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図面 (6)

課題

カラーフィルタ間隙保持用柱に対するそれぞれの材料選択の自由度を高め、対向基板側の重量を低減して面押しに対する強度性を向上させ、さらに液晶組成物への不純物混入を防止する。

解決手段

間隙保持用柱111a、111bとカラーフィルタ115a、115bとが異なる材料で形成されており、それぞれの特性に応じた材料の選択が可能である。また、間隙保持用柱111a、111bがアレイ基板101a、101b側に設けられており、対向基板112a、112bの重量が低減されるので、対向基板側からの面押しに対して強度性が高い。さらに、カラーフィルタ115a、115bの表面が対向電極116a、116bで完全に覆われており、液晶組成物119a、119bに不純物が混入することがなく、特性の劣化が防止される。

概要

背景

近年、パーソナルコンピュータ等のOA機器ディスプレイとして、大型で高精細表示装置の開発が進められている。

特にマトリクス状に配置された画素毎にスイッチング素子を備えるアクティブマトリクス型液晶表示装置は、隣接する画素間でクロストークのない高コントラストな表示が可能であることから、OA機器用ディスプレイとして注目を集めている。スイッチング素子としては、絶縁基板上に形成する薄膜トランジスタ(以下、TFTという)が通常用いられている。TFTは、ゲート電極半導体薄膜ソース電極ドレイン電極の相対的な位置関係により、スタガード型とコプラナ型とに大きく分類される。

また、半導体薄膜としては、非晶質シリコン薄膜多結晶シリコン薄膜とが用いられており、前者がスタガード型TFTに用いられ、後者がコプラナ型TFTに用いられることが多い。

一般に、液晶表示装置は図3乃至図5に示されるような2枚の基板を備えている。ここで、図3におけるA−A線に沿う縦断面を図4に示す。TFTと画素電極とがマトリクス状に形成されたアレイ基板301a及び301bの上面に、対向電極が形成された対向基板312a及び312bとが対向配置されている。ここで、アレイ基板301a及び対向基板312aは液晶表示装置の最終外形に対応し、基板301b及び基板312bはその周辺領域に相当する。

従来の液晶表示装置の構成として、図3におけるB−B線に沿う周辺領域の縦断面構造を図5(a)に示し、C−C線に沿う画像表示領域の縦断面構造を図5(b)に示す。

画像表示領域において、絶縁基板302aのー主面上に半導体層303を有するTFTが形成されている。半導体層303の両端にソースドレイン領域が形成され、その間にチャネル領域が存在する。

半導体層303が形成された後、ゲート絶縁膜304aが形成されている。ゲート絶縁膜304a上に、走査線に相当する行選択線305aとこの行選択線305aと一体のゲート電極306とが形成されている。

行選択線305a及びゲート電極306上を覆うように、層間絶縁膜307aが形成されている。層間絶縁膜307aとゲート絶縁膜304aにおいて、半導体層303のソース、ドレイン領域上にヴィアホール開孔されており、ソース電極、ドレイン電極308、図示されていない信号線に対応する列選択線が形成されている。層間絶縁膜307a上に、例えばシリコン窒化膜から成る表面保護用絶縁膜309aが形成されている。

この表面保護用絶縁膜309a上において、ソース電極、ドレイン電極308の一方と接続された状態で、インジウム錫酸化膜等の透明なITO膜から成る画素電極310が形成されている。画素電極310と表面保護用絶縁膜309aを覆うように、例えばポリイミドから成る配向膜317aが形成されている。

周辺領域において、絶縁基板302b上にゲート絶縁膜304bが形成され、その表面上にダミー行選択線305bが形成され、ゲート絶縁膜304b及びダミー行選択線305bを覆うように層間絶縁膜307b、表面保護用絶縁膜309b、配向膜317bが順に形成され、画像表示領域と略同一の高さを有している。

一方、対向基板は次のような構成を備えている。画像表示領域において、絶縁基板313aのー主面上に画素開口部以外の領域を覆うように遮光膜314aが形成され、さらに画素開口部に対応してカラーフィルタ315Ra(赤)、315Ga(緑)、315Ba(青)がそれぞれ形成され、その表面上に例えばITO膜から成る対向電極316aが形成され、さらに表面上に配向膜318aが形成されている。

さらに対向基板側において、アレイ基板側における画素開口部以外の位置に、カラーフィルタ315Ga及び315Baから成る間隙保持用柱が形成されている。この間隙保持用柱は、対向基板とアレイ基板との間隙を一定に保持するために設けられる。

