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課題

本発明は被露光体となる被露光基板垂直姿勢とした状態で露光処理を行なう露光装置に関し、処理速度の向上を図ることを課題とする。

解決手段

水平姿勢で供給されるプリント基板11を垂直姿勢となるよう姿勢変換させる受取り側吸着アームと、プリント基板11を姿勢変換される姿勢変換位置(P1)から、露光処理を行なう露光位置(P2,P4)、露光処理が終了したプリント基板11を搬出する搬出位置(P5)にプリント基板11を順次搬送する搬送機構20Aとを備えた露光装置において、露光ランプ31A,31Bの光軸(LL1,LL2)がプリント基板11の搬送方向(X1方向)に対して直交するよう露光ランプ31A,31Bを配置し、かつプリント基板11の搬送過程において、プリント基板11の露光処理面が前記光軸(LL1,LL2)に対して直角状態を維持しつつ搬送されるよう構成する。

概要

背景

一般に、プリント配線基板配設パターンを形成する場合、プリント基板基板材)に予め形成された導体箔エッチングレジスト膜フォトレジスト膜)を配設し、このエッチングレジスト膜を所要パターンで耐エッチング処理した後、導体箔をエッチングすることで所要の配線パターンを形成する方法が採られている。この方法において、エッチングレジスト膜に対する耐エッチング処理は、必要な配線パターンと同じパターンの露光パターンが形成された露光マスクをエッチングレジスト膜と対向するよう配置し、光源から光をこの露光マスク通してエッチングレジスト膜に照射露光することで行なわれる。

この種の露光マスクを用いて露光を行なう露光装置は、装置に供給されたプリント基板を露光位置,排出位置に順次搬送する搬送機構と、露光位置でエッチングレジスト膜に対し露光処理を行なう露光手段等を備えている。また、プリント基板の表裏両面に配線パターンを有する両面プリント基板に対応した露光装置も提供されており、この種の露光装置は表面用の光源及び露光マスクと裏面用の光源及び露光マスクを有しており、表面側露光位置においてプリント基板の表面露光を行ない、続いてプリント基板を裏面露光位置に搬送して裏面露光を行なう構成とされている。

概要

本発明は被露光体となる被露光基板垂直姿勢とした状態で露光処理を行なう露光装置に関し、処理速度の向上を図ることを課題とする。

水平姿勢で供給されるプリント基板11を垂直姿勢となるよう姿勢変換させる受取り側吸着アームと、プリント基板11を姿勢変換される姿勢変換位置(P1)から、露光処理を行なう露光位置(P2,P4)、露光処理が終了したプリント基板11を搬出する搬出位置(P5)にプリント基板11を順次搬送する搬送機構20Aとを備えた露光装置において、露光ランプ31A,31Bの光軸(LL1,LL2)がプリント基板11の搬送方向(X1方向)に対して直交するよう露光ランプ31A,31Bを配置し、かつプリント基板11の搬送過程において、プリント基板11の露光処理面が前記光軸(LL1,LL2)に対して直角状態を維持しつつ搬送されるよう構成する。

目的

本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり装置を大型化しないで高精度、高スピードで露光処理を行ないうる露光装置を提供することを目的とする。

効果

実績

技術文献被引用数
2件
牽制数
0件

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請求項1

光源からの光を所定の露光パターンが形成された露光マスクを通して被露光基板露光処理面露光する露光装置であって、水平姿勢で供給される前記被露光基板を垂直姿勢となるよう姿勢変換させる姿勢変換機構と、前記被露光基板を前記姿勢変換される姿勢変換位置から、前記被露光基板に露光処理を行なう露光位置、露光処理が終了した前記被露光基板を搬出する搬出位置に前記被露光基板を順次搬送する搬送機構とを備え、前記光源の光軸が前記被露光基板の搬送方向に対して直交するよう、前記光源を前記被露光基板の搬送経路側部位置に配置し、かつ、前記被露光基板の搬送過程において、前記露光処理面が前記光軸に対して直角状態を維持しつつ搬送されるよう前記搬送機構を構成したことを特徴とする露光装置。

請求項2

請求項1記載の露光装置において、前記搬送機構は、前記被露光基板を着脱可能に保持する複数の保持アームを有し、該複数の保持アーム間で前記被露光基板を受け渡しつつ、前記被露光基板を搬送する構成としたことを特徴とする露光装置。

請求項3

請求項1または2記載の露光装置において、前記搬送機構は、前記露光処理面の中心位置の移動軌跡が一直線状となるよう前記被露光基板を搬送する構成とされていることを特徴とする露光装置。

請求項4

請求項2または3記載の露光装置において、前記保持アームをスライド移動するよう構成し、該スライド移動に伴い前記被露光基板が搬送されるよう構成したことを特徴とする露光装置。

請求項5

請求項2記載の露光装置において、前記保持アームを回動するよう構成し、該回動に伴い前記被露光基板が搬送されるよう構成したことを特徴とする露光装置。

請求項6

請求項2乃至5記載の露光装置において、前記保持アームは前記被露光基板を吸引吸着する吸引部と、前記被露光基板の姿勢保持を行なう保持部とを設けてなることを特徴とする露光装置。

請求項7

請求項2乃至6記載の露光装置において、前記保持アームは、前記被露光基板の受け渡しを行ないうる範囲において前記光源の光軸方向に移動する構成とされていることを特徴とする露光装置。

技術分野

0001

本発明は露光装置係り、特に被露光体となる被露光基板垂直姿勢とした状態で露光処理を行なう露光装置に関する。

背景技術

0002

一般に、プリント配線基板配設パターンを形成する場合、プリント基板基板材)に予め形成された導体箔エッチングレジスト膜フォトレジスト膜)を配設し、このエッチングレジスト膜を所要パターンで耐エッチング処理した後、導体箔をエッチングすることで所要の配線パターンを形成する方法が採られている。この方法において、エッチングレジスト膜に対する耐エッチング処理は、必要な配線パターンと同じパターンの露光パターンが形成された露光マスクをエッチングレジスト膜と対向するよう配置し、光源から光をこの露光マスク通してエッチングレジスト膜に照射露光することで行なわれる。

0003

この種の露光マスクを用いて露光を行なう露光装置は、装置に供給されたプリント基板を露光位置,排出位置に順次搬送する搬送機構と、露光位置でエッチングレジスト膜に対し露光処理を行なう露光手段等を備えている。また、プリント基板の表裏両面に配線パターンを有する両面プリント基板に対応した露光装置も提供されており、この種の露光装置は表面用の光源及び露光マスクと裏面用の光源及び露光マスクを有しており、表面側露光位置においてプリント基板の表面露光を行ない、続いてプリント基板を裏面露光位置に搬送して裏面露光を行なう構成とされている。

発明が解決しようとする課題

0004

従来、この種の露光装置は、プリント基板及び露光マスクを水平な姿勢で扱うものが一般的であったため、プリント基板や露光マスクにはどうしても塵埃が付着し、この塵埃が露光用の光を遮って露光不良を招いてしまうという問題があった。特に、要求される露光精度のレベルが高い場合は、露光用の光として平行光を用いることが絶対的な条件とされるため、塵埃の付着は露光不良に直結する重大な問題になる。また、露光マスクが常時水平な姿勢で保持された構成では、経時的に自重による所謂自然撓みが必然的に発生し、露光マスクと被露光板との接触に隙間ができてしまうという問題もある。

0005

更に、従来のプリント基板を水平方向に搬送する露光装置では、表裏両面に露光処理を行なおうとした場合、光源及び露光マスクをプリント基板の搬送位置を挟んで上部と下部に配設する必要があり、露光装置の高さが高くなってしまうと共に、メンテナンス性が悪化してしまうという問題点があった。

0006

また、プリント基板の姿勢を垂直状態として搬送を行なうことにより上記の問題を解決しようとした露光装置も提案されているが、従来のこの種の露光装置は装置内におけるプリント基板の搬送経路が複雑で、処理スピードが低下してしまうという問題点があった。

0007

本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり装置を大型化しないで高精度、高スピードで露光処理を行ないうる露光装置を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

