図面 (/)

この項目の情報は公開日時点(1999年1月22日)のものです。
また、この項目は機械的に抽出しているため、正しく解析できていない場合があります

図面 (3)

課題

各種製造装置の処理データを逐一監視し、必要に応じて警告を発したり装置の稼動を停止させたりすることにより、不良品の発生を未然に防ぐ。

解決手段

製造装置1は稼働中の処理データ(実動処理データ)を制御装置2へ送信する。実動処理データを受信した制御部2は、該データを装置データ記憶部12に蓄え、処理データ記憶部14に記憶された設定処理データや、処理データスペック記憶部15に記憶された処理データの許容範囲と、前記装置データ記憶部12に蓄えられた実動処理データとを比較し、必要に応じて設定条件の変更や製造装置のメンテナンスを促す警告を表示装置4に表示させる。

概要

背景

各種製品は、その構造により異なる製造工程で、種々の製造装置による部品の形成・加工等により製造されている。これらの製造装置は、生産稼動するにあたって、製品の目的とする構造の形成や性能を満たす形状に部品を形成・加工することができるように製造装置の動作を制御するため、各々の製造装置には予め製品に適合した形成・加工条件が処理データとして設定されており、該処理データに基づいて形成或いは加工を行っている。なお、これら各種製造装置はコンピュータ等の制御装置により一括管理される場合が多く、前記処理データの設定等も制御装置によって行われることがある。

特に、近年その生産量が増加している液晶表示装置の製造にあっては、ガラス等の透光性絶縁基板上に金属層半導体層、更には絶縁層等を数百nm〜数μm程度の膜厚に形成し、これらを数μm〜数百μm程度の寸法で加工する必要がある。液晶表示装置の表示品位はこれらの膜厚や寸法によって左右されるため、これらの値は製造される液晶表示装置の機種毎に定められた基準値またはその許容範囲以内にする必要がある。

上述した液晶表示装置の製造装置の一つに、ドライエッチング装置がある。この装置は、処理室内に一対の電極があり、該処理室内に反応ガスを導入する配管が接続されており、エッチング処理の際には一方の前記電極を接地電位とすると共に他方の前記電極に高周波電圧印加してプラズマを発生させることによって、前記一対の電極上に載置された基板上の薄膜エッチングするものである。

このドライエッチング装置では、被エッチング物エッチレート選択比等は、反応ガスのガス圧ガス流量ガス混合比等によって制御される。したがって、該ドライエッチング装置においては、前記被エッチング物の加工寸法を制御するために、処理データとして前記ガス圧、ガス流量、ガス混合比等が設定されている。

上述したドライエッチング装置においては、前記ガス圧、ガス流量、ガス混合比等は、エッチング処理を繰り返すうちに予め設定された値から経時的に変動してしまうため、前記エッチレートや選択比等が変動することがある。特に、液晶表示装置のような微細加工を必要とする製品を製造する製造装置においては、上述したガス圧、ガス流量、ガス混合比等の処理データの変動が僅かなものであっても不良品となる場合が多いため、これらの処理データを逐一監視し、ドライエッチング装置が正常に動作しているかどうかを管理する必要がある。

概要

各種製造装置の処理データを逐一監視し、必要に応じて警告を発したり装置の稼動を停止させたりすることにより、不良品の発生を未然に防ぐ。

製造装置1は稼働中の処理データ(実動処理データ)を制御装置2へ送信する。実動処理データを受信した制御部2は、該データを装置データ記憶部12に蓄え、処理データ記憶部14に記憶された設定処理データや、処理データスペック記憶部15に記憶された処理データの許容範囲と、前記装置データ記憶部12に蓄えられた実動処理データとを比較し、必要に応じて設定条件の変更や製造装置のメンテナンスを促す警告を表示装置4に表示させる。

目的

本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、各種製造装置の処理データを逐一監視し、必要に応じて警告を発したり装置を停止させたりすることにより、不良品の発生を未然に防ぐことができる製造装置の処理データ監視システムを提供することを目的とするものである。

