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技術 高熱線束再生回路の製造方法及び再生回路

出願人 ソシエテナシオナルデテュードエドゥコンストリュクシオンドゥモトールダヴィアシオン-エス・エヌ・ウ・セ・エム・ア
発明者 ダニエルコルニュクリストフベルディジャン-ミッシェルドゥモニコールクリスチャンコデット
出願日 1999年3月18日 (21年8ヶ月経過) 出願番号 1999-073679
公開日 1999年11月9日 (21年0ヶ月経過) 公開番号 1999-309631
状態 特許登録済
技術分野 金属の他の加工と複合作業 ジエット推進設備
主要キーワード 支持芯 外側殻体 管状インサート 低圧噴霧 内側ジャケット 電気ビーム 位置決め工具 閉鎖層
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(1999年11月9日)のものです。
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図面 (16)

課題

ロケットエンジン燃焼室のような再生回路を効率的に製造する方法を提供する。

解決手段

再生回路構造体10の製造は、中間層12が、構造体10の内側形状を呈する支持芯体11上に形成され、芯体11の周り規則正しく分配された一連通路が、中間層12に対面して開口しそれぞれに可溶性インサートが設けられた通路により形成され、支持芯体11が予熱され構造体10の本体14が真空下の熱噴霧によって形成され、通路が本体14に外側から機械加工されこれら通路に可溶性のインサート152が充填され、閉鎖層17が形成されて本体14の通路を閉鎖外側囲壁18が予熱後真空下に熱噴霧で形成され、全ての可溶性のインサートと中間層12とが取除かれることによって行われる。

概要

背景

液体推進剤ロケットエンジンのための再生式に冷却される燃焼室を製造する第1の技術においては、冷却通路が、銅のような熱の良導体である金属の単一の部材として形成された内側基部本体に機械加工で形成される。この冷却通路はしたがって基部本体の隔壁によって相互に分離され、また外側被覆電気溶着通路の各々の間に必要な機械加工による修正代わるニッケル多重層の電気溶着によって形成される。冷却通路は伝導性樹脂を塗布することにより電気溶着の前に閉鎖される。

図14は上記技術を用いて形成された燃焼室の一例を示す。

Narloy Zのような金属材料を例えば鍛造することにより形成された内側ジャケット冷却筒)104が機械加工により形成された冷却通路105を有している。

通路105を閉鎖するための層107が電気溶着により形成されそしてそれ自体が同様に電気溶着により付着されるニッケルで被覆される。例えばインコネル−718のような超合金で形成された外側殻体109の種々の要素が電気ビーム溶接による接合部110を介して相互に組立てられる。

燃焼室の内側ジャケット(冷却筒)104を形成する作用と電気溶着により通路105を閉鎖する作用とは上記の方法の主要な欠点を構成する。これらの作用は手間がかかり高価である。さらに、燃焼室の構成要素の最後の組立てに用いられる溶接部110の各々は破壊の潜在的な危険を構成している。燃焼室の製造の第2の先行技術においては、これらの欠点をプラズマ形成方法を用いることにより解消することが意図された。

図15は、燃焼室の構造の全部又は一部を規定された合金熱噴霧粉末によって形成することからなる前記第2の製造技術を用いて作られた燃焼室の壁の一例を示している。

燃焼室の壁が内側から始まり燃焼室の外側に至るまで形成されるこのような方法の一例においては、噴霧用芯体1が得られるべき燃焼室の内側寸法に機械加工された軟鋼で作られる。

部分真空のもとでの最初の噴霧が、銅合金( Narloy Z,…)を用いて芯体1の表面上に将来の室のジャケット(冷却筒)4を形成する働きをする。次の作用は冷却通路5を機械加工し消耗可能なろ過材料をその中に挿入することからなっている。余分のろ過材が機械加工により取除かれた後、部分真空のもとに銅合金を噴霧する第2の作用が、通路を閉鎖するため層7を形成することができるようにする。その直後に、超合金の殻体8が熱噴霧により銅の冷却筒に直接形成される。最後の作用はろ過材料を化学的に除去し通路5を開放しまた噴霧芯体1を取除くことからなっている。

複数の物品から組立てられそのため再使用が可能となる支持芯体を得る提案がまたなされている。一例として、芯体は軟鋼のワッシャーによって相互に分離された2つのステンレス鋼円錐体によって構成することができ、この組立体は鋼の付着で被覆されている。燃焼室が形成されると、冷却通路の中に置かれたインサート挿入物)の溶解がワッシャーと鋼の付着物を溶解することにより行われる。2つの円錐体はしたがって取外され回収することができる。

しかし、公知の方法は、特にインサートが溶解され一時的な層が除去される工程が遅くまた大きな寸法の構造を満足できるように形成するのが困難であるため、依然として満足できないものである。

概要

ロケットエンジンの燃焼室のような再生回路を効率的に製造する方法を提供する。

再生回路構造体10の製造は、中間層12が、構造体10の内側形状を呈する支持芯体11上に形成され、芯体11の周り規則正しく分配された一連の通路が、中間層12に対面して開口しそれぞれに可溶性のインサートが設けられた通路により形成され、支持芯体11が予熱され構造体10の本体14が真空下の熱噴霧によって形成され、通路が本体14に外側から機械加工されこれら通路に可溶性のインサート152が充填され、閉鎖層17が形成されて本体14の通路を閉鎖し外側囲壁18が予熱後真空下に熱噴霧で形成され、全ての可溶性のインサートと中間層12とが取除かれることによって行われる。

目的

本発明の目的は、上記の欠点を解消し、また再生回路構造体を従来技術よりも便利な方法で製造できるようにし、また回路構造体が大きな寸法であり高密度熱線束を受けた時でも製造された構造の特徴を最も効果的に活用することのできるようにすることである。

