図面 (/)

技術 光ファイバの無反射終端の作製方法

出願人 日本電信電話株式会社
発明者 村田則夫長岡新二
出願日 1995年6月23日 (25年5ヶ月経過) 出願番号 1995-179695
公開日 1997年1月10日 (23年10ヶ月経過) 公開番号 1997-005545
状態 未査定
技術分野 光ファイバ、光ファイバ心線 ガラス繊維またはフィラメントの表面処理 光ファイバの素線、心線
主要キーワード 計算曲線 無反射端 マスキング材 グラフト物 実用性能 無反射終端 過酸化物ラジカル ファイバカッタ
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(1997年1月10日)のものです。
また、この項目は機械的に抽出しているため、正しく解析できていない場合があります

図面 (4)

目的

容易にかつ極めて安価に光ファイバ無反射終端を作製する方法を提供する。

構成

光ファイバの端部を、溶融温度以上にしたエチレン酢酸ビニルコポリマー又はその変性物、あるいはそれらの混合物に埋め込み、冷却、固化する光ファイバの無反射終端の作製方法。変性物としては、例えば、エチレン酢酸ビニルアクリル酸無水マレイン酸等の酸グラフト物シランあるいはチタングラフト物ケン化物を使用することができる。

効果

光の反射減衰量を40dB以上に大きくすることができる。

概要

背景

光ファイバの端部を無反射端部とする方法としては、従来、図2の模式図に示すような光ファイバ端部を斜めにすることが行われている。この終端部を斜めにする方法としては、ファイバ端部にフェルールを取り付け、そのフェルールごと6から8゜程度に斜めに研磨する方法やマスキング材エッチング液で端部をエッチング処理して、斜めに溶解する方法等がある。この方法では、フェルールの値段が高く、更に、フェルール先端の研磨作業に手間と時間がかかり、高価格になるという問題があった。また、端部を圧壊機具で斜めに圧壊し、その先端を光ファイバのコアに近い屈折率を有する樹脂モールドする方法もあった。この方法は、簡単な方法であるが、圧壊による力が光ファイバに加わり光ファイバを強度低下させる問題や端部が確実に斜めにならない場合もあるという問題もある。また、石英系ファイバではコアの屈折率1.46を有する接着剤としては、フッ素系樹脂や特別に合成したシリコーン系樹脂があるが極めて特殊であり、値段が高いという欠点があった。

概要

容易にかつ極めて安価に光ファイバの無反射終端を作製する方法を提供する。

光ファイバの端部を、溶融温度以上にしたエチレン酢酸ビニルコポリマー又はその変性物、あるいはそれらの混合物に埋め込み、冷却、固化する光ファイバの無反射終端の作製方法。変性物としては、例えば、エチレン酢酸ビニルアクリル酸無水マレイン酸等の酸グラフト物シランあるいはチタングラフト物ケン化物を使用することができる。

光の反射減衰量を40dB以上に大きくすることができる。

目的

本発明は、このような現状にかんがみてなされたものであり、その目的は容易にかつ極めて安価に光ファイバの無反射終端を作製する方法を提供することにある。

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
0件

この技術が所属する分野

ライセンス契約や譲渡などの可能性がある特許掲載中! 開放特許随時追加・更新中 詳しくはこちら

請求項1

光ファイバの端部を、溶融温度以上にしたエチレン酢酸ビニルコポリマー又はその変性物、あるいはそれらの混合物に埋め込み、冷却、固化することを特徴とする光ファイバの無反射終端作製方法

請求項2

酢酸ビニル成分を50重量%以上含有するエチレン酢酸ビニルコポリマーを使用することを特徴とする請求項1に記載の光ファイバの無反射終端の作製方法。

請求項3

シラングラフト変性エチレン酢酸ビニルコポリマーで、かつ酢酸ビニル成分を50重量%以上含有するものを使用することを特徴とする請求項1に記載の光ファイバの無反射終端の作製方法。

請求項4

エチレン酢酸ビニルコポリマーの変性物、あるいはその変性物と酢酸ビニル成分を50重量%以上含有するエチレン酢酸ビニルコポリマーとの混合物を使用することを特徴とする請求項1に記載の光ファイバの無反射終端の作製方法。

技術分野

0001

本発明は、光の反射を防止できる石英系光ファイバ終端を形成するのに利用できる石英系光ファイバの無反射終端作製方法に関する。

背景技術

0002

光ファイバの端部を無反射端部とする方法としては、従来、図2の模式図に示すような光ファイバ端部を斜めにすることが行われている。この終端部を斜めにする方法としては、ファイバ端部にフェルールを取り付け、そのフェルールごと6から8゜程度に斜めに研磨する方法やマスキング材エッチング液で端部をエッチング処理して、斜めに溶解する方法等がある。この方法では、フェルールの値段が高く、更に、フェルール先端の研磨作業に手間と時間がかかり、高価格になるという問題があった。また、端部を圧壊機具で斜めに圧壊し、その先端を光ファイバのコアに近い屈折率を有する樹脂モールドする方法もあった。この方法は、簡単な方法であるが、圧壊による力が光ファイバに加わり光ファイバを強度低下させる問題や端部が確実に斜めにならない場合もあるという問題もある。また、石英系ファイバではコアの屈折率1.46を有する接着剤としては、フッ素系樹脂や特別に合成したシリコーン系樹脂があるが極めて特殊であり、値段が高いという欠点があった。