効果

実績

技術文献被引用数
2件
牽制数
6件

この技術が所属する分野

ライセンス契約や譲渡などの可能性がある特許掲載中! 開放特許随時追加・更新中 詳しくはこちら

請求項1

製品を製造するための各種工程に使用され、予め設定された処理データに基づいて稼動する複数の製造装置と、前記各製造装置の管理を行う制御装置とを備えた製造装置の処理データ監視システムであって、前記各製造装置は稼働中の処理データを検出するセンサを有し、前記制御装置は、予め各製造装置毎に設定された処理データと前記製品が正常に製造される為の処理データの許容範囲とを記憶し、前記センサによって検出された処理データが予め各製造装置毎に設定された処理データから外れた場合には警告を表示し、前記センサによって検出された処理データが予め各製造装置毎に設定された処理データの許容範囲から外れた場合には該製造装置を停止させることを特徴とする製造装置の処理データ監視システム。

請求項2

前記製品が液晶表示装置であることを特徴とする請求項1記載の製造装置の処理データ監視システム。

技術分野

0001

本発明は、複数の製造装置製造管理コンピュータ等の制御装置により行う製造装置の処理データ監視システムに関するものである。

背景技術

0002

各種製品は、その構造により異なる製造工程で、種々の製造装置による部品の形成・加工等により製造されている。これらの製造装置は、生産稼動するにあたって、製品の目的とする構造の形成や性能を満たす形状に部品を形成・加工することができるように製造装置の動作を制御するため、各々の製造装置には予め製品に適合した形成・加工条件が処理データとして設定されており、該処理データに基づいて形成或いは加工を行っている。なお、これら各種製造装置はコンピュータ等の制御装置により一括管理される場合が多く、前記処理データの設定等も制御装置によって行われることがある。

0003

特に、近年その生産量が増加している液晶表示装置の製造にあっては、ガラス等の透光性絶縁基板上に金属層半導体層、更には絶縁層等を数百nm〜数μm程度の膜厚に形成し、これらを数μm〜数百μm程度の寸法で加工する必要がある。液晶表示装置の表示品位はこれらの膜厚や寸法によって左右されるため、これらの値は製造される液晶表示装置の機種毎に定められた基準値またはその許容範囲以内にする必要がある。

0004

上述した液晶表示装置の製造装置の一つに、ドライエッチング装置がある。この装置は、処理室内に一対の電極があり、該処理室内に反応ガスを導入する配管が接続されており、エッチング処理の際には一方の前記電極を接地電位とすると共に他方の前記電極に高周波電圧印加してプラズマを発生させることによって、前記一対の電極上に載置された基板上の薄膜エッチングするものである。

0005

このドライエッチング装置では、被エッチング物エッチレート選択比等は、反応ガスのガス圧ガス流量ガス混合比等によって制御される。したがって、該ドライエッチング装置においては、前記被エッチング物の加工寸法を制御するために、処理データとして前記ガス圧、ガス流量、ガス混合比等が設定されている。

0006

上述したドライエッチング装置においては、前記ガス圧、ガス流量、ガス混合比等は、エッチング処理を繰り返すうちに予め設定された値から経時的に変動してしまうため、前記エッチレートや選択比等が変動することがある。特に、液晶表示装置のような微細加工を必要とする製品を製造する製造装置においては、上述したガス圧、ガス流量、ガス混合比等の処理データの変動が僅かなものであっても不良品となる場合が多いため、これらの処理データを逐一監視し、ドライエッチング装置が正常に動作しているかどうかを管理する必要がある。

発明が解決しようとする課題

0007

しかしながら、従来では各種製造装置が予め設定された処理データの通りに動作しているかどうかは人手によって定期的に監視していたので、前記製造装置の処理データを逐一監視することが困難であり、更に多大な人員や労力を要するばかりでなく、処理データの変動による不良品が発見されて初めてメンテナンスを行うことが多かった。そのため、生産効率が非常に低下してしまうという問題点があった。