対向基板の周辺領域において、画像表示領域と同様に、絶縁基板313b上に遮光膜314b、カラーフィルタ315Rb、対向電極316b、配向膜318bが形成されている。さらに、所定間隔を空けてカラーフィルタ315Rbと対向電極316bとの間に、カラーフィルタ315Ga及び315Baから成る間隙保持用柱が形成されている。

アレイ基板側の配向膜317a、317bと、対向基板側の配向膜318a、318bに配向処理が施された後、周辺部にシール剤が塗布され、導電性材料からなるトランスファ材滴下され、アレイ基板上の間隙保持用柱によって所望の間隙を保ちつつ両基板が張り付けられ組み立てられる。両基板の間液晶組成物319aが注入され、両基板の外側表面に偏光板320a、321aがそれぞれ張り付けられて、液晶表示装置が得られる。

ここで、対向電極316aは、トランスファ材を介して図示されていない引き出し配線と接続された状態で外部に取り出されており、アレイ基板上の行選択線及び列選択線と同様に外部から電気的に駆動することが可能である。

概要

カラーフィルタと間隙保持用柱に対するそれぞれの材料選択の自由度を高め、対向基板側の重量を低減して面押しに対する強度性を向上させ、さらに液晶組成物への不純物混入を防止する。

間隙保持用柱111a、111bとカラーフィルタ115a、115bとが異なる材料で形成されており、それぞれの特性に応じた材料の選択が可能である。また、間隙保持用柱111a、111bがアレイ基板101a、101b側に設けられており、対向基板112a、112bの重量が低減されるので、対向基板側からの面押しに対して強度性が高い。さらに、カラーフィルタ115a、115bの表面が対向電極116a、116bで完全に覆われており、液晶組成物119a、119bに不純物が混入することがなく、特性の劣化が防止される。

目的

本発明は上記事情に鑑み、カラーフィルタと間隙保持用柱に対するそれぞれの材料選択の自由度を高め、対向基板側の重量を低減して面押しに対する強度性を向上させるとともに、液晶組成物に不純物が混入して特性が劣化することを防止することが可能な液晶表示装置を提供することを目的とする。

効果

実績

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請求項1

絶縁基板上に少なくともカラーフィルタ対向電極とが形成された対向基板と、絶縁基板上に少なくとも、複数の行選択線及び列選択線が交差するように形成され、前記行選択線と前記列選択線とが交差する箇所に画素電極薄膜トランジスタとが形成され、前記対向基板との間隙を保持する間隙保持用柱が一体形成されたアレイ基板と、前記アレイ基板と前記対向基板とが対向配置された間に挟持された液晶組成物と、を備え、前記対向基板側を視認面とすることを特徴とする液晶表示装置

請求項2

前記アレイ基板上における画像表示領域とその周辺領域とにおいて、前記間隙保持用柱がそれぞれ形成されていることを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。

請求項3

前記アレイ基板上の前記画像表示領域と前記周辺領域とにそれぞれ形成された前記間隙保持用柱は、同ー工程において形成されたものであることを特徴とする請求項2記載の液晶表示装置。

請求項4

前記カラーフィルタの表面が、透明電極から成る前記対向電極により覆われていることを特徴とする請求項1乃至3記載のいずれかに記載された液晶表示装置。

請求項5

前記透明電極上に配向膜が配置されることを特徴とする請求項4記載の液晶表示装置。

請求項6

請求項2記載の周辺領域は、前記アレイ基板と前記対向基板とを貼り合わせるシール領域外であることを特徴とする液晶表示装置。

請求項7

請求項2記載の周辺領域は、前記アレイ基板と前記対向基板とを貼り合わせるシール領域内であって有効表示領域外であることを特徴とする液晶表示装置。

技術分野

0001

本発明は液晶表示装置に係わり、特に薄膜トランジスタアクティブ素子として用いたアクティブマトリクス型液晶表示装置に好適なものに関する。

背景技術

0002

近年、パーソナルコンピュータ等のOA機器ディスプレイとして、大型で高精細表示装置の開発が進められている。

0003

特にマトリクス状に配置された画素毎にスイッチング素子を備えるアクティブマトリクス型液晶表示装置は、隣接する画素間でクロストークのない高コントラストな表示が可能であることから、OA機器用ディスプレイとして注目を集めている。スイッチング素子としては、絶縁基板上に形成する薄膜トランジスタ(以下、TFTという)が通常用いられている。TFTは、ゲート電極半導体薄膜ソース電極ドレイン電極の相対的な位置関係により、スタガード型とコプラナ型とに大きく分類される。