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
1件

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請求項1

第1の流体と接触する内側作用表面(13)と一組の通路(150)とを有する構造体(10)を具備し、前記一組の通路(150)が構造体(10)の本体(14)に形成され第2の流体を第1の流体と熱交換するよう搬送するようにしている高熱線束再生回路を製造する方法であって、再使用可能支持芯体(11)の周り熱噴霧作用と機械加工作用とを用い前記内側作用表面(13)から構造体(10)を形成する方法において、(a)構造体(10)の内側形状を呈する支持芯体(11)を回転軸線(113)の周りに置き、支持芯体(11)は、熱膨張係数が構造体(10)の本体の材料の熱膨張係数に非常に近いか僅かに大きい材料で形成されている段階と、(b)中間層(12)を支持芯体(11)上に、支持芯体(11)の材料と構造体(10)の本体(14)の材料とは異なる材料で形成する段階と、(c)芯体(11)の周りに規則正しい間隔をおいて配され前記中間層(12)に対面するよう開口する一連の通路(120;195A)を形成し、前記通路(120;195A)の各々は有機結合剤金属粉末との混合物からなる可溶性インサートが設けられている段階と、(d)支持芯体(11)を約850℃より高い温度に予め加熱し構造体(10)の本体(14)をプラズマトーチにより真空又は低圧のもとに熱噴霧で形成し、支持芯体(11)の温度を前記850℃より高い温度に保持する段階と、(e)支持芯体(11)を取外すことなく、通路(150)を構造体(10)の本体(14)の外側に溝の形式に機械加工する段階と、(f)構造体(10)の本体(14)の通路(150)を有機結合剤と金属粉末との混合物からなる可溶性のインサート(152)で充たす段階と、(g)構造体(10)の本体(14)の通路(150)を閉鎖する層(17)を形成し、構造体(10)の外側囲壁(18)をプラズマトーチにより真空又は低圧のもとに熱噴霧で形成し、支持芯体(11)を予熱した後支持芯体(11)を約850℃より高い温度に保持する段階と、(h)構造体(10)の本体(14)の通路(150)の可溶性のインサート(152)と、支持芯体の周りに形成された通路(120;195A)の中の可溶性のインサートと、中間層(12)とを、取除く段階と、(i)再使用可能な支持芯体(11)を取出す段階とを含んでいることを特徴とする高熱線束再生回路の製造方法。

請求項2

構造体(10)の本体(14)に又は支持芯体(11)の周りに機械加工された通路(150,120)を充たす段階の前に、管状インサートフィラメントが通路(150,120)を形成する溝の底に挿入され次の熱噴霧段階の前にフィラメント状のインサート(151)を取出すことにより可溶性インサート(152)の下側の通路(150,120)の底に空洞(151A)を続いて形成することができるようにすることを特徴とする請求項1に記載の方法。

請求項3

構造体(10)の本体(14)の通路(150)を可溶性インサート(152)で充たす段階が、通路(150)を不完全充填する作用からなり、その後に、通路(150)の充填を完了する金属材料を熱噴霧し通路(150)の間のリブ(140)を被覆する金属層(16A)を形成する段階と、前記金属層(16A)の表面を前記リブ(140)の自由の頂端露出されるまで機械加工する段階とが続くことを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。

請求項4

支持芯体(11)を約850℃より高い温度に予熱する熱噴霧作用中、追加の加熱が熱噴霧作用を通じて支持芯体(11)に近接した追加の加熱装置(24)により行われることを特徴とする請求項1から3のうちの1項に記載の方法。

請求項5

構造体(10)の本体(14)がCu−Ag−Zr合金粉末を熱噴霧することにより形成されることを特徴とする請求項1から4のうちの1項に記載の方法。

請求項6

支持芯体(11)が純銅で形成されていることを特徴とする請求項5に記載の方法。

請求項7

中間層(12)が鉄の粉末を熱噴霧することにより形成されることを特徴とする請求項1から6のうちの1項に記載の方法。

請求項8

フィラメント状のインサート(151)がポリアミド樹脂基材とするフィラメントにより構成されていることを特徴とする請求項2に記載の方法。

請求項9

金属材料を熱噴霧し通路(150)の充填を終了する段階が、鉄の粉末をプラズマトーチにより真空又は低圧のもとに熱噴霧することからなることを特徴とする請求項3に記載の方法。

請求項10

層(17)を形成し構造体(10)の本体(14)の通路(150)を閉鎖する段階がCu−Ag−Zr合金の粉末を熱噴霧することからなり、外側囲壁(18)を形成する段階がMONEL K500又はNU30ATによって構成されたニッケル銅基材合金のようなニッケル−基材の合金の粉末を熱噴霧することからなることを特徴とする請求項1から9のうちの1項に記載の方法。

請求項11

層(17)を形成し構造体(10)の本体(14)の通路(150)を閉鎖する段階と外側囲壁を形成する段階との間に行われる、多孔の銅(17′)の層を熱噴霧により形成する追加の段階を含んでいることを特徴とする請求項1から10のうちの1項に記載の方法。

請求項12

可溶性のインサート(152)を構造体(10)の本体(14)の通路(150)又は芯体(11)の周りに形成された通路(120)から取除く段階が塩化水素酸のような流体を循環させることにより行われることを特徴とする請求項1から11のうちの1項に記載の方法。

請求項13

芯体(11)の周りに規則正しく分配された一連の通路(120)を形成する段階(c)が、中間層(12)を形成する段階(b)の前に行われ、また支持芯体(11)を前記回転軸線(113)に取付けた後に外側から機械加工することと支持芯体(11)の前記通路(120)を有機結合剤と金属粉末との混合物からなる可溶性のインサートにより充たすことを含んでいることを特徴とする請求項1から12のうちの1項に記載の方法。

請求項14

中間層(12)を形成する段階の後に、低い凹凸の層(13)をプラズマトーチにより真空又は低圧のもとに熱噴霧で形成することからなり、低い凹凸の層(13)が金属型式又は酸化物型式熱障壁形成材料で形成されている追加の段階をさらに含んでいることを特徴とする請求項13に記載の方法。

請求項15

熱障壁(13)がMCrAlYTaのような超合金の粉末を熱噴霧することにより形成されることを特徴とする請求項5又は14に記載の方法。

請求項16

熱障壁(13)が超合金を噴霧する前にイットリウム含有ジルコニウムの粉末を噴霧し前記イットリウム含有ジルコニウム材料表面層を形成することにより、形成されることを特徴とする請求項15に記載の方法。

請求項17

芯体(11)の周りに規則正しく分配された一連の通路(195A)を形成する段階(c)が、中間層(12)を形成する段階(b)の後に行われ、また銅基材の合金を中間層(12)上に付着することと、銅基材の合金を機械加工し空隙が間に形成されて前記通路(195A)を構成する半径方向のフィン(19A)を区画形成することと、前記通路(195A)を有機結合剤と金属粉末との混合物からなる可溶性のインサート(192)で充たすことを含んでいることを特徴とする請求項1から12のうちの1項に記載の方法。