0008

従って、処理データの変動を逐一監視し、不良品の発生を未然に防ぐような処理データ監視システムの構築が望まれていた。

0009

本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、各種製造装置の処理データを逐一監視し、必要に応じて警告を発したり装置を停止させたりすることにより、不良品の発生を未然に防ぐことができる製造装置の処理データ監視システムを提供することを目的とするものである。

課題を解決するための手段

0010

本発明の請求項1記載の製造装置の処理データ監視システムは、製品を製造するための各種工程に使用され、予め設定された処理データに基づいて稼動する複数の製造装置と、前記各製造装置の管理を行う制御装置とを備えた製造装置の処理データ監視システムであって、前記各製造装置は稼働中の処理データを検出するセンサを有し、前記制御装置は、予め各製造装置毎に設定された処理データと前記製品が正常に製造される為の処理データの許容範囲とを記憶し、前記センサによって検出された処理データが予め各製造装置毎に設定された処理データから外れた場合には警告を表示し、前記センサによって検出された処理データが予め各製造装置毎に設定された処理データの許容範囲から外れた場合には該製造装置を停止させることを特徴とするものである。

0011

したがって、製造装置の稼働中の処理データを逐一監視することができるので、不良品の発生を未然に防ぐことができるとともに、製造装置の管理を容易に行うことができる。

0012

また、請求項1記載の製造装置の処理データ監視システムは、製品としての液晶表示装置の製造に適用されることによって、処理データの厳しい管理が必要な場合であっても容易に管理することができる。

発明を実施するための最良の形態

0013

本発明の処理データ監視システムの概要図を図1に示す。図1において、1は各種製造装置、2はコンピュータ等の制御装置、3は入力装置、4は表示装置であり、これらによって製造装置の処理データ監視システムが構築されている。前記製造装置1には、各処理データを検出するセンサ5が設けられている。また、前記製造装置1と制御装置2とは、例えば通信回線等を介して接続されており、これによって処理データの送受信を行うようになっている。

0014

なお、以下の説明では、予め製品の機種応じて設定される処理データを設定処理データと呼び、稼働中の製造装置から送信される実際の処理データを実動処理データと呼ぶことにする。

0015

前記制御装置2は、各製造装置別に、製品の機種に応じた設定処理データを記憶する処理データ記憶部14と、製品を正常に製造するための処理データの許容範囲を記憶する処理データスペック記憶部15とを有している。

0016

また、前記各々の製造装置1へ製品の機種に応じた設定処理データを送信すると共に、前記各々の製造装置1から逐一送信される実動処理データを受信する装置データ通信管理部11と、該装置データ通信管理部11へ送られた各製造装置の実動処理データを各製造装置別に記憶する装置データ記憶部12とを有している。なお、前記装置データ通信管理部11から各製造装置へ送信される設定処理データは、前記処理データ記憶部14を参照して送信される。

0017

また、機種毎の装置生産条件登録する装置条件テーブル17と、表示する警告の内容が登録された警告表示テーブル16とを有している。更に、表示させる警告内容や、停止させる装置を制御する警告表示管理部18を有している。なお、前記警告内容は表示装置4に表示され、製造装置の停止命令は前記装置データ通信管理部11を介して行われる。

0018

また、警告を表示させたり装置を停止させた場合、その警告内容や停止させた装置の情報等を履歴記憶部13に記憶する。該履歴記憶部13には、警告内容に対して製造装置に何らかの対処を行った場合、その対処内容も記憶するものであり、該処理内容作業員によって入力装置3を介して入力される。

0019

以下に、本発明の実施形態について、液晶表示装置の製造に用いるドライエッチング装置を例にとって説明する。上述したように、ドライエッチング装置においてはガス圧、ガス流量、ガス混合比等の処理データによって被エッチング物の加工寸法が制御される。したがって、ドライエッチング装置には、ガス圧計ガス流量計ガス分析器等のセンサが設けられている。