0008

上記課題を解決するために本発明では、次に述べる各手段を講じたことを特徴とするものである。

0009

請求項1記載の発明は、光源からの光を所定の露光パターンが形成された露光マスクを通して被露光基板の露光処理面に露光する露光装置であって、水平姿勢で供給される前記被露光基板を垂直姿勢となるよう姿勢変換させる姿勢変換機構と、前記被露光基板を前記姿勢変換される姿勢変換位置から、前記被露光基板に露光処理を行なう露光位置、露光処理が終了した前記被露光基板を搬出する搬出位置に前記被露光基板を順次搬送する搬送機構とを備え、前記光源の光軸が前記被露光基板の搬送方向に対して直交するよう、前記光源を前記被露光基板の搬送経路の側部位置に配置し、かつ、前記被露光基板の搬送過程において、前記露光処理面が前記光軸に対して直角状態を維持しつつ搬送されるよう前記搬送機構を構成したことを特徴とするものである。

0010

本発明に係る露光装置によれば、姿勢変換機構により垂直姿勢とされた被露光基板は、この姿勢変換位置から搬送機構により露光位置、搬出位置に順次搬送される。このため、被露光基板及び露光マスクに塵埃が付着することを防止でき、よって高精度の露光処理を行なうことが可能となる。また、光源はその光軸が被露光基板の搬送方向に対して直交するよう配置され、かつ搬送機構は搬送過程において被露光基板の露光処理面が光軸に対して直角状態を維持しつつ搬送するため、装置内における被露光基板の搬送距離を短くすることができる。これにより、搬送機構による被露光基板の搬送時間は短縮され、よって露光処理の高速化を図ることができる。更に、光源は被露光基板の搬送経路の側部位置に配置されているため、装置の低背化を図ることができる。

0011

また、請求項2記載の発明は、請求項1記載の露光装置において、前記搬送機構は、前記被露光基板を着脱可能に保持する複数の保持アームを有し、該複数の保持アーム間で前記被露光基板を受け渡しつつ、前記被露光基板を搬送する構成としたことを特徴とするものである。

0012

本発明によれば、ひとつの保持アームで搬送処理を行なう構成に比べ、複数の保持アームを個別に動作させることができるため、搬送効率の向上を図ることができる。例えば、一の保持アームが被露光基板を露光位置から排出位置に搬送している間に、他の保持アームが姿勢変換位置から露光位置に被露光基板を搬送することが可能となり、搬送処理の効率化及び露光処理全体の高速化を図ることができる。

0013

また、請求項3記載の発明は、請求項1または2記載の露光装置において、前記搬送機構は、前記露光処理面の中心位置の移動軌跡が一直線状となるよう前記被露光基板を搬送する構成とされていることを特徴とするものである。

0014

本発明によれば、露光処理面の中心位置の移動軌跡が一直線状であるため、装置内における被露光基板の搬送距離を最短化することができる。よって、搬送機構による被露光基板の搬送時間を短くすることができ、露光処理の高速化を図ることができる。

0015

また、請求項4記載の発明は、請求項2または3記載の露光装置において、前記保持アームをスライド移動するよう構成し、該スライド移動に伴い前記被露光基板が搬送されるよう構成したことを特徴とするものである。

0016

本発明によれば、保持アームはスライド移動し、上下方向の移動を含まないため、搬送機構による被露光基板の搬送時間を短縮することができる。また、被露光基板の搬送に必要となる装置内における搬送空間を小さくすることができるため、露光装置の小型化を図ることができる。

0017

また、請求項5記載の発明は、請求項2記載の露光装置において、前記保持アームを回動するよう構成し、該回動に伴い前記被露光基板が搬送されるよう構成したことを特徴とするものである。

0018

本発明によれば、保持アームをスライド移動する構成に比べて移動機構簡単化を図ることができる。

0019

また、請求項6記載の発明は、請求項2乃至5記載の露光装置において、前記保持アームは前記被露光基板を吸引吸着する吸引部と、前記被露光基板の姿勢保持を行なう保持部とを設けてなることを特徴とするものである。

0020

本発明によれば、被露光基板は保持部に吸引されることにより保持アームに保持されるが、この際に保持部による保持位置とは異なる位置において保持部は被露光基板を保持し、被露光基板の姿勢保持を行なう。よって、保持時において被露光基板に反りや撓みが発生することを抑制でき、高精度の露光処理を行なうことが可能となる。

0021

更に、請求項7記載の発明は、請求項2乃至6記載の露光装置において、前記保持アームは、前記被露光基板の受け渡しを行ないうる範囲において前記光源の光軸方向に移動する構成とされていることを特徴とするものである。

0022

本発明によれば、被露光基板の受け渡しを行ないうる範囲において、保持アームが光源の光軸方向に移動するよう構成されているため、一の保持アームから他の保持アームへ被露光基板を受け渡す処理を円滑に行なうことができる。また、保持アームは光源の光軸方向に移動する構成であるため、被露光基板が光軸に対し直角状態を維持したままで受け渡し処理を行なうことができる。このため、被露光基板の姿勢変換を行なう必要がないため、受け渡しに要する時間の短縮を図ることができ処理の高速化を図ることができる。また、受け渡しに要する装置内の空間を小さくすることができるため、装置の小型化を図ることができる。

発明を実施するための最良の形態

0023

次に、本発明の実施の形態について図面と共に説明する。

0024

図1から図11は本発明の第1実施例である露光装置1Aを示している。図1図3は露光装置1Aの全体構成を示す図であり、図4図8マスクホルダ29A、29B及び吸着ホルダ30A,30Bを説明するための図であり、図9図11搬送装置20Aの動作を説明するための図である。尚、本実施例で説明する露光装置1Aは、プリント基板11を被露光基板とするものであり、またプリント基板11の両面に対して露光処理を行なうよう構成されている。

0025

露光装置1Aは、図1及び図2に示すように、大略するとハウジング3、メインフレーム10、受入れ部16、第1の露光部17、第2の露光部18、排出部19、及び搬送機構20A等により構成されている。この各構成要素の内、受入れ部16,第1の露光部17,第2の露光部18,及び排出部19はそれぞれユニット化した構成とされている。

0026

また、受入れ部16と排出部19、及び第1の露光部17と第2の露光部18は略同一構成とされている。即ち、受入れ部16と排出部19は、図中矢印X1,X2方向に左右対称な構成とされており、また第1及び第2の露光部17,18は同一構成とされており、図中矢印Y1,Y2方向に配設位置が逆な構成とされている。このため、部品共通化を図ることができ、装置コストの低減を図ることができると共に、メンテナンス性の向上を図ることができる。

0027

尚、図1においては、受入れ部16、第1の露光部17、第2の露光部18、排出部19のそれぞれにプリント基板11が位置するよう図示しているが、実際には後述する搬送動作に従った位置に位置することになる。

0028

以下、上記した露光装置1Aの各構成要素の詳細について説明する。

0029

ハウジング3の図中X2方向端部にはプリント基板11を装置内に搬入するための基板搬入口5が形成されており、またハウジング3の図中X1方向端部にはプリント基板11を装置外に搬出するための基板搬出口7が形成されている。基板搬入口5にはプリント基板11を供給する供給コンベア9が接続されており、また基板搬出口7にはプリント基板11を排出する排出コンベア13が接続されている。

0030

プリント基板11は、その表裏両面に紫外線硬化型レジスト膜が形成された状態で供給コンベア9により露光装置1Aに搬入され、露光装置1A内において後述するようにその表裏両面に露光処理が行なわれ、露光処理されたプリント基板11は基板搬出口7から搬出コンベア13に乗って次の工程、例えば、現像工程へ搬送されて行く。

0031

受入れ部17は、受取りコンベア21、受取りベース22、及び受取り側吸着アーム23等により構成されている。受取りベース22は、プリント基板11よりも大きな面積を有している。プリント基板11は、供給コンベア9により水平姿勢の状態でこの受取りコンベア21上に搬入される。ここで、プリント基板11の水平姿勢とは、プリント基板面が図中矢印X1、X2、Y1、Y2方向に延在する面と平行となる姿勢をいう。具体的には、プリント基板11が図3破線で示す姿勢にある状態をいう。

0032

受取りベース22には、受取りコンベア21、受取り側吸着アーム23、及び図示しないプリアライメントセンサが配設されている。本実施例では、受取りコンベア21は4個設けられており、それぞれの受取りコンベア21は独立して駆動できる構成とされている。

0033

プリント基板11は、供給コンベア9により受取りコンベア21上に搬入されるが、この搬送状態ではプリント基板11の搬送位置が所定搬送位置から大きくずれている可能性がある。受取りベース22に配設されたプリアライメント用センサは、搬送されたプリント基板11のエッジ検出時を行なうことによりプリント基板11のずれ量を検出し、このずれ量が所定値以上である場合には、前記した4個の受取りコンベア21を選択的に駆動してプリント基板11のプリアライメント処理を行なう。