請求項18

追加の鉄の層を付着し可溶性のインサート(192)にわたって空のままとなっている通路(195A)の部分を充たしまたフィン(19A)を被覆することからなる段階と、前記追加の鉄の層を機械加工し銅基材のフィン(19A)を出現させ各可溶性のインサート(192)の上にフィン(19A)の自由の面と同一面の鉄の薄い層(193)のみを保持することからなる段階とをさらに含んでいることを特徴とする請求項17に記載の方法。

請求項19

中間層(12)を支持芯体(11)上に形成する段階(b)の後に、中間層(12)にh/l≦1のような高さhと幅lとを有する外側溝(196)を機械加工し、半径方向のフィン(19B)を構造体(10)の本体(14)を形成する段階中に熱噴霧により続いて形成する追加の段階(b1 )をさらに含んでいることを特徴とする請求項13に記載の方法。

請求項20

フィラメント状又は管状のインサートがポリアミド樹脂のようなプラスチック材料で形成されることを特徴とする請求項2に記載の方法。

請求項21

特にロケットエンジンのための高熱線束燃焼室によって構成される構造体(10)を製造するのに適用されることを特徴とする請求項1から20のうちの1項に記載の方法。

請求項22

熱交換器によって構成される構造体(10)を形成するのに適用されることを特徴とする請求項1から20のうちの1項に記載の方法。

請求項23

請求項1から22のうちの1項に記載の方法によって得られた再生回路。

技術分野

0001

本発明は高熱流束再生回路を製造する方法に関し、該再生回路は、第1の流体と接触する内側作用表面と一組の通路とを有する構造体からなり、前記一組の通路は前記構造体の本体に形成され第2の流体を前記第1の流体と熱交換するよう搬送し、前記方法は、再使用可能支持芯体の周り熱噴霧作用と機械加工作用とを用い前記構造体を前記内側作用表面から形成することからなっている。

0002

本発明はまた、ロケットエンジン燃焼室のような、前記方法によって得られた高熱流束再生回路に関する。

0003

高熱流束再生回路を構成する構造体は、様々な背景、例えば、熱交換器循環液体によって冷却されるタービン羽根、又は燃焼囲壁の壁に用いられる。

0004

したがって、ロケットエンジン、特に液体推進剤を用いるエンジン燃焼室ノズルのような燃焼囲壁は高熱媒体を構成する燃焼ガスと接触する壁を有し、この壁は一般に作動中に冷却される。

0005

普通の冷却技術はこのような囲壁の壁に冷却通路を設けることにある。これは衛星発射機宇宙船に、さらに高能率ボイラーに適用され、また熱遮蔽体又は高速走行する乗物ノーズコーン(先端部)にも適用することができる。

0006

特にロケットエンジンの分野においては、燃焼室の壁を製造するための種々の方法が提案されており、長手方向に延びる冷却通路を傾斜できるようにし、これら通路が、ロケットエンジンに供給するのに用いられる推進剤の成分の1つとすることのできる冷却流体を搬送し、それにより冷却装置再生式装置となるようにしている。

0007

このような燃焼室を製造する技術はしかし実施するのが困難であり、手間がかかり、高価である。

0008

ある特別の用途においては、熱流体を囲壁の壁に形成された通路を介して循環させそれによりまた再生回路を構成することにより、冷たくなっている囲壁を加熱できるようにすることがまた有用である。

背景技術

0009

液体推進剤ロケットエンジンのための再生式に冷却される燃焼室を製造する第1の技術においては、冷却通路が、銅のような熱の良導体である金属の単一の部材として形成された内側基部本体に機械加工で形成される。この冷却通路はしたがって基部本体の隔壁によって相互に分離され、また外側被覆電気溶着通路の各々の間に必要な機械加工による修正代わるニッケル多重層の電気溶着によって形成される。冷却通路は伝導性樹脂を塗布することにより電気溶着の前に閉鎖される。

0010

図14は上記技術を用いて形成された燃焼室の一例を示す。

0011

Narloy Zのような金属材料を例えば鍛造することにより形成された内側ジャケット冷却筒)104が機械加工により形成された冷却通路105を有している。

0012

通路105を閉鎖するための層107が電気溶着により形成されそしてそれ自体が同様に電気溶着により付着されるニッケルで被覆される。例えばインコネル−718のような超合金で形成された外側殻体109の種々の要素が電気ビーム溶接による接合部110を介して相互に組立てられる。

0013

燃焼室の内側ジャケット(冷却筒)104を形成する作用と電気溶着により通路105を閉鎖する作用とは上記の方法の主要な欠点を構成する。これらの作用は手間がかかり高価である。さらに、燃焼室の構成要素の最後の組立てに用いられる溶接部110の各々は破壊の潜在的な危険を構成している。燃焼室の製造の第2の先行技術においては、これらの欠点をプラズマ形成方法を用いることにより解消することが意図された。

0014

図15は、燃焼室の構造の全部又は一部を規定された合金の熱噴霧粉末によって形成することからなる前記第2の製造技術を用いて作られた燃焼室の壁の一例を示している。

0015

燃焼室の壁が内側から始まり燃焼室の外側に至るまで形成されるこのような方法の一例においては、噴霧用芯体1が得られるべき燃焼室の内側寸法に機械加工された軟鋼で作られる。

0016

部分真空のもとでの最初の噴霧が、銅合金( Narloy Z,…)を用いて芯体1の表面上に将来の室のジャケット(冷却筒)4を形成する働きをする。次の作用は冷却通路5を機械加工し消耗可能なろ過材料をその中に挿入することからなっている。余分のろ過材が機械加工により取除かれた後、部分真空のもとに銅合金を噴霧する第2の作用が、通路を閉鎖するため層7を形成することができるようにする。その直後に、超合金の殻体8が熱噴霧により銅の冷却筒に直接形成される。最後の作用はろ過材料を化学的に除去し通路5を開放しまた噴霧芯体1を取除くことからなっている。

0017

複数の物品から組立てられそのため再使用が可能となる支持芯体を得る提案がまたなされている。一例として、芯体は軟鋼のワッシャーによって相互に分離された2つのステンレス鋼円錐体によって構成することができ、この組立体は鋼の付着で被覆されている。燃焼室が形成されると、冷却通路の中に置かれたインサート挿入物)の溶解がワッシャーと鋼の付着物を溶解することにより行われる。2つの円錐体はしたがって取外され回収することができる。

0018

しかし、公知の方法は、特にインサートが溶解され一時的な層が除去される工程が遅くまた大きな寸法の構造を満足できるように形成するのが困難であるため、依然として満足できないものである。

