図面 (/)

技術 加圧下に三相化学反応を実施するための方法および装置

出願人 コンパニージェネラールデマチエールヌクレイル
発明者 ピエトロベラルデロニコラドュリュプレナウドポンティエ
出願日 2000年6月19日 (20年5ヶ月経過) 出願番号 2000-183160
公開日 2001年2月20日 (19年9ヶ月経過) 公開番号 2001-046856
状態 特許登録済
技術分野 汚染除去及び汚染物処理 低圧または高圧利用のプロセス、装置 重金属無機化合物(II) 触媒 触媒
主要キーワード 円筒隔壁 環状区域 過熱点 中心区域 補修管 円筒状隔壁 管状支持体 越流管
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(2001年2月20日)のものです。
また、この項目は機械的に抽出しているため、正しく解析できていない場合があります

図面 (3)

課題

加圧下の三相化学反応、例えば、固体触媒の存在で、液体生成物気体還元剤により還元される反応、の従来の技術の欠点を克服し、特に補修管理の必要性を減少し、反応の制御が簡単で、そして触媒の挿入、放出および再生を自動化することができるように設計された方法および装置を提供する。

解決手段

高圧分離器(52)に接続されたガスサイフォン型反応器(10)を使用する。反応器の圧力の制御は高圧分離器からの液およびガスの流速を調節することにより与えられる。この装置を使用することにより上記の課題を解決し、例えば、白金触媒の存在で水素による硝酸ウラニル硝酸第一ウランへの還元をおこなうことができる。

概要

背景

三相化学反応、例えば、触媒の存在で行われる還元反応、は化学反応器の中で行われる。大抵の場合、固定床を有する反応器機械攪拌のある反応器または流動床反応器である。

固定床反応器において、処理されるべき液体生成物および気体還元剤は反応器の内側を上方に並流または向流循環し、固体触媒を通過するが、後者は反応器中の一定のレベル固定式に保持されている。

機械攪拌のある反応器、例えば、流動床反応器、において固体触媒は、反応器の内側で、液相中に懸濁している。

機械攪拌のある反応器において、固体触媒の懸濁は反応器内部に存在する互いに異なる数相の機械的攪拌により与えられる。

流動床反応器の場合には、固体触媒の懸濁をもたらすのは、ある速度許容限界値を超える流体液体または気体)の移動である。

ある三相化学反応は、加圧下のガス相の存在および強い発熱性の反応のような特別の操業条件により特徴づけられる。硝酸ウラニル硝酸第一ウランへの還元はこの範疇に属する。それゆえ、水素の圧力は約30バールと約60バールの間であることが好ましい。さらに、その反応は転化されたウラニウムモル当たり33kcalを発生するが、寄生反応を避けるためには約10℃と約20℃の間にあることが好ましい。

現在、加圧下に気体の還元剤を使用するこの種の反応は工業的に固定床反応器において行われている。しかし、この技術はかなりの不利な短所を有する。

したがって、固定床反応器は大きな圧力低下を起こすことがある。なぜならば液体が触媒床および燒結部材を通過しなければならないからである。触媒が高い圧力を受けることを要求するこの現象は、触媒の活性部分がその担体から摩擦により分離されることを促進する。この障害から反応器本体の溶接部および燒結部材の腐食の危険があり、そしてまたこれらは微細離脱した粒子により閉塞される危険を招く。これらの問題を避けるために、触媒を保持する燒結部材を定期的に(例えば、300時間毎に)、同様に反応器本体を(例えば、毎年一度)取り替えることが必要である。

さらに、そのような反応器を操業することは、高温の上部と低音の下部との間に温度勾配をもつことを意味する。還元反応が強度に発熱性である場合に寄生反応を排除するために必要である、中心部における温度を調節することは、比較的多数の(例えば、5個の)センサーが使用されねばならないことを意味する。事実上は、反応性差異に結び付けられる、(固定床反応器に共通の)過熱点の存在は見つけることが困難である。

この事は別として、固定床反応器において、触媒活性の低下は触媒の定期的な(例えば、毎年1回の)交換を必要とする。

もし加工されている生成物が危険性または放射性である場合には、安全性を保障するために、これらの生成物と接触する可動性構成材の交換によって複雑な介入作業が必要となる。

