅錯体の調製原料として、比較的高価で、不安定な銅化合物を用いなくとも、良好な立体選択性および光学純度で、光学活性シクロプロパン化合物を製造することができる不斉銅錯体について鋭意検討したところ、強酸およびルイス酸からなる群から選ばれる少なくとも一つの酸、一般式(1)
ID=000009HE=030 WI=078 LX=1110 LY=1150
(式中、R1およびR2は相異なって、アルキル基シクロアルキル基置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいアラルキル基または水素原子を表わし、R3およびR4は同一または相異なって、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基または置換されていてもよいアラルキル基を表わす。ここで、R3とR4が結合して、アルキレン基を形成してもよい。R5は、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基を表わすか、あるいは二つのR5が結合して、炭素数3〜5のアルキレン基を表わす。)で示される光学活性ビスオキサゾリン化合物および銅化合物を反応せしめてなる新規な不斉銅錯体が、プロキラルなオレフィン類とジアゾ酢酸エステルを反応させて、光学活性シクロプロパン化合物を製造する方法において、良好な触媒活性を示すことを見いだし、本発明に至った。

課題を解決するための手段

0006

すなわち本発明は、強酸およびルイス酸からなる群から選ばれる少なくとも一つの酸、一般式(1)
ID=000010HE=030 WI=078 LX=1110 LY=2400
(式中、R1およびR2は相異なって、アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいアラルキル基または水素原子を表わし、R3およびR4は同一または相異なって、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基または置換されていてもよいアラルキル基を表わす。ここで、R3とR4が結合して、アルキレン基を形成してもよい。R5は、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基を表わすか、あるいは二つのR5が結合して、3〜5のアルキレン基を表わす。)で示される光学活性ビスオキサゾリン化合物および銅化合物を反応せしめてなる不斉銅錯体、その製造方法および該不斉銅錯体を触媒とする光学活性シクロプロパン化合物の製造方法を提供するものである。

発明を実施するための最良の形態

0007

まず本発明の新規な不斉銅錯体について説明する。本発明の新規な不斉銅錯体は、強酸およびルイス酸からなる群から選ばれる少なくとも一つの酸(以下、酸と略記する。)、一般式(1)
ID=000011HE=030 WI=078 LX=0210 LY=1150
(式中、R1およびR2は相異なって、アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいアラルキル基または水素原子を表わし、R3およびR4は同一または相異なって、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基または置換されていてもよいアラルキル基を表わす。ここで、R3とR4が結合して、アルキレン基を形成してもよい。R5は、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基を表わすか、あるいは二つのR5が結合して、炭素数3〜5のアルキレン基を表わす。)で示される光学活性ビスオキサゾリン化合物(以下、光学活性ビスオキサゾリン化合物(1)と略記する。)および銅化合物を反応せしめてなる不斉銅錯体である。

0008

強酸としては、後述する銅化合物を構成する対アニオンの酸よりも強い酸であればよく、例えばトリフルオロメタンスルホン酸フルオロスルホン酸クロルスルホン酸フッ化水素発煙硫酸濃硫酸ナフィオン登録商標)等が挙げられる。例えば銅化合物が酢酸銅である場合は、対アニオンの酸である酢酸よりも強い酸、例えば濃硫酸等を用いればよい。

0009

ルイス酸としては、三フッ化ホウ素、五フッ化タンタル、五フッ化ニオブ、四フッ化チタン、五フッ化リン、五フッ化アンチモン、五フッ化ヒ素、六フッ化タングステン、三フッ化アンチモン、三フッ化アルミニウムトリス(ペンタフルオロフェニルアルミニウム等が挙げられる。なお、かかるルイス酸のうち、例えば三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩、三フッ化ホウ素・メタノール錯塩、三フッ化ホウ素・フェノール錯塩等のルイス酸・錯塩が存在するルイス酸は、かかるルイス酸・錯塩であってもよい。

0010

これら強酸およびルイス酸は、それぞれ単独で用いてもよいし、強酸を二つ以上組み合わせて用いてもよい。また、ルイス酸を二つ以上組み合わせて用いてもよいし、一つ以上の強酸と一つ以上のルイス酸を組み合わせて用いてもよい。強酸とルイス酸を組み合わせて用いる場合の組み合わせの具体例としては、例えば三フッ化ホウ素とフッ化水素との混合物、五フッ化アンチモンとフッ化水素との混合物、五フッ化リンとフッ化水素との混合物、五フッ化アンチモンとフルオロスルホン酸との混合物、五フッ化アンチモンとトリフロロメタンスルホン酸との混合物等が挙げられる。

0011

ビスオキサゾリン化合物(1)の式中、R1およびR2は相異なって、アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいアラルキル基または水素原子を表わす。

0012

アルキル基としては、例えばメチル基エチル基、n−プロピル基イソプロピル基n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基等の炭素数1〜6の低級アルキル基が挙げられ、シクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数3〜6のシクロアルキル基が挙げられる。

