図面 (/)

この項目の情報は公開日時点(2000年3月3日)のものです。
また、この項目は機械的に抽出しているため、正しく解析できていない場合があります

図面 (1)

課題

アルカリ現像性に優れ、かつ感度密着性及びパターニング後弾性、柔軟性が高く耐サンドブラスト性に優れ、微細加工に好適なサンドブラスト感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルムを提供すること。

解決手段

少なくとも2個以上のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するとともに、構造中に一般式化1

で表わされる構造単位を含む光重合可能なウレタンメタアクリレートオリゴマー光重合開始剤及びアルカリ可溶性化合物を含有するサンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルム。

概要

背景

概要

アルカリ現像性に優れ、かつ感度密着性及びパターニング後弾性、柔軟性が高く耐サンドブラスト性に優れ、微細加工に好適なサンドブラスト感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルムを提供すること。

少なくとも2個以上のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するとともに、構造中に一般式化1

で表わされる構造単位を含む光重合可能なウレタンメタアクリレートオリゴマー光重合開始剤及びアルカリ可溶性化合物を含有するサンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルム。

目的

すなわち、本発明は、アルカリ現像性に優れ、かつ感度、密着性及びパターニング後の弾性、柔軟性が高く、耐サンドブラスト性に優れ、金属パターン絶縁パターンの微細加工に好適なサンドブラスト用感光性組成物を提供することを目的とする。

また、本発明は、上記サンドブラスト用感光性組成物を用いた感光性フィルムを提供することを目的とする。

効果

実績

技術文献被引用数
1件
牽制数
1件

この技術が所属する分野

(分野番号表示ON)※整理標準化データをもとに当社作成

ライセンス契約や譲渡などの可能性がある特許掲載中! 開放特許随時追加・更新中 詳しくはこちら

請求項1

少なくとも2個以上のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するとともに、構造中に一般式化1

請求項0006

請求項

ID=000003HE=015 WI=092 LX=0590 LY=0450で表わされる構造単位を含む光重合可能なウレタンメタアクリレートオリゴマー光重合開始剤及びアルカリ可溶性化合物を含有することを特徴とするサンドブラスト感光性組成物

請求項2

ジイソシアネート化合物と1,4−ブタンジオールを必須成分とするジオール化合物との反応生成物に、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を有する(メタ)アクリレート化合物を反応させて得たウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、光重合開始剤及びアルカリ可溶性化合物を含有することを特徴とするサンドブラスト用感光性組成物。

請求項3

アルカリ可溶性化合物が、セルロース誘導体であることを特徴とする請求項1又は2記載のサンドブラスト用感光性組成物。

請求項4

可撓性フィルム上に請求項1又は2記載のサンドブラスト用感光性組成物層を設け、その上に離型フィルムを積層したことを特徴とするサンドブラスト用感光性フィルム

技術分野

0001

本発明は、新規サンドブラスト感光性組成物、さらに詳しくはアルカリ現像性に優れ、かつ基板との密着性に優れるとともに、感度及びパターニング後弾性、柔軟性が高く、耐サンドブラスト性が優れ、微細加工が容易なサンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルムに関する。

00010

ID=000005HE=015 WI=086 LX=0620 LY=0900
で表わされる構造単位を含む光重合可能なウレタンメタアクリレートオリゴマーを用いることを特徴とするが、このウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーはジイソシアネート化合物と1,4−ブタンジオールとの反応生成物を必須の構造単位として含有し、これにさらにヒドロキシル基又はカルボキシル基を有する(メタ)アクリレート化合物とを反応して得られるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーである。このようにジイソシアネート化合物と1,4−ブタンジオールとの反応生成物を必須の構造単位として含有ことで、本発明のサンドブラスト用感光性組成物は、基板との密着性及び耐サンドブラスト性が一段と向上し、金属配線パターン絶縁パターン等の微細加工、特にプラズマディスプレイの金属配線パターンやセラミック蛍光体等の絶縁パターンを正確に形成することができる。中でも、分子内にウレタン結合を4個有するウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーが好適で、それ未満のウレタン結合を有する場合には、耐サンドブラスト性が極度に低下して好ましくない。前記ジイソシアネート化合物としては、例えばジメチレンジイソシアネートトリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネートヘキサメチレンジイソシアネートヘプタメチレンジイソシアネート、2,2−ジメチルペンタン−1,5−ジイソシアネート、オクタメチレンジイソシアネート、2,5−ジメチルヘキサン−1,6−ジイソシアネート、2,2,4−トリメチルペンタン−1,5−ジイソシアネート、ノナメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサンジイソシアネートデカメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂肪族又は脂環式のジイソシアネート化合物を挙げることができ、これらは単独でも2種以上組み合わせても使用することができる。また、1,4−ブタンジオール以外のジオール化合物としては、エチレングリコールプロピレングリコールジエチレングリコールトリエチレングリコールジプロピレングリコールネオペンチルグリコール等のアルキレングリコール、これらのアルキレングリコールとマレイン酸フマル酸グルタル酸アジピン酸、δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトンβ−プロピオラクトン、α−メチル−β−プ−ロピオラクトン、β−メチル−β−プロピオラクトン、α−メチル−β−プロピオラクトン、β−メチル−β−プロピオラクトン、α,α−ジメチル−β−プロピオラクトン、β,β−ジメチル−β−プロピオラクトン、ビスフェノールA、ヒドロキノンジヒドロキシシクロヘキサンジフェニルカーボネートホスゲン無水コハク酸等とを反応させて得られる両末端OH基を有する化合物を挙げることができ、その単独又は2種以上を1,4−ブタンジオールと組み合わせて使用することができる。