三相反応を行うために現在使用されているその他の反応器の中で、機械攪拌反応器は各相の間に非常に良い接触を与える。しかし、それらは固体触媒の磨耗を促進する。さらに、それらは高いエネルギー消費、および器壁を通過する可動性の構成部材の存在のために密封を施すことに関連した不利益がある。

そのうえ、流動床反応器は一般に物質および熱伝達に関して制限される。それらは反応が強く発熱性である場合に微妙な問題を呈する。さらに、液相の入力流速は比較的低い値に制限される。

さらに、ガスサイフォン型反応器が知られており、それらは立ち上がり管と呼ばれる中心区域および、円筒状隔壁により分離されている下降管とよばれる環状区域から成る。これらの反応器において、液の再循環ループがこの中心区域の下部にガスを注入することにより作り出され、かくしてこの中心区域内で上昇循環をそして環状区域内で下降循環を与える。

現在、この型の反応器は工業的には、廃水の処理、好気性発酵(農作食料分野)および微生物の増殖(医薬品分野)などである非常によく範囲を限定された分野においてのみ使用されている。この装置は大気圧においてまたは穏やかな圧力(5バール未満の)の下で操業される。

概要

加圧下の三相化学反応、例えば、固体触媒の存在で、液体生成物が気体の還元剤により還元される反応、の従来の技術の欠点を克服し、特に補修管理の必要性を減少し、反応の制御が簡単で、そして触媒の挿入、放出および再生を自動化することができるように設計された方法および装置を提供する。

高圧分離器(52)に接続されたガスサイフォン型の反応器(10)を使用する。反応器の圧力の制御は高圧分離器からの液およびガスの流速を調節することにより与えられる。この装置を使用することにより上記の課題を解決し、例えば、白金触媒の存在で水素による硝酸ウラニルの硝酸第一ウランへの還元をおこなうことができる。

目的

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
0件

この技術が所属する分野

ライセンス契約や譲渡などの可能性がある特許掲載中! 開放特許随時追加・更新中 詳しくはこちら

請求項1

一つのガス相および、少なくともその一つは液相である、二つの非ガス相を含む三相化学反応加圧下に実施する方法であり、次の工程:反応器内において、反応器の中心区域の底部へガス相を注入し、かくして前記の中心区域において上昇循環および、円筒隔壁により中央区域より分離されている、反応器の環状区域において下降循環を作り出すことにより、二つの非ガス相を閉ループ内でかつ並流として循環させること、反応器の上部区域において、過剰のガス相と液留分の分離および回収、反応器の外側にある高圧分離器中へ過剰のガス相と液留分を別々に輸送すること、および高圧分離器を離れるガス流速および液の流速の調整による、反応器内の圧力および高圧分離器内の液位の調節、を包含することを特徴とする一つのガス相および、少なくともその一つは液相である、二つの非ガス相を含む三相化学反応を加圧下に実施する方法。

請求項2

該上部区域における液留分は、反応器の環状区域の方向に循環を曲げる、曲面のある壁の後ろに位置する横枝管を通って回収され、そしてその液留分は前記横枝管の入り口で濾過される、請求項1に記載の方法。

請求項3

該ガス相および非ガス相は反応器の内側で冷却される、請求項1に記載の方法。

請求項4

該ガス相および非ガス相は反応器の内側で加熱される、請求項1に記載の方法。

請求項5

還元反応が、固体触媒の存在で、気体還元剤を使用して液体生成物の上で加圧下に行われる、請求項1に記載の方法。

請求項6

次の工程:−液相の放出、−水による反応器の充填、−不活性ガスによる所定時間のスパージング、及び−水の排出、を実施することにより、固体触媒が反応器の内側において周期的に再生される、請求項5に記載の方法。

請求項7

還元反応はシリカ担体上の白金の存在での水素による硝酸ウラニル還元である、請求項5に記載の方法。

請求項8

一つのガス相および、少なくともその一つは液相である、二つの非ガス相を含む三相化学反応を加圧下に実施するための装置であり、前記の装置は、−円筒隔壁により分離されている、中心区域と環状区域、その中心区域の底部へガス相を注入して中心区域において上昇するおよび環状区域において下降する、二つの非ガス相の閉ループでかつ並流の循環を作り出す設備を含む反応器であり、前記の反応器はさらに過剰のガス相と液留分の分離および回収のための上部区域を含む反応器、−分離器中へ過剰のガス相と液留分を別々に輸送するように、反応器の外側にあって反応器の上部区域に接続されている高圧分離器、および−反応器内の圧力および高圧分離器内の液位を調節するように、高圧分離器を離れるガスの流速および液の流速を調整する設備、を包含する三相化学反応を加圧下に実施するための装置。

