図面 (/)

技術 洗浄装置及びエッチング装置並びに洗浄方法及びエッチング方法

出願人 TianmaJapan株式会社
発明者 下堂薗寿
出願日 2000年5月12日 (20年7ヶ月経過) 出願番号 2000-140464
公開日 2001年11月13日 (19年1ヶ月経過) 公開番号 2001-314824
状態 特許登録済
技術分野 液体または蒸気による洗浄 半導体の洗浄、乾燥
主要キーワード 常時閉状態 スプレー室 アンローダーユニット 回転可動 洗浄不足 ローダユニット シャワー処理 エッチング薬液
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(2001年11月13日)のものです。
また、この項目は機械的に抽出しているため、正しく解析できていない場合があります

図面 (6)

課題

スプレー処理の前にシャワー処理を行う洗浄装置もしくはエッチング装置において、進行する被処理基板先頭部分と末端部分とのシャワー処理差を抑制する。

解決手段

シャワー処理室2内に可動シャワーノズル1を設け、スプレー処理室4内にスプレーノズル3を設け、入り口から入室された被処理基板30が搬送手段5によりシャワー処理室2をスプレー処理室4に向かって進行する洗浄装置もしくはエッチング装置において、可動シャワーノズル1は被処理基板30の進行方向30Aとは逆の方向に駆動軸7を中心に回転する。

概要

背景

TFTアレイ等の製造工程では、洗浄処理したガラス基板上に、メタル膜あるいは絶縁膜等を成膜し、フォトレジスト法によりパターニングし、ウェットエッチングによりエッチングし、レジスト剥離液剥離する、という一連の工程を数回繰り返し、薄膜トランジスタを形成する。したがって洗浄処理やエッチング処理が重要なプロセスとなる。

図5を参照して従来技術の洗浄装置を説明する。処理槽10、処理液槽20、第1のバルブ21、第2のバルブ22、第3のバルブ23及びポンプ24を具備している。

処理槽10のシャワー処理室2には一個シャワーノズル31が設けられ、スプレー処理室4内には多数のスプレーノズル3が設けられている。

ガラス基板30は搬送機構5により進行方向30Aを進行し、シャワーノズル31によるシャワー処理後にスプレーノズル3によるスプレー処理が施され、液切り部材6により処理液洗浄液もしくはエッチング薬液)を吹きとばした後、処理槽から搬出される。

スプレーノズルの液の噴出口は針穴程度の径で、処理液が扇状または円錐状に広がるためスプレー処理室内には数十個のスプレーノズルが必要になる。

一方、シャワーノズルはスペーサを介して板を重ねたような噴出口を有していて、処理液(洗浄液もしくはエッチング薬液)は帯状に広がって処理基板に向かって噴出されるから、このシャワーノズルはガラス基板の搬入側に1個だけ設ける。そして従来技術のシャワーノズル31はガラス基板の進行方向側に向けられて固定されている。すなわち常に同じ方向を向けられて設置されている。

ここで、スプレー処理だけの処理を行うと、処理後に局所的な処理むらが生じる。したがって、この不都合な処理むらを無くすためにスプレー処理の前にシャワー処理を行う必要がある。

概要

スプレー処理の前にシャワー処理を行う洗浄装置もしくはエッチング装置において、進行する被処理基板先頭部分と末端部分とのシャワー処理差を抑制する。

シャワー処理室2内に可動シャワーノズル1を設け、スプレー処理室4内にスプレーノズル3を設け、入り口から入室された被処理基板30が搬送手段5によりシャワー処理室2をスプレー処理室4に向かって進行する洗浄装置もしくはエッチング装置において、可動シャワーノズル1は被処理基板30の進行方向30Aとは逆の方向に駆動軸7を中心に回転する。