発明が解決しようとする課題

0019

本発明の目的は、上記の欠点を解消し、また再生回路構造体を従来技術よりも便利な方法で製造できるようにし、また回路構造体が大きな寸法であり高密度熱線束を受けた時でも製造された構造の特徴を最も効果的に活用することのできるようにすることである。

課題を解決するための手段

0020

本発明によれば、これらの目的は、第1の流体と接触する内側作用表面と一組の通路とを有する構造体からなり、前記一組の通路が該構造体の本体に形成され第2の流体を第1の流体と熱交換するように搬送する高熱線束再生回路の製造方法であって、再使用可能な支持芯体の周りの熱噴霧作用と機械加工作用とを用いて前記内側作用表面から構造体を形成することからなる方法において、(a)回転軸線周りの構造体の内側形状を呈する支持芯体であって、熱膨張係数が構造体の本体の材料の熱膨張係数に非常に近いか又は僅かに大きい材料で形成された支持芯体を、回転軸線の周りに配置する段階と、(b)支持芯体上に支持芯体の材料と構造体の材料とは異なる材料からなる中間層を形成する段階と、(c)前記芯体の周りに規則正しい間隔をおいて配され前記中間層に対面するよう開口し、それぞれに有機結合剤金属粉末との混合物からなる可溶性のインサート(挿入物)が設けられている一連の通路を形成する段階と、(d)支持芯体を約850℃より高い温度に予熱し、構造体の本体をプラズマトーチ吹管)により真空又は低圧のもとに熱噴霧で形成し、支持芯体の温度を前記850℃より高い温度に保持する段階と、(e)支持芯体を取外すことなく、通路を構造体の本体の外側に溝の形式で機械加工する段階と、(f)構造体の本体の通路を有機結合剤と金属粉末との混合物からなる可溶性のインサートで充たす段階と、(g)予熱後の支持芯体を約850℃より高い温度に保持している間に、構造体の本体の通路を閉鎖する層を形成しまたプラズマトーチ(吹管)により真空又は低圧のもとに熱噴霧で構造体の外側囲壁を形成する段階と、(h)構造体の本体の通路内の可溶性インサートと支持芯体の周りに形成された通路内の可溶性インサートと中間層とを取除く段階と、(i)再使用可能な支持芯体を取出す段階とを含んでいることを特徴とする高熱線束再生回路の製造方法によって達成される。

0021

好適な特徴によれば、構造体の本体に又は支持芯体の周りに機械加工された通路を充たす段階の前に、好ましくはポリアミド樹脂のようなプラスチック材料で作られた管状インサートフィラメント線条)が通路を形成する溝の底に挿入され、続いて可溶性のインサートの下側の通路の底に空洞を形成できるようにする。フィラメント状又は管状のインサートが次の熱噴霧段階の前に取出される。

0022

特定の実施態様においては、構造体の本体の通路を可溶性のインサートで充たす段階は、通路への充填の最後の仕上げをし通路の間のリブを被覆する金属層を形成する金属材料を熱噴霧する段階がその後に続く、通路を不完全に充たす作用からなり、この段階の後に前記リブの自由の頂端露出されるまで前記金属層の表面を機械加工する段階が続く。

0023

大きな寸法の構造体を製造する時、支持芯体を約850℃より高い温度に予め加熱する熱噴霧の作用の間に、追加の熱が支持芯体に接近したもう1つの加熱装置により熱噴霧作用の全体にわたって与えられる。

0024

本発明の特定の特徴によれば、
○構造体の本体はCu−Ag−Zr合金粉末を熱噴霧することにより形成され、
○支持芯体は純粋の銅で作られ、
○ 中間層が鉄の粉末を熱噴霧することにより形成され、
○フィラメント状のインサートがポリアミド樹脂を基材とするフィラメントにより構成され、
○金属材料を熱噴霧し通路への充填を終わらせる段階が鉄の粉末をプラズマトーチにより真空又は低圧力のもとに熱噴霧することからなり、
○ 層を形成し構造体の本体の通路を閉鎖する段階がCu−Ag−Zr合金粉末を熱噴霧することからなり、また外側囲壁を形成する段階がMONEL K500又はNU30ATによって構成された合金を基材とするニッケル−銅のような、ニッケルを基材とする合金の粉末を熱噴霧することからなり、
○ 可溶性のインサートを構造体の本体の通路又は芯体の周りに形成された通路から除去する段階が、塩化水素酸のような流体を循環させることによって行われる。

0025

前記方法は層を形成する間に行われ構造体の本体の通路を閉鎖する熱噴霧によって多孔の銅の層を形成する追加の段階と外側囲壁を形成する段階とを含むことができる。

0026

本発明の第1の有利な実施態様においては、芯体の周りに規則正しく配置された一連の通路を形成する段階(c)は、中間層を形成する段階(b)の前に行われ、そして支持芯体を前記回転軸線上取付けられた後に外側から機械加工して溝の形式の通路を形成し、支持芯体の前記通路を有機結合剤と金属の粉末との混合物からなる可溶性のインサートで充たす段階を含んでいる。

0027

上記の場合、前記方法はさらに、中間層を形成する段階の後に、低い凹凸の層をプラズマトーチにより真空又は低圧力のもとに熱噴霧で形成することからなる追加の段階を含むことができ、前記低い凹凸の層は金属型式又は酸化物型式の材料を形成する熱障壁で形成されている。

0028

一例として、この熱障壁はMCrAlYTaのような超合金の粉末を熱噴霧することにより形成される。

0029

有利には、熱障壁は、超合金を噴霧する前にイットリウム含有のジリコニウム粉末を噴霧して前記イットリウム含有のジリコニウム材料の表面層を形成することによって、形成される。

0030

他の特定の実施態様においては、芯体の周りに規則正しく配置された一連の通路を形成する段階(c)は、中間層を形成する段階(b)の後に行われ、そして銅基材の合金を中間層上に付着させ銅基材の合金を機械加工し間に間隙が形成された半径方向のフィンを形成して前記通路を構成し、前記通路を有機結合剤と金属粉末との混合物からなる可溶性のインサートで充たす段階を含んでいる。

0031

上記の場合、前記方法はさらに、追加の鉄の層を付着させ可溶性のインサートの上に空となっている通路の部分を充たしまたフィンを被覆することからなる段階と、前記追加の鉄の層を機械加工し銅基材のフィンを出現させ各可溶性のインサートに対して鉄の薄い層だけを保持するようにし、前記薄い層がフィンの自由な面と同一面上にあるようにすることからなる段階とを含んでいる。