請求項9

請求項8に記載の装置において、液留分を回収するための横枝管が、反応器の環状区域の方向に循環が曲げられるように、前記の上部区域に取り付けられた曲面のある壁の後ろで反応器の上部区域の中へ出ており、そして前記横枝管への入り口に濾過設備が配置されている、請求項8に記載の装置。

請求項10

冷却設備が少なくとも反応器の円筒隔壁に取り付けられている、請求項8に記載の装置。

請求項11

加熱設備が少なくとも反応器の円筒隔壁に取り付けられている、請求項8に記載の装置。

技術分野

0001

本発明は加圧下の三相化学反応、例えば、固体触媒の存在で、液体生成物気体還元剤により還元される反応、を実施する方法およびそのために設計された装置に関する

0002

本発明は、化学反応が一つのガス相および、少なくともその一つは液相である、二つの非ガス相の存在で行われるすべての場合に適用されることができる。場合により、他方の非ガス相は固体または液体のいずれかである。

0003

一つの好ましい用途は硝酸ウラニル硝酸第一ウランへの還元反応に関するものであり、この場合に還元剤は加圧下の水素であり、そして触媒シリカ担体上の白金からなる。

背景技術

0004

三相化学反応、例えば、触媒の存在で行われる還元反応、は化学反応器の中で行われる。大抵の場合、固定床を有する反応器機械攪拌のある反応器または流動床反応器である。

0005

固定床反応器において、処理されるべき液体生成物および気体還元剤は反応器の内側を上方に並流または向流循環し、固体触媒を通過するが、後者は反応器中の一定のレベル固定式に保持されている。

0006

機械攪拌のある反応器、例えば、流動床反応器、において固体触媒は、反応器の内側で、液相中に懸濁している。

0007

機械攪拌のある反応器において、固体触媒の懸濁は反応器内部に存在する互いに異なる数相の機械的攪拌により与えられる。

0008

流動床反応器の場合には、固体触媒の懸濁をもたらすのは、ある速度許容限界値を超える流体(液体または気体)の移動である。

0009

ある三相化学反応は、加圧下のガス相の存在および強い発熱性の反応のような特別の操業条件により特徴づけられる。硝酸ウラニルの硝酸第一ウランへの還元はこの範疇に属する。それゆえ、水素の圧力は約30バールと約60バールの間であることが好ましい。さらに、その反応は転化されたウラニウムモル当たり33kcalを発生するが、寄生反応を避けるためには約10℃と約20℃の間にあることが好ましい。

0010

現在、加圧下に気体の還元剤を使用するこの種の反応は工業的に固定床反応器において行われている。しかし、この技術はかなりの不利な短所を有する。

0011

したがって、固定床反応器は大きな圧力低下を起こすことがある。なぜならば液体が触媒床および燒結部材を通過しなければならないからである。触媒が高い圧力を受けることを要求するこの現象は、触媒の活性部分がその担体から摩擦により分離されることを促進する。この障害から反応器本体の溶接部および燒結部材の腐食の危険があり、そしてまたこれらは微細離脱した粒子により閉塞される危険を招く。これらの問題を避けるために、触媒を保持する燒結部材を定期的に(例えば、300時間毎に)、同様に反応器本体を(例えば、毎年一度)取り替えることが必要である。

0012

さらに、そのような反応器を操業することは、高温の上部と低音の下部との間に温度勾配をもつことを意味する。還元反応が強度に発熱性である場合に寄生反応を排除するために必要である、中心部における温度を調節することは、比較的多数の(例えば、5個の)センサーが使用されねばならないことを意味する。事実上は、反応性差異に結び付けられる、(固定床反応器に共通の)過熱点の存在は見つけることが困難である。

0013

この事は別として、固定床反応器において、触媒活性の低下は触媒の定期的な(例えば、毎年1回の)交換を必要とする。

0014

もし加工されている生成物が危険性または放射性である場合には、安全性を保障するために、これらの生成物と接触する可動性構成材の交換によって複雑な介入作業が必要となる。