目的

したがって本発明の目的は、進行する被処理基板にシャワー洗浄処理を行う際に、先頭部分と末端部分との処理差を抑制することができる洗浄装置を提供することである。

本発明の他の目的は、進行する被処理基板にシャワーエッチング処理を行う際に、先頭部分と末端部分との処理差を抑制することができるエッチング装置を提供することである。

本発明の別の目的は、上記洗浄装置を用いた有効な洗浄方法を提供することである。

本発明のさらに別の目的は、上記エッチング装置を用いた有効なエッチング方法を提供することである。

効果

実績

技術文献被引用数
1件
牽制数
2件

この技術が所属する分野

(分野番号表示ON)※整理標準化データをもとに当社作成

ライセンス契約や譲渡などの可能性がある特許掲載中! 開放特許随時追加・更新中 詳しくはこちら

請求項1

シャワー処理室内にシャワーノズルを設け、スプレー処理室内にスプレーノズルを設け、入り口から入室された被処理基板が搬送手段により前記シャワー処理室を前記スプレー処理室に向かって進行する洗浄装置において、前記シャワーノズルは前記被処理基板の進行方向とは逆の方向に回転可能であることを特徴とする洗浄装置。

請求項2

前記シャワーノズルは、進行する前記被処理基板の先端部分に洗浄液噴出する際には進行方向に対して鈍角になり、進行する前記被処理基板の末端部分に洗浄液を噴出する際には進行方向に対して鋭角になることを特徴とする請求項1記載の洗浄装置。

請求項3

シャワー処理室内にシャワーノズルを設け、スプレー処理室内にスプレーノズルを設け、入り口から入室された被処理基板が搬送手段により前記シャワー処理室を前記スプレー処理室に向かって進行するエッチング装置において、前記シャワーノズルは前記被処理基板の進行方向とは逆の方向に回転可能であることを特徴とするエッチング装置。

請求項4

前記シャワーノズルは、進行する前記被処理基板の先端部分にエッチング薬液を噴出する際には進行方向に対して鈍角になり、進行する前記被処理基板の末端部分にエッチング薬液を噴出する際には進行方向に対して鋭角になることを特徴とする請求項3記載のエッチング装置。

請求項5

被処理基板にシャワーノズルにより第1の洗浄処理を行い、次にスプレーノズルにより第2の洗浄処理を行う洗浄方法において、進行する前記被処理基板に対してシャワーノズルを前記被処理基板の進行方向とは逆の方向に回転させて前記第1の洗浄処理を行うことを特徴とする洗浄方法。

請求項6

進行する前記被処理基板の先端部分に洗浄液を噴出する際には前記シャワーノズルの軸が前記進行方向に対して鈍角になり、進行する前記被処理基板の末端部分に洗浄液を噴出する際には前記シャワーノズルの軸が前記進行方向に対して鋭角になるように前記回転を行うことを特徴とする請求項5記載の洗浄方法。

請求項7

被処理基板にシャワーノズルにより第1のエッチング処理を行い、次にスプレーノズルにより第2のエッチング処理を行うエッチング方法において、進行する前記被処理基板に対してシャワーノズルを前記被処理基板の進行方向とは逆の方向に回転させて前記第1のエッチング処理を行うことを特徴とするエッチング方法。

請求項8

進行する前記被処理基板の先端部分にエッチング液を噴出する際には前記シャワーノズルの軸が前記進行方向に対して鈍角になり、進行する前記被処理基板の末端部分にエッチング液を噴出する際には前記シャワーノズルの軸が前記進行方向に対して鋭角になるように前記回転を行うことを特徴とする請求項7記載のエッチング方法。

技術分野

0001

本発明は洗浄装置及びエッチング装置並びに洗浄方法及びエッチング方法に係わり、特にスプレー処理の前にシャワー処理を行う洗浄装置及びエッチング装置並びに洗浄方法及びエッチング方法に関する。

背景技術

0002

TFTアレイ等の製造工程では、洗浄処理したガラス基板上に、メタル膜あるいは絶縁膜等を成膜し、フォトレジスト法によりパターニングし、ウェットエッチングによりエッチングし、レジスト剥離液剥離する、という一連の工程を数回繰り返し、薄膜トランジスタを形成する。したがって洗浄処理やエッチング処理が重要なプロセスとなる。

