図面 (/)

技術 基板の洗浄方法及び洗浄装置

出願人 シャープ株式会社
発明者 小林和樹吉岡宏人小野仁史
出願日 1999年9月21日 (21年3ヶ月経過) 出願番号 1999-266978
公開日 2001年4月3日 (19年8ヶ月経過) 公開番号 2001-087719
状態 特許登録済
技術分野 液晶1(応用、原理) 清浄化一般 液体または蒸気による洗浄
主要キーワード 大型モーター 剥離用ノズル 真空吸着板 タンク用ヒータ 個別方式 平のみ 排水ドレイン 回転洗浄ブラシ
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(2001年4月3日)のものです。
また、この項目は機械的に抽出しているため、正しく解析できていない場合があります

図面 (10)

課題

大型の基板に対しても基板の損傷及び反りや撓みを気にせずに洗浄及び乾燥ができると共に、洗浄液滞留を防止し、かつコストの増大を防止し得る基板の洗浄方法及び洗浄装置を提供する。

解決手段

被洗浄基板3が洗浄チャンバー2の蓋として使用される。洗浄チャンバー2の内部には回転洗浄ブラシ7、MSシャワーノズル8及びエアーナイフ9が設けられている。

概要

背景

例えば、TFT(Thin Film Transistor)カラー液晶パネルは、ガラス基板上の各画素毎に薄膜トランジスタを設けるもので、その製造工程におけるフォトリソグラフィープロセスでは、3μm〜10μmパターン微細加工が行われる。

したがって、ガラス基板に付着している塵埃等の異物が、歩留りに大きく影響する。このため、例えば、フォトリソグラフィープロセスにおけるレジスト塗布前には、ガラス基板を洗浄して上記塵埃等を極力除去するようになっている。

このようなガラス基板を洗浄するための洗浄装置では、従来はカセット単位で酸やアルカリ液槽にガラス基板を浸して洗浄処理を行うバッチ処理が主流を占めていた。しかし、近年では、ガラス基板を1枚ずつ洗浄でき、インライン化が可能な枚葉方式が主流となってきた。

この理由は、半導体ウェハと比較して基板サイズが大幅に大きくなり、また要求される洗浄性能ミクロンオーダーパーティクル有機物汚染の除去に主流が置かれているので、ブラシ等で1枚ずつガラス基板を洗浄した方が効果的であるためと考えられる。

ここで、上記枚葉式洗浄装置には、大別してローラー搬送式とスピン式とがある。

ローラー搬送式洗浄装置50は、図7に示すように、通常、ガラス基板51の処理面を上にして下部に設けられた搬送ローラー52…にて、このガラス基板51を搬送しながら洗浄するものである。このローラー搬送式洗浄装置50では、搬送ローラー52…によってガラス基板51を搬送すると共にガラス基板51の保持を行っている。そして、ガラス基板51の反りや撓みについては、重力による自然修正や搬送ローラー52…の数を増やす等の方法により行われている。

一方、スピン式には、例えば、特開平6−273919号公報に開示された洗浄装置がある。このスピン式洗浄装置60では、図8及び図9に示すように、ガラス基板61の処理面を上にし、かつ処理裏面を真空吸着板62によって固定し、洗浄時及び乾燥時にはガラス基板61を回転させる構造を有している。ガラス基板61の外周部の固定については、同図に示すように、ガラス基板61を嵌合状態に保持しガラス基板61と一体に回転する円枠板63にて固定するものや、ガラス基板61の四隅機械式チャック機構にて固定するものがある。

概要

大型の基板に対しても基板の損傷及び反りや撓みを気にせずに洗浄及び乾燥ができると共に、洗浄液滞留を防止し、かつコストの増大を防止し得る基板の洗浄方法及び洗浄装置を提供する。

被洗浄基板3が洗浄チャンバー2の蓋として使用される。洗浄チャンバー2の内部には回転洗浄ブラシ7、MSシャワーノズル8及びエアーナイフ9が設けられている。

目的

本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、大型の基板に対しても基板の損傷及び反りや撓みを気にせずに洗浄及び乾燥ができると共に、洗浄液の滞留を防止し、かつコストの増大を防止し得る基板の洗浄方法及び洗浄装置を提供することにある。

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
5件

この技術が所属する分野

(分野番号表示ON)※整理標準化データをもとに当社作成

ライセンス契約や譲渡などの可能性がある特許掲載中! 開放特許随時追加・更新中 詳しくはこちら

請求項1

被洗浄基板洗浄チャンバーの蓋として使用し、その洗浄チャンバー内で被洗浄基板の洗浄及び乾燥を行うことを特徴とする基板洗浄方法

請求項2

前記被洗浄基板を洗浄チャンバーに装着する際に、被洗浄基板の裏面に補強板を当接して被洗浄基板を補強することを特徴とする請求項1記載の基板の洗浄方法。

請求項3

前記補強板にて前記被洗浄基板を固着すると共に、洗浄前後は被洗浄基板をこの補強板にて固着した状態で搬送することを特徴とする請求項2記載の基板の洗浄方法。

請求項4

前記洗浄チャンバーに設けられた洗浄ツール及び乾燥ツールを移動することにより前記被洗浄基板を洗浄及び乾燥することを特徴とする請求項1、2又は3記載の基板の洗浄方法。

請求項5

前記洗浄チャンバーを、立てるか又は上下反転させるか又は傾斜させて洗浄及び乾燥することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の基板の洗浄方法。

請求項6

被洗浄基板が洗浄チャンバーの蓋として使用されると共に、洗浄チャンバーの内部には洗浄手段及び乾燥手段が設けられていることを特徴とする基板の洗浄装置

請求項7

前記洗浄チャンバーに装着される被洗浄基板の裏面に当接して被洗浄基板を補強する補強手段が設けられていることを特徴とする請求項6記載の基板の洗浄装置。

請求項8

前記洗浄チャンバーに装着される被洗浄基板を固着しつつ、洗浄前後は被洗浄基板を搬送可能とする固着搬送手段が設けられていることを特徴とする請求項6又は7記載の基板の洗浄装置。

請求項9

前記洗浄チャンバーを立設、上下反転及び傾斜させる角度調整手段が設けられていることを特徴とする請求項6、7又は8記載の基板の洗浄装置。

請求項10

前記洗浄チャンバーには、洗浄チャンバーの内部圧力を調整する内部圧力調整手段及び/又は洗浄チャンバーの内部温度を調整する内部温度調整手段が設けられていることを特徴とする請求項6〜9のいずれか1項に記載の基板の洗浄装置。

技術分野

0001

本発明は、例えば液晶ディスプレイ等の製造工程において、例えばガラス等からなる基板洗浄工程に適用される基板の洗浄方法及び洗浄装置に関するものである。

背景技術

0002

例えば、TFT(Thin Film Transistor)カラー液晶パネルは、ガラス基板上の各画素毎に薄膜トランジスタを設けるもので、その製造工程におけるフォトリソグラフィープロセスでは、3μm〜10μmパターン微細加工が行われる。

0003

したがって、ガラス基板に付着している塵埃等の異物が、歩留りに大きく影響する。このため、例えば、フォトリソグラフィープロセスにおけるレジスト塗布前には、ガラス基板を洗浄して上記塵埃等を極力除去するようになっている。

0004

このようなガラス基板を洗浄するための洗浄装置では、従来はカセット単位で酸やアルカリ液槽にガラス基板を浸して洗浄処理を行うバッチ処理が主流を占めていた。しかし、近年では、ガラス基板を1枚ずつ洗浄でき、インライン化が可能な枚葉方式が主流となってきた。

0005

この理由は、半導体ウェハと比較して基板サイズが大幅に大きくなり、また要求される洗浄性能ミクロンオーダーパーティクル有機物汚染の除去に主流が置かれているので、ブラシ等で1枚ずつガラス基板を洗浄した方が効果的であるためと考えられる。

0006

ここで、上記枚葉式洗浄装置には、大別してローラー搬送式とスピン式とがある。

0007

ローラー搬送式洗浄装置50は、図7に示すように、通常、ガラス基板51の処理面を上にして下部に設けられた搬送ローラー52…にて、このガラス基板51を搬送しながら洗浄するものである。このローラー搬送式洗浄装置50では、搬送ローラー52…によってガラス基板51を搬送すると共にガラス基板51の保持を行っている。そして、ガラス基板51の反りや撓みについては、重力による自然修正や搬送ローラー52…の数を増やす等の方法により行われている。