発明が解決しようとする課題

0003

本発明は、このような現状にかんがみてなされたものであり、その目的は容易にかつ極めて安価に光ファイバの無反射終端を作製する方法を提供することにある。

課題を解決するための手段

0004

本発明を概説すれば、本発明は光ファイバの無反射終端の作製方法に関する発明であって、光ファイバの端部を、溶融温度以上にしたエチレン酢酸ビニルコポリマー又はその変性物、あるいはそれらの混合物に埋め込み、冷却、固化することを特徴とする。

0005

添付図面の図1の模式図を参照すれば、本発明による詳細な作製方法は、まず、石英系光ファイバの端部をファイバカッタで切断あるいは圧壊機具で圧壊する。次に、予め適当な容器充てんした、例えばエチレン酢酸ビニルコポリマーを溶融温度以上にし、それに切断あるいは圧壊した光ファイバの端部を埋め込む(図1)。

0006

以下、本発明をより具体的に説明する。本発明の実施の態様としては、酢酸ビニル成分を50重量%以上含有するエチレン酢酸ビニルコポリマーを使用する、シラングラフト変性エチレン酢酸ビニルコポリマーで、かつ酢酸ビニル成分を50重量%以上含有するものを使用する、エチレン酢酸ビニルコポリマーの変性物、あるいはその変性物と酢酸ビニル成分を50重量%以上含有するエチレン酢酸ビニルコポリマーとの混合物を使用する等がある。本発明のエチレン酢酸ビニルコポリマーとしては、国内外のメーカから市販されているエチレン酢酸ビニルコポリマーを使用することができる。エチレン酢酸ビニルの変性物としては、例えば、エチレン酢酸ビニルのアクリル酸無水マレイン酸等の酸グラフト物シランあるいはチタングラフト物ケン化物を使用することができる。これらの変性物、あるいはそれらの変性物又はエチレン酢酸ビニルコポリマーとの混合物を用いることは、埋め込まれた光ファイバの端部を強力に接着固定できるという利点がある。特に、シラングラフト変性エチレン酢酸ビニルコポリマーを用いることは、埋め込まれた光ファイバの端部を強力に接着固定できるほか、その耐久性、例えば、60℃の温水に1年間漬けていても、光ファイバとはがれることはないという優れた実用性能発現できる光ファイバ無反射終端が実現できる。酢酸ビニル成分を50重量%以上含有するエチレン酢酸ビニルコポリマーを使用することは、その屈折率を1.456から1.467の範囲にすることができる(図3)ので、図4に示すように光の反射減衰量(この値が大きい程光の反射量が少なくなる)を40dB以上に大きくすることができる。すなわち、光の反射量が少なくなるので、無反射終端としての機能が向上する。なお、図3はエチレン酢酸ビニルコポリマーの酢酸ビニル含量と屈折率との関係を示す図であり、縦軸は1.32μmにおける屈折率、横軸は酢酸ビニル含量(wt%)を示す。また、図4光学接着剤の屈折率と反射減衰量の最大値との関係を示す図であり、縦軸は反射減衰量(dB)、横軸は1.32μmの光波長における屈折率を示す。

0007

なお、図4曲線は、石英系光ファイバ同士を透明な光学接着剤で接合した時の接着剤の屈折率と反射減衰量の最大値との関係を示した計算曲線である〔参考文献:中孔三郎ほか、NTT研究実用化報告、第38巻、第1号、p.81〜87(1989)〕。屈折率が1.43〜1.47範囲の接着剤を用いて光ファイバを接合すると、反射減衰量が40dB以上となることがわかる。また、図4黒丸は、酢酸ビニル含有量を変えたエチレン酢酸ビニルコポリマーに、光ファイバを埋め込んだ時の反射減衰量の実測値である。

0008

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。

0009

実施例1〜3
適当な容器に充てんした後記表1に示すようなエチレン酢酸ビニルコポリマーを溶融温度以上にし、予め石英系光ファイバの端部をファイバカッタで切断した端部を埋め込んだ。この光ファイバの終端の光減衰量を、光反射減衰量測定装置(1.3μmの光波長)で測定した。結果は表1に示すように、反射減衰量44dB以上であった。

0010

実施例4
シランカップリング剤γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(3重量%添加)を用いて、過酸化物ラジカル重合開始剤による溶融グラフト法によって作製したシラングラフト変性エチレン酢酸ビニルコポリマー(酢酸ビニル含量55重量%)10重量%を使用した。実施例1と同様にして作製した石英系光ファイバの終端の光減衰量の反射減衰量は47dBであった。また、この光ファイバの終端部を5時間煮沸しても、光ファイバは抜けることがなく、優れた耐水性を示した。なお、60℃の温水に1年間漬けていても、シラングラフト変性エチレン酢酸ビニルコポリマーと光ファイバははがれることはない。