0015

三相反応を行うために現在使用されているその他の反応器の中で、機械攪拌反応器は各相の間に非常に良い接触を与える。しかし、それらは固体触媒の磨耗を促進する。さらに、それらは高いエネルギー消費、および器壁を通過する可動性の構成部材の存在のために密封を施すことに関連した不利益がある。

0016

そのうえ、流動床反応器は一般に物質および熱伝達に関して制限される。それらは反応が強く発熱性である場合に微妙な問題を呈する。さらに、液相の入力流速は比較的低い値に制限される。

0017

さらに、ガスサイフォン型反応器が知られており、それらは立ち上がり管と呼ばれる中心区域および、円筒状隔壁により分離されている下降管とよばれる環状区域から成る。これらの反応器において、液の再循環ループがこの中心区域の下部にガスを注入することにより作り出され、かくしてこの中心区域内で上昇循環をそして環状区域内で下降循環を与える。

0018

現在、この型の反応器は工業的には、廃水の処理、好気性発酵(農作食料分野)および微生物の増殖(医薬品分野)などである非常によく範囲を限定された分野においてのみ使用されている。この装置は大気圧においてまたは穏やかな圧力(5バール未満の)の下で操業される。

発明が解決しようとする課題

0019

本発明の正確な主題は加圧下に三相反応を実施するために設計された方法および装置であり、そしてこの目的に現在まで使用されてきた技術の不利益のすべてを避け、特に補修管理の必要性を少なくし、反応の制御が簡単になり、そして触媒の挿入、放出および再生を自動化することを可能にするように設計された方法および装置である。

課題を解決するための手段

0020

この目的のために、一つのガス相および、少なくともその一つは液相である、二つの非ガス相を含む三相化学反応を加圧下に実施する方法が提案される。前記の方法は次の工程:
−反応器内において、反応器の中心区域の底部へガス相を注入し、かくして前記の中心区域において上昇循環および、円筒隔壁により中央区域より分離されている、反応器の環状区域において下降循環を作り出すことにより、二つの非ガス相を閉ループ内でかつ並流として循環させること、
−反応器の上部区域において、過剰のガス相と、液相の入力流速に対応する液留分の分離および回収
−反応器の外側にある高圧分離器中へ過剰のガス相と液留分を別々に輸送すること、および
−高圧分離器を離れるガスの流速および液の流速の調整による、反応器内の圧力および高圧分離器内の液位の調節、を包含することを特徴とする一つのガス相および、少なくともその一つは液相である、二つの非ガス相を含む三相化学反応を加圧下に実施する方法である。

0021

高圧分離器に接続されたガスサイフォン型の反応器は、その反応器内の圧力および液位を簡単に調節することを可能ならしめ、かつこの型の反応器により与えられる利益が得られるという利点がある。

0022

好ましくは、液留分は反応器の上部区域において、反応器の環状区域の方向に循環を曲げる、曲面のある壁(profiled wall)の後ろに位置する横枝管を通って回収され、そしてその液留分は前記横枝管の入り口の方へ運ばれるすべてあり得る痕跡量固体物質、例えば触媒のような、から濾過される。

0023

使用される反応に従って、ガス相および非ガス相は反応器の内部で冷却されまた加熱される。

0024

本発明の特に好ましい適用において、還元反応が、固体触媒の存在で、気体の還元剤により液体生成物について加圧下に行われる。

0025

好ましくは、本発明の特に好ましい適用において、次の工程、すなわち、
−液相の放出、
−水による反応器の充填
−特定の時間の不活性ガスによるスパージング(sparging)、
−水の排出、などの工程を実施することにより、固体触媒が反応器の内側において周期的に再生される。

0026

本発明は特にシリカ担体上の白金の存在で水素による硝酸ウラニルの還元に関する。

0027

本発明の他の一つの主題は、一つのガス相および、少なくともその一つは液相である、二つの非ガス相を含む三相化学反応を加圧下に実施するための装置であり、前記の装置は、
−円筒隔壁により分離されている、中心区域と環状区域、その中心区域の底部へガス相を注入して中心区域において上昇し環状区域において下降する、二つの非ガス相の閉ループでかつ並流の循環を作り出す設備(means)を含む反応器であり、前記の反応器はさらに過剰のガス相と、液相の入力流速に対応する液留分の分離および回収のための上部区域を含む反応器、
分離器中へ過剰のガス相と液留分を別々に輸送するように、反応器の外側にあって反応器の上部区域に接続されている高圧分離器、および
−反応器内の圧力および高圧分離器内の液位を調節するように、高圧分離器を離れるガスの流速および液の流速を調整する設備、を包含することを特徴とする装置である。