0008

一方、スピン式には、例えば、特開平6−273919号公報に開示された洗浄装置がある。このスピン式洗浄装置60では、図8及び図9に示すように、ガラス基板61の処理面を上にし、かつ処理裏面を真空吸着板62によって固定し、洗浄時及び乾燥時にはガラス基板61を回転させる構造を有している。ガラス基板61の外周部の固定については、同図に示すように、ガラス基板61を嵌合状態に保持しガラス基板61と一体に回転する円枠板63にて固定するものや、ガラス基板61の四隅機械式チャック機構にて固定するものがある。

発明が解決しようとする課題

0009

しかしながら、上記従来の洗浄装置では、以下の問題点を有している。

0010

最初に、ローラー搬送式洗浄装置50及びスピン式洗浄装置60のいずれにおいても、被洗浄基板の大型化に伴い、洗浄装置が大型化する。このため、基板を移動・回転しながら洗浄及び乾燥を行うと基板の損傷を招き易いという問題点を有している。

0011

また、各個別方式について、図7に示すローラー搬送式洗浄装置50では、以下の問題点を有している。

0012

ガラス基板51の薄型化、大型化に伴ってガラス基板51の反り及び撓み量も増加し、搬送ローラー52…の数を増やすだけでは搬送不良による基板割れの問題を解決できない。基本的には水平に搬送されるため、洗浄後の洗浄液がガラス基板51上に滞留し、再汚染を起こす。

0013

また、ガラス基板51の反りや撓み量が大きいため、同図に示すように、ブラシ53や洗浄水によるシャワー、又はこの洗浄水によるシャワーに超音波振動素子55にてメガヘルツ領域の超音波振動を付加するMS(Mega Sonic) シャワー等の各種洗浄ツールのガラス基板51への距離の調整が困難であり、ガラス基板51の全面にわたってガラス基板51と各種洗浄ツールとの間を最適な値に制御するのは事実上不可能である。

0014

さらに、乾燥用ツールとして一般的に用いられるエアーナイフ方式は、同図に示すように、ガラス基板51とエアーナイフ56の刃先との距離の精度が重要であり、反りや撓みが大きい場合には清浄に乾燥できない。

0015

次に、スピン式洗浄装置60では、以下の問題点を有している。

0016

スピン式の場合、ガラス基板61の大型化に伴い、機械式のチャック機構にて固定するものでは、回転時の加減速による衝撃によってガラス基板61の基板端面クラックが入ったり、ひどい場合は割れが発生する。

0017

また、モーター能力の問題により、乾燥時にも1500rpm程度の回転数しか得られず、清浄に乾燥することは困難である。

0018

回転用モーター巨大化し、その消費電力のみならず、大型モーターの開発期間やモーターの大型化に伴うコスト増も次世代洗浄装置における開発時の問題となる。

0019

本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、大型の基板に対しても基板の損傷及び反りや撓みを気にせずに洗浄及び乾燥ができると共に、洗浄液の滞留を防止し、かつコストの増大を防止し得る基板の洗浄方法及び洗浄装置を提供することにある。

課題を解決するための手段

0020

本発明の基板の洗浄方法は、上記課題を解決するために、被洗浄基板を洗浄チャンバーの蓋として使用し、その洗浄チャンバー内で被洗浄基板の洗浄及び乾燥を行うことを特徴としている。

0021

上記の発明によれば、被洗浄基板が洗浄チャンバーの蓋として使用され、その洗浄チャンバー内で被洗浄基板の洗浄及び乾燥が行われる。

0022

このため、被洗浄基板は洗浄チャンバーの蓋として固定状態となっているので、洗浄及び乾燥に際して被洗浄基板が動くことがない。したがって、洗浄及び乾燥に際して基板が損傷するのを防止することができる。

0023

また、被洗浄基板が洗浄チャンバーの蓋として使用され、その洗浄チャンバー内で被洗浄基板の洗浄及び乾燥が行われる。このことは、洗浄チャンバーを密閉系とし得ることを示す。したがって、洗浄時等において、洗浄液が被洗浄基板の裏面に飛散し、洗浄液がその裏面に滞留するということを防止することがができる。

0024

また、乾燥時に被洗浄基板を回転させることもないので、回転駆動させるためのモータを必要としない。このため、モータに伴うコストの低減を図ることができる。

0025

さらに、被洗浄基板が洗浄チャンバーの蓋として使用されるので、洗浄装置のコンパクト化を図ることができる。

0026

この結果、大型の基板に対しても基板の損傷及び反りや撓みを気にせずに洗浄及び乾燥ができると共に、洗浄液の滞留を防止し、かつコストの増大を防止し得る基板の洗浄方法を提供することができる。

0027

本発明の基板の洗浄方法は、上記課題を解決するために、前記基板の洗浄方法において、前記被洗浄基板を洗浄チャンバーに装着する際に、被洗浄基板の裏面に補強板を当接して被洗浄基板を補強することを特徴としている。

0028

上記の発明によれば、被洗浄基板を洗浄チャンバーに装着する際に、被洗浄基板の裏面に補強板を当接して被洗浄基板を補強する。

0029

したがって、被洗浄基板は補強板によって補強されるので、洗浄チャンバーの内部で被洗浄基板の表面をブラシ等により洗浄し、又はエアーを噴き付けて乾燥しても、被洗浄基板が反ったり撓んだりすることがない。

0030

また、反りや撓みがないので、被洗浄基板は平面状態を維持し、これによって、例えば、エアーナイフによる乾燥工程においても、エアーナイフの刃先の移動に伴う該刃先と被洗浄基板の表面との距離は絶えず一定となる。このため、該刃先と被洗浄基板の表面との距離を最適値に容易に制御することができ、これによって、精度良くかつ効率良く乾燥することができる。

0031

したがって、大型の基板に対しても基板の損傷及び反りや撓みを気にせずに洗浄及び乾燥ができる基板の洗浄方法を提供することができる。

0032

本発明の基板の洗浄方法は、上記課題を解決するために、前記基板の洗浄方法において、前記補強板にて前記被洗浄基板を固着すると共に、洗浄前後は被洗浄基板をこの補強板にて固着した状態で搬送することを特徴としている。

0033

上記の発明によれば、補強板にて被洗浄基板を固着する。このため、洗浄時及び乾燥時には、被洗浄基板を補強板にて固着して動かないようにすることができるので、洗浄時や乾燥時に被洗浄基板を動かすことによる被洗浄基板の割れ等の損傷を防止することができる。

0034

また、洗浄前又は洗浄後はこの補強板によって被洗浄基板を固着した状態で搬送する。すなわち、例えば、補強板に真空吸着機構を設けることによって、被洗浄基板を固着した状態で搬送することができる。この結果、搬送の自動化を図り、これによって、洗浄工程の全体的な自動化を図ることができる。

0035

本発明の基板の洗浄方法は、上記課題を解決するために、前記基板の洗浄方法において、前記洗浄チャンバーに設けられた洗浄ツール及び乾燥ツールを移動することにより前記被洗浄基板を洗浄及び乾燥することを特徴としている。

0036

上記の発明によれば、洗浄チャンバーに設けられた洗浄ツール及び乾燥ツールを移動することにより被洗浄基板を洗浄及び乾燥する。

0037

したがって、例えば、乾燥ツールでは、エアーナイフにより移動しながら乾燥することになる。このため、従来のスピン型洗浄装置のように、被洗浄基板を回転して乾燥させるものではないので、回転に伴う被洗浄基板の割れ等の損傷を防止する。また、大容量のモータを使用することもないので、コスト削減を図ることができる。

0038

さらに、洗浄工程においても被洗浄基板は静止した状態で行われるので、被洗浄基板の破損を防止できる。

0039

この結果、大型の基板に対しても基板の損傷及び反りや撓みを気にせずに洗浄及び乾燥ができると共に、コストの増大を防止し得る基板の洗浄方法を提供することができる。

0040

本発明の基板の洗浄方法は、上記課題を解決するために、前記基板の洗浄方法において、前記洗浄チャンバーを、立てるか又は上下反転させるか又は傾斜させて洗浄及び乾燥することを特徴としている。

0041

上記の発明によれば、洗浄チャンバーを、立てるか又は上下反転させるか又は傾斜させて洗浄及び乾燥する。

0042

したがって、洗浄チャンバー内における被洗浄基板の位置を従来の水平のみならず、被洗浄基板を立てたり、上下反転させたり、傾斜させることができる。さらに、これらの動作は洗浄チャンバー全体に対して行うことができる。