0034

但し、このプリアライメント処理は、高精度に行なう必要はなく、後述するプリント基板11と露光マスク27A,27Bとを位置決めする本アライメント処理が実施可能となる程度の精度で足りる。

0035

一方、受取り側吸着アーム23は略T字状の平面形状を有しており、図示しない駆動機構により、受取りベース22に対して図3に矢印F1,F2で示す方向に回動可能な構成とされている。この受取り側吸着アーム23は、プリント基板11が受取りベース22上に水平姿勢で搬送された状態において、プリント基板11の下面と対向するよう構成されている。また、受取り側吸着アーム23のプリント基板11の下面と対向する位置には、複数の吸着口24が配設されている。この吸着口24は吸引装置に接続されており、この吸引装置が駆動することにより、受取り側吸着アーム23はプリント基板11を吸着する構成とされている。

0036

上記構成とされた受取り側吸着アーム23は、プリアライメント処理が終了した後、吸着口24によりプリント基板11を吸着固定し、この固定状態を維持しつつ回動し、プリント基板11を水平姿勢から垂直姿勢となるよう姿勢変換させる。即ち、この受取り側吸着アーム23は、受入れ部16に水平姿勢で供給されるプリント基板11を垂直姿勢となるよう姿勢変換させる姿勢変換機構として機能する。

0037

また、プリント基板11は垂直姿勢となった状態において、その被露光面が後述する第1及び第2の露光部17,18に設けられた露光ランプ31A,31B(光源)の光軸LL1,LL2に対して直交するよう構成されている。また、垂直姿勢とされたプリント基板11は、後述する搬送機構20Aにより、垂直姿勢を維持しつつ図中矢印X1方向に露光装置1A内を搬送され、その過程において第1及び第2の露光部17,18により露光処理が行なわれる。

0038

続いて、第1及び第2の露光部17,18について説明する。尚、前記したように、第1及び第2の露光部17,18は同一構成とされており、図中矢印Y1,Y2方向に配設位置が逆な構成とされている。このため、第1及び第2の露光部17,18の説明は、一括的に行なうものとする。

0039

第1及び第2の露光部17,18は、大略すると露光ランプ31A,31B、マスクホルダ29、29B、吸着ホルダ30A,30B等により構成されている。この第1及び第2の露光部17,18は、プリント基板11に対する露光処理を行なう。具体的には、第1の露光部17はプリント基板11の表面に対して露光処理を行ない、第2の露光部17,18はプリント基板11の裏面に対して露光処理を行なう。

0040

露光ランプ31A,31Bは例えば水銀ショートアークランプを用いることができ、搬送されてくるプリント基板11と対向する位置に配設されている。具体的には、露光ランプ31A,31Bは、その光軸LL1、LL2がプリント基板11の搬送方向に対して直交するよう、プリント基板11の搬送経路の側部位置に配置されている。よって、プリント基板11が所定露光位置(図2にP2、P4で示す位置)に搬送された状態において、露光ランプ31A,31Bの光軸LL1、LL2とプリント基板11の露光面とがなす角度θは直角(θ=90°)となる。

0041

また、露光ランプ31A,31Bには、固定反射鏡32A,32Bが配設されている。露光ランプ31A,31Bから出射した光は、この固定反射鏡32A,32Bで反射され、略平行光束となってマスクホルダ29,29B、及び吸着ホルダ30A,30Bの配設位置に向け照射される。

0042

次に、マスクホルダ29A,29B及び吸着ホルダ30A,30Bの詳細について、図4図8を用いて説明する。尚、前記したように第1及び第2の露光部17,18は同一構成とされており、よってマスクホルダ29Aとマスクホルダ29B及び吸着ホルダ30Aと吸着ホルダ30Bも同一構成である。このため、以下の説明ではマスクホルダ29A,29B及び吸着ホルダ30A,30Bをそれぞれ一括的に説明するものとする。

0043

マスクホルダ29A,29Bは露光マスク29A、29Bを装着するものであり、また吸着ホルダ30A,30Bは露光位置(P1,P2)に搬送されてきたプリント基板11を吸着することにより保持するものである。プリント基板11は、マスクホルダ29A,29Bと吸着ホルダ30A,30Bとの間に挟まれた状態で露光処理が行なわれる。

0044

マスクホルダ29A,29Bは、カメラ33、枠状フレーム35,ガラス板37、位置決めピン38,39、アライメント機構,及び移動機構(アライメント機構及び移動機構は図示せず)等により構成されている。

0045

カメラ33は固体撮像素子を備えた所謂CCDカメラであり、枠状フレーム35の四隅位置にそれぞれ設けられている。このカメラ33は、吸着ホルダ30A,30Bに保持されたプリント基板11のエッジ検出を行なうよう構成されており、これによりマスクホルダ29A,29Bのプリント基板11に対する相対的な位置検出を行なえるよう構成されている。また、露光装置1Aで露光処理されるプリント基板11の大きさは一定ではないため、露光装置1Aで露光処理されるプリント基板11の最大外形位置(図8に矢印EMAXで示す)と最小外形位置図8に矢印EMINで示す)との間を図7に矢印D示す方向に移動可能な構成とされている。

0046

枠状フレーム35は、例えばアルミニウムよりなる枠状体である。よって、枠状フレーム35の中央位置には広く開口した開口部36が形成されている。この枠状フレーム35の吸着ホルダ30A,30Bと対向する面にはガラス板37が配設されており、よって上記した開口部36はこのガラス板37により塞がれた構成とされている。

0047

また、枠状フレーム35の上部には一対の位置決めピン38,39が設けられており、この各位置決めピン38,39は駆動機構40により図中矢印C方向に進退可能な構成されている。この一対の位置決めピン38,39は、それぞれ形状が異なるよう構成されており、例えば位置決めピン38の断面形状が円形であるのに対し、位置決めピン39の断面形状は矩形状とされている。

0048

ガラス板37には、各位置決めピン38,39に対応した孔が形成されている。このため、各位置決めピン38,39は、図5に拡大して示すように、この孔を挿通して矢印C方向に移動できるよう構成されている。また、ガラス板37には、吸引溝41が形成されている。この吸引溝41は、図7に示すように、位置決めピン38,39の配設位置を除きガラス板37の外周に沿って形成されている。また、この吸引溝41は図示しない吸引装置に接続されている。

0049

露光マスク27A,27Bは、プリント基板11に形成しようとする配線パターンと同じパターンの露光パターンが形成されたフィルム状部材である。具体的には、露光マスク27A(表面露光マスク)にはプリント基板11の表面に形成しようとする配線パターンと同じパターンの露光パターンが形成されており、露光マスク27B(裏面露光マスク)にはプリント基板11の裏面に形成しようとする配線パターンと同じパターンの露光パターンが形成されている。

0050

この露光マスク27A,27Bは、上部に一対の位置決め孔が形成されており、この位置決め孔は前記した位置決めピン83,39と対応するよう構成されている。そして、露光マスク27A,27Bは、位置決めピン83,39に位置決め孔が挿通されることにより係止され、かつ吸引溝41に吸引されることによりマスクホルダ29A,29Bに装着され保持される。

0051

この際、上記のように一対の位置決めピン83,39はそれぞれ形状が異なるよう構成されており、これに伴い露光マスク27A,27Bに形成された位置決め孔の形状も異なった形状とされている。このため、露光マスク27A,27Bをマスクホルダ29A,29Bに装着する際、露光マスク27A,27Bが表裏逆に装着されることを防止することができる。

0052

また、マスクホルダ29A,29Bには、アライメント機構が設けられている。このアライメント機構により枠状フレーム35は、図中矢印X1,X2方向、及び図中矢印Z1,Z2方向に若干量にわたり移動可能な構成となっている。従って、プリント基板11と露光マスク27A,27Bとの間にずれがあった場合、このずれをカメラ33で検出し、この検出結果に基づきアライメント機構により露光マスク27A,27B(枠状フレーム35)を変位させることにより、露光マスク27A,27Bとプリント基板11との位置決めを高精度に行なうことができる。これにより、精度の高い露光処理を行なうことが可能となる。