0002

従来、ガラス石材プラスチックセラミックス皮革木質材等の基板の表面に図柄を形成する加工方法の1つとしてサンドブラスト加工法が知られ、その加工法として基板の表面に、ゴム板、紙等を貼り付け、カッター等で切り抜きパターニングしたのち研磨材等を吹き付けて選択的に基板を除去するサンドブラスト加工法や基板表面にサンドブラスト用感光性組成物層を設け、ホトリソグラフィー法によりマスクパターンを形成させたのち、研磨材等を吹き付けて選択的に基板を除去するサンドブラスト加工法等が用いられている。ところが、前記ゴム板等を用いたサンドブラスト加工法は、作業が煩雑で作業能率が上がらない欠点がある。これに対し、基板表面にサンドブラスト用感光性樹脂組成物層を設け、ホトリソグラフィー法によりマスクパターンを形成するサンドブラスト加工法(以下リソグラフィーによるサンドブラスト加工法という)は、作業効率が高い上に、微細加工ができる利点を有し、例えば金属パターンと絶縁パターンが混在する回路基板、特にプラズマディスプレイの金属配線パターンやセラミック、蛍光体等の絶縁パターンの形成に有効である。このリソグラフィーによるサンドブラスト加工法で使用されるサンドブラスト用感光性組成物としては、例えば末端にエチレン性不飽和基を有するウレタンプレポリマー単官能エチレン不飽和化合物及び重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物(特開昭60ー10242号公報)、不飽和ポリエステル不飽和モノマー及び光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物(特開昭55−103554号公報)、ポリビニルアルコールジアゾ樹脂からなる感光性樹脂組成物(特開平2−69754号公報)などが提案されている。

発明が解決しようとする課題

0003

しかしながら、上記感光性樹脂組成物は膜厚制御が困難である上に、感度、基板との密着性及び耐サンドブラスト性が十分でなく、微細加工が困難であった。この欠点を改善したサンドブラスト用感光性組成物として、本出願人は末端にエチレン性不飽和基を有するウレタンプレポリマーを主成分とし、これにセルロース誘導体及び重合開始剤を含有するサンドブラスト用感光性組成物を特開平6−161098号公報で提案している。前記特開平6−161098号公報記載のサンドブラスト用感光性組成物は、アルカリ現像性に優れている上に、感度、基板との密着性及びパターニング後の弾性、柔軟性が高く、耐サンドブラスト性において従来のものより優れているが、微細加工を実用化できる点においては未だ十分でなくより優れた特性を有するサンドブラスト用感光性組成物の出現が強く望まれている。

0004

こうした現状に鑑み、本発明者等は鋭意研究を重ねた結果、サンドブラスト用感光性組成物の成分としてジイソシアネート化合物と1,4−ブタンジオールとの反応生成物を必須の構造単位として含有する光重合可能なウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを用いることで上記欠点のない微細加工が可能なサンドブラスト用感光性組成物が得られることを見出して本発明を完成したものである。

0005

すなわち、本発明は、アルカリ現像性に優れ、かつ感度、密着性及びパターニング後の弾性、柔軟性が高く、耐サンドブラスト性に優れ、金属パターンや絶縁パターンの微細加工に好適なサンドブラスト用感光性組成物を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

0006

また、本発明は、上記サンドブラスト用感光性組成物を用いた感光性フィルムを提供することを目的とする。

0007

上記目的を達成する本発明は、少なくとも2個以上のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するとともに、構造中に一般式化2