0043

このため、洗浄後の洗浄液の除去を容易に行うことができる。また、洗浄時において液流れが発生するので、洗浄液の節約が可能となる。

0044

この結果、洗浄及び乾燥を効率良く行うことができる。

0045

本発明の基板の洗浄装置は、上記課題を解決するために、被洗浄基板が洗浄チャンバーの蓋として使用されると共に、洗浄チャンバーの内部には洗浄手段及び乾燥手段が設けられていることを特徴としている。

0046

上記の発明によれば、被洗浄基板が洗浄チャンバーの蓋として使用されると共に、洗浄チャンバーの内部には洗浄手段及び乾燥手段が設けられている。

0047

このため、被洗浄基板は洗浄チャンバーの蓋として固定状態となっているので、洗浄及び乾燥に際して被洗浄基板が動くことがない。したがって、洗浄及び乾燥に際して基板が損傷するのを防止することができる。

0048

また、被洗浄基板が洗浄チャンバーの蓋として使用され、その洗浄チャンバー内で洗浄手段及び乾燥手段にて被洗浄基板の洗浄及び乾燥が行われる。このことは、洗浄チャンバーを密閉系とし得ることを示す。したがって、洗浄時等において、洗浄液が被洗浄基板の裏面に飛散し、洗浄液がその裏面に滞留するということを防止することができる。

0049

また、乾燥時に被洗浄基板を回転させることもないので、回転駆動させるためのモータを必要としない。このため、モータに伴うコストの低減を図ることができる。

0050

さらに、被洗浄基板が洗浄チャンバーの蓋として使用されるので、洗浄装置のコンパクト化を図ることができる。

0051

この結果、大型の基板に対しても基板の損傷及び反りや撓みを気にせずに洗浄及び乾燥ができると共に、洗浄液の滞留を防止し、かつコストの増大を防止し得る基板の洗浄装置を提供することができる。

0052

本発明の基板の洗浄装置は、上記課題を解決するために、前記基板の洗浄装置において、前記洗浄チャンバーに装着される被洗浄基板の裏面に当接して被洗浄基板を補強する補強手段が設けられていることを特徴としている。

0053

上記の発明によれば、洗浄チャンバーに装着される被洗浄基板の裏面に当接して被洗浄基板を補強する補強手段が設けられている。

0054

したがって、被洗浄基板は補強手段によって補強されるので、洗浄チャンバーの内部で被洗浄基板の表面をブラシ等により洗浄し、又はエアーを噴き付けて乾燥しても、被洗浄基板が反ったり撓んだりすることがない。

0055

また、反りや撓みがないので、被洗浄基板は平面状態を維持し、これによって、例えば、エアーナイフによる乾燥工程においても、エアーナイフの刃先の移動に伴う該刃先と被洗浄基板の表面との距離は絶えず一定となる。このため、該刃先と被洗浄基板の表面との距離を最適値に容易に制御することができ、これによって、精度良くかつ効率良く乾燥することができる。

0056

したがって、大型の基板に対しても基板の損傷及び反りや撓みを気にせずに洗浄及び乾燥ができる基板の洗浄装置を提供することができる。

0057

本発明の基板の洗浄装置は、上記課題を解決するために、前記基板の洗浄装置において、前記洗浄チャンバーに装着される被洗浄基板を固着しつつ、洗浄前後は被洗浄基板を搬送可能とする固着搬送手段が設けられていることを特徴としている。

0058

上記の発明によれば、洗浄チャンバーに装着される被洗浄基板を固着しつつ、洗浄前後は被洗浄基板を搬送可能とする固着搬送手段が設けられている。

0059

したがって、固着搬送手段によって被洗浄基板を固着する。このため、洗浄時及び乾燥時には、被洗浄基板を固着搬送手段にて固着して動かないようにすることができるので、洗浄時や乾燥時に被洗浄基板を動かすことによる被洗浄基板の割れ等の損傷を防止することができる。

0060

また、洗浄前又は洗浄後はこの固着搬送手段によって被洗浄基板を固着した状態で搬送する。すなわち、例えば、固着搬送手段として真空吸着機構を設けることによって、被洗浄基板を固着した状態で搬送することができる。この結果、搬送の自動化を図り、これによって、洗浄工程の全体的な自動化を図ることができる。

0061

本発明の基板の洗浄装置は、上記課題を解決するために、前記基板の洗浄装置において、前記洗浄チャンバーを立設、上下反転及び傾斜させる角度調整手段が設けられていることを特徴としている。

0062

上記の発明によれば、洗浄チャンバーを立設、上下反転及び傾斜させる角度調整手段が設けられている。

0063

したがって、角度調整手段によって、洗浄チャンバーを、立てるか又は上下反転させるか又は傾斜させて洗浄及び乾燥することができる。

0064

この結果、洗浄チャンバー内における被洗浄基板の位置を従来の水平のみならず、被洗浄基板を立てたり、上下反転させたり、傾斜させることができる。さらに、これらの動作は洗浄チャンバー全体に対して行うことができる。

0065

このため、洗浄後の洗浄液の除去を容易に行うことができる。また、洗浄時において液流れが発生するので、洗浄液の節約が可能となる。

0066

この結果、洗浄及び乾燥を効率良く行うことができる。

0067

本発明の基板の洗浄装置は、上記課題を解決するために、前記基板の洗浄装置において、前記洗浄チャンバーには、洗浄チャンバーの内部圧力を調整する内部圧力調整手段及び/又は洗浄チャンバーの内部温度を調整する内部温度調整手段が設けられていることを特徴としている。

0068

上記の発明によれば、洗浄チャンバーには、洗浄チャンバーの内部圧力を調整する内部圧力調整手段及び/又は洗浄チャンバーの内部温度を調整する内部温度調整手段が設けられている。

0069

したがって、洗浄及び乾燥に際して、内部圧力調整手段にて洗浄チャンバーの内部圧力を調整し、内部温度調整手段にて洗浄チャンバーの内部温度を調整することができる。

0070

このため、洗浄剤として反応性ガス等の使用が可能となるので、ドライ洗浄が可能となる。また、洗浄チャンバーの内部温度を調整することができるので、常温のみならず、洗浄チャンバーを加温して反応性ガスや溶剤等の活性を良くすることができる一方、冷却した方が好ましい場合には洗浄チャンバーを冷却して洗浄及び乾燥することも可能である。

0071

したがって、大型の基板に対しても基板の損傷及び反りや撓みを気にせずに洗浄及び乾燥ができると共に、多彩な洗浄及び乾燥を可能とする洗浄装置を提供することができる。

0072

なお、本発明においては、内部圧力調整手段と内部温度調整手段との両方が設けられていても良く、又はいずれか一方のみが設けられていても良い。

発明を実施するための最良の形態

0073

〔実施の形態1〕本発明の実施の一形態について図1に基づいて説明すれば、以下の通りである。

0074

本実施の形態の洗浄装置にて洗浄される基板は、例えば、TFT(Thin FilmTransistor)カラー液晶パネルに使用されるガラス基板である。すなわち、このガラス基板は、画素毎に薄膜トランジスタが設けられるものであって、例えば、その製造工程におけるフォトリソグラフィープロセスでは、3μm〜10μmパターンの微細加工が行われる。したがって、ガラス基板に付着している塵埃等の異物が、歩留りに大きく影響する。このため、例えば、フォトリソグラフィープロセスにおけるレジスト塗布前には、本洗浄装置にてガラス基板を洗浄して上記塵埃等を極力除去するようになっている。

0075

上記のガラス基板は、例えば、600×700mmの大きさとなっているが、必ずしもこれに限らず、もっと小さいものであって良く、又はこの寸法よりも大きいものであっても良い。

0076

また、ガラス基板については、他の半導体ウェハ等の基板であっても良く、さらに他の種類の基板であっても良い。さらに、ガラス基板は必ずしも長方形に限らず、円形楕円形・他の多角形等であっても良い。

0077

上記の洗浄装置1は、図1に示すように、洗浄チャンバー2がクローズされるようになっている。

0078

すなわち、本実施の形態の洗浄チャンバー2は、略薄型直方体箱型に形成されており、その上部中央位置に開口部4が設けられている。なお、開口部4は、必ずしも中央に限らず、端部に設けられていても良い。また、開口部4は、本実施の形態では、洗浄チャンバー2の上に設けられているが、必ずしもこれに限らず、例えば、洗浄チャンバー2の下に設けられていても良い。ただし、開口部4を下に設ける場合には、洗浄液の流れを良くするために、例えば、洗浄チャンバー2を傾斜させておいたり、後述する被洗浄基板3を洗浄チャンバー2の底面よりも少し突出させる等の工夫をするのが好ましい。

