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目的

本発明の主な目的は、樹脂製品の表面に各種の機能性皮膜を形成するために有効な方法を提供することであり、特に、湿式法による比較的簡単な処理工程によって、作業環境地球環境汚染することなく、密着性に優れた機能性皮膜を樹脂製品上に形成する方法を提供することである。

構成

樹脂製品を下記の工程で処理することを特徴とする樹脂製品への機能性皮膜の形成方法

(1)樹脂製品に酸性基を導入する工程、

(2)上記(1)工程からの樹脂製品を金属イオン含有液で処理する工程、

(3)上記(2)工程からの樹脂製品に下記のいずれかの処理を施す工程:

(a)還元処理して、該樹脂製品に金属皮膜を形成する工程、(b)硫化物含有溶液で処理して、該樹脂製品に金属硫化物皮膜を形成する工程、(c)水酸化物含有溶液で処理した後、熱処理を行って、該樹脂製品に金属酸化物皮膜を形成する工程。

概要

背景

プラスチック樹脂製品に対するめっき処理や、プリント配線基板スルーホールめっき法、セミアディティブ法等におけるめっき処理において、不導体樹脂上に導電性皮膜を形成する方法として、古くから、無電解銅めっき処理が行われている。しかしながら、無電解銅めっき処理液に配合されているホルマリン発癌性の問題や、EDTA規制廃液海洋投棄の制限等により、無電解銅めっき処理を取り巻く環境が年々厳しくなってきている。

また、一般に、無電解めっき処理は、多くの工程からなるため、長時間を要し、しかも、無電解めっき処理液の管理が煩雑である等の問題がある。このため、無電解めっき処理に替わる、樹脂製品における新しい導電性皮膜形成方法が強く要望されている。

一方、近年、3−5族化合物半導体、2−6族化合物半導体等の各種の化合物半導体について、電子デバイス材料光デバイス材料等としての利用が進められており、特に、3−5族化合物半導体は、遷移エネルギーバンド構造を直接持つものが多く、高効率で電気光交換が可能である等の優れた点があり、その利用が期待されている。また、磁性皮膜としての性質を有する各種の合金金属酸化物等については、磁気メモリ材料、磁気ヘッド材料、光ディスクメモリ材料などとしての利用が進められている。一般に、これらの化合物半導体、磁性皮膜等の機能性皮膜を樹脂製品の表面に形成するためには、真空蒸着法スパッタリング法イオンプレーティング法等のPVD(物理蒸着)法が採用されているが、これらの方法は、連続操業ができず、高価な大型装置を必要とする等の問題点がある。このため、簡便で連続操業が可能な方法である湿式法によって、各種の機能性皮膜を樹脂製品の表面に形成できる方法の開発が望まれている。

概要

本発明の主な目的は、樹脂製品の表面に各種の機能性皮膜を形成するために有効な方法を提供することであり、特に、湿式法による比較的簡単な処理工程によって、作業環境地球環境汚染することなく、密着性に優れた機能性皮膜を樹脂製品上に形成する方法を提供することである。

樹脂製品を下記の工程で処理することを特徴とする樹脂製品への機能性皮膜の形成方法:

(1)樹脂製品に酸性基を導入する工程、

(2)上記(1)工程からの樹脂製品を金属イオン含有液で処理する工程、

(3)上記(2)工程からの樹脂製品に下記のいずれかの処理を施す工程:

(a)還元処理して、該樹脂製品に金属皮膜を形成する工程、(b)硫化物含有溶液で処理して、該樹脂製品に金属硫化物皮膜を形成する工程、(c)水酸化物含有溶液で処理した後、熱処理を行って、該樹脂製品に金属酸化物皮膜を形成する工程。

目的

本発明の主な目的は、樹脂製品の表面に各種の機能性皮膜を形成するために有効な方法を提供することであり、特に、湿式法による比較的簡単な処理工程によって、作業環境や地球環境を汚染することなく、密着性に優れた機能性皮膜を樹脂製品上に形成する方法を提供することである。