0013

置換されていてもよいフェニル基の置換基としては、例えば上記したアルキル基、上記したシクロアルキル基、例えばメトキシ基エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ヘキシルオキシ基等の炭素数1〜6の低級アルコキシ基、例えばフッ素原子塩素原子臭素原子等のハロゲン原子、例えばトリフルオロメチル基等のハロアルキル基ニトロ基、フェニル基、後述するアラルキル基等が挙げられる。かかる置換されていてもよいフェニル基としては、例えばフェニル基、2−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、2−メトキシフェニル基、4−メトキシフェニル基、2−クロロフェニル基、4−フルオロフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニル基、3−ニトロフェニル基等が挙げられる。

0014

置換されていてもよいアラルキル基の置換基としては、例えば上記したアルキル基、上記したシクロアルキル基、上記したアルコキシ基、上記したハロゲン原子、上記したハロアルキル基、ニトロ基、フェニル基等が挙げられる。かかる置換されていてもよいアラルキル基としては、例えばベンジル基、1−ナフチルメチル基、2−ナフチルメチル基、4−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル基等が挙げられる。

0015

また、R3およびR4は同一または相異なって、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基または置換されていてもよいアラルキル基を表わし、アルキル基、シクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいアラルキル基としては、上記したものと同様のものが挙げられる。ここで、R3とR4が結合して、アルキレン基を形成してもよく、アルキレン基としては、例えばプロピレン基ブチレン基、ペンチレン基、2−メチルプロピレン基等が挙げられる。

0016

また、R5は、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基を表わすか、あるいは二つのR5が結合して、炭素数3〜5のアルキレン基を表わす。炭素数1〜6のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基が挙げられ、炭素数3〜5のアルキレン基としては、例えばプロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基等が挙げられる。

0017

かかる光学活性ビスオキサゾリン化合物(1)としては、例えば2,2’−メチレンビス[(4R)−4−フェニル−2−オキサゾリン]、2,2’−メチレンビス[(4R)−4−イソプロピル−2−オキサゾリン]、2,2’−メチレンビス[(4R)−4−tert−ブチル−2−オキサゾリン]、2,2’−メチレンビス[(4R)−4−ベンジル−2−オキサゾリン]、2,2’−メチレンビス[(4R,5R)−4−メチル−5−フェニル−2−オキサゾリン]、2,2’−メチレンビス[(4R,5S)−4−ベンジル−5−フェニル−2−オキサゾリン]、2,2’−メチレンビス[(4R,5S)−4,5−ジフェニル−2−オキサゾリン]、2,2’−メチレンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジメチル−2−オキサゾリン]、2,2’−メチレンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジエチル−2−オキサゾリン]、2,2’−メチレンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジ(n−プロピル)−2−オキサゾリン]、2,2’−メチレンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジイソプロピル−2−オキサゾリン]、2,2’−メチレンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジシクロヘキシル−2−オキサゾリン]、

0018

2,2’−メチレンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジフェニル−2−オキサゾリン]、2,2’−メチレンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジ(2−メチルフェニル)−2−オキサゾリン]、2,2’−メチレンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジ(3−メチルフェニル)−2−オキサゾリン]、2,2’−メチレンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジ(4−メチルフェニル)−2−オキサゾリン]、2,2’−メチレンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジ(2−メトキシフェニル)−2−オキサゾリン]、2,2’−メチレンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジ(3−メトキシフェニル)−2−オキサゾリン]、2,2’−メチレンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジ(4−メトキシフェニル)−2−オキサゾリン]、2,2’−メチレンビス[スピロ[(4R)−4−フェニル−2−オキサゾリン−5,1’−シクロブタン]]、2,2’−メチレンビス[スピロ[(4R)−4−フェニル−2−オキサゾリン−5,1’−シクロペンタン]]、2,2’−メチレンビス[スピロ[(4R)−4−フェニル−2−オキサゾリン−5,1’−シクロヘキサン]]、2,2’−メチレンビス[スピロ[(4R)−4−フェニル−2−オキサゾリン−5,1’−シクロヘプタン]]、

0019

2,2’−イソプロピリデンビス[(4R)−4−フェニル−2−オキサゾリン]、2,2’−イソプロピリデンビス[(4R)−4−イソプロピル−2−オキサゾリン]、2,2’−イソプロピリデンビス[(4R)−4−tert−ブチル−2−オキサゾリン]、2,2’−イソプロピリデンビス[(4R)−4−ベンジル−2−オキサゾリン]、2,2’−イソプロピリデンビス[(4R,5R)−4−メチル−5−フェニル−2−オキサゾリン]、2,2’−イソプロピリデンビス[(4R,5S)−4,5−ジフェニル−2−オキサゾリン]、2,2’−イソプロピリデンビス[(4R,5S)−4−ベンジル−5−フェニル−2−オキサゾリン]、2,2’−イソプロピリデンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジメチル−2−オキサゾリン]、2,2’−イソプロピリデンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジエチル−2−オキサゾリン]、2,2’−イソプロピリデンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジ−n−プロピル−2−オキサゾリン]、2,2’−イソプロピリデンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジイソプロピル−2−オキサゾリン]、2,2’−イソプロピリデンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジシクロヘキシル−2−オキサゾリン]、

0020

2,2’−イソプロピリデンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジフェニル−2−オキサゾリン]、2,2’−イソプロピリデンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジ(2−メチルフェニル)−2−オキサゾリン]、2,2’−イソプロピリデンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジ(3−メチルフェニル)−2−オキサゾリン]、2,2’−イソプロピリデンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジ(4−メチルフェニル)−2−オキサゾリン]、2,2’−イソプロピリデンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジ(2−メトキシフェニル)−2−オキサゾリン]等およびこれら化合物において反対の絶対配置を有するものが挙げられる。