0079

上記開口部4の縁部には、この開口部4の縁部に沿う四角枠形状基板受け枠5が設けられている。したがって、この基板受け枠5に被洗浄基板3を置くことにより、被洗浄基板3が周囲に嵌合されて前後左右に動かないように支持固定されるものとなっている。

0080

上記の基板受け枠5は、例えば、開口部4の内周部分から幅5mm程度に内側に突出して形成されており、これによって、被洗浄基板3を受けるものとなっている。ここで、被洗浄基板3における周囲から内側5mm程度は、ガラス基板の有効範囲外であるため、洗浄の必要がない。このため、この部分を洗浄しないことによる影響はない。

0081

なお、この基板受け枠5は、必ずしも四角枠状に形成する必要はなく、例えば同図に示すように、左右の端部のみ被洗浄基板3を固定するものであって良く、又は被洗浄基板3の四隅を固定するものであっても良い。

0082

上記の被洗浄基板3の裏面には、補強手段及び補強板としての当接板6が当接状態に設けられている。

0083

この当接板6は、被洗浄基板3と略同じ大きさに形成されており、被洗浄基板3の裏面の略全面が密着している。この結果、この当接板6は、被洗浄基板3が撓んだり反ったりするのを防止するようになっている。

0084

上記当接板6は、同図においては、被洗浄基板3よりも少し小さめに形成されたものとなっているが、必ずしもこれに限らず、被洗浄基板3よりも少し大きくても良い。ただし、そのときにも、当接板6が被洗浄基板3の裏面に密着して一体化している必要がある。

0085

また、この当接板6は、全てが平面になっている必要はなく、格子状又は網目状等になっていても良い。

0086

一方、洗浄チャンバー2の内部には、洗浄ツール及び洗浄手段としての回転洗浄ブラシ7及びMS(Mega Sonic)シャワーノズル8と、乾燥ツール及び乾燥手段としてのエアーナイフ9とが設けられている。

0087

これら回転洗浄ブラシ7、MSシャワーノズル8及びエアーナイフ9はいずれも矢印A−B方向に移動可能となっている。また、これら回転洗浄ブラシ7、MSシャワーノズル8及びエアーナイフ9は一体となって矢印A−B方向に移動できる一方、単独でも移動することができるものとなっている。

0088

上記回転洗浄ブラシ7は、回転軸7aを有しており、図示しない駆動装置によって回転し得るようになっている。また、この回転洗浄ブラシ7が矢印A−B方向に移動するときに、ブラシが被洗浄基板3の表面に当接してブラッシングする。また、このとき洗剤等を使用することが可能となっている。

0089

上記MSシャワーノズル8は、図示しない超音波振動素子にて洗浄水にメガヘルツ領域の超音波振動を付加したものをシャワーすべく矢印A−B方向に移動しながら噴射するものである。このMSシャワーノズル8では、洗浄水として純水が使用される他、他の剥離液エッチング液等の洗浄液を噴射することも可能である。これによって、被洗浄基板3の表面におけるサブミクロンオーダーの異物まで除去することが可能となる。

0090

また、超音波振動素子を駆動しないときには、単なるシャワーとして使用することができる。したがって、MSシャワーノズル8は、必ずしもMS付に限らず、単にシャワーノズルとすることが可能である。

0091

上記のエアーナイフ9は、エアーを噴出する装置であり、矢印A−B方向に移動するときに、刃先が被洗浄基板3に近接して、被洗浄基板3の表面を乾燥するようになっている。

0092

さらに、上記MSシャワーノズル8及びエアーナイフ9は、斜めから洗浄液やエアーを噴出させるようになっている。これによって、洗浄液等が、MSシャワーノズル8等に被るのを防止することができる。

0093

一方、洗浄チャンバー2には、さらに、底面に排水ドレイン10が設けられていると共に、その壁面には排気口11が設けられている。

0094

したがって、排水ドレイン10から洗浄液等を排出できると共に、洗浄チャンバー2の内部におけるエアーナイフ9等から噴射される熱風を排気口11から排気できるものなっている。

0095

上記構成の洗浄装置1による洗浄方法について説明する。

0096

先ず、洗浄チャンバー2における開口部4の基板受け枠5に、被洗浄基板3の表面を洗浄チャンバー2の内部に向けて被洗浄基板3を載置する。これにより被洗浄基板3の前後左右の動き規制される。次いで、この上に当接板6が載置される。この当接板6は、図示しない固定装置によって動かないように固定される。したがって、被洗浄基板3は上下にも動かないように固定される。この結果、被洗浄基板3の洗浄時における反りや撓みを補正することができる。

0097

次いで、洗浄工程では、先ず、回転洗浄ブラシ7が回転しながら矢印A方向に移動する。このとき、例えば、図示しない洗剤ノズルから洗剤が被洗浄基板3の表面に噴出されると共に、回転洗浄ブラシ7はこの被洗浄基板3の表面をブラッシングする。回転洗浄ブラシ7の矢印A−B方向の移動は、一回であっても良く、複数回であっても良い。これによって、大型のダスト成膜時に発生した膜に埋没したようなダストを除去することができる。

0098

次いで、回転洗浄ブラシ7が矢印A方向の端部に移動した状態で、MSシャワーノズル8から例えば純水のMSシャワーが供給され、被洗浄基板3の表面に付着した汚れがミクロンオーダーで洗浄される。

0099

次いで、このMSシャワーノズル8も矢印A方向の端部に移動した状態で、エアーナイフ9が矢印A方向に移動し、このときにエアーナイフ9の刃先が被洗浄基板3の表面に近接してエアーを吹き付ける。このとき、被洗浄基板3は当接板6にて平面状態が保たれているので、全体的に同じ圧力でエアーを表面に吹き付けることができる。

0100

また、このとき、被洗浄基板3は洗浄チャンバー2の上に取り付けられているので、被洗浄基板3に付着している液滴は全て落下し又は吹き飛ばされ、被洗浄基板3の表面に残ることはない。

0101

一方、洗浄中の洗浄液は、排水ドレイン10から排出されると共に、洗浄チャンバー2の内部の湿潤空気や熱風は排気口11から排気される。

0102

洗浄及び乾燥が完了すると、当接板6が取り除かれた後、被洗浄基板3は洗浄チャンバー2から外され、次の図示しない工程に移される。

0103

以上の洗浄及び乾燥工程においては、被洗浄基板3は静止しており、回転洗浄ブラシ7及びMSシャワーノズル8等の洗浄ツールとエアーナイフ9等の乾燥ツールが移動するものとなっている。したがって、被洗浄基板3は動かないので、破損の可能性が小さい。

0104

このように、本実施の形態の被洗浄基板3の洗浄方法及び洗浄装置1では、被洗浄基板3が洗浄チャンバー2の蓋として使用されると共に、洗浄チャンバー2の内部には回転洗浄ブラシ7及びMSシャワーノズル8並びにエアーナイフ9が設けられている。

0105

このため、被洗浄基板3は洗浄チャンバー2の蓋として固定状態となっているので、洗浄及び乾燥に際して被洗浄基板3が動くことがない。したがって、洗浄及び乾燥に際して被洗浄基板3が損傷するのを防止することができる。

0106

また、被洗浄基板3が洗浄チャンバー2の蓋として使用され、その洗浄チャンバー2内で回転洗浄ブラシ7及びMSシャワーノズル8並びにエアーナイフ9にて被洗浄基板3の洗浄及び乾燥が行われる。このことは、洗浄チャンバー2を密閉系とし得ることを示す。したがって、洗浄時等において、洗浄液が被洗浄基板3の裏面に飛散し、洗浄液がその裏面に滞留するということを防止することができる。

0107

また、乾燥時に被洗浄基板3を回転させることもないので、回転駆動させるためのモータを必要としない。このため、モータに伴うコストの低減を図ることができる。

0108

さらに、被洗浄基板3が洗浄チャンバー2の蓋として使用されるので、洗浄装置1のコンパクト化を図ることができる。

0109

この結果、大型の被洗浄基板3に対しても被洗浄基板3の損傷及び反りや撓みを気にせずに洗浄及び乾燥ができると共に、洗浄液の滞留を防止し、かつコストの増大を防止し得る被洗浄基板3の洗浄方法及び洗浄装置1を提供することができる。