0004

また、半導体薄膜としては、非晶質シリコン薄膜多結晶シリコン薄膜とが用いられており、前者がスタガード型TFTに用いられ、後者がコプラナ型TFTに用いられることが多い。

0005

一般に、液晶表示装置は図3乃至図5に示されるような2枚の基板を備えている。ここで、図3におけるA−A線に沿う縦断面を図4に示す。TFTと画素電極とがマトリクス状に形成されたアレイ基板301a及び301bの上面に、対向電極が形成された対向基板312a及び312bとが対向配置されている。ここで、アレイ基板301a及び対向基板312aは液晶表示装置の最終外形に対応し、基板301b及び基板312bはその周辺領域に相当する。

0006

従来の液晶表示装置の構成として、図3におけるB−B線に沿う周辺領域の縦断面構造図5(a)に示し、C−C線に沿う画像表示領域の縦断面構造を図5(b)に示す。

0007

画像表示領域において、絶縁基板302aのー主面上に半導体層303を有するTFTが形成されている。半導体層303の両端にソースドレイン領域が形成され、その間にチャネル領域が存在する。

0008

半導体層303が形成された後、ゲート絶縁膜304aが形成されている。ゲート絶縁膜304a上に、走査線に相当する行選択線305aとこの行選択線305aと一体のゲート電極306とが形成されている。

0009

行選択線305a及びゲート電極306上を覆うように、層間絶縁膜307aが形成されている。層間絶縁膜307aとゲート絶縁膜304aにおいて、半導体層303のソース、ドレイン領域上にヴィアホール開孔されており、ソース電極、ドレイン電極308、図示されていない信号線に対応する列選択線が形成されている。層間絶縁膜307a上に、例えばシリコン窒化膜から成る表面保護用絶縁膜309aが形成されている。

0010

この表面保護用絶縁膜309a上において、ソース電極、ドレイン電極308の一方と接続された状態で、インジウム錫酸化膜等の透明なITO膜から成る画素電極310が形成されている。画素電極310と表面保護用絶縁膜309aを覆うように、例えばポリイミドから成る配向膜317aが形成されている。

0011

周辺領域において、絶縁基板302b上にゲート絶縁膜304bが形成され、その表面上にダミー行選択線305bが形成され、ゲート絶縁膜304b及びダミー行選択線305bを覆うように層間絶縁膜307b、表面保護用絶縁膜309b、配向膜317bが順に形成され、画像表示領域と略同一の高さを有している。

0012

一方、対向基板は次のような構成を備えている。画像表示領域において、絶縁基板313aのー主面上に画素開口部以外の領域を覆うように遮光膜314aが形成され、さらに画素開口部に対応してカラーフィルタ315Ra(赤)、315Ga(緑)、315Ba(青)がそれぞれ形成され、その表面上に例えばITO膜から成る対向電極316aが形成され、さらに表面上に配向膜318aが形成されている。

0013

さらに対向基板側において、アレイ基板側における画素開口部以外の位置に、カラーフィルタ315Ga及び315Baから成る間隙保持用柱が形成されている。この間隙保持用柱は、対向基板とアレイ基板との間隙を一定に保持するために設けられる。

0014

対向基板の周辺領域において、画像表示領域と同様に、絶縁基板313b上に遮光膜314b、カラーフィルタ315Rb、対向電極316b、配向膜318bが形成されている。さらに、所定間隔を空けてカラーフィルタ315Rbと対向電極316bとの間に、カラーフィルタ315Ga及び315Baから成る間隙保持用柱が形成されている。

0015

アレイ基板側の配向膜317a、317bと、対向基板側の配向膜318a、318bに配向処理が施された後、周辺部にシール剤が塗布され、導電性材料からなるトランスファ材滴下され、アレイ基板上の間隙保持用柱によって所望の間隙を保ちつつ両基板が張り付けられ組み立てられる。両基板の間液晶組成物319aが注入され、両基板の外側表面に偏光板320a、321aがそれぞれ張り付けられて、液晶表示装置が得られる。

0016

ここで、対向電極316aは、トランスファ材を介して図示されていない引き出し配線と接続された状態で外部に取り出されており、アレイ基板上の行選択線及び列選択線と同様に外部から電気的に駆動することが可能である。