0003

図5を参照して従来技術の洗浄装置を説明する。処理槽10、処理液槽20、第1のバルブ21、第2のバルブ22、第3のバルブ23及びポンプ24を具備している。

0004

処理槽10のシャワー処理室2には一個シャワーノズル31が設けられ、スプレー処理室4内には多数のスプレーノズル3が設けられている。

0005

ガラス基板30は搬送機構5により進行方向30Aを進行し、シャワーノズル31によるシャワー処理後にスプレーノズル3によるスプレー処理が施され、液切り部材6により処理液洗浄液もしくはエッチング薬液)を吹きとばした後、処理槽から搬出される。

0006

スプレーノズルの液の噴出口は針穴程度の径で、処理液が扇状または円錐状に広がるためスプレー処理室内には数十個のスプレーノズルが必要になる。

0007

一方、シャワーノズルはスペーサを介して板を重ねたような噴出口を有していて、処理液(洗浄液もしくはエッチング薬液)は帯状に広がって処理基板に向かって噴出されるから、このシャワーノズルはガラス基板の搬入側に1個だけ設ける。そして従来技術のシャワーノズル31はガラス基板の進行方向側に向けられて固定されている。すなわち常に同じ方向を向けられて設置されている。

0008

ここで、スプレー処理だけの処理を行うと、処理後に局所的な処理むらが生じる。したがって、この不都合な処理むらを無くすためにスプレー処理の前にシャワー処理を行う必要がある。

発明が解決しようとする課題

0009

しかしながら上記した従来技術においては、進行する被処理基板(ガラス基板)の先頭部分では相対的に多いい処理となり、末端部分では相対的に少ない処理となるから先端部分と末端部分とで処理結果に差が生じてしまう。

0010

したがって洗浄処理においては、先頭部分に適切な洗浄を行えるようにシャワー処理条件を設定すると末端部分が洗浄不足となり、末端部分に適切な洗浄を行えるようにシャワー処理条件を設定すると先頭部分に余分な洗浄を行い不経済なことになる。

0011

エッチング処理においては、先頭部分に適切なエッチングを行えるようにシャワー処理条件を設定すると末端部分がエッチング不足となり、末端部分に適切なエッチングを行えるようにシャワー処理条件を設定すると先頭部分がオーバーエッチングになってしまう。

0012

この不都合を生じる原因は、進行するガラス基板に対し、シャワーノズルが常に進行方向を向いて処理液を噴出し、処理液は先端部分にまで伝わってからガラス基板から落ち、先頭部分には次から次に処理液が流れてくるから、先頭部分が処理液にさらされる時間が長くなるが、末端部分には一瞬処理液がかかり、シャワーノズル下を通りすぎてしまうからである。

0013

したがって本発明の目的は、進行する被処理基板にシャワー洗浄処理を行う際に、先頭部分と末端部分との処理差を抑制することができる洗浄装置を提供することである。

0014

本発明の他の目的は、進行する被処理基板にシャワーエッチング処理を行う際に、先頭部分と末端部分との処理差を抑制することができるエッチング装置を提供することである。

0015

本発明の別の目的は、上記洗浄装置を用いた有効な洗浄方法を提供することである。

0016

本発明のさらに別の目的は、上記エッチング装置を用いた有効なエッチング方法を提供することである。

課題を解決するための手段

0017

本発明の第1番目の特徴は、シャワー処理室内にシャワーノズルを設け、スプレー処理室内にスプレーノズルを設け、入り口から入室された被処理基板が搬送手段により前記シャワー処理室を前記スプレー処理室に向かって進行する洗浄装置において、前記シャワーノズルは前記被処理基板の進行方向とは逆の方向に回転可能である洗浄装置にある。ここで前記シャワーノズルは、進行する前記被処理基板の先端部分に洗浄液を噴出する際には進行方向に対して鈍角になり、進行する前記被処理基板の末端部分に洗浄液を噴出する際には進行方向に対して鋭角になることが好ましい。