0110

また、本実施の形態の被洗浄基板3の洗浄方法及び洗浄装置1では、洗浄チャンバー2に設けられた回転洗浄ブラシ7及びMSシャワーノズル8並びにエアーナイフ9を移動することにより被洗浄基板3を洗浄及び乾燥する。

0111

したがって、例えば、乾燥ツールでは、エアーナイフ9により移動しながら乾燥することになる。このため、従来のスピン型洗浄装置のように、被洗浄基板3を回転して乾燥させるものではないので、回転に伴う被洗浄基板3の割れ等の損傷を防止する。また、大容量のモータを使用することもないので、コスト削減を図ることができる。

0112

さらに、洗浄工程においても被洗浄基板3は静止した状態で行われるので、被洗浄基板3の破損を防止できる。

0113

この結果、大型の被洗浄基板3に対しても被洗浄基板3の損傷及び反りや撓みを気にせずに洗浄及び乾燥ができると共に、コストの増大を防止し得る被洗浄基板3の洗浄方法及び洗浄装置1を提供することができる。

0114

〔実施の形態2〕本発明の他の実施の形態について図2ないし図4に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、説明の便宜上、前記の実施の形態1の図面に示した部材と同一の機能を有する部材については、同一の符号を付し、その説明を省略する。

0115

本実施の形態の洗浄装置20では、図2に示すように、被洗浄基板3を真空吸着し、搬送できるものとなっている。

0116

すなわち、同図に示すように、洗浄チャンバー22は、上部中央位置に円形の開口部24を有すると共に、開口部24の縁部には周囲に段差部24aを有している。この段差部24aは、開口部24の縁部における下部が内側に突出することによって段差となっている。

0117

この段差部24aの上には、Oリング25が設けられており、後述する吸着搬送アーム26の底面外周部が当接することによって洗浄チャンバー22が密閉され、これによって、洗浄液等がこの部分から漏れないようになっている。なお、このOリング25は、開口部24が断面長方形の場合には角リングとすることもできる。

0118

一方、本実施の形態では、被洗浄基板3を補強する補強手段及び固着搬送手段としての吸着搬送アーム26が設けられている。

0119

この吸着搬送アーム26には、下面にメッシュ状の吸着口27が設けられており、図示しない吸引装置によって、被洗浄基板3を吸着し得るようになっている。そして、被洗浄基板3を吸着している状態においては、吸着口27がメッシュ状に形成されているので、被洗浄基板3は水平状態を維持し、反りや撓みが発生しない状態となっている。

0120

この吸着口27の大きさは、被洗浄基板3の大きさと略同じ位であることが好ましい。ただし、吸着口27の全てが吸着機能を有する必要はなく、部分的に吸着するものであっても良い。被洗浄基板3に部分的な反りや撓みを与えることなく搬送できる程度に吸着できれば足りるためである。

0121

また、吸着搬送アーム26は、自在に移動できるようになっており、これによって、別の場所にて被洗浄基板3を吸着した後、この洗浄チャンバー22の開口部24の上方まで移動することにより被洗浄基板3を搬送し、次いで、吸着搬送アーム26が下方移動することにより、吸着搬送アーム26が開口部24の段差部24aにおけるOリング25の上に載置される。このとき、図3に示すように、吸着搬送アーム26は開口部24に嵌合されると共に、被洗浄基板3も段差部4aの側面内に嵌合されるものとなっている。これによって、洗浄チャンバー22が密閉系となる。

0122

ここで、本実施の形態では、吸着搬送アーム26の底面は、例えば、被洗浄基板3に対して約10mm程度大きく形成されている。ただし、必ずしもこれに限らず、前記実施の形態1に示したように、吸着搬送アーム26の底面を被洗浄基板3よりも小さく形成し、被洗浄基板3の外周部が約5mm程度、上記段差部24aに載るように形成されていても良い。

0123

また、このように吸着搬送アーム26が洗浄チャンバー22に取り付けられた後は、図示しないロック機構によって吸着搬送アーム26が洗浄チャンバー22から外れないようにロックされる。

0124

さらに、本実施の形態では、排気口11は前記実施の形態1に示す洗浄チャンバー2と同じ場所に設けられているが、排水ドレイン28は、同図に示すように、洗浄チャンバー22の右端部の底面に設けられている。これは後述するように、洗浄チャンバー22が回転自在となるためである。端部に排水ドレイン28が有る方が、液の流れが良くなるためである。

0125

一方、上述したように、本実施の形態の洗浄装置20は、図4(a)(b)(c)に示すように、角度調整手段としての図示しない角度調整機構によって洗浄チャンバー22自体が回転してその傾斜角度を調整できるようになっている。

0126

すなわち、洗浄チャンバー22を立設状態にしたいときには、図4(a)に示すように、洗浄チャンバー22の略中央に設けられた図示しない回転軸を中心として洗浄チャンバー22が略90度に立設される。また、図4(b)に示すように、前記図3に示す状態から少し傾斜した状態にすることができると共に、図4(c)に示すように、天地が逆となるように上下反転させて傾斜させることも可能である。

0127

すなわち、洗浄チャンバー22は図示しない回転軸を中心として360度回転可能となっている。これによって、洗浄後の洗浄液の除去等が容易となる。

0128

また、上記の説明では、被洗浄基板3を取り付けた吸着搬送アーム26にて洗浄チャンバー22の施蓋をした状態で回転するものとしているが、必ずしもこれに限らず、洗浄チャンバー22を回転した状態で、被洗浄基板3を吸着した吸着搬送アーム26を洗浄チャンバー22に取り付けることも可能である。

0129

上記構成の洗浄装置20における洗浄動作について説明する。

0130

先ず、図2に示すように、別の場所に準備された被洗浄基板3を吸着搬送アーム26にて吸着する。吸着は、図示しない真空ポンプにて吸引して行う。

0131

次いで、被洗浄基板3を吸着した吸着搬送アーム26を洗浄チャンバー22の上方に移動し、吸着搬送アーム26を洗浄チャンバー22の開口部24に嵌合させる。これによって、図3に示すように、洗浄チャンバー22が密閉状態となる。このとき、吸着搬送アーム26は図示しないロック機構によって、洗浄中に吸着搬送アーム26が洗浄チャンバー22から外れないようにロックされる。

0132

この状態で、回転洗浄ブラシ7、MSシャワーノズル8、及びMSシャワーノズル8を用いた単なるシャワー等による洗浄及び乾燥を行う。このとき、図4(a)(b)(c)に示すように、洗浄チャンバー22が縦、傾斜、上下反転等の任意の角度で傾斜される。また、洗浄及び乾燥時における洗浄液は排水ドレイン28から排水される一方、熱風等のエアーは排気口11から排気される。

0133

このように、本実施の形態では、洗浄チャンバー22が傾斜していることによって、排水ドレイン28からの排水及び排気口11からの排気が効率良く行われる。

0134

また、被洗浄基板3を洗浄及び乾燥しているこの期間においては、被洗浄基板3はメッシュ状の吸着口27に略全面が吸着されているので、被洗浄基板3が反ったり撓んだりすることがない。

0135

また、洗浄チャンバー22は、吸着搬送アーム26がOリング25に当接することによって密閉系となっているので、洗浄中に洗浄液が被洗浄基板3の裏面、つまり洗浄チャンバー22の外側に飛散して被洗浄基板3の裏面を汚すということもない。

0136

さらに、この洗浄及び乾燥工程においては、被洗浄基板3は静止しており、回転洗浄ブラシ7及びMSシャワーノズル8等の洗浄ツールとエアーナイフ9等の乾燥ツールが移動するものとなっている。

0137

次いで、被洗浄基板3の洗浄及び乾燥が完了すると、傾斜していた洗浄チャンバー22が元の水平状態に戻され、図示しないロック機構が解除された後、吸着搬送アーム26が洗浄チャンバー22から外され、図示しない別の場所に移動し、所定の場所で吸着搬送アーム26の吸着機構が解除され、被洗浄基板3が載置される。そして、その被洗浄基板3は次の図示しない工程に移される。