0053

更に、マスクホルダ29A,29Bは、移動機構により図中矢印Y1,Y2方向に移動可能な構成とされている。後述する搬送機構20Aによりプリント基板11が各露光位置P2,P4に搬送される際、マスクホルダ29A,29Bは、吸着ホルダ30A,30Bから離間した退避位置に移動するよう構成されている。そして、プリント基板11が吸着ホルダ30A,30Bに吸着された後、マスクホルダ29A,29Bは吸着ホルダ30A,30Bに近接するよう移動し、これによりプリント基板11はマスクホルダ29A,29Bと吸着ホルダ30A,30Bとの間に挟まれた状態となる。そして、この状態において露光処理が実施される。

0054

次に、吸着ホルダ30A,30Bについて説明する。吸着ホルダ30A,30Bは、多孔フレーム45、リッド46、吸引ノズル47、バックライト51、基板押圧部材52、及び多孔プレート55等により構成されている。

0055

多孔フレーム45は例えばアルミニウムよりなり、マスクホルダ29A,29Bと対向する面には多数の吸引孔49が形成されている。この多孔フレーム45の裏側には凹部59が形成されており、リッド46はこの凹部59を覆うように配設されている。このように多孔フレーム45にリッド46を配設することにより、吸着ホルダ30A,30Bの内部には空間部48が形成される。

0056

リッド46の略中央位置には、吸引ノズル47が取り付けられている。この吸引ノズル47は図示しない吸引装置に接続されており、よって吸引装置が駆動することにより吸着ホルダ30A,30Bの内部に形成された空間部48は負圧となる。これにより、各吸引孔49から吸引が行なわれる。

0057

また、リッド46の四隅位置近傍には、光透過板50が配設されている。また、この光透過板50と対向する位置には、発光するバックライト51が配設されている。このバックライト51から発せられた光は、光透過板50,空間部48,及び吸引孔49を通過し、吸着ホルダ30A,30Bのマスクホルダ29A,29Bと対向する側まで到るよう構成されている。

0058

基板押圧部材52は、多孔フレーム45の外周に沿って環状に形成されている。この基板押圧部材52は、図6に拡大して示すように、基部53及びゴム突起54により構成されている。基部53は多孔フレーム45に嵌着されており、これにより基板押圧部材52は多孔フレーム45に固定される。また、基部53の所定位置には、ブロー配管60が接続されている。このブロー配管60は、図示しないコンプレッサーに接続されており、高圧エアーブローされる構成となっている。

0059

また、ゴム突起54は基板押圧部材52に固定されており、その先端部には凹凸部54aが形成されている。このゴム突起54はブロー配管60から高圧エアーがブローされることにより、多孔フレーム45に対して突出する構成とされている。

0060

よって、前記のように露光位置P2,P4に搬送されたプリント基板11をマスクホルダ29A,29Bと吸着ホルダ30A,30Bとの間に挟持した際、このゴム突起54を突出させることによりプリント基板11をマスクホルダ29A,29Bと吸着ホルダ30A,30Bとの間に確実に保持することができる。この際、前記のようにゴム突起54の先端部には凹凸部54aが形成されているため、突出したゴム突起54は確実にプリント基板11に当接し(複数の凸部のいずれかは必ずプリント基板11に当接する)、よってプリント基板11を確実に保持することができる。また、このゴム突起54は、クッション材としての機能も奏する。

0061

多孔プレート55は、吸着ホルダ30A,30Bのマスクホルダ29A,29Bと対向する面に固定されている。この多孔プレート55は、例えばチタン合金よりなる金属板であり、多数の小孔及び長孔58が形成されている。よって、前記しように吸引装置が駆動し吸着ホルダ30A,30Bの内部に形成された空間部48が負圧となると、各吸引孔49から吸引が行なわれ、これに伴い多孔プレート55に形成された小孔からも吸引処理が行なわれる。この吸引力により、プリント基板11は吸着ホルダ30A,30Bに保持される。

0062

また、小孔の形成領域は、図5に示すように、多孔プレート55の外周近傍に形成された傾斜孔形成部56と、多孔プレート55の中央近傍に形成された垂直孔形成部57とに画成される。傾斜孔形成部56に形成された小孔は、放射状となるよう傾斜した孔形状とされている。これに対して垂直孔形成部57に形成された小孔は、多孔プレート55の面方向に対して垂直となるよう形成されている。

0063

上記構成とすることにより、吸着ホルダ30A,30Bにプリント基板11が吸着された際、傾斜孔形成部56ではプリント基板11は外側に向け引っ張られるように吸引され、また垂直孔形成部57ではプリント基板11は多孔プレート55に向け垂直方向に吸引される。これにより、例えば薄いプリント基板11を吸着した場合においても、プリント基板11に撓みや曲がりが発生することを防止でき、高精度の露光処理を行なうことが可能となる。

0064

また、多孔プレート55には、図8に示すように4本の長孔58が形成されている。この長孔58の延在方向は、前記したカメラ33の移動方向(D方向)となるよう構成されている。よって、カメラ33が移動したとしても、バックライト51から発せられた光は長孔58を介して確実にカメラ33に照射される。

0065

前記したように、カメラ33は吸着ホルダ30A,30Bに吸着されたプリント基板11のエッジ(四隅位置)を検出する構成とされている。また、具体的な検出方法としては、プリント基板11が存在する場合にはプリント基板11によりバックライト51からの光が遮られるため、このバックライト51からの光の有無によりエッジ検出を行なう構成とされている。従って、上記構成とすることにより、プリント基板11のエッジ位置に確実にバックライト51からの光が照射されるためエッジ検出処理を精度よく行なうことができ、これに伴いアライメント処理の精度向上を図ることができる。

0066

尚、上記構成とされた吸着ホルダ30A,30Bは、図1実線で示す位置から二点鎖線で示す位置まで回動可能な構成とされている。また、ハウジング3の吸着ホルダ30A,30Bと対向する位置にはメンテナンス用扉25,26が設けられている。これにより、各マスクホルダ29A,29B,及び各吸着ホルダ30A,30Bのメンテナンス性の向上を図っている。

0067

次に、排出部19について説明する。排出部19は、排出コンベア71、排出ベース72、及び排出用吸着アーム73等により構成されている。排出ベース72は、プリント基板11よりも大きな面積を有している。各露光部17,18で露光処理が終了したプリント基板11は、搬送機構20Aにより垂直姿勢の状態で排出位置P5(図2参照)に搬送される。

0068

排出ベース72には、排出コンベア71、及び排出側吸着アーム23が配設されている。前記したように排出部19は受入れ部16と同一構成とされているため、排出コンベア71は4個設けられており、それぞれの受取りコンベア21は独立して駆動可能な構成とされている。しかしながら、排出部19においては、受入れ部16のようなプリアライメント処理は必要ないため、各排出コンベア71は同時に駆動する構成とされている。

0069

排出側吸着アーム73は略T字状の平面形状を有しており、図示しない駆動機構により、前記した受取り側吸着アーム23と同様に排出ベース72に対して回動可能な構成(回動方向は、図3に矢印F1,F2で示す方向と同じ)とされている。また、露光処理が終了したプリント基板11が排出部19に搬送された状態において、この排出側吸着アーム73は矢印F1方向に回動し、排出ベース72に対して直角な状態(即ち、搬送されたプリント基板11と対向する状態)となるよう構成されている。

0070

更に、排出側吸着アーム73のプリント基板11の下面と対向する位置には、複数の吸着口74が配設されている。この吸着口74は吸引装置に接続されており、この吸引装置が駆動することにより排出側吸着アーム73はプリント基板11を吸着する構成とされている。

0071

上記構成とされた吸着アーム23は、搬送機構20Aから吸着口74を用いて露光が終了したプリント基板11を受け渡され、プリント基板11を吸着した状態を維持しつつ図中矢印F2方向(排出ベース72に向かう方向)に回動する。これにより、プリント基板11は、垂直姿勢から水平姿勢に姿勢変換される。水平姿勢に姿勢変換されたプリント基板11は、排出コンベア71により搬出コンベア13に送られ、次の工程に搬送される。

0072

尚、本実施例では排出部19において、搬送機構20Aにより垂直姿勢で搬送されてくるプリント基板11を水平姿勢に変換する処理を行なう構成とした。しかしながら、垂直姿勢を維持させたままで、即ち水平姿勢に姿勢変換することなく、プリント基板11を排出部19から排出することも可能である。この構成とした場合、姿勢変換に要する時間を短縮することができ、露光装置1Aによる露光処理のスループットを向上させることができる。

