図面 (/)

この項目の情報は公開日時点(2000年1月28日)のものです。
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図面 (3)

課題

本発明は、アライメント状態露光状態での2つの画像を登録ならびに認識を行い、露光状態でズレが検出されたときに再度アライメント状態に戻して補正することにより、密着露光におけるズレや干渉縞の影響をなくし、オートアライメント通過率の向上をはかることを課題とする。

解決手段

本発明は、半導体ウェハー11とフォトマスク13を位置合わせした後、半導体ウェハーを動かすことによって密着させて露光する露光装置において、位置合わせ時における半導体ウェハーとフォトマスクとの位置関係と、露光時における同位置関係をあらかじめ画像登録しておき、露光時、上記各画像を認識することによって位置ズレが検出されたときに、ステージ12上で半導体ウェハーを位置合わせ時における状態に復元させることによって位置補正を行う。

概要

背景

半導体ウェハーフォトマスクを重ね、位置合わせを行った後、半導体マスクフオトマスク密着して露光する装置を密着露光装置(Contact Aligner)という。

密着露光装置では、図2に示すように、半導体ウェハー11をステージ12上に置き、回転ならびにX,Y方向に位置合わせを行った後半導体ウェハー11を固定し、フォトマスク13を約60μm程離しておく。露光時は、フォトマスクと半導体ウェハーとの間を真空状態とし、また、加圧窒素により半導体ウェハーをフォトマスクに押し上げ密着の完全を期すようにしている。

概要

本発明は、アライメント状態露光状態での2つの画像を登録ならびに認識を行い、露光状態でズレが検出されたときに再度アライメント状態に戻して補正することにより、密着露光におけるズレや干渉縞の影響をなくし、オートアライメント通過率の向上をはかることを課題とする。

本発明は、半導体ウェハー11とフォトマスク13を位置合わせした後、半導体ウェハーを動かすことによって密着させて露光する露光装置において、位置合わせ時における半導体ウェハーとフォトマスクとの位置関係と、露光時における同位置関係をあらかじめ画像登録しておき、露光時、上記各画像を認識することによって位置ズレが検出されたときに、ステージ12上で半導体ウェハーを位置合わせ時における状態に復元させることによって位置補正を行う。

目的

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、アライメント状態と露光状態での2つの画像を登録ならびに認識を行い、露光状態でズレが検出されたときに再度アライメント状態に戻して補正することにより、密着露光におけるズレや干渉縞の影響をなくし、オートアライメント通過率の向上をはかった自動位置合わせ方法を提供することを目的とする。

効果

実績

技術文献被引用数
1件
牽制数
0件

この技術が所属する分野

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請求項1

半導体ウェハーフォトマスクを位置合わせした後、半導体ウェハーを動かすことによって密着させて露光する露光装置において、上記位置合わせ時における半導体ウェハーとフォトマスクとの位置関係と、露光時における同位置関係をあらかじめ画像登録しておき、露光時、上記各画像を認識することによって位置ズレが検出されたときに、半導体ウェハーを位置合わせ時における状態に復元させることによって位置補正を行うことを特徴とする半導体ウェハーの自動位置合わせ方法

技術分野

0001

本発明は、画像処理を用いた露光装置における半導体ウェハー自動位置合わせ方法に関する。

背景技術

0002

半導体ウェハーとフォトマスクを重ね、位置合わせを行った後、半導体マスクフオトマスク密着して露光する装置を密着露光装置(Contact Aligner)という。

0003

密着露光装置では、図2に示すように、半導体ウェハー11をステージ12上に置き、回転ならびにX,Y方向に位置合わせを行った後半導体ウェハー11を固定し、フォトマスク13を約60μm程離しておく。露光時は、フォトマスクと半導体ウェハーとの間を真空状態とし、また、加圧窒素により半導体ウェハーをフォトマスクに押し上げ密着の完全を期すようにしている。