0020

このようなドライエッチング装置に被エッチング物である製造途中の液晶表示装置用基板搬入されると、搬入された基板の機種に応じた設定処理データが制御装置2の装置データ通信管理部を経てドライエッチング装置に送られ、ドライエッチング装置は該設定処理データに基づいてエッチング処理を行う。

0021

エッチング処理を行っている間、ドライエッチング装置の実動処理データは制御装置2へ逐次送信され、制御装置2は、図2に示されるフローに示されるように、前記実動処理データと設定処理データとを見比べながら、必要に応じて警告の表示等を行っている。

0022

以下、図2に示されたフローに基づいて説明する。前記ドライエッチング装置は、ガス圧計、ガス流量計、ガス分析器等の複数種類の実動処理データを制御装置2へ送信し、該制御装置2は、S1に示されるように、送信された前記実動処理データを装置データ通信管理部11を介して装置データ記憶部12に記憶する。

0023

次に、S2に示されるように、装置データ記憶部12に記憶された実動処理データと、処理データ記憶部14に記憶されている設定処理データとを比較する。

0024

更に、前記実動処理データと設定処理データとが異なっていれば、S3に示されるように、前記実動処理データが、処理データスペック記憶部15に記憶されている処理データの許容範囲に含まれるかどうかを判定する。

0025

前記実動処理データが処理データの許容範囲に含まれていれば、S4に示されるように、実動処理データの挙動に応じて、予め警告表示テーブル16に設定されている警告のうちの一つ又は複数を表示装置4に表示する。警告内容としては、例えば、過去n点が連続して上昇傾向にある、過去n点が連続して減少傾向にある、スペック(許容範囲)の限界値に近づきつつある、等が挙げられる。この場合、S5に示されるように、作業員は必要であれば前記警告内容に応じた対処を行う。

0026

また、前記実動処理データが処理データの許容範囲から外れていれば、S6、S7に示されるように、処理データがスペックをオーバーしたことを示す警告を表示し、装置を停止させる。更に、S8に示されるように、作業員は前記警告内容に応じた対処を行い、これが完了すれば装置を再始動させる。

0027

そして、S9に示されるように、上述した警告内容及び停止させた装置の情報、更にそれらに対して行われた対処内容、警告が発せられた日時等を履歴記憶部13に記憶する。なお、前記対処内容は作業員によって入力装置3を介して入力される。

0028

更に、S10に示されるように表示された警告を解除する。このように、警告内容及びそれに対して行われた対処内容は履歴記憶部13に記憶されているので、後にこれらを参照することが可能となり、各製造装置に対して装置異常の傾向を把握することができる。

0029

なお、本実施形態においては、監視すべきデータとしてガス圧、ガス流量、ガス混合比を例に挙げて説明したが、その他にもジャストエッチング時間やジャストエッチング電圧電極温度等のデータについて監視するようにしても良い。

0030

また、本実施形態においては、製造装置としてドライエッチング装置を例にとって説明したが、これに限らずプラズマCVD装置スパッタ装置ウェットエッチング装置レジスト塗布装置露光装置等にも適用することができる。

0031

例えば、プラズマCVD装置であれば、成膜時間、ガス圧、ヒーター温度、RF入射角、RF反射角等のデータについて監視するのが望ましい。また、スパッタ装置であれば、積算電力成膜温度、加熱時間、処理圧力、DCパワーDC電流振動回数等のデータについて監視するのが望ましい。また、ウエットエッチング装置であれば、トータルの処理時間、薬液使用回数、薬液に浸している時間、薬液温度等のデータについて監視するのが望ましい。また、レジスト塗布装置であればレジスト流量等のデータについて監視するのが望ましい。また、露光装置であれば、UVランプ使用時間、装置内温度等のデータについて監視するのが望ましい。