0018

本発明の第2番目の特徴は、シャワー処理室内にシャワーノズルを設け、スプレー処理室内にスプレーノズルを設け、入り口から入室された被処理基板が搬送手段により前記シャワー処理室を前記スプレー処理室に向かって進行するエッチング装置において、前記シャワーノズルは前記被処理基板の進行方向とは逆の方向に回転可能であるエッチング装置にある。ここで前記シャワーノズルは、進行する前記被処理基板の先端部分にエッチング薬液を噴出する際には進行方向に対して鈍角になり、進行する前記被処理基板の末端部分にエッチング薬液を噴出する際には進行方向に対して鋭角になることが好ましい。

0019

本発明の第3番目の特徴は、被処理基板にシャワーノズルにより第1の洗浄処理を行い、次にスプレーノズルにより第2の洗浄処理を行う洗浄方法において、進行する前記被処理基板に対してシャワーノズルを前記被処理基板の進行方向とは逆の方向に回転させて前記第1の洗浄処理を行う洗浄方法にある。ここで進行する前記被処理基板の先端部分に洗浄液を噴出する際には前記シャワーノズルの軸が前記進行方向に対して鈍角になり、進行する前記被処理基板の末端部分に洗浄液を噴出する際には前記シャワーノズルの軸が前記進行方向に対して鋭角になるように前記回転を行うことが好ましい。

0020

本発明の第4番目の特徴は、被処理基板にシャワーノズルにより第1のエッチング処理を行い、次にスプレーノズルにより第2のエッチング処理を行うエッチング方法において、進行する前記被処理基板に対してシャワーノズルを前記被処理基板の進行方向とは逆の方向に回転させて前記第1のエッチング処理を行うエッチング方法にある。ここで進行する前記被処理基板の先端部分にエッチング液を噴出する際には前記シャワーノズルの軸が前記進行方向に対して鈍角になり、進行する前記被処理基板の末端部分にエッチング液を噴出する際には前記シャワーノズルの軸が前記進行方向に対して鋭角になるように前記回転を行うことが好ましい。

0021

このような本発明のよれば、先端部分側だけではなく末端部分側にも処理液(洗浄液もしくはエッチング液)が流れて落ちるようになるから末端部分も処理液に晒される時間が長くなり、これにより先端部分と末端部分との処理差を抑制することができる。

発明を実施するための最良の形態

0022

以下、図1乃至図4を参照して本発明の実施の形態を説明する。図1乃至図4において(A)は各ステップにおける装置全体を示す図であり、(B)は各ステップにおけるシャワーノズル及びその近傍を拡大して示す図である。

0023

また、実施の形態の説明で、「処理液」とは、洗浄装置の場合は純水で代表される洗浄液であり、エッチング装置の場合はエッチング薬液である。

0024

実施の形態の洗浄装置もしくはエッチング装置は、処理槽10、処理液槽20、第1のバルブ21、第2のバルブ22、第3のバルブ23及びポンプ24を具備している。

0025

処理槽10のシャワー処理室2内には駆動軸7を中心にして回転する一個のシャワーノズル(回転可動するから以後、可動シャワーノズル、と称す)1が設けられ、スプレー処理室4内には数十個のスプレーノズル3が設けられている。

0026

処理液(純水もしくはエッチング薬液)がポンプ24により処理液槽20から、第1のバルブ21を通して可動シャワーノズル1に送られる。また、処理液(純水もしくはエッチング薬液)がポンプ24により処理液槽20から、第2のバルブ22を通して上側のスプレーノズル3に送られる。

0027

さらに、処理液(純水もしくはエッチング薬液)がポンプ24により処理液槽20から、第3のバルブ23を通して下側のスプレーノズル3に送られる。この下側のスプレーノズル3は基板裏面処理のために設けられているが、本実施の形態では基板の表面(図で上面)処理のみに関するものであるから、これから説明する各ステップで第3のバルブ23は常時閉状態であり、下側のスプレーノズル3は用いていない。