0021

銅化合物としては、例えば酢酸銅、ナフテン酸銅オクチル酸銅等の炭素数2〜15の有機カルボン酸銅、例えば塩化銅臭化銅等のハロゲン化銅アセチルアセトナート銅メタンスルホン酸銅酸化銅水酸化銅等の一価または二価の銅化合物が挙げられ、炭素数2〜15の有機カルボン酸銅、ハロゲン化銅が好ましい。かかる銅化合物のうち、水和物が存在するものは、無水物、水和物のいずれを用いてもよい。

0022

酸の使用量は、銅化合物に対して、通常0.3〜5モル倍であり、光学活性ビスオキサゾリン化合物(1)の使用量は、銅化合物に対して、通常0.9〜2モル倍である。

0023

不斉銅錯体は、通常酸、光学活性ビスオキサゾリン化合物(1)および銅化合物を溶媒中で混合、反応させることにより調製することができる。溶媒としては、例えばトルエンキシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、例えばヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、例えばクロロホルムジクロロエタンモノクロロブタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、例えば酢酸メチル酢酸エチルプロピオン酸エチル等のエステル系溶媒等の単独または混合溶媒が挙げられる。

0024

不斉銅錯体の調製温度は、通常0℃〜100℃、好ましくは0℃〜60℃である。酸、光学活性ビスオキサゾリン化合物(1)および銅化合物の混合順序は特に制限されず、銅化合物と光学活性ビスオキサゾリン化合物(1)を混合した後、酸を加えてもよいし、銅化合物と酸を混合した後、光学活性ビスオキサゾリン化合物(1)を加えてもよいし、光学活性ビスオキサゾリン化合物(1)と酸を混合した後、銅化合物を加えてもよい。

0025

反応終了後、得られる不斉銅錯体を含む反応液を、例えば濃縮処理することいにより、不斉銅錯体を取り出すことができる。かかる不斉銅錯体を、例えば触媒として用いる場合には、得られた前記反応液をそのまま用いてもよいし、該反応液から不斉銅錯体を取り出して用いてもよい。

0026

続いて、本発明の新規な不斉銅錯体を触媒として用いる光学活性シクロプロパン化合物(4)の製造方法について説明する。本発明の新規不斉銅錯体は、一般式(2)
ID=000012HE=020 WI=061 LX=1195 LY=0800
(式中、R6、R7、R8およびR9は、それぞれ同一または相異なって、水素原子;ハロゲン原子;ハロゲン原子もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよいアルキル基;ハロゲン原子、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基もしくはハロアルコキシカルボニル基で置換されていてもよいアルケニル基;ハロゲン原子、低級アルキル基もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよいアリール基;またはハロゲン原子、低級アルキル基もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよいアラルキル基を表わす。ここで、R6とR7またはR6とR9が結合して炭素数2〜4のアルキレン基を表わしてもよい。ただし、R6とR9が同一の基である場合には、R7とR8とは異なる基を表わす。)で示されるプロキラルオレフィン(以下、オレフィン(2)と略記する。)と一般式(3)
ID=000013 HE=015 WI=102 LX=0540 LY=1800
(式中、R10は炭素数1〜8のアルキル基;低級アルキル基で置換されていてもよいシクロアルキル基;低級アルキル基、低級アルコキシ基もしくはフェノキシ基で置換されていてもよいフェニル基;または低級アルキル基、低級アルコキシ基もしくはフェノキシ基で置換されていてもよいベンジル基を表わす。)で示されるジアゾ酢酸エステル類(以下、ジアゾ酢酸エステル類(3)と略記する。)とを反応させて、一般式(4)
ID=000014 HE=030 WI=055 LX=0325 LY=2350
(式中、R6、R7、R8、R9およびR10は、前記と同じ意味を表わす。)で示される光学活性シクロプロパン化合物(以下、光学活性シクロプロパン化合物(4)と略記する。)を製造する方法において、良好な触媒活性を示し、比較的安価な酢酸銅等を用いて調製した不斉銅錯体を用いても、良好な光学純度で光学活性シクロプロパン化合物(4)を得ることができる。

0027

オレフィン(2)の式中、R6、R7、R8およびR9は、それぞれ同一または相異なって、水素原子;ハロゲン原子;ハロゲン原子もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよいアルキル基;ハロゲン原子、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基もしくはハロアルコキシカルボニル基で置換されていてもよいアルケニル基;ハロゲン原子、低級アルキル基もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよいアリール基;またはハロゲン原子、低級アルキル基もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよいアラルキル基を表わす。

0028

ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、低級アルコキシ基としては、例えば例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ヘキシルオキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシ基が挙げられる。

0029

ハロゲン原子もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよいアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基、クロロメチル基フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、エトキシエチル基等が挙げられる。

0030

低級アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル基エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等の上記した低級アルコキシ基とカルボニル基とから構成されるものが挙げられ、ハロアルコキシカルボニル基としては、例えばクロロメトキシカルボニル基、トリフルオロメトキシカルボニル基等の前記低級アルコキシカルボニル基の水素原子が、上記したハロゲン原子で置換されたものが挙げられる。