0032

この第2の実施態様はフィン付き熱交換器型式の再生回路のための構造体をもたらす。

0033

変更実施態様として、第1の実施態様の構想の範囲でフィン付き熱交換器の再生回路の構造体が得られ、芯体の周りに規則正しく配置された一連の通路を形成する段階(c)が中間層を形成する段階(b)の前に行われ、芯体の周りに規則正しく配置された通路が芯体に外側から機械加工されるようにすることができる。

0034

この変更実施態様によれば、この方法はさらに、芯体上に中間層を形成する段階(b)の後に、中間層に高さh、幅l、h/l≦1の外側溝を機械加工し熱噴霧により構造体の本体を形成する段階中に半径方向のフィンを形成することからなるさらなる段階(b1 )を含んでいる。

0035

したがって本発明による方法の第1の実施態様のこの変更例は、中間層の上に材料の層を噴霧することにより熱障壁を形成する必要をなくする小さな高さの半径方向のフィンを形成することができるが、これらのフィンは中間層に対面するよう開口する主要通路を区画するものではない。主要通路は芯体に外側から機械加工することにより形成される。

0036

本発明の方法は熱交換器によって構成された構造体を製造するため通常のように適用することができる。

0037

本発明の方法は、ロケットエンジン、特に低温型の高出力ロケットエンジンの燃焼室のような高熱線束燃焼囲壁とノズルとによって構成された構造体を製造するのに、特に適合している。

0038

本発明はまた種々の上記製造方法を実施することにより得られる再生回路を提供する。

発明を実施するための最良の形態

0039

本発明の他の特徴と利点は以下に実例として与えられ添付図面を参照する特定の実施についての詳細な記載から明らかとなる。

0040

本発明の方法の特定の実施が、ロケットエンジン燃焼室又はノズルを区画形成する中空構造体によって構成された高熱線束再生回路を製造するのを参照して記載されている。

0041

図2はこのようなロケットエンジンノズル30の砂時計形状の例を示し、公知のように、狹さく部分32に向って収れんしまた分岐する下流側部分33によって拡大されている燃焼室自体を形成する上流側部分31を具備している。液体推進剤を用いるロケットエンジンのために、推進剤の成分は燃焼室を形成する上流側部分31に射出され、燃焼から生じるガスがノズルの狹さく部分32と分岐部分33とを介して排出され所要推進力を発生するようにしている。ノズル30の壁は本質的に長手方向に延び冷却流体を搬送する通路150が設けられ、この冷却流体は内面熱ガスと接触するノズル30の壁を冷却するため推進剤の成分のうちの1つとすることができる。通路150は、良好に区画形成された形状としなければならずまたノズル30の全周にわたって配置し最高度の性能を得るのに適した熱交換を保証するようにしなければならない。これは、ノズル30によって構成された再生回路を製造する方法が高品質製品を製造するとともにコストを低減するのに特に極めて重要であるという理由による。

0042

本発明の製造方法は、熱ガスに近接して位置する構造体の壁の作用表面から始まり、構造材料を熱噴霧により形成することからなっている。

0043

燃焼室にとって、壁を熱ガスに近接して配置された作用表面から形成することは、構造体をその内側の形状から始まってその外側の囲壁に至るまで形成することに及んでいる。このような方法はガスの流れに対する非常に小さな内部断面を有する室と大きな寸法の室との両方に適合している。

0044

本発明の方法の第1の段階は、その外側表面が形成されるべき構造体10の内部形状を呈している支持芯体11を形成することからなっている。図6と7は、再使用可能に構成されまた一例としてノズル30によって、構成される構造体10の製造中に行われる種々の熱噴霧作用と製造作用のための工具としての働きをする、支持芯体11の一例を示している。

0045

芯体11は、製造されるノズルの狹さく部分に一致する最も狹い断面を介して相互に接触している2つの部分111と112とで形成される。この2つの部分111と112は狹さく部に配置された端部分111Aと112Aとを介して相互に係合することにより一体化することができる。芯体11はこれを貫通し芯体11の長手方向軸線を中心とするシャフト113を有している。中心シャフト113はそれ自体が、ハウジング115に係合され芯体の部分111にキー止めされたシャフト114に固定され、芯体11をシャフト114が固定された回転テーブル21(図2)から回転させるようにする。芯体の部分112のハウジング116にシャフト113の端部が配置された例えばねじとナット型の組立て装置が、ワッシャー117と共働しこの2つの部分111と112を一緒に保持する。

0046

芯体11はその熱膨張係数が、形状を区画形成する構造体の本体を構成する材料の熱膨張係数に非常に近いか又は僅かに大きい材料で作られる。これは、支持芯体11の膨張による誤差がなく正確な外形状を得ることができるようにし、また材料を付着する作用の間応力の大きさを著しく減少させる。

0047

一例として、再生回路の本体14がCu−Ag−Zr合金であったならば、芯体11は純銅で作ることができる。

0048

本発明の方法の他の形態によれば、芯体が形成された後で製造されるべき構造体10を形成するため材料を付着させる作用を開始する前に、中間層12(図1図3から5)が芯体11の全外表面の上に配設され、この中間層は芯体11の材料と作られる構造体10の材料とは異なる材料で形成され、この材料は構造体10を製造する工程の終わりに化学的に溶解されることにより破壊され、得られた構造体10を芯体11から芯体を損傷することなく分離させることができるようにし、それにより芯体を再使用可能にし、また2つの分離可能な部分111と112(図6)から組立てられる方式のため取出しを容易にする。

0049

芯体11を構造体10から分離するための中間層12は例えば鉄で作ることができる。これは鉄の粉末をロボット22により制御されるプラズマトーチ23により真空又は低圧のもとに熱噴霧することにより付着することができ、支持芯体11は回転テーブル21上に垂直に置かれ連結シャフト114(図2と6)により回転テーブルと共に回転するのが制限されるようにする。真空プラズマ噴霧(VPS)方法として知られているプラズマトーチによる真空中で熱噴霧する方法は、それ自体公知でありまたそのためさらに詳細な記載を要しない。

0050

本発明の特定の実施態様によれば、構造体10を製造するため芯体11を工程の終わりに分離し取外す目的で中間層12の溶解を容易にし加速するため、芯体に機械加工された溝の形式の長手方向の通路120が、回転テーブル21に取付けられている芯体11の外周面に設けられる。中間層12を芯体11に付着する前に、例えばポリアミド樹脂を基材とする材料のようなプラスチック材料のフィラメント状のインサートが溝120の底に置かれそして通路120が有機結合剤と金属粉末との混合物からなる可溶性のインサート122で充たされる(図8)。このフィラメント状のインサートは次に取出され各通路120の底に空の空間121Aを残すことができ、一方可溶性のインサート122は通路120を閉鎖し、それにより中間層12の付着を続行できるようにする。