0008

ID=000004HE=015 WI=092 LX=0590 LY=0500
で表わされる構造単位を含む光重合可能なウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、光重合開始剤及びアルカリ可溶性化合物を含有するサンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルムに係る。

0009

以下、本発明を詳細に説明する。本発明のサンドブラスト用感光性組成物、少なくとも2個以上のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するとともに、構造中に一般式化3

0011

さらに、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を有する(メタ)アクリレート化合物としては、例えばヒドロキシメチルアクリレート、ヒドロキシメチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレートエチレングリコールモノアクリレート、エチレングリコールモノメタクリレート、グリセロールアクリレート、グリセロールメタクリレート、ジペンタエリトリトールモノアクリレート、ジペンタエリトリトールモノメタクリレートアクリル酸メタクリル酸フタル酸モノヒドロキシエチルアクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート等を挙げることができ、その単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。

0012

上記ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーの平均分子量は1000〜30000の範囲が好ましい。平均分子量が1000未満では硬化後の被膜結合力が大きくなり硬度増し、耐サンドブラスト性が低下する。また平均分子量が30000を超えると粘度が上昇し塗膜性が悪くなり、作業性が悪化する上に、電気絶縁抵抗値も上昇し好ましくない。

0013

本発明のサンドブラスト用感光性組成物は、上記ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーに加えてアルカリ可溶性化合物を含有する。このアルカリ可溶性化合物としては、例えばヒドロキシプロピルセルロースエチルヒドロキシエチルセルロースヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレートヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートフタレートなどのセルロース誘導体、アクリル酸又はメタクリル酸共重合体、この場合共重合体の共重合成分としては、フマル酸、マレイン酸、クロトン酸ケイ皮酸アクリル酸メチルメタクリル酸メチルアクリル酸エチルメタクリル酸エチルアクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチルアクリル酸イソブチルメタクリル酸イソブチル、フマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、フマル酸モノプロピル、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノプロピル、ソルビン酸、ヒドロキシメチルアクリレート、ヒドロキシメチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、エチレングリコールモノアクリレート、エチレングリコールモノメタクリレート、グリセロールアクリレート、グリセロールメタクリレート、ジペンタエリトリトールモノアクリレート、ジペンタエリトリトールモノメタクリレート、アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、メタクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、テトラヒドロフルフリルアクリレートテトラヒドロフルフリルメタクリレート、アクリル酸アミド、メタクリル酸アミドアクリロニトリルメタクリロニトリル等を挙げることができる。これらのアルカリ可溶性化合物の含有量はウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー100重量部に対して10〜100重量部の範囲が好ましい。

0014

さらに、本発明のサンドブラスト用感光性組成物は光重合開始剤を含有するが、該光重合開始剤としては、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオフェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モリフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、3,3−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、ベンゾフェノン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−ベンゾイル−4’−メチルジメチルスルフィド、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、4−ジメチルアミノ安息香酸−2−エチルヘキシル、4−ジメチルアミノ安息香酸−2−イソアミル、2,2−ジエトキシアセトフェノンベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニルオキシム、o−ベンゾイル安息香酸メチルビス(4−ジメチルアミノフェニルケトン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−tert−ブチルトリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルジロロアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントンジベンゾスベロン、α,α−ジクロロ−4−フェノキシアセトフェノン、ペンチル−4−ジメチルアミノベンゾエート等を挙げることができる。この光重合開始剤は単独でも又は2種以上を混合して用いることができ、その含有量は感光性組成物固形分100重量部中に、0.1〜20重量部の範囲が好ましい。

0015

本発明のサンドブラスト用感光性組成物は、感度を向上させ、現像時の膜減りや膨潤を防ぐため必要に応じてアクリル酸、メタクリル酸、2−ヒドロキシエチルアクリレート、エチレングリコールモノメチルエーテルアクリレートなどのアクリル単官能モノマートリメチロールプロパントリアクリレートテトラメチロールプロパンテトラアクリレートなどのアクリル系多官能モノマーなどの光重合性単量体を含有することができる。これらの光重合性単量体は、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー100重量部に対し、20重量部を超えない範囲で配合するのが良い。

0016

本発明のサンドブラスト用感光性組成物の使用に当っては、該組成物有機溶剤に溶解して使用するが、かかる有機溶剤としては、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピレングリコールモノエチルエーテルジエチレングリコールモノメチルエーテルジエチレングリコールモノエチルエーテルジエチレングリコールジメチルエーテルジエチレングリコールジエチルエーテル、2−メトキシブチルアセテート、3−メトキシブチルアセテート、4−メトキシブチルアセテート、2−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−エチル−3−メトキシブチルアセテート、2−エトキシブチルアセテート、4−エトキシブチルアセテート等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。