0031

ハロゲン原子、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基もしくはハロアルコキシカルボニル基で置換されていてもよいアルケニル基としては、例えばエテニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、3−メチル−2−ブテニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、1−ヘキセニル基等の炭素数2〜6のアルケニル基およびこれらアルケニル基の水素原子が、前記したハロゲン原子、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基もしくはハロアルコキシカルボニル基で置換された、例えば2,2−ジクロロエテニル基、2−メトキシエテニル基、2−エトキシエテニル基、2−フルオロ−2−メトキシエテニル基、2−フルオロ−2−ブロモエテニル基、2−クロロ−2−ブロモエテニル基等が挙げられる。

0032

ハロゲン原子、低級アルキル基もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよいアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等およびフェニル基、ナフチル基等を構成する芳香環の水素原子が、前記したハロゲン原子、低級アルキル基もしくは低級アルコキシ基で置換された、例えば2−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、2−クロロフェニル基、4−フルオロフェニル基、3−メトキシフェニル基等が挙げられる。

0033

ハロゲン原子、低級アルキル基もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよいアラルキル基としては、前記したハロゲン原子、低級アルキル基もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよいアリール基とアルキル基とから構成されるものが挙げられ、例えばベンジル基、2−メチルベンジル基、4−メチルベンジル基、3−メトキシベンジル基、2−クロロベンジル基、4−フルオロベンジル基、フェニルエチル基等が挙げられる。

0034

R6とR7またはR6とR9が結合して、炭素数2〜4のアルキレン基を表わしてもよく、炭素数2〜4のアルキレン基としては、例えばエチレン基、プロピレン基、ブチレン基等が挙げられる。

0035

かかるオレフィン(2)としては、例えばプロペン、1−ブテンイソブチレン2−メチル−2−ブテン、1,1,1−トリクロロ−4−メチル−3−ペンテン、1,1,1−トリブロモ−4−メチル−3−ペンテン、2−ブロモ−2,5−ジメチル−4−ヘキセン、2−クロロ−2,5−ジメチル−4−ヘキセン、1−メトキシ−2−メチル−1−プロペン、1−エトキシ−2−メチル−1−プロペン、1−プロポキシ−2−メチル−1−プロペン、1−メトキシ−3−メチル−2−ブテン、1−エトキシ−3−メチル−2−ブテン、1−プロポキシ−3−メチル−2−ブテン、1,1−ジメトキシ−3−メチル−2−ブテン、1,1−ジエトキシ−3−メチル−2−ブテン、イソプロピリデンシクロプロパン、イソプロピリデンシクロブタン、イソプロピリデンシクロペンタン、

0036

2,5−ジメチル−2,4−ヘキサジエン、2−クロロ−5−メチル−2,4−ヘキサジエン、2−フルオロ−5−メチル−2,4−ヘキサジエン、1,1,1−トリフルオロ−2,5−ジメチル−2,4−ヘキサジエン、1,1−ジフルオロ−4−メチル−1,3−ペンタジエン、1,1−ジクロロ−4−メチル−1,3−ペンタジエン、1,1−ジブロモ−4−メチル−1,3−ペンタジエン、1−クロロ−1−フルオロ−4−メチル−1,3−ペンタジエン、1−フルオロ−1−ブロモ−4−メチル−1,3−ペンタジエン、2−メトキシカルボニル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン、2−ヘキサフロロイソプロポキシカルボニル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン、1−メトキシ−4−メチル−1,3−ペンタジエン、1−エトキシ−4−メチル−1,3−ペンタジエン、1−(n−プロポキシ)−4−メチル−1,3−ペンタジエン、1−フルオロ−1−メトキシ−4−メチル−1,3−ペンタジエン、1−フルオロ−1−エトキシ−4−メチル−1,3−ペンタジエン、1−フルオロ−1−(n−プロポキシ)−4−メチル−1,3−ペンタジエン等が挙げられ、好ましくはイソブチレン、2,5−ジメチル−2,4−ヘキサジエンが挙げられる。

0037

ジアゾ酢酸エステル類(3)の式中、R10は炭素数1〜8のアルキル基;低級アルキル基で置換されていてもよいシクロアルキル基;低級アルキル基、低級アルコキシ基もしくはフェノキシ基で置換されていてもよいフェニル基;または低級アルキル基、低級アルコキシ基もしくはフェノキシ基で置換されていてもよいベンジル基を表わす。

0038

炭素数1〜8のアルキル基としては、例えば例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、2,3,4−トリメチル−3−ペンチル基、2,4−ジメチル−3−ペンチル基等が挙げられ、低級アルキル基で置換されていてもよいシクロアルキル基としては、例えばシクロブチル基、シクロヘキシル基、メンチル基等が挙げられる。

0039

低級アルキル基、低級アルコキシ基もしくはフェノキシ基で置換されていてもよいフェニル基としては、例えばフェニル基、2−メチルフェニル基、2−メトキシフェニル基、3−メチルフェニル基、3−メトキシフェニル基、4−メチルフェニル基、3−フェノキシフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、3,5−ジメトキシフェニル基、4−メチル−2,6−ジ(tert−ブチル)フェニル基等が挙げられ、低級アルキル基、低級アルコキシ基もしくはフェノキシ基で置換されていてもよいベンジル基としては、例えばベンジル基、2−メチルベンジル基、3−メチルベンジル基、4−メチルベンジル基、3−メトキシベンジル基、3−フェノキシベンジル基等が挙げられる。