0028

被処理基板であるガラス基板30が処理槽10内に、図で左側より、搬入され、搬送機構5により進行方向30Aを進行し、可動シャワーノズル1及びスプレーノズル3からの処理液(純水もしくはエッチング薬液)の噴出により所定の処理がされ、液切り部材6からの空気の吹き付けにより処理液(純水もしくはエッチング薬液)を飛ばした後、図で右側より、処理槽10外に搬出される。

0029

搬入されたガラス基板30は搬出されるまで処理槽内を搬送機構により一定の速度で進行するタイプと、スプレーノズル下でガラス基板を左右に揺動するタイプがある。

0030

次に実施の形態の処理方法について説明する。

0031

ガラス基板用カセットからローダユニットにより払い出されたガラス基板30は、水平搬送されるコンベア上を移動する。ガラス基板30が処理槽10に近づくと、処理槽10の入口側(図で左側)にあるシャッター(図示省略)が開き、処理槽内への搬入が行われる。

0032

図1に示すように、搬入されるガラス基板30には、第1のバルブ21を開動作させて、槽内搬入口側に設置されている可動シャワーノズル1から処理液(純水もしくはエッチング薬液)8がガラス基板30の先端部分に向けて、ガラス基板の進行方向30A側に噴出される。ここで、第2、第3のバルブは閉状態になっている。

0033

すなわち図1(B)に示すように、この状態の可動シャワーノズル1の1点鎖線で示す中心は、ガラス基板30の進行方向30Aに対して90度よりも大きい角度θ1 、すなわち鈍角θ1 となっている。

0034

図1の状態から、可動シャワーノズル1はガラス基板30の進行方向30Aとは逆の方向1Aに駆動軸7を中心に一定の角速度で回転して、図2に示すように、進行するガラス基板30の中央部分が可動シャワーノズル1の駆動軸7の下に位置したときには、可動シャワーノズル1の1点鎖線で示す中心は、ガラス基板30の進行方向30Aに対して90度の角度θ2 になり、この状態で可動シャワーノズル1から処理液(純水もしくはエッチング薬液)8がガラス基板30の中央部分の方向に噴出される。

0035

ガラス基板30の進行がさらに進むと、図3に示すような状態となり、逆の方向1Aに一定の角速度で回転している可動シャワーノズル1がガラス基板の進行方向30Aとは逆の方向側に向けられ、処理液(純水もしくはエッチング薬液)8がガラス基板30の末端部分に向けて噴出される。

0036

この状態では図3(B)に示すように、可動シャワーノズル1の1点鎖線で示す中心は、ガラス基板の進行方向30Aに対して90度よりも小さい角度θ3 、すなわち鋭角θ3 になっている。

0037

ガラス基板30の搬入が進み、スプレー処理室4内の中央まで搬送されると、図4に示すように、入口側(図で左側)のシャッター(図示省略)は閉まり、第1のバルブ21を閉にすることにより可動シャワーノズル1からの処理液(純水もしくはエッチング薬液)の噴出は停止し、第2のバルブ22を開状態にすることによりスプレー室4内の上部に設置されたスプレーノズル3から処理液(純水もしくはエッチング薬液)9を噴出させる。

0038

またこの状態で、可動シャワーノズル1は基板進行方向30Aと同じ方向1Bに回転して図1原点位置に戻り、次のガラス基板の可動シャワーノズル処理に備える。

0039

このスプレー処理を行った後、エアーナイフ部材6により液切りされ、槽の出口側(図で右側)にあるシャッター(図示省略)が開いて処理済みのガラス基板が搬出され、同時に槽入口側のシャッターが開き、次のガラス基板が処理をするために槽内に搬入される。

0040

そして処理槽10から搬出された処理済みのガラス基板30は、コンベアーにて搬送された後、アンローダーユニットにてカセットに収納される。

発明の効果

0041

以上説明したように本発明の効果は、スプレー処理時に処理液のかかり具合の違いから生じる処理ムラを低減する為に槽の入口側に取り付けているシャワーノズルを、基板搬送方向とは逆方向に徐々に回転駆動させる事により基板の先端部分側だけではなく末端部分側にもシャワーノズルからの処理液(洗浄液もしくはエッチング液)が流れて落ちるようにするから、末端部分もこの処理液に晒される時間が長くなり、これにより先端部分と末端部分とのシャワー処理差を抑制することができ、スプレー処理前の基板面の先端部分から末端部分の液置換状態をより均等にして両部分間の処理差を改善することができる。