発明が解決しようとする課題

0017

しかし、従来の液晶表示装置には次のような問題があった。

0018

第1に、対向基板側に間隙保持用柱を形成しているので、対向基板側の重量が大きかった。図5において矢印Xで示された方向から人間が見る場合、対向基板が視認側であって、アレイ基板の上部に位置することになる。操作者によっては、装置を使用している最中に、対向基板の表面を指やポインティングデバイス等で、いわゆる面押しを行うことがある。このような場合に、対向基板側の重量が大きいと面押しに対する強度性が低く、装置としての信頼性や表示品質を損なうおそれがある。

0019

第2に、カラーフィルタや間隙保持用柱が特に周辺領域においてITO膜等により完全に覆われておらず、露出していた。この間隙保持用柱はカラーフィルタと同一材料で形成されているが、この材料に含まれる成分が液晶組成物319bに製造途中等に不純物として混入して材料特性劣化させる場合がある。

0020

第3に、カラーフィルタ315R、315G、315Bを用いて間隙保持用柱を形成しているので、カラーフィルタの材料選択における自由度が低かった。即ち、カラーフィルタとして必要な材料の特性と、間隙保持用柱として必要な材料特性とは一致しておらず、両者を同一の材料で形成することにより材料の選択の幅を狭めていた。

0021

本発明は上記事情に鑑み、カラーフィルタと間隙保持用柱に対するそれぞれの材料選択の自由度を高め、対向基板側の重量を低減して面押しに対する強度性を向上させるとともに、液晶組成物に不純物が混入して特性が劣化することを防止することが可能な液晶表示装置を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

0022

本発明の液晶表示装置は、絶縁基板上に少なくともカラーフィルタと対向電極とが形成された対向基板と、絶縁基板上に少なくとも、複数の行選択線及び列選択線が交差するように形成され、前記行選択線と前記列選択線とが交差する箇所に画素電極と薄膜トランジスタとが形成され、前記対向基板との間隙を保持する間隙保持用柱が一体形成されたアレイ基板と、前記アレイ基板と前記対向基板とが対向配置された間に挟持された液晶組成物とを備え、前記対向基板側を視認面とすることを特徴としている。

0023

ここで、前記アレイ基板上における画像表示領域とその周辺領域との両方の領域において、前記間隙保持用柱がそれぞれ形成されていることが望ましい。

0024

また、アレイ基板上の前記画像表示領域と前記周辺領域とにそれぞれ形成された前記間隙保持用柱は、同ー工程において形成されたものであってもよい。

0025

前記カラーフィルタの表面は、透明電極から成る前記対向電極によって覆われていることが望ましい。

0026

前記透明電極上に配向膜が配置されていてもよい。

0027

さらに、前記周辺領域は、前記アレイ基板と前記対向基板とを貼り合わせるシール領域外であってもよく、あるいはシール領域内であって有効表示領域外であってもよい。

発明を実施するための最良の形態

0028

以下に、本発明のー実施の形態について図面を参照して説明する。本発明の第1の実施の形態による液晶表示装置は、図1に示されたような構成を備えている。ここで、画像表示領域における縦断面を図1(b)に示し、周辺領域における縦断面を図1(a)に示す。さらに、この液晶表示装置では矢印Xの方向から人間が見るものとし、対向基板が視認側に相当する。

0029

画像表示領域のアレイ基板101a側において、絶縁基板102aのー主面上に半導体層103を有するTFTが形成されている。半導体層103は、例えば非単結晶シリコンから成り、半導体層103の両端にソース、ドレイン領域が形成され、その間にチャネル領域が存在する。

0030

半導体層103が形成された後、例えばシリコン酸化膜から成るゲート絶縁膜104aが形成される。ゲート絶縁膜104a上に、例えばMo、Cr、Wといった高融点金属材料単体、あるいは合金状態で形成された走査線に相当する行選択線105aと、ゲート電極106とが形成されている。

0031

ゲート電極106上を覆うように、層間絶縁膜107aが形成されている。層間絶縁膜107aとゲート絶縁膜104aにおいて、半導体層103のソース、ドレイン領域上にヴィアホールが開孔されており、ソース電極、ドレイン電極108と、図示されていない信号線に対応する列選択線とが形成されている。層間絶縁膜107a上において、ソース電極、ドレイン電極108の一方と接続された状態で、ITO膜等から成る画素電極109が形成されている。