0040

かかるジアゾ酢酸エステル類(3)としては、例えばジアゾ酢酸メチル、ジアゾ酢酸エチル、ジアゾ酢酸tert−ブチル、ジアゾ酢酸メンチル等が挙げられる。かかるジアゾ酢酸エステル類(3)としては、例えば市販のものを用いてもよいし、例えば対応するアミノ酸エステル類を溶媒中でジアゾ化する公知の方法に準じて調製したものをそのままもしくはジアゾ化反応後、例えば蒸留処理等して取り出した後、用いてもよい。対応するアミノ酸エステル類をジアゾ化して、ジアゾ酢酸エステル類(3)を調製する場合の溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、例えばヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒等が挙げられる。もちろん前記したオレフィン(2)が、ジアゾ化反応条件下で、液体であるオレフィンである場合には、該オレフィンを、ジアゾ酢酸エステル類(3)の調製溶媒として用いてもよい。

0041

本発明の不斉銅錯体の存在下に、オレフィン(2)とジアゾ酢酸エステル類(3)を反応させることにより、シクロプロパン化合物(4)が得られるが、オレフィン(2)の使用量は、ジアゾ酢酸エステル類(3)に対して、通常1モル倍以上であり、好ましくは2モル倍以上であり、その上限は特にないが、容積効率等を考慮すると、実用的には50モル倍以下である。

0042

不斉銅錯体の使用量は、ジアゾ酢酸エステル類(3)に対して、通常0.0001モル倍〜0.01モル倍、好ましくは0.0002モル倍〜0.005モル倍である。

0043

オレフィン(2)とジアゾ酢酸エステル類(3)との反応は、通常溶媒の存在下に実施され、溶媒としては、例えば1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、モノクロロブタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、例えばヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、例えば酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル等のエステル系溶媒等の単独または混合溶媒が挙げられる。オレフィン(2)が、反応条件下で液体である場合は、該オレフィン(2)を溶媒として用いてもよい。溶媒の使用量は、ジアゾ酢酸エステル類(3)に対して、通常2〜50重量倍、好ましくは3〜30重量倍である。

0044

オレフィン(2)とジアゾ酢酸エステル類(3)との反応は、通常不斉銅錯体の存在下に、その両者を混合、接触させることにより行われる。その混合順序は特に制限されず、例えば不斉銅錯体とオレフィン(2)との混合物に、ジアゾ酢酸エステル類(3)を加えてもよいし、反応容器内へ、不斉銅錯体、オレフィン(2)およびジアゾ酢酸エステル類(3)を連続的または間欠的に加えてもよい。

0045

かかる反応は、通常例えば窒素ガスアルゴンガス等の不活性ガス雰囲気下で実施される。反応温度は、通常−20℃〜130℃であり、好ましくは−10℃〜110℃である。

0046

なお、本反応においては、例えばフェニルヒドラジン等の還元剤を併用してもよい。

0047

反応終了後、得られた反応液を、例えば蒸留処理等することにより、光学活性シクロプロパン化合物(4)を取り出すことができる。取り出した光学活性シクロプロパン化合物(4)は、例えば精留カラムクロマトグラフィ等の通常の精製手段により、さらに精製してもよい。

0048

かくして得られる光学活性シクロプロパン化合物(4)としては、例えば光学活性2−メチルシクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2−メチルシクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2−メチルシクロプロパンカルボン酸tert−ブチル、光学活性2−メチルシクロプロパンカルボン酸メンチル、光学活性2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸tert−ブチル、光学活性2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸メンチル、光学活性2,2,3−トリメチルシクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2,3−トリメチルシクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2,3−トリメチルシクロプロパンカルボン酸tert−ブチル、

0049

光学活性2,2−ジメチル−3−(2,2,2−トリクロロエチル)シクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2,2,2−トリクロロエチル)シクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2,2,2−トリクロロエチル)シクロプロパンカルボン酸tert−ブチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2,2,2−トリブロモエチル)シクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2,2,2−トリブロモエチル)シクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2,2,2−トリブロモエチル)シクロプロパンカルボン酸tert−ブチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−クロロ−2−メチル)プロピルシクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−クロロ−2−メチル)プロピルシクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−クロロ−2−メチル)プロピルシクロプロパンカルボン酸tert−ブチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−ブロモ−2−メチル)プロピルシクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−ブロモ−2−メチル)プロピルシクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−ブロモ−2−メチル)プロピルシクロプロパンカルボン酸tert−ブチル、

0050

光学活性2,2−ジメチル−3−メトキシシクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−メトキシシクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−メトキシシクロプロパンカルボン酸tert−ブチル、光学活性2,2−ジメチル−3−エトキシシクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−エトキシシクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−エトキシシクロプロパンカルボン酸tert−ブチル、光学活性2,2−ジメチル−3−メトキシメチルシクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−メトキシメチルシクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−メトキシメチルシクロプロパンカルボン酸tert−ブチル、光学活性2,2−ジメチル−3−エトキシメチルシクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−エトキシメチルシクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−エトキシメチルシクロプロパンカルボン酸tert−ブチル、光学活性2,2−ジメチル−3−プロポキシシクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−プロポキシシクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−プロポキシシクロプロパンカルボン酸tert−ブチル、