0073

次に、搬送機構20Aについて、再び図1図3を用いて説明する。

0074

搬送機構20Aは、大略するとメインフレーム10、複数(本実施例では3台用いている)の保持アーム61A,62A,63A、天井レール65等により構成されている。

0075

メインフレーム10は、前記した受取りベース22、マスクホルダ29A,29B、吸着ホルダ30A,30B、及び排出ベース72等を支持するものであり、受入れ部16,第1及び第2の露光部17,18、及び排出部19を横架するよう図中矢印X1,X2方向に長く配設されている。このメインフレーム10の上部には天井レール65が配設されており、この天井レール65も受入れ部16,第1及び第2の露光部17,18、及び排出部19を横架するよう配設されている。

0076

第1乃至第3の保持アーム61A,62A,63Aはプリント基板11を保持して搬送するものであり、天井レール65に図中矢印X1,X2方向にスライド移動可能に配設されている。この各保持アーム61A,62A,63Aには駆動装置(例えば、パルスモータ等)が配設されており、よって各保持アーム61A,62A,63Aは独立して移動可能な構成とされている。

0077

上記の各保持アーム61A,62A,63Aは、第1及び第2の保持アーム61A,62Aは同一構成とされており、また第3の保持アーム63Aも後述する姿勢規制ローラ69が設けられてない点を除けば同一構成とされている。

0078

各保持アーム61A,62A,63Aは、移動ベース66,アーム部67A,吸着部68Aを有した構成とされている。更に、第1及び第2の保持アーム61A,62Aにおいては、上記構成に加えて姿勢規制ローラ69が設けられた構成とされている。

0079

移動ベース66は、天井レール65に移動可能に係合している。また、移動ベース66の内部には、前記した駆動装置が内設されている。この駆動装置は、各保持アーム61A,62A,63Aを天井レール65に沿って図中矢印X1,X2方向にスライド移動させると共に、各保持アーム61A,62A,63Aを図中矢印Y1,Y2方向にも移動させる構成とされている。

0080

このように、プリント基板11の搬送方向(図中矢印X1,X2方向)ばかりでなく、図中矢印Y1,Y2方向にも各保持アーム61A,62A,63Aを移動できる構成としたことにより、各保持アーム61A,62A,63A間、各保持アーム61A,62A,63Aと各吸着アーム23,73との間、及び各保持アーム61A,62A,63Aと吸着ホルダ30A,30Bとの間でプリント基板11の受け渡しが可能となる。

0081

アーム部67Aは、移動ベース66から垂下した状態に配設されている。このアーム部67Aの中央位置には吸着部68Aが設けられている。この吸着部68Aには、図示しない吸引装置が接続されている。そして、この吸引装置が駆動することにより、吸着部68Aはプリント基板11を吸着し、プリント基板11を保持する構成とされている。

0082

よって、吸着部68Aはプリント基板11を保持する保持部として機能する。また、吸着部68Aの配設位置は、プリント基板11を吸着した際、このプリント基板11の略中央位置となるよう選定されており、吸着時におけるプリント基板11のバランスを良好に保つよう構成されている。

0083

姿勢規制ローラ69は、第1及び第2の保持アーム61A,62Aにのみ配設されている。この姿勢規制ローラ69は、プリント基板11が吸着部68Aに吸着された状態において、プリント基板11と当接するよう構成されている。前記のように、プリント基板11は吸着部68Aに吸引されることにより保持アーム61A,62Aに保持されるが、この際に姿勢規制ローラ69は吸着部68Aによる保持位置とは異なる位置においてプリント基板11を保持する。

0084

よって、プリント基板11が撓みや変形が発生し易いものであったとしても、プリント基板11の姿勢保持を確実に行なうことができる。これにより、搬送時においてプリント基板11に反りや撓みが発生することを抑制でき、高精度の露光処理を行なうことが可能となる。

0085

尚、排出部19にプリント基板11を搬送する保持アーム61Cに姿勢規制ローラ69を設けなかったのは、排出部19にプリント基板11を搬送する際は既に露光処理が終了した後であり、露光処理終了後はプリント基板11に撓みや変形が発生しても特に問題が生じないからである。

0086

続いて、上記構成とされた搬送機構20Aの動作について、主に図9図11を用いて説明する。

0087

尚、以下の説明において、図3に示した露光装置1A内の各位置P1〜P5の名称を「P1:姿勢変換位置、P2:表面露光位置、P3:アーム待機位置、P4:裏面露光位置、P5:排出位置」とする。

0088

図9(A)は、最初に処理するプリント基板11-1が受取りベース22上に搬送された状態を示している。この搬送された状態において、プリント基板11-1は水平姿勢となっており、かつプリアライメント処理は終了している。また、第1の保持アーム61Aは姿勢変換位置P1に、第2の保持アーム62Aはアーム待機位置P3に、第3の保持アーム63Aは排出位置P5に位置している。各マスクホルダ29A,29Bと吸着ホルダ30A,30Bは図中矢印Y1,Y2方向に離間した状態となっている。

0089

上記のようにプリント基板11-1が搬送されると、続いて受取り側吸着アーム23はプリント基板11-1を吸着すると共に回動し、プリント基板11-1を垂直姿勢に変換させる。プリント基板11-1が垂直姿勢に姿勢変換されると、プリント基板11-1と当接する位置まで第1の保持アーム61Aは図中矢印Y2方向に移動する。この状態において、第1の保持アーム61Aの吸着部68Aは吸引を開始し、これに伴い受取り側吸着アーム23は吸引を停止する。これによりプリント基板11-1は、図9(B)に示すように、受取り側吸着アーム23から第1の保持アーム61Aに受け渡される。

0090

プリント基板11-1を吸着することにより保持した第1の保持アーム61Aは、図中矢印X1方向に天井レール65に沿って第1の露光位置P2までスライド移動する。この際、プリント基板11-1は、その露光処理面が光軸LL1,LL2に対して直角状態を維持しつつ、即ち垂直姿勢を維持しつつ搬送される。

0091

そして、第1の露光位置P2までプリント基板11-1を搬送すると、続いて第1の保持アーム61Aは図中矢印Y2方向に移動し、図9(C)に示すように、プリント基板11-1を吸着ホルダ30Aに当接させる。尚、この処理の間に二番目に処理するプリント基板11-2は、受取りベース22に搬送される。

0092

この状態において、吸着ホルダ30Aは吸引を開始し、これに伴い第1の保持アーム61Aは吸引を停止する。これによりプリント基板11-1は、第1の保持アーム61Aから吸着ホルダ30Aに受け渡される。

0093

上記のようにしてプリント基板11-1が吸着ホルダ30Aに装着されると、続いて表面露光用マスクホルダ29Aが吸着ホルダ30Aに向け、図中矢印Y2方向に移動を開始する。そして、図9(D)に示すように、表面露光用マスクホルダ29Aはプリント基板11-1に当接し、これによりプリント基板11-1は表面露光用マスクホルダ29Aと吸着ホルダ30Aとの間に挟まれた状態となる。

0094

また、表面露光用マスクホルダ29Aはプリント基板11-1に当接する前に、表面露光用マスクホルダ29Aに設けられたカメラ33及びアライメント機構により、露光マスク27Aとプリント基板11-1のアライメント処理が行なわれる。更に、表面露光用マスクホルダ29Aがプリント基板11-1に当接すると、前記のように吸着ホルダ30Aに設けられた基板押圧部材62は突出し、プリント基板11-1を表面露光用マスクホルダ29Aと吸着ホルダ30Aとの間により確実に保持する。

0095

上記のようにプリント基板11-1が露光位置に装着されると、光源31Aからプリント基板11-1に向け光が照射され、露光処理が行なわれる。これにより、プリント基板11-1に塗付されているレジスト膜は、表面露光マスク27Aに形成されているパターンに対応して感光する。尚、この露光処理の間は、第1の保持アーム61Aは姿勢変換位置P1に移動しており、第1の保持アーム61Aが露光処理の邪魔になるようなことはない。

0096

露光処理が終了すると、表面露光用マスク29Aはプリント基板11-1(吸着ホルダ30A)から離間する。また、第1の保持アーム61Aは姿勢変換位置P1から再び第1の露光位置P2まで移動し、図9(E)に示すように、プリント基板11-1に当接する。

0097

この状態において、第1の保持アーム61Aは吸引を開始し、これに伴い吸着ホルダ30Aは吸引を停止する。これによりプリント基板11-1は、吸着ホルダ30Aから第1の保持アーム61Aに受け渡される。尚、上記した図9(A)〜(E)までの処理を行なう際、第2の保持アーム62Aはアーム待機位置P3に位置しており、また第3の保持アーム63Aは排出位置P5に位置している。