0138

この結果、本実施の形態では、可動式の吸着搬送アーム26により被洗浄基板3の裏面全体又は一部を吸着させ、吸着搬送アーム26と被洗浄基板3とを一体とすることで被洗浄基板3の反り及び撓みを修正し、かつ一体となった吸着搬送アーム26と被洗浄基板3とを、洗浄チャンバー2の一部に被洗浄基板3と略同等の大きさの開口部24を設けた洗浄装置20の蓋としてそのまま用いることにより、被洗浄基板3を洗浄及び乾燥するクローズ式洗浄装置となっている。

0139

このため、吸着搬送アーム26の吸着効果により、薄型大型基板弱点である反りや撓みを修正し、基板全体で均一な洗浄・乾燥が可能になる。また、シングルチャンバーの洗浄装置20であるので、被洗浄基板3の移動が極めて少なくなり、基板割れに対して非常に有利である。

0140

さらに、反りや撓みが修正されるので被洗浄基板3と洗浄ツールとの間隔を最適値に制御することが簡単にできる。

0141

また、エアーナイフ9を用いるので清浄に乾燥可能である。

0142

さらに、洗浄、乾燥工程でも被洗浄基板3が静止し、各洗浄ツール及びエアーナイフ9等の乾燥ツールが動く構造となっているので、洗浄、乾燥工程に回転動作は不要である。したがって、被洗浄基板3の割れを防止できる。

0143

また、その他の利点として、クローズ式なので洗浄時やエアーナイフ9による乾燥時における洗浄液の基板裏面への回り込みがない等が挙げられる。また、洗浄時のポジションを従来の洗浄面を上向きとして水平のみならず、上下反転、縦、傾斜等が自由に設定可能であるので、洗浄後の洗浄液の除去が簡易であり、かつ液流れが発生するので洗浄液の節約が可能となる。さらに、複数の洗浄ツールを連続して使用できるので省スペースが可能となる。

0144

また、洗浄チャンバー22が薄型矩形であって、被洗浄基板3の両端部分にスペースが設けられている。このため、いずれかの端部側に回転洗浄ブラシ7及びMSシャワーノズル8並びにエアーナイフ9を収容することができ、これら洗浄ツール及び乾燥ツールを連続して使用することができる。このことは、洗浄チャンバー22の省スペース化が可能であることを意味する。

0145

このように、本実施の形態の被洗浄基板3の洗浄方法及び洗浄装置20では、洗浄チャンバー22に装着される被洗浄基板3の裏面に当接して被洗浄基板3を補強する吸着搬送アーム26が設けられている。

0146

したがって、被洗浄基板3は吸着搬送アーム26によって補強されるので、洗浄チャンバー22の内部で被洗浄基板3の表面を回転洗浄ブラシ7等により洗浄し、又はエアーを噴き付けて乾燥しても、被洗浄基板3が反ったり撓んだりすることがない。

0147

また、反りや撓みがないので、被洗浄基板3は平面状態を維持し、これによって、例えば、エアーナイフ9による乾燥工程においても、エアーナイフ9の刃先の移動に伴う該刃先と被洗浄基板3の表面との距離は絶えず一定となる。このため、該刃先と被洗浄基板3の表面との距離を最適値に容易に制御することができ、これによって、精度良くかつ効率良く乾燥することができる。

0148

したがって、大型の被洗浄基板3に対しても被洗浄基板3の損傷及び反りや撓みを気にせずに洗浄及び乾燥ができる被洗浄基板3の洗浄方法及び洗浄装置20を提供することができる。

0149

また、本実施の形態の被洗浄基板3の洗浄装置20では、洗浄チャンバー22に装着される被洗浄基板3をを固着しつつ、洗浄前後は被洗浄基板3を搬送可能とする吸着搬送アーム26が設けられている。

0150

したがって、吸着搬送アーム26によって被洗浄基板3を固着する。このため、洗浄時及び乾燥時には、被洗浄基板3を吸着搬送アーム26にて固着して動かないようにすることができるので、洗浄時や乾燥時に被洗浄基板3を動かすことによる被洗浄基板3の割れ等の損傷を防止することができる。

0151

また、洗浄前又は洗浄後はこの吸着搬送アーム26によって被洗浄基板3を固着した状態で搬送する。すなわち、例えば、固着搬送手段として吸着搬送アーム26等の真空吸着機構を設けることによって、被洗浄基板3を固着した状態で搬送することができる。この結果、搬送の自動化を図り、これによって、洗浄工程の全体的な自動化を図ることができる。

0152

また、本実施の形態の被洗浄基板3の洗浄装置20では、洗浄チャンバー22を立設、上下反転及び傾斜させる角度調整機構が設けられている。

0153

したがって、角度調整機構によって、洗浄チャンバー22を、立てるか又は上下反転させるか又は傾斜させて洗浄及び乾燥することができる。

0154

この結果、洗浄チャンバー22内における被洗浄基板3の位置を従来の水平のみならず、被洗浄基板3を立てたり、上下反転させたり、傾斜させることができる。さらに、これらの動作は洗浄チャンバー22全体に対して行うことができる。

0155

このため、洗浄後の洗浄液の除去を容易に行うことができる。また、洗浄時において液流れが発生するので、洗浄液の節約が可能となる。

0156

この結果、洗浄及び乾燥を効率良く行うことができる。

0157

なお、本実施の形態では、吸着機構として真空吸着を利用したが、必ずしもこれに限らず、例えば、被洗浄基板3が鉄等の磁性体であるときには、磁石による吸着も適用可能である。

0158

〔実施の形態3〕本発明の他の実施の形態について図5に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、説明の便宜上、前記の実施の形態1及び実施の形態2の図面に示した部材と同一の機能を有する部材については、同一の符号を付し、その説明を省略する。

0159

本実施の形態の洗浄装置30は、図5に示すように、洗浄チャンバー32の内部温度が調整できると共に、反応性ガスによるドライ洗浄が可能となっている。

0160

すなわち、洗浄装置30には、同図に示すように、洗浄チャンバー32の底面及び両側面に内部温度調整手段としてのヒーター31が設けられており、このヒーター31をオンオフすることによって、洗浄チャンバー32の内部温度が調整できるものとなっている。

0161

なお、本実施の形態では、温度調節機構としてヒーター31を設けているが、必ずしもこれに限らず、例えば、冷却するときには、冷却水を洗浄チャンバー32の周り循環できる構造にしたりチラーユニットを設置しても良い。また、洗浄装置30にヒーター31と冷却水パイプとの両方を設けても良い。

0162

また、洗浄チャンバー32には、同図において右側端部に反応性ガス吸入口33が設けられており、この反応性ガス吸入口33から例えばオゾン、CF4 、SF6 、HCl、SO3 、BCl3 、O2 等の気体単体又は混合状態で流入できるようになっている。

0163

また、洗浄チャンバー32には、同図において左側端部近傍に加圧減圧口34が設けられており、加圧用又は減圧用の内部圧力調整手段としてのポンプ35によって、洗浄チャンバー32の内部を加圧又は減圧できるようになっている。

0164

この反応性ガスを用いて温度調整及び圧力調整しながら被洗浄基板3を洗浄することによって、基板表面の有機物残渣反応生成物又はレジスト残渣等を除去することができる。

0165

もちろん、前記実施の形態2及び実施の形態3に述べた洗浄及び乾燥ツールとの組み合わせ及び角度調整装置との組み合わせが可能であると共に、ドライ洗浄とウェット洗浄、及び乾燥が単一装置にて可能となり、装置床面積の低減及び搬送能力の低減を図ることができる。

0166

このように本実施の形態の洗浄装置30では、洗浄チャンバー32には、洗浄チャンバー32の内部圧力を調整するポンプ35及び洗浄チャンバー32の内部温度を調整するヒーター31が設けられている。

0167

したがって、洗浄及び乾燥に際して、ポンプ35にて洗浄チャンバー32の内部圧力を調整し、ヒーター31にて洗浄チャンバー32の内部温度を調整することができる。

0168

このため、洗浄剤として反応性ガス等の使用が可能となるので、ドライ洗浄が可能となる。また、洗浄チャンバー32の内部温度を調整することができるので、常温のみならず、洗浄チャンバー32を加温して反応性ガスや溶剤等の活性を良くすることができる一方、冷却した方が好ましい場合には洗浄チャンバー32を冷却して洗浄及び乾燥することも可能である。

0169

したがって、大型の基板に対しても被洗浄基板3の損傷及び反りや撓みを気にせずに洗浄及び乾燥ができると共に、多彩な洗浄及び乾燥を可能とする洗浄方法及び洗浄装置30を提供することができる。