0051

光学活性2,2−ジメチル−3−プロポキシメチルシクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−プロポキシメチルシクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−プロポキシメチルシクロプロパンカルボン酸tert−ブチル、光学活性2,2−ジメチル−3−ジメトキシメチルシクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−ジメトキシメチルシクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−ジメトキシメチルシクロプロパンカルボン酸tert−ブチル、光学活性2,2−ジメチル−3−ジエトキシメチルシクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−ジエトキシメチルシクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−ジエトキシメチルシクロプロパンカルボン酸tert−ブチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(1,3−ジオキサ−2−シクロペンチル)シクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(1,3−ジオキサ−2−シクロペンチル)シクロプロパンカルボン酸エチル、

0052

光学活性2,2−ジメチル−3,3−シクロプロピリデンシクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3,3−シクロプロピリデンシクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3,3−シクロブチリデンシクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3,3−シクロブチリデンシクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3,3−シクロペンチリデンシクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3,3−シクロペンチリデンシクロプロパンカルボン酸エチル、

0053

光学活性2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸tert−ブチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−クロロ−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−クロロ−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−クロロ−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸tert−ブチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−フルオロ−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−フルオロ−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−フルオロ−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸tert−ブチル、

0054

光学活性2,2−ジメチル−3−(2−クロロ−2,2,2−トリフルオロメチルエテニル)シクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−クロロ−2,2,2−トリフルオロメチルエテニル)シクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2,2−ジフルオロ−1−エテニル)シクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2,2−ジフルオロ−1−エテニル)シクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2,2−ジクロロ−1−エテニル)シクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2,2−ジクロロ−1−エテニル)シクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2,2−ジブロモ−1−エテニル)シクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2,2−ジブロモ−1−エテニル)シクロプロパンカルボン酸エチル、

0055

光学活性2,2−ジメチル−3−(2−フルオロ−2−クロロ−1−エテニル)シクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−フルオロ−2−クロロ−1−エテニル)シクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−フルオロ−2−ブロモ−1−エテニル)シクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−フルオロ−2−ブロモ−1−エテニル)シクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−メトキシカルボニル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−メトキシカルボニル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−ヘキサフルオロイソプロポキシカルボニル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−ヘキサフルオロイソプロポキシカルボニル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−メトキシ−1−エテニル)シクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−メトキシ−1−エテニル)シクロプロパンカルボン酸エチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−フルオロ−2−エトキシ−1−エテニル)シクロプロパンカルボン酸メチル、光学活性2,2−ジメチル−3−(2−フルオロ−2−エトキシ−1−エテニル)シクロプロパンカルボン酸エチル等が挙げられる。

0056

なお、得られた光学活性シクロプロパン化合物(4)は、例えば酸触媒の存在下に加熱処理する方法、アルカリ金属水酸化物水溶液と反応させる方法等の通常の加水分解反応を行うことにより、置換基R10が水素原子である光学活性シクロプロパンカルボン酸類に導くことができる。

0057

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。

0058

実施例1A
50mLガラスシュレンク管窒素置換した後、2,2’−イソプロピリデンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジエチル−2−オキサゾリン]9.8mg、酢酸銅・一水和物4mgおよび酢酸エチル5mLを、室温で加え、0.5時間攪拌、保持した後、トリフルオロメタンスルホン酸3mgを加え、室温で、1時間攪拌、保持し、不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を調製した。

0059

実施例1B
上記実施例1Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液に、2,5−ジメチル−2,4−ヘキサジエン11gを加えた後、内温20℃に保ちながら、ジアゾ酢酸エチル10mmolを含むトルエン溶液10mLを、2時間かけて添加した。その後、同温度で30分攪拌、保持し、反応させ、2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルを含む反応液を得た。2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルの収率:88.4%、トランス体シス体比率:74/26,トランス体の光学純度:84%e.e.,シス体の光学純度:24%e.e.。

0060

ここで、2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルの収率およびトランス体/シス体比率は、ガスクロマトグラフィ(以下、GCと略記する。)分析の結果から、以下の式に基づき算出した。またトランス体およびシス体の光学純度は、高速液体クロマトグラフィ(以下、LCと略記する。)分析の結果から、以下の式に基づき算出した(以下の実施例および比較例も同様である。)。なお、トランス体は、シクロプロパン環平面に対して、カルボエトキシ基と2−メチル−1−プロペニル基が反対側にある2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルを、シス体は、シクロプロパン環平面に対して、カルボエトキシ基と2−メチル−1−プロペニル基が同じ側にある2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルをそれぞれ意味する。

0061

2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルの収率(%)=B/A×100
トランス体/シス体比率=トランス体のGC面積百分率値/シス体のGC面積百分率値
ここで、A=ジアゾ酢酸エチルの使用量(mmol)、B=2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルの生成量(mmol)を表わす。