0098

第1の保持アーム61Aは、プリント基板11-1を保持すると図中矢印Y1方向に移動し、これによりプリント基板11-1は吸着ホルダ30Aから離間する。続いて、第2の保持アーム62Aはアーム待機位置P3から第1の露光位置P2まで移動すると共に矢印Y1方向に移動し、図9(F)に示すように、プリント基板11-1と当接する。

0099

この状態において、第2の保持アーム62Aは吸引を開始し、これに伴い第1の保持アーム61Aは吸引を停止する。これによりプリント基板11-1は、第1の保持アーム61Aから第2の保持アーム62Aに受け渡される。

0100

プリント基板11-1を吸着することにより保持した第2の保持アーム62Aは、図10(G)に示されるように、図中矢印X1方向に天井レール65に沿って第2の露光位置P4までスライド移動する。この際、プリント基板11-1は、その露光処理面が光軸LL1,LL2に対して直角状態を維持しつつ、即ち垂直姿勢を維持しつつ搬送される。また、この搬送過程において、プリント基板11-2は垂直姿勢に位置変換される共に、第1の保持アーム61Aに保持される。

0101

そして、第2の露光位置P4までプリント基板11-1を搬送すると、続いて第2の保持アーム62Aは図中矢印Y1方向に移動し、図10(H)に示すように、プリント基板11-1を吸着ホルダ30Bに当接させる。尚、この処理の間に二番目に処理するプリント基板11-2は、第1の保持アーム61Aにより吸着ホルダ30Bに当接される。

0102

この状態において、吸着ホルダ30A,30Bは吸引を開始し、これに伴い第1及び第2の保持アーム61A,62Aは吸引を停止する。これによりプリント基板11-1,11-2は、第1及び第2の保持アーム61A,62Aから吸着ホルダ30A,30Bに受け渡される。尚、この処理の間に、三番目に処理するプリント基板11-3が受取りベース22に搬送される。

0103

上記のようにしてプリント基板11-1,11-2が吸着ホルダ30A,30Bに装着されると、続いて表面露光用マスクホルダ29Aが吸着ホルダ30Aに向け図中矢印Y2方向に移動を開始し、裏面露光用マスクホルダ29Bが吸着ホルダ30Bに向け図中矢印Y1方向に移動を開始する。そして、図10(I)に示すように、裏面露光用マスクホルダ29Bはプリント基板11-1に当接し、これによりプリント基板11-1は表面露光用マスクホルダ29Bと吸着ホルダ30Bとの間に挟まれた状態となる。これと同時に、表面露光用マスクホルダ29Aはプリント基板11-2に当接し、これによりプリント基板11-2は表面露光用マスクホルダ29Aと吸着ホルダ30Aとの間に挟まれた状態となる。

0104

また、表面露光用マスクホルダ29Bはプリント基板11-1に当接する前に、表面露光用マスクホルダ29Bに設けられたカメラ33及びアライメント機構により、露光マスク27Bとプリント基板11-1のアライメント処理が行なわれる。更に、表面露光用マスクホルダ29Bがプリント基板11-1に当接すると、前記のように吸着ホルダ30Bに設けられた基板押圧部材62は突出し、プリント基板11-1を表面露光用マスクホルダ29Bと吸着ホルダ30Bとの間により確実に保持する。尚、プリント基板11-2が表面露光用マスクホルダ29Aと吸着ホルダ30Aとの間に保持される際にも前記したように同様の処理が実施される。

0105

上記のようにプリント基板11-1及びプリント基板11-2が各露光位置P2,P4に装着されると、光源31A,30Bからプリント基板11-1,11-2に向け光が照射され、露光処理が行なわれる。これにより、プリント基板11-1,11-2に塗付されているレジスト膜は、表面露光マスク27A,27Bに形成されているパターンに対応して感光する。尚、この露光処理の間は、第1の保持アーム61Aは姿勢変換位置P1に移動しており、また第2の保持アーム62Aアーム待機位置P3に移動しており、第1及び第2の保持アーム61A,62Aが露光処理の邪魔になるようなことはない。

0106

露光処理が終了すると、表面露光用マスク29Bはプリント基板11-1(吸着ホルダ30B)から離間する。また、第2の保持アーム62Aはアーム待機位置P3から第2の露光位置P4まで移動し、図10(J)に示すように、プリント基板11-1に当接する。この状態において、第2の保持アーム62Aは吸引を開始し、これに伴い吸着ホルダ30Bは吸引を停止する。これによりプリント基板11-1は、吸着ホルダ30Bから第2の保持アーム62Aに受け渡される。

0107

また、これと同時に表面露光用マスク29Aはプリント基板11-2(吸着ホルダ30A)から離間する。また、第1の保持アーム61Aは姿勢変換位置P1から再び第1の露光位置P2まで移動し、プリント基板11-2に当接する。この状態において、第1の保持アーム61Aは吸引を開始し、これに伴い吸着ホルダ30Aは吸引を停止する。これによりプリント基板11-2は、吸着ホルダ30Aから第1の保持アーム61Aに受け渡される。

0108

第2の保持アーム62Aは、プリント基板11-1を保持すると図中矢印Y2方向に移動し、これによりプリント基板11-1は吸着ホルダ30Bから離間する。続いて、第3の保持アーム63Aは排出位置P5から第2の露光位置P4まで移動すると共に矢印Y2方向に移動し、図10(K)に示すように、プリント基板11-1と当接する。この状態において、第3の保持アーム63Aは吸引を開始し、これに伴い第2の保持アーム62Aは吸引を停止する。これによりプリント基板11-1は、第2の保持アーム62Aから第3の保持アーム63Aに受け渡される。尚、この処理の間は、第1の保持アーム61Aはプリント基板11-2と当接した状態を維持している。

0109

プリント基板11-1を吸着することにより保持した第3の保持アーム63Aは、図10(L)に示されるように、図中矢印X1方向に天井レール65に沿って排出位置P5までスライド移動する。この際、プリント基板11-1は、その露光処理面が光軸LL1,LL2に対して直角状態を維持しつつ、即ち垂直姿勢を維持しつつ搬送される。また、プリント基板11-1が排出位置P5に搬送されるまでに、排出ベース72に設けられている排出側吸着アーム73は、垂直姿勢となるよう回動する。更に、受取り側吸着アーム23はプリント基板11-3を吸着すると共に、回動することによりプリント基板11-3を垂直姿勢となるよう姿勢変換する。

0110

一方、上記のようにプリント基板11-1が第2の保持アーム62Aから第3の保持アーム63Aに受け渡されると、第1の露光位置P2に位置すると共にプリント基板11-2を保持した第1の保持アーム61Aは図中Y1方向に移動し、また第2の保持アーム62Aは第2の露光位置P4から第1の露光位置P2まで移動する。そして、この状態において第2の保持アーム62Aは吸引を開始し、これに伴い第1の保持アーム61Aは吸引を停止する。これによりプリント基板11-2は、第1の保持アーム61Aから第2の保持アーム62Aに受け渡される(、図10(L)参照)。

0111

上記のように第3の保持アーム63Aによりプリント基板11-1が排出位置P5に搬送されると、続いて第3の保持アーム63Aは図中矢印Y2方向に移動し、これによりプリント基板11-1は垂直姿勢にある排出側吸着アーム73に当接する。この状態において排出側吸着アーム73は吸引を開始し、これに伴い第3の保持アーム63Aは吸引を停止する。これによりプリント基板11-1は、第3の保持アーム63Aから排出側吸着アーム73に受け渡される。また、プリント基板11-1が受け渡されると、排出側吸着アーム73は排出ベース72に向け回動を行ない、これにより図11(M)に示すように、プリント基板11-1は再び水平姿勢に位置変換される。

0112

また、上記動作を行なう間に、第1の保持アーム61Aは姿勢変換位置P1で受取り側吸着アーム23からプリント基板11-3を受け渡され、また第2の保持アーム62Aはプリント基板11-2を第2の露光位置P4まで搬送する。

0113

続いて、排出ベース72に装着されたプリント基板11-1は、排出ベース72に設けられた排出コンベア71により排出コンベア13に送られ、次の工程を行なう処理装置に向け搬送される。図11(N)は、プリント基板11-1が露光装置1Aから搬送された状態を示している。以下、上記した処理を繰り返し実施することにより、プリント基板11に対する露光処理が連続して実施される。