発明が解決しようとする課題

0004

ところで、上述した密着露光装置における位置合わせはコンピュータによる画像認識処理によって行われるのが普通であり、この場合、アライメント状態でのみの登録画像に従っている。通常、半導体ウェハー11とフォトマスク13の両パターンを同時に写し、いずれか一方に焦点を合わせるが、両者は離れて位置するため、接触時にはピントボケが生じる。

0005

このように、露光時には半導体ウェハーとフォトマスクを接触させるためにズレが生じることがあり、この場合、アライメント精度落ちてしまう。また、接触による干渉縞が発生してアライメント画像が変化し、場合によっては画像認識ができなくなり、オートアライメントが不可能になる。

0006

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、アライメント状態と露光状態での2つの画像を登録ならびに認識を行い、露光状態でズレが検出されたときに再度アライメント状態に戻して補正することにより、密着露光におけるズレや干渉縞の影響をなくし、オートアライメント通過率の向上をはかった自動位置合わせ方法を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

0007

本発明の露光装置における半導体ウェハーの自動位置合わせ方法は、 半導体ウェハーとフォトマスクを位置合わせした後、半導体ウェハーを動かすことによって密着させて露光する露光装置において、上記位置合わせ時における半導体ウェハーとフォトマスクとの位置関係と、露光時における同位置関係をあらかじめ画像登録しておき、露光時、上記各画像を認識することによって位置ズレが検出されたときに、半導体ウェハーを位置合わせ時における状態に復元させることによって位置補正を行うことを特徴とする。

0008

このことにより、コンタクト露光におけるズレや干渉縞の影響がなくなり、アライメントの精度が向上する。

発明を実施するための最良の形態

0009

図1は本発明の実施形態を示す図である。

0010

(a)はアライメント状態、(b)は露光状態における半導体ウェハー11とフォトマスクの位置関係を示し、アライメント状態においては、半導体ウェハー11とフオトマスク13が約60μmの間隙をもって位置し、露光状態においては、半導体ウェハー11の上下方向の移動が伴い両者を接触させる。本発明では(a)の状態を登録画像1とし、(b)の状態を登録画像2として、図示せぬ画像処理装置がもつ画像記憶装置に格納しておく。

0011

尚、図中、12は半導体ウェハー11が載置され、X,Y補正が行われるステージである。

0012

上述した構成にて、露光状態で画像認識を行い、先のアライメント状態における画像と比較してズレが検出された場合、再度アライメント状態に戻し、半導体ウェハー11をズレの量だけ補正して露光処理を行う。

0013

このように、露光処理においては半導体ウェハー11の機械的な移動が伴うため、半導体ウェハー11とフォトマスク13の位置関係にズレが生じることは必須であり、このズレにより生じる干渉縞の発生を防ぐために、アライメント時様態における登録画像と露光状態における登録画像を比較認識し、再度アライメント状態に戻してズレ量の補正を行うものである。

0014

このことにより、コンタクト露光におけるズレや干渉縞の影響がなくなり、アライメント精度が向上する。

発明の効果

0015

以上説明のように本発明は、半導体ウェハーとフォトマスクを位置合わせした後、半導体ウェハーを動かすことによって密着させて露光する露光装置において、上記位置合わせ時における半導体ウェハーとフォトマスクとの位置関係と、露光時における同位置関係をあらかじめ画像登録しておき、露光時、上記各画像を認識することによって位置ズレが検出されたときに、半導体ウェハーを位置合わせ時における状態に復元させることによって位置補正を行うものであり、このことにより、コンタクト露光におけるズレや干渉縞の影響がなくなり、アライメント精度が向上する。具体的に、オートアライメント通過率(マニュアル操作の介在なしに全自動で位置合わせ、露光を行なえる確率)は、20%であったものが90%に向上する。

図面の簡単な説明

0016

図1本発明の実施形態を示す図、
図2従来例を示す図、

--

0017

11半導体ウェハー、12ステージ、13フォトマスク、

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