発明を実施するための最良の形態

0028

本発明の好ましい一実施態様を非限定的な例として添付図面を参照して説明する。図1はきわめて線図式に本発明に従って加圧下に還元反応を行うために設計された装置の主なる部分を表す。

0029

この装置は主としてガスサイフォン型の反応器10を含む。反応器10はとりわけ垂直軸を有する円筒の形を実質的に有する外部ジャケット12を含む。ジャケット12は半球形の底12aを、その上の均一な直径の円筒部12bと共に有し、後者は実質上水平な部分12dにより密閉される前に、反応器の上部において12cに広がっている。

0030

反応器10の下部区域14は半球形の底12aに範囲を限られており、液の導入のための区域を構成する。この区域は分配板16により上端を限られており、その分配板は、例えば、多孔質隔壁多孔板または、反応器の中心区域18の中へ液の上方への均一な分配を与えることができる同等な装置である。液の下部区域14の中への注入は底12aを通過する少なくとも一本の管20により与えられる。

0031

分配板16の上に位置する反応器10の部分は均一な直径のジャケット12の円筒部12bにより外側を限られている。それは中心区域18およびこの中心区域を囲みかつ円筒隔壁24によりそれから分離されている、均一な直径の、反応器の垂直軸を中心とする、環状区域22を含む。円筒隔壁24の下端は流体の再循環許すために分配板16の上面から十分な間隔をおいて配置されている。分配板16は、液の通過を許しかつ触媒粒子の下部区域14への漏れを防ぐ燒結部品により構成されることができる。

0032

一般にガスは反応器10の中に、中心区域18の下部の中へ上向きに突き出している管26を通り、ノブのような形をした、多孔のまたは燒結した頂冠のような分配装置28を通って導入される。分配装置28から出てきて中心区域18の中へ上向きに通過するガスは図1に矢印F2により表されている。

0033

円筒隔壁24の上端は実質的に反応器の外部ジャケット12の張り出し部分12cの底のレベルに位置する。張り出し部分12cの内側に位置する反応器の上部区域30は解放の区域を形成する。この区域の中で、液とガスの分離が起こり、同時にそれらの各々の別々の回収が始まる。

0034

さらに詳細にそれを説明すると、この帯域内の液のレベルNの下で、上部区域30の中に水平に出ている横枝管32を通って液留分が回収される。

0035

図2においてさらに詳細に図解されているように、横枝管32は曲面のある壁34の後ろで上部区域30の中に出ている。この壁34は反応器の垂直軸を中心とし、かつ外部ジャケット12の上部張り出し部分12cに内側で、それからある距離を取りそしてその高さの大部分にわたって、重なり合っている。したがって、曲面のある壁34の上端は外部ジャケット12の実質上水平な部分12dから間隔があいている。そのうえ、曲面のある壁34の下部34aは、上部区域30内に到着する液−固体混合物の循環を、この混合物下降流を環状区域22の中で可能ならしめるように、下方に曲げる漏斗またはホッパーを形成する。

0036

持ち越されることがある、固体触媒の粒子を保持することを意図し、フイルター36が横枝管32への入り口に、反応器のジャケット12の張り出した上部12cのレベルに配置されている。図2においてより良く図解されているように、このフイルター36は、通常横枝管32の中に密封式で収容された、取り外しできる管状支持体38に取り付けられている。密封は、例えば、0−リングシール40により施される。横枝管32を通って集められた液は、管状支持体38の中に形成された孔44にはめ込まれた、越流(overflow)管42を通って反応器を離れる。この孔44の底は反応器10の上部区域30内の液位Nを決定する。

0037

そのうえ、上部区域30内の液から分離された、過剰のガスの脱気が、反応器10の外部ジャケット12の実質上水平な部分12dを通過する上方に向いた枝管46を通して、行われる。枝管46を通って反応器から逃れるガスは管48を通って排出され、後者の管への入り口に泡除去装置50をはめ込むことができる。