0114

上記したように本実施例では、プリント基板11は搬送過程において垂直姿勢を維持した状態、即ちプリント基板11の露光処理面が光軸LL1,LL2に対して直角状態を維持しつつ姿勢変換位置P1から排出位置P5に向け搬送される。また、これに伴い各露光マスク27A,227Bは、垂直姿勢で各マスクホルダ29A,29Bに装着される。このため、プリント基板11及び各露光マスク27A,227Bに塵埃が付着することを防止でき、よって高精度の露光処理を行なうことが可能となる。

0115

また、各露光部17,18において、光軸LL1,LL2がプリント基板11の搬送方向(図中、矢印X1,X2方向)に対して直交するよう露光ランプ31A,31Bが配置され、かつ搬送機構20Aは搬送過程においてプリント基板11の露光処理面が光軸LL1,LL2に対して直角状態を維持するよう搬送する構成とされている。更に、搬送機構20Aはプリント基板11を搬送する際,その露光処理面の中心位置(以下、基板中心位置という)の移動軌跡が一直線状となるよう搬送を行なう構成とされている。具体的には、本実施例では、第1乃至第3の保持アーム61A〜63Aが天井レール65に沿ってスライド移動するよう構成することにより、基板中心の移動軌跡が一直線状となるよう構成している。尚、図2に矢印MLで示す一点鎖線は、基板中心位置の移動軌跡を示している。

0116

本実施例のように、基板中心位置の移動軌跡が一直線状となるよう構成することにより、即ち基板中心位置の移動軌跡が上下方向(図中矢印Z1,Z2方向)の移動を含まないよう構成したことにより、露光装置1A内におけるプリント基板11の搬送距離を最短化することができる。よって、搬送機構20Aによるプリント基板11の搬送時間を短くすることができ、露光処理の高速化を図ることができる。更に、本実施例では、露光ランプ31A,31B(光源)は、プリント基板11の搬送経路の側部位置に配置されているため、露光装置1Aの低背化を図ることができる。

0117

また、搬送機構20Aは、複数の保持アーム61A〜63Aを有し、この複数の保持アーム61A〜63A間でプリント基板11を受け渡しつつ搬送処理を行なう構成としている。よって、ひとつの保持アームで搬送処理を行なう構成に比べ、各保持アーム61A〜63Aを個別に動作させることができるため、搬送効率の向上を図ることができる。例えば、第2の保持アーム62Aがプリント基板11を第1の露光位置P2から第2の露光位置P4に搬送している間に、第1の保持アーム61Aが姿勢変換位置P1から第1の露光位置P2にプリント基板11を搬送することが可能となり、搬送処理の効率化及び露光処理全体の高速化を図ることができる。

0118

更に、各保持アーム61A〜63Aは、各プリント基板11の受け渡し位置において、受け渡しを行ないうる範囲において光軸方向(図中矢印Y1,Y2方向)に移動可能な構成とされている。これにより、一の保持アームから他の保持アームへプリント基板11を受け渡す処理を円滑に行なうことができる。

0119

また、上記のように各保持アーム61A〜63Aを図中矢印Y1,Y2方向に移動可能な構成とすることにより、プリント基板11が光軸LL1,LL2に対し直角状態を維持したままで受け渡し処理を行なうことができる。このため、受け渡し実施時にプリント基板11の姿勢変換を行なう必要はなく、よって受け渡しに要する時間の短縮を図ることができ、処理の高速化を図ることができる。また、受け渡しに要する装置内の空間を小さくすることができるため、露光装置1Aの小型化を図ることができる。

0120

続いて、本発明の第2実施例について説明する。

0121

図12は、本発明の第2実施例である露光装置1Bを示している。尚、図12において、先の説明に用いた図1図11に示した構成と対応する構成については同一符号を付してその説明を省略する。また、本実施例の後に説明する各実施例で用いる図においても同様とする。

0122

前記した第1実施例に係る露光装置1Aでは、3本の保持アーム61A〜63Aを用いた構成とされていた。これに対して本実施例に係る露光装置1Bでは、搬送機構20Bが4本の保持アーム61B〜64Aを有しており、この4本の保持アーム61B〜64Aを用いてプリント基板11を搬送するよう構成したものである。

0123

第1の保持アーム61Bは、姿勢変換位置P1から第1の露光位置P2までの間を移動する構成とされている。また、第2の保持アーム62Bは、第1の露光位置P2からアーム待機位置P3の間を移動する構成とされている。また、第3の保持アーム63Bは、第2の露光位置P4から排出位置P5の間を移動する構成とされている。更に、第4の保持アーム64Bは、アーム待機位置P3から第2の露光位置P4の間を移動する構成とされている。このように、保持アームの数は特に限定されるものではなく、任意に設定することが可能である。

0124

また本実施例では、第1の露光部17と第2の露光部18との間に、図中矢印Wで示す空間部を形成している。この空間部分は、メンテナンス時にメンテナンスを行なう人(修理者という)が通行する通路となる。即ち、修理者は第1の露光部17に形成されているメンテナンスエリア(図中、矢印Q1で示すエリア)と第2の露光部18に形成されているメンテナンスエリア(図中、矢印Q2で示すエリア)とを自由に行き来することが可能となり、メンテナンス性の向上を図ることができる。

0125

また、空間部Wの大きさをプリント基板11の幅寸法より大きく設定しておくことにより、第2或いは第4の保持アーム62B,64Bに保持させた状態でプリント基板11をアーム待機位置P3に一時的に待機させることが可能となる。このように、搬送過程において一時的にプリント基板11を待機できるエリアを設けることにより、プリント基板11の搬送の仕方に自由度を持たせることができる。よって、各保持アーム61B〜64Bの効率のよい動作を設定することができ、これによりプリント基板11の搬送時間の短縮を図ることができる。

0126

続いて、本発明の第3実施例について説明する。

0127

図13図15は、本発明の第3実施例である露光装置1Cを示している。

0128

前記した第1及び第2実施例に係る露光装置1A,1Bでは、保持アーム61A〜63A,61B〜64Bをスライド移動させることにより、プリント基板11を搬送する構成とされていた。これに対して本実施例に係る露光装置1Cでは、搬送機構20Cに設けられた各保持アーム61C〜63Cが回動(スイング)するよう構成し、この回動に伴いプリント基板11が搬送されるよう構成したことを特徴とするものである。

0129

各保持アーム61C〜63Cは、メインフレーム10に設けられた支軸75を中心として回動する構成とされている。また、各保持アーム61C〜63Cは、図示しないステップモータにより、回動角度を制御しうる構成とされている。更に、各保持アーム61C〜63Cは、図中矢印Y1,Y2方向にも移動可能な構成とされており、前記したと同様にプリント基板11の受け渡しの円滑化が図られている。

0130

本発明によれば、第1及び第2実施例のような保持アーム61A〜63A,61B〜64Bをスライド移動する構成に比べ天井レール65を不要とすることができ、移動機構20Cの簡単化を図ることができる。

0131

また、スライド動作する保持アーム61A〜63A,61B〜64Bの移動速度に比べ、回動(スイング)する保持アーム61C〜63Cの方が移動速度を速くすることができ、よって搬送処理に要する時間短縮を図ることができる。尚、保持アーム61C〜63Cを回動させる場合、プリント基板11には若干の上下動することとなるが、この動作を考慮してもスライド動作に比べて移動速度を速めることができる。

0132

更に、上記のようにプリント基板11の移動速度が速くなることにより、移動時にプリント基板11の表面に発生する空気流流速も速くなる。このため、プリント基板11の露光処理面に付着した塵埃をこの空気流で除去することができ、露光精度の向上を図ることもできる。

0133

続いて、本発明の第4実施例について説明する。

0134

図16図18は、本発明の第4実施例である露光装置1Dを示している。前記した各実施例に係る露光装置1A〜1Cでは、プリント基板11の表面及び裏面を露光するのに、それぞれ専用の露光ランプ31A,31Bを設けた構成とされていた。しかしながら、露光ランプ31Aは非常に高価な部品であり、かつ消耗品である。このため、本実施例に係る露光装置1Dでは、一つの露光ランプ31によりプリント基板11の表面及び裏面を共に露光できるよう構成したことを特徴とするものである。

0135

また、本実施例の他の特徴的な構成は、露光処理が終了したプリント基板11を、その露光処理面が光軸LL1,LL2に対して直角状態を維持したままで、露光装置1Dから搬出させるよう構成した点にある。