0170

〔実施の形態4〕本発明の他の実施の形態について図6に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、説明の便宜上、前記の実施の形態1ないし実施の形態3の図面に示した部材と同一の機能を有する部材については、同一の符号を付し、その説明を省略する。

0171

本実施の形態の洗浄装置40は、図6に示すように、レジスト剥離液を供給することによって、レジスト剥離装置として適用可能となっている。

0172

すなわち、洗浄装置40は、同図に示すように、洗浄チャンバー42の内部に、移動可能な剥離用ノズル41が設けられており、この剥離用ノズル41には、溶剤タンク42に貯蔵された剥離液等の溶剤が供給ポンプ43によって供給されるようになっている。

0173

上記溶剤タンク42にはタンク用ヒーター44が設けられており、このタンク用ヒーター44によって溶剤の温度を高めて溶剤の活性化を促すようになっている。

0174

したがって、この溶剤の活性度を高めた状態で剥離用ノズル41から溶剤を噴射するために、洗浄チャンバー42の周辺部には、前記実施の形態3で示した洗浄チャンバー32と同様に、ヒーター31が設けられている。

0175

また、同図に示すように、洗浄チャンバー42の右端部にはドレイン45が設けられており、洗浄後の溶剤が排出されるようになっている。

0176

上記構成の洗浄装置40にて被洗浄基板3を洗浄するときには、先ず、溶剤タンク42から加熱した溶剤が供給ポンプ43によって剥離用ノズル41に供給され、被洗浄基板3に噴射される。

0177

これによって、被洗浄基板3に付着していたレジスト剥離される。このとき剥離用ノズル41は移動可能となっているので、被洗浄基板3の表面全体に溶剤を噴射することができる。

0178

その後、MSシャワーノズル8にて水洗し、エアーナイフ9にて乾燥する。なお、MSシャワーノズル8は、必ずしも超音波を付加する必要はない。したがって、MSシャワーノズル8のように必ず超音波機構がついていることを要しない。

0179

また、本洗浄装置40では、レジスト剥離装置としてのみ機能させる一方、その後の洗浄処理のために、前述した洗浄装置1・20・30等に搬送して洗浄することも可能である。

0180

また、上記の洗浄装置40による洗浄工程において、ドレイン45は溶剤が排出されるが、剥離液供給時と水洗時とによってドレイン45を分岐し、分別する機構を設けて別途に排出することも可能である。

0181

さらに、被洗浄基板3がアルミニウム等の腐食し易い金属材料を含んでいる場合には、剥離処理を行った後、水洗処理をするまでの間に、適当なリンス液によるリンス処理つまり置換処理を加えることも可能である。

0182

このように、本実施の形態の基板の洗浄方法及び洗浄装置40では、洗浄液として純水のみならず剥離液、エッチング液も使用できるようになっている。このため、レジスト剥離液を供給することによって、レジスト剥離装置として使用可能となる。

0183

また、クローズ式なのでガス系の処理も可能であり、その場合、ウェットとの連続処理も可能となる。

発明の効果

0184

本発明の基板の洗浄方法は、以上のように、被洗浄基板を洗浄チャンバーの蓋として使用し、その洗浄チャンバー内で被洗浄基板の洗浄及び乾燥を行う方法である。

0185

それゆえ、被洗浄基板は洗浄チャンバーの蓋として固定状態となっているので、洗浄及び乾燥に際して被洗浄基板が動くことがない。このため、洗浄及び乾燥に際して基板が損傷するのを防止することができる。

0186

また、洗浄チャンバーを密閉系とすることができるので、洗浄時等において、洗浄液が被洗浄基板の裏面に飛散し、洗浄液がその裏面に滞留するということを防止することができる。

0187

また、乾燥時に被洗浄基板を回転駆動させるためのモータを必要としないので、モータに伴うコストの低減を図ることができる。

0188

さらに、被洗浄基板が洗浄チャンバーの蓋として使用されるので、洗浄装置のコンパクト化を図ることができる。

0189

この結果、大型の基板に対しても基板の損傷及び反りや撓みを気にせずに洗浄及び乾燥ができると共に、洗浄液の滞留を防止し、かつコストの増大を防止し得る基板の洗浄方法を提供することができるという効果を奏する。

0190

本発明の基板の洗浄方法は、以上のように、前記基板の洗浄方法において、前記被洗浄基板を洗浄チャンバーに装着する際に、被洗浄基板の裏面に補強板を当接して被洗浄基板を補強する方法である。

0191

それゆえ、洗浄チャンバーの内部で被洗浄基板の表面をブラシ等により洗浄し、又はエアーを噴き付けて乾燥しても、被洗浄基板が反ったり撓んだりすることがない。

0192

また、反りや撓みがないので、被洗浄基板は平面状態を維持し、これによって、例えば、エアーナイフによる乾燥工程においても、エアーナイフの刃先の移動に伴う該刃先と被洗浄基板の表面との距離は絶えず一定となる。このため、該刃先と被洗浄基板の表面との距離を最適値に容易に制御することができ、精度良くかつ効率良く乾燥することができる。

0193

したがって、大型の基板に対しても基板の損傷及び反りや撓みを気にせずに洗浄及び乾燥ができる基板の洗浄方法を提供することができるという効果を奏する。

0194

本発明の基板の洗浄方法は、以上のように、前記基板の洗浄方法において、前記補強板にて前記被洗浄基板を固着すると共に、洗浄前後は被洗浄基板をこの補強板にて固着した状態で搬送する方法である。

0195

それゆえ、洗浄時及び乾燥時には、被洗浄基板を補強板にて固着して動かないようにすることができるので、洗浄時や乾燥時に被洗浄基板を動かすことによる被洗浄基板の割れ等の損傷を防止することができる。

0196

また、洗浄前又は洗浄後はこの補強板によって被洗浄基板を固着した状態で搬送するので、搬送の自動化を図り、これによって、洗浄工程の全体的な自動化を図ることができるという効果を奏する。

0197

本発明の基板の洗浄方法は、以上のように、前記基板の洗浄方法において、前記洗浄チャンバーに設けられた洗浄ツール及び乾燥ツールを移動することにより前記被洗浄基板を洗浄及び乾燥する方法である。

0198

それゆえ、従来のスピン型洗浄装置のように、被洗浄基板を回転して乾燥させるものではないので、回転に伴う被洗浄基板の割れ等の損傷を防止することができる。また、大容量のモータを使用することもないので、コスト削減を図ることができる。

0199

さらに、洗浄工程においても被洗浄基板は静止した状態で行われるので、被洗浄基板の破損を防止できる。

0200

この結果、大型の基板に対しても基板の損傷及び反りや撓みを気にせずに洗浄及び乾燥ができると共に、コストの増大を防止し得る基板の洗浄方法を提供することができるという効果を奏する。

0201

本発明の基板の洗浄方法は、以上のように、前記基板の洗浄方法において、前記洗浄チャンバーを、立てるか又は上下反転させるか又は傾斜させて洗浄及び乾燥する方法である。

0202

それゆえ、洗浄チャンバー内における被洗浄基板の位置を従来の水平のみならず、被洗浄基板を立てたり、上下反転させたり、傾斜させることができる。さらに、これらの動作は洗浄チャンバー全体に対して行うことができる。

0203

このため、洗浄後の洗浄液の除去を容易に行うことができる。また、洗浄時において液流れが発生するので、洗浄液の節約が可能となる。

0204

この結果、洗浄及び乾燥を効率良く行うことができるという効果を奏する。

0205

本発明の基板の洗浄装置は、以上のように、被洗浄基板が洗浄チャンバーの蓋として使用されると共に、洗浄チャンバーの内部には洗浄手段及び乾燥手段が設けられているものである。

0206

それゆえ、被洗浄基板は洗浄チャンバーの蓋として固定状態となっているので、洗浄及び乾燥に際して被洗浄基板が動くことがない。したがって、洗浄及び乾燥に際して基板が損傷するのを防止することができる。

0207

また、洗浄チャンバーを密閉系とし得るので、洗浄時等において、洗浄液が被洗浄基板の裏面に飛散し、洗浄液がその裏面に滞留するということを防止することができる。

0208

また、乾燥時に被洗浄基板を回転させることもないので、回転駆動させるためのモータを必要としない。このため、モータに伴うコストの低減を図ることができる。

0209

さらに、被洗浄基板が洗浄チャンバーの蓋として使用されるので、洗浄装置のコンパクト化を図ることができる。

0210

この結果、大型の基板に対しても基板の損傷及び反りや撓みを気にせずに洗浄及び乾燥ができると共に、洗浄液の滞留を防止し、かつコストの増大を防止し得る基板の洗浄装置を提供することができる。