0051

芯体11の周囲に通路120が存在することと通路が可溶性のインサート122によりその一部だけが閉鎖されることとにより、プラズマで形成される構造体10を製造する工程の終わりの中間層12の溶解作用が容易となる。化学的な溶解が塩化水素酸のような流体を循環させることにより行われた時、この塩化水素酸は容易にかつ通路120の底で直ちに循環し可溶性のインサート122を溶解し始めついで芯体11の通路120が完全に取外されると通路120に沿って循環することができ、また中間層12を迅速に、すなわち芯体自体又は銅もしくはニッケル基材の合金で作られた構造体10の要素を腐食するに十分な時間なしで、溶解する働きをすることができる。

0052

芯体11上に中間層12が付着された後またできれば芯体11が回転テーブル21上にとどまっている間に機械加工作用を行い製造される構造体10の正確な形状が得られるようにした後、構造体10自体を製造する工程は熱障壁形成材料微細層13を中間層12上に熱噴霧すると共に開始することができる。構造体10の残り部分が作られる前に支持体11,12上に噴霧することにより形成された熱障壁が存在することは、付着層13の凹凸が中間層12の凹凸により調整される限り、最終的に低い凹凸部を有する構造体10の表面13が得られる働きをする。

0053

熱障壁13はイットリウム含有のジリコニウムの表面層を有する又は有しない超合金又はMCrAlYTaにより構成することができる。

0054

熱障壁13は後で構造体10の本体14を形成するのに用いられるのと同じ熱噴霧方法(VPS)によって形成され、そしてこれは図2参照して記載されたのと同じ装置を用いて作られる。熱障壁13は、前記層と銅を基材とする再生回路の本体14との間の後の噴霧中に生じる相互拡散のため良好な接着を保証することができるようにする。

0055

銅基材の材料の構造体10の本体14はプラズマトーチ23による熱噴霧、特殊真空噴霧又は低圧噴霧により支持芯体11上に形成される。噴霧された金属粉末は最後の付着(化学的組成物理的特性)を得るのに適する品質基準を満たし、また粉末の粒子の大きさは噴霧条件に適合している。Cu−Ag−Zrを噴霧する時、粉末は粒子の大きさが106μmより小さく、好ましくは10μmから63μmの範囲であり、また低い酸素含有量(<150ppm )を有している。

0056

熱障壁13を製造するについて本体14を製造するための熱噴霧は支持芯体11に対してこれが850℃以上に予め加熱された後行われ、そしてこの温度は熱噴霧の時間全体にわたって保持する必要がある。大きな寸法の構成要素に対して、この温度は追加の加熱手段24(図2)によって保持され、この加熱手段は構成要素の直径に依存して、金属粉末の噴霧には用いられずその作動特性が全加熱作用最大限に活用される追加プラズマトーチによる、誘導加熱又は他の加熱でのジュール効果加熱によるものである。この追加加熱の条件は良好な機械的特性を有する付着を得るのに欠くことのできないものである。

0057

通路150は次に本体14において通常の方法で機械加工されるが、この時噴霧支持芯体11からは位置決め工具としての利点が得られる。したがって製造中の連続するいくつかの作用の間で治工具を取付け及び取外しする必要がなくなる。通路150は室の大きさに関係なく外側から機械加工することができ、小さな寸法の室に関連する困難性がなくなる。

0058

芯体の通路120と同様に、通路150は有機結合剤と金属粉末とからなる可溶性のインサート152により一部が充たされる。この型のインサートは構造体10の形状と通路150の断面の変化とに関係なく適合する。通路の底において、支持芯体11の通路120におけるように、空洞151A(図1と4)が、プラスチック材料151、例えばポリアミド樹脂(図3)を基材とするプラスチックのフィラメント又は管を一時的に用いて形成される。実際には、フィラメント151は可溶性のインサート152が形成されると直ちに取出され、それにより追加の層16Aを付着する次の段階の前でも(層16Aがすでに存在するように図面に示されている図3のものとは対照的に)通路150の底に空隙151Aを残すようにする。通路150の底に空の空間151Aが存在することは、可溶性のインサート152を追加層16Aの残り部分と共に、酸を通路150の全長にわたって直ちに流すことにより化学的に溶解する次の段階の間、非常に重要な役割りを果たす。このようにして、可溶性インサート152と追加層16Aの残り部分16とを化学的に溶解する時間の短縮が、製造工程の終わりに行われ芯体11が取出せるようにする中間層12の溶解の場合のように、非常に大きく、そしてこの作用は芯体11の通路120に沿う酸の加速された循環から得られる。

0059

フィラメント状のインサート151に重ねられた可溶性のインサート152によって構成されたインサート15は通路150の中に置かれまた種々の通路150の間の本体14のリブ140(図3)に対し通路の頂上部分にそれぞれの小さな段部を残す。この結果、熱噴霧(VPS)による追加層16A、例えば鉄の追加層の次の付着の間、鉄は十分な接着力で付着されるが、その理由は通路150の段付き頂上部分に突入する層16Aの各部分の間から得られる固定作用のためである。

0060

通路150の最後の充填はしたがって鉄を好ましくは真空又は低圧力のもとに、熱噴霧することにより行われる。この付着層16は、表面を機械加工して本体14のリブ140の頂部を露出した後(図4)、通路の部分と次の層17に必要な凹凸部とに正確さを保証する。

0061

ある場合に、通路150の部分と必要な凹凸部との正確さの要求がさほど厳しくなかったならば、新しい層17は可溶性インサート152の有機結合剤上に直接付着させることができ、そしてこのような状況のもとにインサートはリブ140の頂端と同一面上にあるようになる。層16Aを付着させこの層を部分16だけが通路150を仕上げた状態となるまで機械加工することからなる段階を省略することができる。

0062

全ての場合、材料17の層による通路150の閉鎖と外側囲壁18を構成するための材料の形成とは熱噴霧により、特に真空噴霧又は低圧噴霧により、同一のプラズマトーチ23を用いて行われ、形成されている構造体10は回転テーブル21上の所定位置にある芯体11上に置かれたままとなっている。熱障壁13と本体14を形成する時のように、通路150を閉鎖するため層17を形成しまた外側囲壁18を形成する熱噴霧は支持芯体11が850℃以上に予め加熱されかつ噴霧の時間全体にわたってこの温度に保持された後に支持芯体11上で行われ、熱は追加の加熱装置24によって行きわたるよう分配される。