0136

以下、本実施例の特徴となる各構成について説明する。先ず、一つの露光ランプ31によりプリント基板11の表面及び裏面を共に露光できるようにした構成について説明する。

0137

本実施例では、アーム待機位置P3に単一の露光ランプ31(光源)が配設されている。この露光ランプ31から出射された光は、図18に示されるように、露光ランプ31の下部に配設された第1の反射ミラー82A,82Bにより表面露光用光と裏面露光用光に分離される。この表面露光用光及び裏面露光用光は、図16に示すようにプリント基板11の搬送方向(図中矢印X1,X2方向)に直角な方向である。

0138

この搬送方向に対し直角な方向へ進行した表面露光用光及び裏面露光用光は、第2の反射ミラー83A,83Bにより進行方向を直角に曲げられ、更にその進行方向前方に配置された第3の反射ミラー84A,84Bにより、上方に向け進行方向が曲げられる。この第3の反射ミラー84A,84Bの上部には、ポリメーションレンズ85A,85Bが配設されている。

0139

ポリメーションレンズ85A,85Bは、図18に示されるように、回転放物面を有した反射鏡である。このポリメーションレンズ85A,85Bに入射した表面露光用光及び裏面露光用光は,マスクホルダ29A,29Bに向け反射される。この際、ポリメーションレンズ85A,85Bの曲率は、表面露光用光及び裏面露光用光がマスクホルダ29A,29Bに対して平行光となる曲率に設定されている。

0140

上記構成とすることにより、一つの露光ランプ31によりプリント基板11の表面及び裏面を共に露光することが可能となる。尚、本実施例の構成製では、第1乃至第3の反射ミラー82A〜84A,82B〜84B及びポリメーションレンズ85A,85Bが必要となるが、露光ランプのコストはこれらの光学部品全体のコストよりも高いため、本実施例の構成とすることにより、露光装置1Dのコスト低減を図ることができる。

0141

一方、本実施例に係る露光装置1Dは、図16及び図17に示すように、他の実施例では設けられていた排出部19が設けられていない。また、天井レール65はハウジング3の外へ延出形成されており、第3の保持アーム63Bもハウジング3の内部から、天井レール65に沿ってハウジング3の外部にまで移動できる構成とされている。

0142

更に、第3の保持アーム63Bの図中矢印X1方向の移動限位置には、基板キャリア80が配設されている。この基板キャリア80は、昇降機構81により図中矢印Z1,Z2方向に昇降される構成とされている。

0143

上記したように、本実施例に係る露光装置1Dでは、排出部19が設けられて異なため、露光処理が終了したプリント基板11は水平姿勢に姿勢変換をされることなく、垂直姿勢を維持したままの状態で第3の保持アーム63Bによりハウジング3の外部に搬出される。また、基板キャリア80は、プリント基板11を垂直姿勢のまま保管し得る構成とされている。よって、本実施例の露光装置1Dによれば、他の実施例で排出部19において実施される姿勢変換処理を不要とすることができ、搬送時間の更なる短縮を図ることができる。

0144

以上、本発明の実施の形態について詳述してきたが、具体的な構成はこの実施の形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲における設計の変更などがあっても本発明に含まれる。特に、実施の形態においては、本発明をプリント基板のレジスト膜を露光するための露光装置に適用したが、本発明は、所定の露光パターンが形成された露光マスクを通して露光されるべき各種の被露光板の一面又は両面を露光するための露光装置として広く適用することができる。

発明の効果

0145

上述の如く本発明によれば、次に述べる種々の効果を実現することができる。

0146

請求項1記載の発明によれば、被露光基板は搬送機構により姿勢変換位置から露光位置、搬出位置に順次搬送されるため、被露光基板及び露光マスクに塵埃が付着することを防止でき、よって高精度の露光処理を行なうことが可能となる。また、装置内における被露光基板の搬送距離を短くすることができるため、搬送機構による被露光基板の搬送時間は短縮され、露光処理の高速化を図ることができる。また、光源は被露光基板の搬送経路の側部位置に配置されているため、装置の低背化を図ることができる。

0147

また、請求項2記載の発明によれば、ひとつの保持アームで搬送処理を行なう構成に比べ、複数の保持アームを個別に動作させることができるため、搬送効率の向上を図ることができる。

0148

また、請求項3記載の発明によれば、露光処理面の中心位置の移動軌跡が一直線状であるため、装置内における被露光基板の搬送距離を最短化することができ、よって搬送機構による被露光基板の搬送時間を短くすることができ、露光処理の高速化を図ることができる。

0149

また、請求項4記載の発明によれば、保持アームはスライド移動し、上下方向の移動を含まないため、搬送機構による被露光基板の搬送時間を短縮することができる。また、被露光基板の搬送に必要となる装置内における搬送空間を小さくすることができるため、露光装置の小型化を図ることができる。

0150

また、請求項5記載の発明によれば、保持アームをスライド移動する構成に比べて移動機構の簡単化を図ることができる。

0151

また、請求項6記載の発明によれば、被露光基板が保持アームに保持された際、保持部による保持位置とは異なる位置において保持部は被露光基板を保持し被露光基板の姿勢保持を行なうため、被露光基板に反りや撓みが発生することを抑制でき、高精度の露光処理を行なうことが可能となる。

0152

更に、請求項7記載の発明によれば、被露光基板の受け渡しを行ないうる範囲において、保持アームが光源の光軸方向に移動するよう構成されているため、一の保持アームから他の保持アームへ被露光基板を受け渡す処理を円滑に行なうことができる。また、受け渡し処理時において被露光基板の姿勢変換を行なう必要がないため、受け渡しに要する時間の短縮を図ることができ処理の高速化を図ることができる。また、受け渡しに要する装置内の空間を小さくすることができるため、装置の小型化を図ることができる。

図面の簡単な説明

0153

図1本発明の第1実施例である露光装置のハウジングを切断して示す平面図である。
図2図1におけるA−A線に沿った断面図である。
図3図1におけるB−B線に沿った断面図である。
図4マスクホルダ及び吸着ホルダの断面図である。
図5マスクホルダ及び吸着ホルダの要部を拡大して示す断面図である。
図6吸着ホルダに配設される基板押圧部材を拡大して示す断面図である。
図7マスクホルダの正面図である。
図8吸着ホルダの正面図である。
図9本発明の第1実施例である露光装置に設けられた搬送機構の動作を説明するための図である(その1)。
図10本発明の第1実施例である露光装置に設けられた搬送機構の動作を説明するための図である(その2)。
図11本発明の第1実施例である露光装置に設けられた搬送機構の動作を説明するための図である(その3)。
図12本発明の第2実施例である露光装置のハウジングを切断して示す平面図である。
図13本発明の第3実施例である露光装置のハウジングを切断して示す平面図である。
図14図13におけるA−A線に沿った断面図である。
図15図13におけるB−B線に沿った断面図である。
図16本発明の第4実施例である露光装置のハウジングを切断して示す平面図である。
図17本発明の第4実施例である露光装置の縦断面図である。
図18図16におけるG−G線に沿う断面図である。

--

0154

1A〜1D露光装置
3ハウジング
10メインフレーム
11,11-1〜11-4プリント基板
16受入れ部
17 第1の露光部
18 第2の露光部
19 排出部
20A〜20C搬送機構
21受取りコンベア
22 受取りベース
23受取り側吸着アーム
25,26メンテナンス用扉
27A 表面露光マスク
27B裏面露光マスク
29A 表面露光用マスクホルダ
29B 裏面露光用マスクホルダ
30A,30B吸着ホルダ
31,31A,31B露光ランプ
33カメラ
35枠状フレーム
37ガラス板
38,39位置決めピン
41吸着溝
45多孔フレーム
47吸引ノズル
52基板押圧部材
54ゴム突起
55多孔プレート
56傾斜孔形成部
57垂直孔形成部
58長孔
61A〜61C 第1の保持アーム
62A〜62C 第2の保持アーム
63A〜63C 第3の保持アーム
64B 第4の保持アーム
65天井レール
66移動ベース
67A,67Bアーム部
68A,68B吸着部
69位置規制ローラ
71排出コンベア
72排出ベース
73 排出側吸着アーム
80基板キャリア
82A,82B 第1の反射ミラー
83A,83B 第2の反射ミラー
84A,84B 第3の反射ミラー
85A,85Bポリメーションミラー

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