0011

実施例5
シランカップリング剤γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(3重量%添加)を用いて、過酸化物ラジカル重合開始剤による溶融グラフト法によって作製したシラングラフト変性エチレン酢酸ビニルコポリマー(酢酸ビニル含量55重量%)10重量%を、エチレン酢酸ビニルコポリマー(酢酸ビニル含量 55重量%)と混合したポリマーを使用した。実施例1と同様にして作製した石英系光ファイバの終端の光減衰量の反射減衰量は48dBであった。また、この光ファイバの終端部を5時間煮沸しても、光ファイバは抜けることがなく、優れた耐水性を示した。

0012

実施例6
エチレン酢酸ビニルコポリマー(EVA)(酢酸ビニル含量55重量%)95重量部とエチレン酢酸ビニルグリシジルメタアクリレートターポリマー〔住友化学工業(株)製、ボンドファースト7B〕5重量部を混合したポリマーを使用した。実施例1と同様にして作製した石英系光ファイバの終端の光減衰量の反射減衰量は46dBであった。また、この光ファイバの終端部を1時間煮沸しても、光ファイバは抜けることがなく、優れた耐水性を示した。

0013

実施例7
エチレン酢酸ビニルコポリマー(酢酸ビニル含量55重量%)95重量部とエチレン酢酸ビニルコポリマー(酢酸ビニル含量 30重量%)の50%加水分解物〔武田薬品工業(株)製、C−1150〕にアクリル酸を2%グラフトしたもの5重量部を混合したポリマーを使用した。実施例1と同様にして作製した石英系光ファイバの終端の光減衰量の反射減衰量は46dBであった。また、この光ファイバの終端部を2時間煮沸しても、光ファイバは抜けることがなく、優れた耐水性を示した。

0014

発明の効果

0015

以上の説明で明らかなように、本発明の光ファイバの無反射終端の作製方法によれば、優れた光ファイバの無反射終端を、安価なエチレン酢酸ビニル系材料を用いることで、簡単かつ極めて低価格に製作できるという特徴を有している。

図面の簡単な説明

0016

図1本発明の1実施の態様を示す模式図である。
図2従来の光ファイバ端面斜め研磨を説明する模式図である。
図3エチレン酢酸ビニルコポリマーの酢酸ビニル含量と屈折率との関係を示す図である。
図4光学接着剤の屈折率と反射減衰量の最大値との関係を示す図である。

ページトップへ

この技術を出願した法人

この技術を発明した人物

ページトップへ

関連する挑戦したい社会課題

関連する公募課題

該当するデータがありません

ページトップへ

おススメ サービス

おススメ astavisionコンテンツ

新着 最近 公開された関連が強い技術

  • 株式会社デンソーの「 表示装置」が 公開されました。( 2020/09/24)

    【課題】光ファイバーを用いてより細かな複数パターンの形状の表示をより容易且つより迅速に切り替えて表示することを可能にする。【解決手段】マルチコアファイバー30と、波長の異なる複数色の光を出射する光源1... 詳細

  • 住友電気工業株式会社の「 耐候性難燃樹脂組成物並びに光ファイバケーブル及び電線」が 公開されました。( 2020/09/24)

    【課題・解決手段】ポリオレフィン樹脂と、前記ポリオレフィン樹脂100質量部に対して、特定構造の(ポリ)リン酸塩化合物の混合物をその合計含有量で10〜50質量部と、数平均分子量が1万〜100万の非架橋の... 詳細

  • 株式会社フジクラの「 光ファイバの製造方法及び光ファイバの製造装置」が 公開されました。( 2020/09/24)

    【課題】 希土類元素を含むコアを伝搬する光の損失を抑制し得る光ファイバの製造方法及び光ファイバの製造装置を提供することを目的とする。【解決手段】 希土類元素を含むシリカガラスから成るコア10と、コ... 詳細

この 技術と関連性が強い人物

関連性が強い人物一覧

この 技術と関連する社会課題

関連する挑戦したい社会課題一覧

この 技術と関連する公募課題

該当するデータがありません

astavision 新着記事

サイト情報について

本サービスは、国が公開している情報(公開特許公報、特許整理標準化データ等)を元に構成されています。出典元のデータには一部間違いやノイズがあり、情報の正確さについては保証致しかねます。また一時的に、各データの収録範囲や更新周期によって、一部の情報が正しく表示されないことがございます。当サイトの情報を元にした諸問題、不利益等について当方は何ら責任を負いかねることを予めご承知おきのほど宜しくお願い申し上げます。

主たる情報の出典

特許情報…特許整理標準化データ(XML編)、公開特許公報、特許公報、審決公報、Patent Map Guidance System データ