0032

層間絶縁膜107a、ソース電極及びドレイン電極108、画素電極109の周辺部を覆うように、例えばシリコン窒化膜から成る表面保護用絶縁膜110aが形成されている。

0033

さらに、表面保護用絶縁膜110a上の画素開口部以外の領域において、例えばアクリル系樹脂から成る間隙保持用柱111aが形成されている。従来は、図5に示されたように対向基板側にカラーフィルタと同一材料で間隙保持用柱が形成されていた。これに対し、本実施の形態ではアレイ基板101a側において、カラーフィルタ115aとは異なる材料により間隙保持用柱111aが形成されている。表面保護用絶縁膜110aと画素電極109の多くの部分、また間隙保持用柱111aの表面を覆うように、例えばポリイミドから成る配向膜117aが形成されている。

0034

周辺領域における基板101b上において、絶縁基板102b上にゲート絶縁膜104bが形成され、その表面上にダミー行選択線105bが形成され、ゲート絶縁膜104b及びダミー行選択線105bを覆うように層間絶縁膜107bと表面保護用絶縁膜110bが順に形成されている。画像表示領域におけるアレイ基板101a上の表面保護用絶縁膜110aと、周辺領域におけるアレイ基板101b上の表面保護用絶縁膜110bとは、それぞれ同一工程で作成され略同一の高さを有している。

0035

そして、周辺領域の基板101bにおいても、表面保護用絶縁膜110b上に所定間隔を空けて間隙保持用柱111bが形成されている。この間隙保持用柱111bは、画像表示領域のアレイ基板101aにおける間隙保持用柱111aと同一の工程により同一材料で略同一の高さとなるように形成される。

0036

対向基板側は、次のような構成を備えている。画像表示領域の対向基板112a側において、絶縁基板113aのー主面上に画素開口部以外の領域を覆うように遮光膜114aが形成され、さらに画素開口部にカラーフィルタ115aが形成されている。カラーフィルタ115aは、例えば赤、緑、青色の色材で構成されている。カラーフィルタ115aの表面上に、例えばITO膜から成る対向電極116aが形成されている。ここで、カラーフィルタ115aの表面は対向電極116aで完全に覆われている。さらに対向電極116aの表面上には、例えばポリイミドから成る配向膜118aが形成されている。

0037

周辺領域の基板112bにおいて、画像表示領域と同様に、絶縁基板113b上に遮光膜114b、カラーフィルタ115b、対向電極116b、配向膜118bが形成されている。

0038

アレイ基板側の配向膜117a、117bと、対向基板側の配向膜118a、118bに配向処理を施した後、周辺部にシール剤を塗布し、導電性材料からなるトランスファ材を滴下し、アレイ基板上の間隙保持用柱によって所望の間隙を保ちつつ両基板を張り付けて組み立てを行う。両基板の間に液晶材料119aの注入を行い、両基板の外側表面に偏光板120、121をそれぞれ張り付けて、液晶表示装置が得られる。

0039

ここで、対向電極116aは、トランスファ材を介して図示されていない引き出し配線と接続された状態で外部に取り出されており、アレイ基板上の行選択線及び列選択線と同様に外部から電気的に駆動することが可能である。

0040

上記構成を備えた本実施の形態によれば、次のような作用、効果が得られる。第1に、従来の装置ではカラーフィルタと同ー材料を用いて間隙保持用柱を形成しているため、カラーフィルタ及び間隙保持用柱の材料選択に関して自由度が低かった。これに対し、本実施の形態では対向基板上に設けるカラーフィルタ115a、115bと、アレイ基板上に設ける間隙保持用柱111a、111bとを異なる工程で形成するため、それぞれに最適な材料を選択することが可能である。よって、カラーフィルタと間隙保持用柱のそれぞれの材料を自由に選択することができる。

0041

第2に、従来は対向基板側に間隙保持用柱を形成していたので、対向基板側の重量が大きい。よって、矢印Xで示された方向から人間が面押しを行った場合に、対向基板側の強度性が低く、装置としての信頼性や表示品質を損なうおそれがあった。本実施の形態では、間隙保持用柱111a、111bをアレイ基板側に設けているので、対向基板側の重量が軽く面押しに対する強度性が高い。このため、信頼性及び表示品質を向上させることができる。

0042

第3に、カラーフィルタ115a、115bの表面が対向電極116a、116bによって完全に覆われているので、不純物が液晶組成物119aに混入せず、特性の劣化が防止される。