0063

通路150は最初、例えばCu−Ag−Zr合金粉末を噴霧し閉鎖層17を形成することにより閉鎖され、次に外側囲壁18が例えばニッケル基材の合金の粉末を噴霧することにより形成される。

0064

Cu−Ag−Zrを噴霧する時、粉末の粒子は10μmから63μmの範囲の大きさとすることができ、この粉末は低い酸素含有量(<150ppm )を有していなければならない。

0065

囲壁18を形成するのに用いる合金の最適の選択は噴霧可能性、物理的特性、相互拡散性、及び熱処理サイクル類似性の点について銅基材(例えばCu−Ag−Zr)の下側層17との適合性を考慮する。Cu−Ag−Zrを含む、銅を基材とする再生回路室を形成する時、この用いられる合金はニッケル−銅を基材とする型(MONEL K500又はNU30AT)の合金である。

0066

上記のように、囲壁18が形成された後、構造体10の本体14の通路150の可溶性のインサート152と支持芯体11の通路120の可溶性のインサートと鉄を用いて付着された中間層12,16とは全て、塩化水素酸を脱気された媒体中で循環させることにより、取除かれる。本体14の通路150の底と芯体11の通路120の底とに間隙151が存在し、また通路150と120の全長にわたって延びているため、酸の循環が非常に迅速に行われ、それにより構造体を形成する工程を加速するとともに最終構造体10又は芯体11の構成要素は腐食されることがなくなる。

0067

芯体11が製造工程の全体にわたって構造体10に固定されたままでありそのため熱噴霧の過程と機械加工の段階とのための治工具としての働きをするのを認識することが重要である。位置決め精度はしたがって非常に高くまた本体14の壁の厚さが非常に小さく、例えば0.7mm又はそれ以下のオーダーであっても通路150を機械加工することができる。

0068

図1は本発明により実施された再生回路10を形成する層の断面図であり、再生回路10は熱障壁13と本体10と通路150を閉鎖する層17と外側囲壁18とを含んでいる。図1はさらに、製造の間一時的な役割りを演じかつ再生回路の最終構造体10の部分を形成しない要素、すなわち支持芯体11と、中間層12と、フィラメント状のインサート151と可溶性のインサート152とからなるインサート15と、通路150を被覆するための層の要素16とを示している。

0069

図10は、上記のように実施された熱障壁を有する再生回路を形成する時本発明の方法によって得られた最終製品の一部分の破截断面図である。この場合、熱障壁13は例えばジルコニウム基材の薄い表層の第1の熱障壁131と、MCrAlY合金を基材とする第2の熱障壁132とを具備している。この熱障壁13は、銅合金で作られその通路150がそれ自体ニッケルの囲壁18で被覆された銅合金層17によって閉鎖されているジャケット(冷却筒)14の内面に形成される。

0070

変更実施態様では、再生回路の製造中、多孔性の層17′、例えば多孔性銅の層を銅基材の層17とニッケル基材の層18との間にプラズマを形成することにより付着することができ、この多孔層はニッケル基材の層18を付着する前に銅基材の層17の上に直接熱噴霧することにより得られる。このような多孔層17′は随意に残される。

0071

図13は本発明の製造方法の一例の主なる段階201から212までを要約するフローチャート(工程図)である。

0072

段階201はしたがって、例えば純銅基材の再使用可能で製造されるべき構造体の形状がそのように要求された場合に少なくとも2つの部分で作ることのできるようになっている成形された支持芯体11を形成することからなり、この支持芯体はその周面に機械加工することにより作られる長手方向の通路又は溝120が設けられる。

0073

段階202はインサートを通路120に配置することからなり、フィラメント状のインサートが一時的に通路120の底に存在し、可溶性のインサート122が有機結合剤と粉末とを用いて形成され、その後にフィラメント状インサートが取出され通路120の底に空洞121Aを残すようにする。

0074

段階203は中間層12を可溶性インサート122が取付けられた支持芯体11上に付着させることからなり、この付着は熱噴霧により行われ、ついで中間層12を機械加工し構造体10の内側形状を正確に区画形成する。

0075

段階204は熱障壁13を熱噴霧により形成することからなり、支持芯体は850℃より高い温度に保持される。

0076

段階205は構造体10の基部本体14を熱噴霧により形成することからなり、支持芯体は850℃より高い温度に保持される。

0077

段階206は構造体10の基部本体14の外面の形状と通路150とを機械加工することからなる。

0078

段階207はインサート15を通路150に置くことからなり、フィラメント状インサート151が通路150の底に一時的に存在し、可溶性インサート152が有機結合剤と粉末とにより形成され、フィラメント状インサート151は取出され通路150の底に空洞151Aを形成する。

0079

随意の段階208は純鉄の層16Aを熱噴霧により基部本体14上に付着させることからなり、この層は通路150の頂上部分に固定され、層16Aは通路150の形状と凹凸部とを区画形成する。

0080

段階208と関連する段階208は層16Aを機械加工し通路150の間の基部本体14のリブ140の頂端を露出させる。

0081

段階210は、通路150を熱噴霧により閉鎖し閉鎖層17を形成しまた支持芯体11は850℃より高い温度に保持されることからなり、前記温度は材料を熱噴霧するのに依然として保持され外側囲壁18を形成し、多孔性層17′は外側囲壁18が付着される前に随意に付着される。

0082

段階211は溝を機械加工し再生回路を構成する構造体10の外側を機械加工することからなっている。

0083

段階212は、通路120と150に依然として位置する可溶性のインサートが純鉄の中間層12と16と共に通路120と150の底に沿って迅速に循環する酸により化学的に溶解され、その後に支持芯体11が回収できる、最終段階である。

0084

図9を参照して、図10回路の熱障壁13が、フィン19Aの間に長手方向の通路195Aを残している半径方向のフィン19Aを有するフィン付き熱交換器に置換えられた再生回路をもたらす、本発明の方法の特定実施態様が記載される。

0085

図9の場合は、上記方法に類似することのできる方法で鉄の中間層12を芯体11上に形成する段階の後に、Cu−Ag−Zr合金のような銅基材の合金を例えば中間層12の上に付着させる段階と、また銅基材の合金を機械加工し間に空の空間又は通路195Aが形成される半径方向のフィン19Aを区画形成する段階とが続く。