0038

もう一度図1を参照すると、前記の装置はさらに、反応器10の外側に、その中へ管42と48がそれぞれ反応器から来る液相とガス相を運びながら出ている高圧分離器52を有している。さらに正確に言えば、横枝管32と高圧分離器52の相対的配置は、反応器10を離れる液相が重力でその分離器へ流れ込むようになっている。

0039

高圧分離器52からの液相は重力の下に、バルブ56により制御された管54を通って、その底へ流れ込む。

0040

そのうえ、分離器52からのガス相は、バルブ60により制御された管58を通って、その頂上部から流れ出る。

0041

この配置は反応器10内および高圧分離器52内の圧力および液位を、バルブ56と60の両者を作動することにより、効率良く制御することを可能にする。

0042

この装置の使い方を以後、シリカ担体上の白金からなる触媒の存在で、水素による硝酸ウラニルの硝酸第一ウランへの加圧下の還元に関して説明しよう。

0043

触媒は、中心区域18の上で、反応器のジャケット12の実質上水平な部分12dを通って下方向に出ている管62を通って反応器10に導入される。

0044

還元されるべき硝酸ウラニルから構成され、考えられる用途においては硝酸と混合された、液は、管20を通って、反応器に連続的に導入される。

0045

さらに、水素が管26を通って加圧下に連続的に導入される。このガスは三つの作用を有する。すなわち、
−装置内に圧力を提供する、
−反応器の内側における流体の良好な循環を確保する、
−化学反応を与える、などの作用である。

0046

ここに述べられている用途の場合には、その化学反応はガスの小部分を消費するに過ぎない。その場合、図1に図解されているように、反応器10からの出口に、管48の上に位置する枝管より、過剰のガスを管64を通り、再循環装置66を通過させて、ガスを導入するための管26へ、循環させることが有利である。

0047

水素注入流速(矢印F1)は、圧力に依存するが、図1に矢印F3が示すように、反応器の中心区域18において液のおよび固体触媒の上昇循環を作り出すために十分なものである。それにも拘わらずその流速は、フィルター36を閉塞する危険があるようなあまりに多くの固体粒子をそれと共に運びながら液留分が反応器を離れて行くことを防ぐために、制限されなければならない。

0048

このようにして中心区域内で循環している流体は上部区域30の中へ通るとき、その液の大部分および固体触媒の全部が再循環される。したがってそれらは環状区域22の中へ、矢印F4により示されているように、下降する。このようにして反応器10の内側に作り出された閉ループ循環は、固体触媒が反応器全体の中に分散されるので、硝酸ウラニルの還元を促進する。

0049

還元反応が最良の条件下に起こるためには、好ましくは約30バールと約60バールの間にあるレベルに水素圧力を保つことが重要である。上部区域30内の液のレベルNは越流管42のレベルに自動的に維持される。

0050

本発明に従えば、反応器10内の圧力および高圧分離器52内のレベルを維持することはバルブ56と60の両者を作動することにより好能率的に達成される。それらの調整はこのようにして反応器内の圧力の制御を効果的に可能ならしめる。なぜならば、レベル測定値および圧力測定値の変動は反応器と比較して分離器52においては減少されるからである(反応器内のレベルと圧力の変動はガスによって生ずる泡立ちによるものである)。

0051

硝酸ウラニルの還元は強い発熱反応である。寄生反応の発生を防止するために、それゆえ反応器10内の温度を好ましくは約10℃と約20℃の間のレベルに維持することが望ましい。

0052

この結果は外部ジャケット12と円筒状隔壁24に冷却装置を取り付けることにより容易に得ることができる。これらの冷却装置は特に二重ジャケットを有する構造内で水のような冷蔵用液の循環を含むことができよう(図1)。

0053

硝酸ウラニルの還元以外の反応の場合には、これに反して、外部ジャケット12と円筒状隔壁24はまた反応媒体を加熱する設備を取り付けられることもある。

0054

触媒活性が比較的低い場合には、分配板16のすぐ上に取り付けられている放出管68を通してそれを自動的に放出するか、または反応器10の内側で行われる触媒再生へと進むことができる。

0055

後者の場合には、再生は反応器内に収容されているすべての液を反応器の底にはめ込まれた排液管(図に示されていない)を通して排出することにより行われる。この排液管は液を導入するため使用される管20と共通に役割を果たすことができるかまたはまったくそれから分離されることもある。