0043

次に、上記本実施の形態による液晶表示装置を耐環境試験にかけた結果について述べる。温度が摂氏60度、湿度90%という環境において、本装置を約500時間動作させた。この場合の表示不良の発生率は、0%であった。これより、本実施の形態による液晶表示装置は、優れた耐環境性を有することがわかった。上述した第1の実施の形態では、最終外形の外方に位置する領域について説明したが、シール部材領域内であって有効表示領域外の周辺領域においても液晶組成物が存在する他は同様の構成を有している。

0044

本発明の第2の実施の形態による液晶表示装置は、図2に示されるような構成を備えている。本実施の形態は、上記第1の実施の形態と比較し、画像表示領域のアレイ基板201a上における画素電極209が相違する。即ち、第1の実施の形態における画素電極109は、層間絶縁膜107a上においてソース、ドレイン電極108の一方と接続するように形成されている。

0045

これに対し、第2の実施の形態では、画素電極209が表面保護用絶縁膜210a上に形成されている点が相違する。他の構成は第1の実施の形態と同様であり、同一の要素に対しては同一の番号を付して説明を省略する。そして、第2の実施の形態においても上記第1の実施の形態と同様に、カラーフィルタと間隙保持用柱のそれぞれの材料選択の自由度が高く、また対向基板の重量が軽く面押しに対して高い強度性が得られ、さらにカラーフィルタから液晶組成物に不純物が混入することが防止される。

0046

また、上述した実施の形態はいずれも視認側にカラーフィルタが形成されるので、観察者はカラーフィルタの色を直接見ることとなり、色再現性に優れている。

0047

上述した実施の形態はいずれもー例であり、本発明を限定するものではない。例えば、例えばアレイ基板、TFT、画素等の構造、構成材料、並びに対向基板、遮光膜等の構造、構成材料等に関し、必要に応じて種々の変形を施すことが可能である。

発明の効果

0048

以上説明したように、本発明の液晶表示装置によれば、間隙保持用柱がアレイ基板側に形成され、カラーフィルタが対向基板に配置されており、間隙保持用柱とカラーフィルタのそれぞれの材料を要求される特性に応じて自由に選択することができ、また対向基板側の重量が低減されて面押しに対する強度性が高く、信頼性及び表示品質を向上させることができる。

図面の簡単な説明

0049

図1本発明の第1の実施の形態による液晶表示装置の画像領域及び周辺領域における構造を示した縦断面図。
図2本発明の第2の実施の形態による液晶表示装置の画像領域及び周辺領域における構造を示した縦断面図。
図3本発明を適用することが可能な液晶表示装置におけるアレイ基板と対向基板との配置及び画像表示領域と周辺領域の配置を示す説明図。
図4図3におけるA−A線に沿う縦断面を示す縦断面図。
図5従来の液晶表示装置の画像領域及び周辺領域における構造を示した縦断面図。

--

0050

101a、101b、201a、201bアレイ基板
102a、102b絶縁基板(アレイ基板側)
103半導体層
104a、104bゲート絶縁膜
105a、105b行選択線(走査線)
106ゲート電極
107a、107b層間絶縁膜
108、208ソース電極、ドレイン電極
109、209画素電極
110a、110b、210a、210b表面保護用絶縁膜
111a、11lb間隙保持用柱
112a、112b対向基板
113a、113b 絶縁基板(対向基板)
114a、114b遮光膜
115a、115bカラーフィルタ
116a、116b対向電極
117a、117b、217a、217b、118a、118b、218a、218b配向膜
119a、119b 液晶材料

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  • 信越エンジニアリング株式会社の「 貼合デバイスの貼り合わせ装置及び貼り合わせ方法並びに貼合デバイス」が 公開されました。( 2020/10/29)

    【課題】封入空間に対するフィル材の供給量を多くしても、フィル材の伸展圧力でシールが決壊せず、複数の素子の有効封止領域をフィル材より無気泡で封止する貼り合わせ装置を提供する。【解決手段】複数の素子Eが配... 詳細

  • 凸版印刷株式会社の「 調光シートおよび合わせガラス」が 公開されました。( 2020/10/29)

    【課題】シール剤による防水機能の向上に加えて、意匠性を向上させる上でも有効な周縁シール部の構成を提案し、特に調光シートを合わせガラスの形態とする上で周縁シール部の構造に起因する外観不良が生じてしまう実... 詳細

  • 凸版印刷株式会社の「 調光ユニット」が 公開されました。( 2020/10/29)

    【課題】調光シートと可撓性給電手段(FPC)の接合構造を改良することで、FPCに応力が掛かった場合であっても接続箇所の損傷を防止することができ、接合の信頼性を向上可能な調光ユニットの構成を提示する。【... 詳細

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