0086

この特定実施態様では、半径方向のフィン19Aが、幾分か大きくかつフィンの高さhと幅lとの間の比が1より大きいような高さhを有しそれによりフィン19Aがその間に図8に示す実施態様の芯体11の通路120に実質的に均等な高さを有する空隙195Aを区画形成するようになっている。

0087

その後に、通路の形式の空の空間195Aが、上記したように芯体11の通路120又は本体14の通路150を部分的に充たす作用と同様なやり方で部分的に充たされる。このようにして、フィラメント状のインサートは一時的にフィン19Aの間の空隙195Aの底に挿入され前記空隙195Aを可溶性インサート192によって部分的に充たし、インサート192の下側には空間191Aがフィラメント状インサートの除去部分に形成されるようにする。可溶性インサート192は好ましくはフィン19Aの頂端から段部が残され鉄の層をVPS方法で付着させるようにし、この層が可溶性インサート192に関して空隙195Aの空の部分を充たしまたフィン19Aを被覆する。

0088

この次の段階は鉄の層を機械加工しそれより銅基材のフィン19Aが現われまた鉄の薄い層193だけが各可溶性インサート192の頂端に残るようにし、前記層193はフィン19Aの頂面と同一平面上にある。銅基材の合金が次に付着され再生回路の本体14を形成し、その後に図3から5を参照して記載したのと同じやり方で通路150がここで機械加工され、通路150は図3に示されるように可溶性インサート152により部分的に充たされ、鉄の層はVPS方法により付着され(図3に示されるように)、そして前記鉄の層は機械加工され通路150の間に区画形成されたフィン又はリブ140が現われるようにする(図4に示されるように)。

0089

次の段階は銅基材の合金17を付着しついでニッケル基材の合金18を付着することからなっている。変更例では、多孔性の銅の層17′もまたニッケル基材の合金18を付着する前に付着することができる。

0090

最後の段階は酸をフィン19Aの間に形成された空洞191Aの中を循環させ可溶性インサート192と鉄の残りの層193と鉄の中間層12とを迅速に溶解させ、それにより芯体11を回収し再使用できるようにすることからなっている。

0091

再生回路が図9を参照して記載した方法の変更例により形成された時は、芯体11上に形成された中間層12に対面して開口する空洞195Aをその間に区画形成する働きをするフィン19Aが存在することが認められる。このような情況のもとに、これらの空洞195Aは芯体11の空洞120として作用することができ、また芯体11は溝のない普通の構造とすることができる。図9を参照して記載した方法はしかし図8に示されるような溝付きの芯体を用いるのに適合したままとなっている。このような情況のもとに、芯体11の中間層12の一方の側に形成された第1の組の空洞120と、本体14に中間層12の他方の側で連結されたフィン19Aの間に形成された第2の組の空洞195Aとだけが存在する。

0092

図11と12を参照すると、本発明の方法の他の実施態様が記載され、図10の回路の熱障壁13が、その間に長手方向の通路195Bを残す半径方向のフィン19Bを有するフィン付き熱交換器で置換えられており、この半径方向のフィン19Bは小さな高さhを有し、半径方向のフィン19Bの高さhとこれらフィンの幅lとの間の比が1より小さいか又は1に等しくなっている。この特定実施態様において、支持芯体11上に中間層12を形成する段階は芯体11の周りに規則正しく分配されている一連の通路120を形成する段階の後に行われ、溝の形式の通路120は芯体11に外側から機械加工されまた特に図13を参照して述べたように可溶性のインサートにより充填される。

0093

図12の特定実施態様によれば、この方法は、中間層12を支持芯体11上に形成する段階の後に、h/l≦1のような高さhと幅lを有する外側溝を中間層12に機械加工することからなる追加の段階を含み、構造体10の本体14を熱噴霧により形成する次の段階の間に半径方向のフィン19Bが形成できるようにしている。

0094

この場合、フィン19Bの間の空間195Bは中間層12が溶解されるまで中間層12の材料によって占有されまたこの空間195Bは図9の空間195Aとは異なり中間層12に対面するよう開口する通路を区画形成するよう作用することはできない。図12の実施態様では、芯体11の周りに通路120を設けるのはしたがって必須のことであり、随意のものではない。

0095

図11は、中間層12が溶解された後、図12を参照して示される方法により製造された壁の一部の形態を示している。

図面の簡単な説明

0096

図1本発明の製造方法を用いて形成された再生回路の壁の断面図であり、最終の再生回路を構成する様々な構成要素とこの方法の実施中に一時的に存在する様々な要素とを示している。
図2本発明の方法を実施するための装置の一例を示す概略図である。
図3本発明の製造方法の最初の段階の間の再生回路の壁の断面図である。
図4図3の段階の次の段階における再生回路の壁の断面図である。
図5図4の段階の次の段階における再生回路の壁の断面図である。
図6本発明の方法を実施する時に用いることのできる再使用可能な支持芯体の一例の軸方向断面図である。
図7図6の VII−VII 線による断面図である。
図8図7の一部の拡大図で再使用可能な支持芯体を製造する工程の一部を示す図である。
図9フィン付きの熱交換器の壁の製造に適用された特定実施態様の場合の製造工程の一部を示す再生回路の壁の断面図である。
図10熱障壁型の本発明の再生回路の最終壁の断面図である。
図11フィン付き熱交換器型の本発明の再生回路の最終壁の断面図である。
図12フィン付き熱交換器の壁の製造に適用された他の特定実施態様の場合における製造工程の一部を示す再生回路の壁の断面図である。
図13本発明の製造方法の一例の主なる段階を連続して示すフローチャートである。
図14電気溶着に基づく公知の方法を用いて製造された再生回路の壁の断面図である。
図15プラズマ−成形法による公知の方法を用いて製造された再生回路の壁の断面図である。

--

0097

10…構造体
11…支持芯体
12…中間層
13…微細付着層(熱障壁)
14…本体
15…インサート
16A…追加層
17…閉鎖層(合金)
18…囲壁
19A…フィン
21…回転テーブル
22…ロボット
23…プラズマトーチ
24…加熱手段(加熱装置)
30…ノズル
31…上流側部分
32…狹さく部分
33…分岐部分
111…部分
112…部分
113…シャフト(回転軸線)
114…シャフト
116…ハウジング
117…ワッシャー
120…通路(溝)
121A…空洞
122…可溶性インサート
140…リブ
150…通路
151…フィラメント状インサート
152…可溶性インサート

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