発明の効果

0032

以上説明したように、本発明の製造装置の処理データ監視システムは、製品を製造するための各種工程に使用され、予め設定された処理データに基づいて稼動する複数の製造装置と、前記各製造装置の管理を行う制御装置とを備えた製造装置の処理データ監視システムであって、前記各製造装置は稼働中の処理データを検出するセンサを有し、前記制御装置は、予め各製造装置毎に設定された処理データと前記製品が正常に製造される為の処理データの許容範囲とを記憶し、前記センサによって検出された処理データが予め各製造装置毎に設定された処理データから外れた場合には警告を表示し、前記センサによって検出された処理データが予め各製造装置毎に設定された処理データの許容範囲から外れた場合には該製造装置を停止させることによって、製造装置の稼働中の処理データを逐一監視することができるので、不良品の発生を未然に防ぐことができるとともに、製造装置の管理を容易に行うことができるという効果を奏する。

0033

また、前記警告内容や停止させた装置の情報、更にはそれらに対して行われた対処内容、警告が発せられた日時等を記憶させることによって、後にこれらを参照することが可能となり、各製造装置に対して装置異常の傾向を把握することができるという効果を奏する。

0034

また、製品としての液晶表示装置の製造に適用されることによって、処理データの厳しい管理が必要な場合であっても容易に管理することができるという効果を奏する。

図面の簡単な説明

0035

図1本発明の製造装置の処理データ監視システムの概要を示す図である。
図2本発明の製造装置の処理データ監視システムの動作を示すフロー図である。

--

0036

1製造装置
2制御装置
3入力装置
4表示装置
5センサ
11装置データ通信管理部
12 装置データ記憶部
13履歴記憶部
14 処理データ記憶部
15 処理データスペック記憶部
16警告表示テーブル
17装置条件テーブル
18 警告表示管理部

ページトップへ

この技術を出願した法人

この技術を発明した人物

ページトップへ

関連する挑戦したい社会課題

関連する公募課題

ページトップへ

技術視点だけで見ていませんか?

この技術の活用可能性がある分野

分野別動向を把握したい方- 事業化視点で見る -

ページトップへ

おススメ サービス

おススメ astavisionコンテンツ

新着 最近 公開された関連が強い技術

  • 東芝マテリアル株式会社の「 半導体発光素子およびその製造方法」が 公開されました。( 2020/10/29)

    【課題・解決手段】実施形態に係る半導体発光素子は、発光ピーク波長が380nm以上425nm以下である。前記半導体発光素子は、反射層と、前記反射層の上に設けられた基板と、前記基板の上に設けられた半導体層... 詳細

  • ダイキン工業株式会社の「 ウェハーカップ」が 公開されました。( 2020/10/29)

    【課題】摩擦帯電および剥離帯電が起こりにくいウェハーカップを提供すること。【解決手段】テトラフルオロエチレン単位とフルオロ(アルキルビニルエーテル)単位とを含有する共重合体を含むウェハーカップであって... 詳細

  • アプライドマテリアルズインコーポレイテッドの「 静電基板支持体幾何形状の研磨」が 公開されました。( 2020/10/29)

    【課題・解決手段】本明細書では、プラズマ支援又はプラズマ強化の半導体製造チャンバで使用される静電チャック(ESC)基板支持体のパターン形成表面を研磨する方法を提供する。詳細には、本明細書に記載の諸実施... 詳細

この 技術と関連性が強い人物

関連性が強い人物一覧

この 技術と関連する社会課題

関連する挑戦したい社会課題一覧

この 技術と関連する公募課題

関連する公募課題一覧

astavision 新着記事

サイト情報について

本サービスは、国が公開している情報(公開特許公報、特許整理標準化データ等)を元に構成されています。出典元のデータには一部間違いやノイズがあり、情報の正確さについては保証致しかねます。また一時的に、各データの収録範囲や更新周期によって、一部の情報が正しく表示されないことがございます。当サイトの情報を元にした諸問題、不利益等について当方は何ら責任を負いかねることを予めご承知おきのほど宜しくお願い申し上げます。

主たる情報の出典

特許情報…特許整理標準化データ(XML編)、公開特許公報、特許公報、審決公報、Patent Map Guidance System データ