0062

トランス体の光学純度(%e.e.)=(C−D)/(C+D)×100
シス体の光学純度(%e.e.)=(E−F)/(E+F)×100
ここで、C=(+)−トランス体のLC面積百分率値、D=(−)−トランス体のLC面積百分率値、E=(+)−シス体のLC面積百分率値、F=(−)−シス体のLC面積百分率値を表わす。

0063

実施例2B
実施例1Bにおいて、ジアゾ酢酸エチルに代えてジアゾ酢酸tert−ブチルを用いた以外は、実施例1Bと同様に実施して、2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸tert−ブチルを含む反応液を得た。なお、本実施例においては、l−メンチル誘導体化した後に、GC分析し、光学純度を算出した。2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸tert−ブチルの収率:81.5%,トランス体/シス体比率:83/17,トランス体の光学純度:94%e.e.,シス体の光学純度:60%e.e.。

0064

実施例3A
実施例1Aにおいて、トリフルオロメタンスルホン酸の使用量を6mgとした以外は実施例1Aと同様に実施して、不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を調製した。

0065

実施例3B
実施例1Bにおいて、実施例1Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液に代えて、上記実施例3Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を用いた以外は、実施例1Bと同様に実施して、2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルを含む反応液を得た。2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルの収率:89.2%,トランス体/シス体比率:74/26,トランス体の光学純度:85%e.e.,シス体の光学純度:25%e.e.。

0066

実施例4A
実施例1Aにおいて、トリフルオロメタンスルホン酸3mgに代えて三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体2.8mgを用いた以外は実施例1Aと同様に実施して、不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を調製した。

0067

実施例4B
実施例1Bにおいて、実施例1Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液に代えて、上記実施例4Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を用いた以外は、実施例1Bと同様に実施して、2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルを含む反応液を得た。2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルの収率:90.3%,トランス体/シス体比率:74/26,トランス体の光学純度:85%e.e.,シス体の光学純度:33%e.e.。

0068

実施例5A
実施例1Aにおいて、トリフルオロメタンスルホン酸3mgに代えてフルオロスルホン酸4mgを用いた以外は実施例1Aと同様に実施して、不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を調製した。

0069

実施例5B
実施例1Bにおいて、実施例1Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液に代えて、上記実施例5Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を用いた以外は、実施例1Bと同様に実施して、2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルを含む反応液を得た。2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルの収率:87.9%,トランス体/シス体比率:72/28,トランス体の光学純度:82%e.e.,シス体の光学純度:29%e.e.。

0070

実施例6A
実施例1Aにおいて、トリフルオロメタンスルホン酸3mgに代えてフルオロスルホン酸2mgと三フッ化ホウ素・メタノール錯体2.8mgとの混合物を用いた以外は実施例1Aと同様に実施して、不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を調製した。

0071

実施例6B
実施例1Bにおいて、実施例1Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液に代えて、上記実施例6Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を用いた以外は、実施例1Bと同様に実施して、2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルを含む反応液を得た。2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルの収率:88.9%,トランス体/シス体比率:74/26,トランス体の光学純度:84%e.e.,シス体の光学純度:33%e.e.。

0072

実施例7A
実施例1Aにおいて、トリフルオロメタンスルホン酸3mgに代えてフルオロスルホン酸2mgと五フッ化アンチモン4.3mgとの混合物を用いた以外は実施例1Aと同様に実施して、不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を調製した。

0073

実施例7B
実施例1Bにおいて、実施例1Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液に代えて、上記実施例7Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を用いた以外は、実施例1Bと同様に実施して、2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルを含む反応液を得た。2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルの収率:90.7%,トランス体/シス体比率:74/26,トランス体の光学純度:85%e.e.,シス体の光学純度:38%e.e.。

0074

実施例8A
実施例1Aにおいて、トリフルオロメタンスルホン酸3mgに代えてフルオロスルホン酸4mgと五フッ化アンチモン8.6mgとの混合物を用いた以外は実施例1Aと同様に実施して、不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を調製した。

0075

実施例8B
実施例1Bにおいて、実施例1Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液に代えて、上記実施例8Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を用いた以外は、実施例1Bと同様に実施して、2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルを含む反応液を得た。2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルの収率:93.2%,トランス体/シス体比率:75/25,トランス体の光学純度:86%e.e.,シス体の光学純度:40%e.e.。

0076

実施例9A
実施例1Aにおいて、酢酸銅・一水和物4mgに代えて塩化第一銅2mgを用いた以外は実施例1Aと同様に実施して、不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を調製した。

0077

実施例9B
実施例1Bにおいて、実施例1Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液に代えて、上記実施例9Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を用いた以外は、実施例1Bと同様に実施して、2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルを含む反応液を得た。2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルの収率:88.3%,トランス体/シス体比率:74/26,トランス体の光学純度:84%e.e.,シス体の光学純度:25%e.e.。

0078

実施例10A
実施例1Aにおいて、2,2’−イソプロピリデンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジエチル−2−オキサゾリン]9.8mgに代えて2,2’−メチレンビス[(4R,5S)−4,5−ジフェニル−2−オキサゾリン]10.1mgを用いた以外は実施例1Aと同様に実施して、不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を調製した。

0079

実施例10B
実施例1Bにおいて、実施例1Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液に代えて、上記実施例10Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を用いた以外は、実施例1Bと同様に実施して、2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルを含む反応液を得た。2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルの収率:84.1%,トランス体/シス体比率:73/27,トランス体の光学純度:70%e.e.,シス体の光学純度:35%e.e.。