0017

本発明のサンドブラスト用感光性組成物は用途に応じて、液状のまま基板の上に塗布するか、又は基板の上にスクリーン印刷するか等の方法で適用されるが、特に電子部品の製造等精密加工を必要とする場合にはこのサンドブラスト用感光性組成物を可撓性フィルム上に塗布、乾燥して形成した感光性フィルムを用いるのがよい。

0018

上記感光性フィルムは、例えば膜厚15〜125μmのポリエチレンテレフタレートポリエチレンポリプロピレンポリカーボネートポリ塩化ビニル等の合成樹脂フィルムからなる可撓性フィルムに、溶剤に溶解したサンドブラスト用感光性樹脂組成物溶液アプリケーターバーコーターロールコーターカーテンフローコーター等を用いて乾燥膜厚10〜100μmとなるように塗布し、乾燥することで形成できる。また必要に応じて、未使用時に感光性組成物層を安定に保護するため離型フィルムを貼着するのもよい。この離型フィルムとしては、シリコーンコーティングまたは焼き付けした厚さ15〜125μm程度のポリエチレンテレフタレートフィルムポリエチレンフィルムポリプロピレンフィルム等が好適に使用できる。

0019

上記感光性フィルムにおいて、酸素減感作用を防ぐとともに、露光時に密着されるマスクパターンの粘着防止のため、可撓性フィルムと感光性樹脂組成物層との間に水溶性樹脂層を設けることができる。前記水溶性樹脂層としては、ポリビニルアルコール又は部分けん化ポリ酢酸ビニル水溶性ポリマーの5〜20重量%水溶液を乾燥膜厚1〜10μmに塗布、乾燥した層がよい。

0020

上記感光性フィルムの使用方法の1例を示すと、上記製造方法で得られた感光性フィルムの離型フィルムを剥がし、露出した感光性組成物層を基板上に密着させたのち、可撓性フィルムを剥がし、その露出面に所定のマスクパターンを備えたマスクを密着させ、その上から露光光線照射する。前記感光性組成物層の基板上への密着に際しては基板を予め加熱しておき、この上に感光性フィルムを置いて押圧する、いわゆる熱圧着方式を採るのがよい。また、露光光線としては紫外線の他にエキシマレーザX線電子線等が挙げられ、低圧水銀灯高圧水銀灯超高圧水銀灯キセノンランプ等が使用できる。前記露光光線の照射後、マスクパターンを取り去り汎用アルカリ現像液を用いて現像処理を施し、未照射部を溶解除去してパターンを形成する。使用する現像液アルカリ成分としては、リチウムナトリウムカリウムなどのアルカリ金属水酸化物炭酸塩重炭酸塩リン酸塩ピロリン酸塩ベンジルアミンブチルアミンなどの第1級アミンジメチルアミンジベンジルアミンジエタノールアミン等の第2級アミン、トリメチルアミントリエチルアミントリエタノールアミン等の第3級アミン、モルホリンピペラジンピリジンなどの環状アミンエチレンジアミン、ヘキサンメチルジアミンなどのポリアミンテトラメチルアンモニウムヒドロキシドテトラエチルアンモニウムヒドロキシドトリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシドトリメチルフェニルベンジルアンモニウムヒドロキシドなどのアンモニウムヒドロキシド類、トリメチルスルホニウムヒドロキシド、ジエチルメチルスルホニウムヒドロキシド、ジメチルベンジルスルホニウムヒドロキシドなどのスルホニウムヒドロキシド類、その他コリンケイ酸塩含有緩衝液などが挙げられる。

0021

次いで、現像処理した基板にブラスト材を吹き付け研磨して所望のパターンに形成する。使用するブラスト材としては、2〜500μmのガラスビーズ、SiC、SiO2 、Al2O3 、ZrOなどの無機微粒子等が好適である。

発明を実施するための最良の形態

0022

次に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるものではない。

0023

実施例
ジイソシアネート化合物と1,4−ブタンジオールとの反応生成物を構造単位として有するカルボキシル基含有ウレタンアクリレート(日本合成化学工業社製、商品名「UV−9510EA」;重量平均分子量1万、酸価20、酢酸エチルの20重量%溶液)50重量部に、ヒドロキシプロピルセルロースアセテートフタレートのメチルエチルケトン25重量%溶液(信越化学工業社製、商品名「HPMCAP」)60重量部を混合し、さらに2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン1重量部、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩0.005重量部マラカイトグリーン(保土谷化学社製)0.1重量部及びメチルエチルケトン20重量部を加えてかきまぜ、サンドブラスト用感光性組成物を調製した。