図面の簡単な説明

0042

図1本発明の実施の形態の処理方法の1状態を示す図であり、(A)は装置全体の図、(B)は可動シャワーノズル及びその近傍の拡大図である。
図2図1の後の状態を示す図であり、(A)は装置全体の図、(B)は可動シャワーノズル及びその近傍の拡大図である。
図3図2の後の状態を示す図であり、(A)は装置全体の図、(B)は可動シャワーノズル及びその近傍の拡大図である。
図4図3の後の状態を示す図であり、(A)は装置全体の図、(B)は可動シャワーノズル及びその近傍の拡大図である。
図5従来技術を示す図である。

--

0043

1可動シャワーノズル
1A 可動シャワーノズルの基板進行と逆の方向の回転
1B 可動シャワーノズルの基板進行と同じ方向の回転
2シャワー処理室
3スプレーノズル
4スプレー処理室
5搬送機構
6液切り部材
7駆動軸
8 シャワーノズルによる処理液
9 スプレーノズルによる処理液
10処理槽
20処理液槽
21 第1のバルブ
22 第2のバルブ
23 第3のバルブ
24ポンプ
30ガラス基板
30A ガラス基板の進行方向
31 従来技術のシャワーノズル

ページトップへ

この技術を出願した法人

この技術を発明した人物

ページトップへ

関連する挑戦したい社会課題

該当するデータがありません

関連する公募課題

該当するデータがありません

ページトップへ

技術視点だけで見ていませんか?

この技術の活用可能性がある分野

分野別動向を把握したい方- 事業化視点で見る -

(分野番号表示ON)※整理標準化データをもとに当社作成

ページトップへ

おススメ サービス

おススメ astavisionコンテンツ

新着 最近 公開された関連が強い技術

  • 威海瑶池工芸品有限公司の「 ネックレス洗浄設備」が 公開されました。( 2020/10/29)

    【課題】本発明はネックレス洗浄設備を開示した。【解決手段】前記伝動チャンバの中には伝動装置が設置され、前記作動箱の中には動力チャンバが設置され、前記動力チャンバの中には動力装置が設置され、前記動力装置... 詳細

  • ダイキン工業株式会社の「 ウェハーカップ」が 公開されました。( 2020/10/29)

    【課題】摩擦帯電および剥離帯電が起こりにくいウェハーカップを提供すること。【解決手段】テトラフルオロエチレン単位とフルオロ(アルキルビニルエーテル)単位とを含有する共重合体を含むウェハーカップであって... 詳細

  • 大日本印刷株式会社の「 飲料充填装置の殺菌方法及び飲料充填装置」が 公開されました。( 2020/10/29)

    【課題】飲料の充填作業に着手するまでの時間又は生産間時間を短縮する。【解決手段】加熱殺菌部を経て充填機内へと飲料を送る飲料供給系配管を備えた飲料充填装置の殺菌方法において、飲料供給系配管に加熱液体又は... 詳細

この 技術と関連性が強い人物

関連性が強い人物一覧

この 技術と関連する社会課題

該当するデータがありません

この 技術と関連する公募課題

該当するデータがありません

astavision 新着記事

サイト情報について

本サービスは、国が公開している情報(公開特許公報、特許整理標準化データ等)を元に構成されています。出典元のデータには一部間違いやノイズがあり、情報の正確さについては保証致しかねます。また一時的に、各データの収録範囲や更新周期によって、一部の情報が正しく表示されないことがございます。当サイトの情報を元にした諸問題、不利益等について当方は何ら責任を負いかねることを予めご承知おきのほど宜しくお願い申し上げます。

主たる情報の出典

特許情報…特許整理標準化データ(XML編)、公開特許公報、特許公報、審決公報、Patent Map Guidance System データ