0211

本発明の基板の洗浄装置は、以上のように、前記基板の洗浄装置において、前記洗浄チャンバーに装着される被洗浄基板の裏面に当接して被洗浄基板を補強する補強手段が設けられているものである。

0212

それゆえ、被洗浄基板は補強手段によって補強されるので、洗浄チャンバーの内部で被洗浄基板の表面をブラシ等により洗浄し、又はエアーを噴き付けて乾燥しても、被洗浄基板が反ったり撓んだりすることがない。

0213

また、反りや撓みがないので、被洗浄基板は平面状態を維持し、これによって、エアーナイフによる乾燥工程においても、エアーナイフの刃先の移動に伴う該刃先と被洗浄基板の表面との距離は絶えず一定となる。このため、該刃先と被洗浄基板の表面との距離を最適値に容易に制御することができ、これによって、精度良くかつ効率良く乾燥することができる。

0214

したがって、大型の基板に対しても基板の損傷及び反りや撓みを気にせずに洗浄及び乾燥ができる基板の洗浄装置を提供することができるという効果を奏する。

0215

本発明の基板の洗浄装置は、以上のように、前記基板の洗浄装置において、前記洗浄チャンバーに装着される被洗浄基板を固着しつつ、洗浄前後は被洗浄基板を搬送可能とする固着搬送手段が設けられているものである。

0216

それゆえ、固着搬送手段によって被洗浄基板を固着する。このため、洗浄時及び乾燥時には、被洗浄基板を固着搬送手段にて固着して動かないようにすることができるので、洗浄時や乾燥時に被洗浄基板を動かすことによる被洗浄基板の割れ等の損傷を防止することができる。

0217

また、洗浄前又は洗浄後はこの固着搬送手段によって被洗浄基板を固着した状態で搬送する。この結果、搬送の自動化を図り、これによって、洗浄工程の全体的な自動化を図ることができるという効果を奏する。

0218

本発明の基板の洗浄装置は、以上のように、前記基板の洗浄装置において、前記洗浄チャンバーを立設、上下反転及び傾斜させる角度調整手段が設けられているものである。

0219

それゆえ、角度調整手段によって、洗浄チャンバーを、立てるか又は上下反転させるか又は傾斜させて洗浄及び乾燥することができる。

0220

この結果、洗浄チャンバー内における被洗浄基板の位置を従来の水平のみならず、被洗浄基板を立てたり、上下反転させたり、傾斜させることができる。さらに、これらの動作は洗浄チャンバー全体に対して行うことができる。

0221

このため、洗浄後の洗浄液の除去を容易に行うことができる。また、洗浄時において液流れが発生するので、洗浄液の節約が可能となる。

0222

この結果、洗浄及び乾燥を効率良く行うことができるという効果を奏する。

0223

本発明の基板の洗浄装置は、以上のように、前記基板の洗浄装置において、前記洗浄チャンバーには、洗浄チャンバーの内部圧力を調整する内部圧力調整手段及び/又は洗浄チャンバーの内部温度を調整する内部温度調整手段が設けられているものである。

0224

それゆえ、洗浄及び乾燥に際して、内部圧力調整手段にて洗浄チャンバーの内部圧力を調整し、内部温度調整手段にて洗浄チャンバーの内部温度を調整することができる。

0225

このため、洗浄剤として反応性ガス等の使用が可能となるので、ドライ洗浄が可能となる。また、洗浄チャンバーの内部温度を調整することができるので、常温のみならず、洗浄チャンバーを加温して反応性ガスや溶剤等の活性を良くすることができる一方、冷却した方が好ましい場合には洗浄チャンバーを冷却して洗浄及び乾燥することも可能である。

0226

したがって、大型の基板に対しても基板の損傷及び反りや撓みを気にせずに洗浄及び乾燥ができると共に、多彩な洗浄及び乾燥を可能とする洗浄装置を提供することができるという効果を奏する。

図面の簡単な説明

0227

図1本発明における基板の洗浄装置における実施の一形態を示す断面図である。
図2本発明における基板の洗浄装置における他の実施の形態を示すものであり、被洗浄基板の吸着機構を備えた洗浄チャンバーを示す断面図である。
図3上記被洗浄基板の吸着機構を備えた洗浄チャンバーにおいて、吸着搬送アームを洗浄チャンバーに嵌合して密閉とした状態を示す断面図である。
図4上記被洗浄基板の吸着機構を備えた洗浄チャンバーが、角度調整可能に設けられていることを示すものであり、(a)は洗浄チャンバーを立設した状態を示す説明図、(b)は洗浄チャンバーを傾斜した状態を示す説明図、(c)は洗浄チャンバーを上下反転した状態を示す説明図である。
図5本発明における基板の洗浄装置のさらに他の実施の形態を示すものであり、温度調整可能及び圧力調整可能に設けられた洗浄チャンバーを示す断面図である。
図6本発明における基板の洗浄装置のさらに他の実施の形態を示すものであり、溶剤による洗浄ができる洗浄チャンバーを示す断面図である。
図7従来の基板の洗浄装置におけるローラー式のものを示す概略図である。
図8従来の他の基板の洗浄装置を示すものであり、スピン式のものを示す斜視図である。
図9上記スピン式洗浄装置の構造を示す断面図である。

--

0228

1洗浄装置
2洗浄チャンバー
3被洗浄基板
4 開口部
6 当接板(補強板、補強手段)
7回転洗浄ブラシ(洗浄ツール、洗浄手段)
8 MSシャワーノズル(洗浄ツール、洗浄手段)
9エアーナイフ(乾燥ツール、乾燥手段)
20 洗浄装置
24 開口部
26吸着搬送アーム(補強手段、固着搬送手段)
27吸着口
30 洗浄装置
31ヒーター(内部温度調整手段)
32 洗浄チャンバー
35ポンプ(内部圧力調整手段)
40 洗浄装置
42 洗浄チャンバー

ページトップへ

この技術を出願した法人

この技術を発明した人物

ページトップへ

関連する挑戦したい社会課題

関連する公募課題

該当するデータがありません

ページトップへ

技術視点だけで見ていませんか?

この技術の活用可能性がある分野

分野別動向を把握したい方- 事業化視点で見る -

(分野番号表示ON)※整理標準化データをもとに当社作成

ページトップへ

おススメ サービス

おススメ astavisionコンテンツ

新着 最近 公開された関連が強い技術

  • 上海穏奇電脳有限公司の「 自動クリーニングのパソコンキーボード」が 公開されました。( 2020/10/29)

    【課題】本発明は自動クリーニングのパソコンキーボードを開示した。【解決手段】キーボード箱及び前記キーボード箱の中に設置されたクリーニングチャンバを含み、前記クリーニングチャンバが上方に開口しており、前... 詳細

  • 青島▲か▼唯鎖業有限公司の「 自動的にクリーニング可能なledライト」が 公開されました。( 2020/10/29)

    【課題】本発明は自動的にクリーニング可能なledライトを開示した。【解決手段】天井板及び前記天井板の上端面に固定的に設置されたクリーニング箱を含み、前記天井板の中にはLEDライトが固定的に設置され、前... 詳細

  • 烟台渭海文具有限公司の「 絵筆クリーニング装置」が 公開されました。( 2020/10/29)

    【課題】本発明は絵筆クリーニング装置を開示した。【解決手段】筆筒を含み、前記筆筒の頂部の中にはクリーニング空間が設置され、前記クリーニング空間の左側にある前期筆筒の中にはサムホイール空間が設置され、前... 詳細

この 技術と関連性が強い人物

関連性が強い人物一覧

この 技術と関連する社会課題

関連する挑戦したい社会課題一覧

この 技術と関連する公募課題

該当するデータがありません

astavision 新着記事

サイト情報について

本サービスは、国が公開している情報(公開特許公報、特許整理標準化データ等)を元に構成されています。出典元のデータには一部間違いやノイズがあり、情報の正確さについては保証致しかねます。また一時的に、各データの収録範囲や更新周期によって、一部の情報が正しく表示されないことがございます。当サイトの情報を元にした諸問題、不利益等について当方は何ら責任を負いかねることを予めご承知おきのほど宜しくお願い申し上げます。

主たる情報の出典

特許情報…特許整理標準化データ(XML編)、公開特許公報、特許公報、審決公報、Patent Map Guidance System データ