0080

実施例11A
実施例10Aにおいて、トリフルオロメタンスルホン酸3mgに代えてトリス(ペンタフルオロフェニル)アルミニウム53mgを用いた以外は実施例10Aと同様に実施して、不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を調製した。

0081

実施例11B
実施例1Bにおいて、実施例1Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液に代えて、上記実施例11Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を用いた以外は、実施例1Bと同様に実施して、2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルを含む反応液を得た。2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルの収率:95.9%,トランス体/シス体比率:69/31,トランス体の光学純度:54%e.e.,シス体の光学純度:35%e.e.。

0082

比較例1A
実施例1Aにおいて、2,2’−イソプロピリデンビス[(4R)−4−フェニル−5,5−ジエチル−2−オキサゾリン]9.8mgに代えて2,2’−メチレンビス[(4R,5S)−4,5−ジフェニル−2−オキサゾリン]10.1mgを用い、トリフルオロメタンスルホン酸を用いない以外は実施例1Aと同様に実施して、不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を調製した。

0083

比較例1B
実施例1Bにおいて、実施例1Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液に代えて、上記比較例1Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を用いた以外は、実施例1Bと同様に実施して、2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルを含む反応液を得た。2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボン酸エチルの収率は、17.4%であり(トランス体/シス体比率=、65/35)、トランス体の光学純度は2%e.e.であった。

0084

実施例12A
50mLのガラス製シュレンク管を窒素置換した後、2,2’−イソプロピリデンビス[(4R)−4−tert−ブチル−2−オキサゾリン]6.5mg、酢酸銅・一水和物4mgおよび酢酸エチル5mLを、室温で加え、0.5時間攪拌、保持した後、トリフルオロメタンスルホン酸3mgを加え、室温で、1時間攪拌、保持し、不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を調製した。

0085

実施例12B
窒素置換した100mLオートクレーブに、上記実施例12Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液1.25mL(銅金属0.005mmol含有に相当)、酢酸エチル5mLおよびイソブチレン3.4gを加えた。内温40℃に調整し、同温度で、ジアゾ酢酸エチル20mmolを含むトルエン溶液20mLを2時間かけて注加した。その後、同温度で、30分攪拌、保持し、反応させ、2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸エチルを含む反応液を得た。なお、本実施例においては、l−メンチル誘導体化した後に、GC分析し、光学純度を算出した。2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸エチルの収率:98%、光学純度96%e.e.((+)体)であった。

0086

実施例13A
実施例12Aにおいて、トリフルオロメタンスルホン酸3mgに代えて三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体2.8mgを用いた以外は実施例12Aと同様に実施して、不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を調製した。

0087

実施例13B
実施例12Bにおいて、実施例12Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液に代えて上記実施例13Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を用いた以外は、実施例12Bと同様に実施し、2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸エチルを含む反応液を得た。2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸エチルの収率:98%、光学純度96%e.e.((+)体)であった。

0088

実施例14A
50mLガラス製シュレンク管を窒素置換した後、室温で、酢酸銅・一水和物4mgおよび酢酸エチル5mLを加え、トリフルオロメタンスルホン酸3mgを添加した。同温度で、0.5時間攪拌、保持した後、2,2’−イソプロピリデンビス[(4S)−4−tert−ブチル−2−オキサゾリン]6.5mgを添加し、同温度で1時間攪拌、保持し、不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を調製した。

0089

実施例14B
実施例12Bにおいて、実施例12Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液に代えて上記実施例14Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を用いた以外は、実施例12Bと同様に実施し、2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸エチルを含む反応液を得た。2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸エチルの収率:98%、光学純度96%e.e.((−)体)であった。

0090

実施例15A
50mLガラス製シュレンク管を窒素置換した後、室温で、2,2’−イソプロピリデンビス[(4S)−4−tert−ブチル−2−オキサゾリン]6.5mgおよび酢酸エチル5mLを加え、トリフルオロメタンスルホン酸3mgを添加した。同温度で0.5時間攪拌、保持した後、酢酸銅・一水和物4mgを添加し、同温度で1時間攪拌、保持し、不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を調製した。

0091

実施例15B
実施例12Bにおいて、実施例12Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液に代えて上記実施例15Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を用いた以外は、実施例12Bと同様に実施し、2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸エチルを含む反応液を得た。2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸エチルの収率:98%、光学純度96%e.e.((−)体)であった。

0092

比較例3A
実施例12Aにおいて、トリフルオロメタンスルホン酸を用いない以外は実施例12Aと同様に実施して、不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を得た。

0093

比較例3B
実施例12Bにおいて、実施例12Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液に代えて上記比較例3Aで調製した不斉銅錯体を含む酢酸エチル溶液を用い、反応温度を60℃とした以外は、実施例12Bと同様に実施し、2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸エチルを収率61.3%で得た。光学純度は、2%e.e.((+)体)であった。

発明の効果

0094

本発明の新規不斉銅錯体を用いることにより、例えば酢酸銅等の比較的安価な銅化合物を用いても、良好な立体選択性および光学純度で、光学活性シクロプロパン化合物を製造することができるため、工業的な観点から極めて有利である。

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