0056

反応器は次に水を充填される。水の注入は反応器の下部14において管20を通してかまたは別の管を通して行われる。

0057

次に一定時間の間のスパージング作業に進み、ここで考えられている用途の場合には窒素のような不活性ガスを使用して行われる。そのガスは管26と装置28を通って反応器に注入される。この時間はここで考えられている用途のためには約半時間とすることができる。

0058

水は次に放出され、そして反応器は再び始動されることができる。

発明の効果

0059

触媒の取り扱いに係わるこれらの利点に加えて、上記の装置は反応器の保全運転の両者を簡素化することを可能にする。

0060

実際に、反応器10がガスサイフォン型であると言う事実において、触媒は液により輸送される。したがってそれはいかなる機械的圧力も受けない。触媒の再生または交換以外の他の作業は必要でない。

0061

そのうえ、ガスサイフォン型の反応器の使用は中心区域18と環状区域22の間に閉ループ循環を与えることを可能にする。これら二つの部分の間に流体の密度の差により誘導される、この循環は、二つのセンサーを使用するのみの、特に簡単な方式で媒体の温度を制御することを可能にする良好な熱的均一性を作り出す。

0062

理解されねばならないことは、本発明は上記に述べられた実施態様に制約されないで、当業者に直ちに受け入れられる全ての変形を含むことである。特に、すでに述べられたように、本発明による方法および装置はガス相、液相および、場合により、液体または固体であり得る、第三の相の存在におけるすべての加圧下の三相化学反応を実施するために用いられることができる。したがって、本発明は、例えば、キャリヤガスにより加速される液−液化学反応を実施するために、または酸素雰囲気の下における、酸媒体中の、鉱石、例えばウラニウム鉱石、の酸化反応を実施するために用いられることができる。

図面の簡単な説明

0063

図1本発明に合致する一つの装置を線図により表している部分断面図である。
図2図1の反応器の上部区域を示す拡大した断面図である。

--

0064

10反応器
12ジャケット
14 下部区域
16分配板
18中心区域
20 管
22環状区域
24円筒隔壁
26 管
28分配装置
30 上部区域
32横枝管
34曲面のある壁

ページトップへ

この技術を出願した法人

この技術を発明した人物

ページトップへ

関連する挑戦したい社会課題

関連する公募課題

ページトップへ

おススメ サービス

おススメ astavisionコンテンツ

新着 最近 公開された関連が強い技術

  • 株式会社アサカ理研の「 金属酸化物の製造方法」が 公開されました。( 2020/09/24)

    【課題】焼成後の金属酸化物のフッ素の残留量を十分に少なくすることができる金属酸化物の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の金属酸化物の製造方法は、炉内の発熱体6を備える壁面4を除く他の少なくとも1つ... 詳細

  • 株式会社アサカ理研の「 加熱炉」が 公開されました。( 2020/09/24)

    【課題】焼成後の酸化タンタルのフッ素の残留量を十分に少なくすることができる加熱炉の提供。【解決手段】加熱炉1は、フッ素を含有する金属水酸化物の焼成に用いられるものであり、炉内の発熱体を備える壁面4を除... 詳細

  • アイメック・ヴェーゼットウェーの「 多孔質固体材料及び製造方法」が 公開されました。( 2020/09/24)

    【課題・解決手段】規則的な回路網を形成する相互接続された複数のワイヤ(101,102)を含む多孔質固体材料が提供される。多孔質固体材料(100)は、2m2/cm3〜90m2/cm3の範囲の所定の体積表... 詳細

この 技術と関連性が強い人物

関連性が強い人物一覧

この 技術と関連する社会課題

関連する挑戦したい社会課題一覧

この 技術と関連する公募課題

関連する公募課題一覧

astavision 新着記事

サイト情報について

本サービスは、国が公開している情報(公開特許公報、特許整理標準化データ等)を元に構成されています。出典元のデータには一部間違いやノイズがあり、情報の正確さについては保証致しかねます。また一時的に、各データの収録範囲や更新周期によって、一部の情報が正しく表示されないことがございます。当サイトの情報を元にした諸問題、不利益等について当方は何ら責任を負いかねることを予めご承知おきのほど宜しくお願い申し上げます。

主たる情報の出典

特許情報…特許整理標準化データ(XML編)、公開特許公報、特許公報、審決公報、Patent Map Guidance System データ