0024

得られたサンドブラスト用感光性組成物溶液を乾燥後の膜厚が30μmとなるように、20μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム(以下PETフィルムという)上にアプリケーターを用いて塗布、乾燥して感光性組成物層を形成した。次いで前記感光性組成物層の上に20μmのポリエチレンフィルムを気泡が残らないようにゴムローラー被着して感光性フィルムを作成した。この感光性フィルムのポリエチレンフィルムを剥がし、表出した感光性組成物層を80℃に暖めたガラス面にゴムローラーを用いてラミネートし、PETフィルムを剥がし、試験用パターンマスクを密着させたのち、超高圧水銀灯により200mJ/cm2の照射量紫外線露光を行った。続いて液温30℃の0.2%炭酸ナトリウム水溶液を用いて1.5kg/cm2の噴射圧で、30秒間のスプレー現像を行いパターンを形成した。

0025

得られたパターンについて密着性を評価したところ、残ったパターンの最小線幅は25μmであった。また、ストファ21段ステップタブレットによる感度測定をしたところ、6段であった。

0026

次に、耐サンドブラスト性を評価するため、感光性フィルムのポリエチレンフィルムを剥がし、表出した感光性組成物層を80℃に暖めたガラス面にゴムローラーを用いてラミネートしたのちPETフィルムを剥がして感光性組成物層を露出させ、200mJ/cmで全面露光し、これをガラスビーズ#800(不二製作所社製)研磨材を使用して、ノズル距離80mm、ブラスト圧2kg/cm2でサンドブラストして感光性組成物層が摩耗して消失するまでの時間を測定した。その結果は200秒であった。

0027

比較例
ジイソシアネート化合物とエチレングリコール及びネオペンチルグリコールとの反応生成物を構造単位として有するカルボキシル基含有ウレタンアクリレート(日本合成化学工業社製、商品名「UV−9532EA」;重量平均分子量1万、酸価22、酢酸エチルの20重量%溶液)50重量部に、ヒドロキシプロピルセルロースアセテートフタレートのメチルエチルケトン25重量%溶液60重量部を混合し、さらに2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン1重量部、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩0.005重量部、マラカイトグリーン0.1重量部及びメチルエチルケトン20重量部を加えてかきまぜ、サンドブラスト用感光性組成物を調製した。

0028

得られたサンドブラスト用感光性組成物溶液を用いて、実施例と同様に感光性フィルムを作成し、実施例と同様にしてパターンを形成した。得られたパターンについて密着性を評価したところ、残ったパターンの最小線幅は35μmであった。また、ストファ21段ステップタブレットによる感度測定をしたところ、6段であった。

0029

次に、耐サンドブラスト性を実施例と同様に評価したところ、サンドブラストによって、この感光性組成物層が摩耗して消失するまでの時間は90秒であった。

発明の効果

0030

本発明のサンドブラスト用感光性組成物は、アルカリ現像性に優れ、かつ感度、密着性及びパターニング後の弾性、柔軟性が高く耐サンドブラスト性に優れ、金属パターンや絶縁パターン等の微細加工に好適である。特にこのサンドブラスト用感光性組成物を積層して得た感光性フィルムは、位置合わせが容易であるところから電子部品等の超微細加工に好ましく使用される。

ページトップへ

この技術を出願した法人

この技術を発明した人物

ページトップへ

関連する挑戦したい社会課題

関連する公募課題

該当するデータがありません

ページトップへ

技術視点だけで見ていませんか?

この技術の活用可能性がある分野

分野別動向を把握したい方- 事業化視点で見る -

(分野番号表示ON)※整理標準化データをもとに当社作成

ページトップへ

おススメ サービス

おススメ astavisionコンテンツ

新着 最近 公開された関連が強い技術

この 技術と関連性が強い技術

関連性が強い 技術一覧

この 技術と関連性が強い人物

関連性が強い人物一覧

この 技術と関連する社会課題

関連する挑戦したい社会課題一覧

この 技術と関連する公募課題

該当するデータがありません

astavision 新着記事

サイト情報について

本サービスは、国が公開している情報(公開特許公報、特許整理標準化データ等)を元に構成されています。出典元のデータには一部間違いやノイズがあり、情報の正確さについては保証致しかねます。また一時的に、各データの収録範囲や更新周期によって、一部の情報が正しく表示されないことがございます。当サイトの情報を元にした諸問題、不利益等について当方は何ら責任を負いかねることを予めご承知おきのほど宜しくお願い申し上げます。

主たる情報の出典

特許情報…特許整理標準化データ(XML編)、公開特許公報、特許公報、審決公報、Patent Map Guidance System データ