効果

実績

技術文献被引用数
5件
牽制数
13件

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請求項1

樹脂製品を下記の工程で処理することを特徴とする樹脂製品への機能性皮膜形成方法:(1)樹脂製品に酸性基を導入する工程、(2)上記(1)工程からの樹脂製品を金属イオン含有液で処理する工程、(3)上記(2)工程からの樹脂製品を還元処理して、該樹脂製品に金属皮膜を形成する工程。

請求項2

樹脂製品を下記の工程で処理することを特徴とする樹脂製品への機能性皮膜の形成方法:(1)樹脂製品に酸性基を導入する工程、(2)上記(1)工程からの樹脂製品を金属イオン含有液で処理する工程、(3)上記(2)工程からの樹脂製品を硫化物含有溶液で処理して、該樹脂製品に金属硫化物皮膜を形成する工程。

請求項3

樹脂製品を下記の工程で処理することを特徴とする樹脂製品への機能性皮膜の形成方法:(1)樹脂製品に酸性基を導入する工程、(2)上記(1)工程からの樹脂製品を金属イオン含有液で処理する工程、(3)上記(2)工程からの樹脂製品を水酸化物含有溶液で処理した後、熱処理を行って、該樹脂製品に金属酸化物皮膜を形成する工程。

請求項4

酸性基がスルホン酸基である請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。

技術分野

(1)樹脂製品酸性基を導入する工程、(2)上記(1)工程からの樹脂製品を金属イオン含有液で処理する工程、(3)上記(2)工程からの樹脂製品を還元処理して、該樹脂製品に金属皮膜を形成する工程。

背景技術

0001

本発明は、樹脂製品への機能性皮膜形成方法に関する。

0002

プラスチック樹脂製品に対するめっき処理や、プリント配線基板スルーホールめっき法、セミアディティブ法等におけるめっき処理において、不導体樹脂上に導電性皮膜を形成する方法として、古くから、無電解銅めっき処理が行われている。しかしながら、無電解銅めっき処理液に配合されているホルマリン発癌性の問題や、EDTA規制廃液海洋投棄の制限等により、無電解銅めっき処理を取り巻く環境が年々厳しくなってきている。

0003

また、一般に、無電解めっき処理は、多くの工程からなるため、長時間を要し、しかも、無電解めっき処理液の管理が煩雑である等の問題がある。このため、無電解めっき処理に替わる、樹脂製品における新しい導電性皮膜形成方法が強く要望されている。

発明が解決しようとする課題

0004

一方、近年、3−5族化合物半導体、2−6族化合物半導体等の各種の化合物半導体について、電子デバイス材料光デバイス材料等としての利用が進められており、特に、3−5族化合物半導体は、遷移エネルギーバンド構造を直接持つものが多く、高効率で電気光交換が可能である等の優れた点があり、その利用が期待されている。また、磁性皮膜としての性質を有する各種の合金金属酸化物等については、磁気メモリ材料、磁気ヘッド材料、光ディスクメモリ材料などとしての利用が進められている。一般に、これらの化合物半導体、磁性皮膜等の機能性皮膜を樹脂製品の表面に形成するためには、真空蒸着法スパッタリング法イオンプレーティング法等のPVD(物理蒸着)法が採用されているが、これらの方法は、連続操業ができず、高価な大型装置を必要とする等の問題点がある。このため、簡便で連続操業が可能な方法である湿式法によって、各種の機能性皮膜を樹脂製品の表面に形成できる方法の開発が望まれている。

0005

本発明の主な目的は、樹脂製品の表面に各種の機能性皮膜を形成するために有効な方法を提供することであり、特に、湿式法による比較的簡単な処理工程によって、作業環境地球環境汚染することなく、密着性に優れた機能性皮膜を樹脂製品上に形成する方法を提供することである。

0006

本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねてきた結果、例えばスルホン化等の方法によって樹脂製品にイオン交換性の酸性基を導入した後、これを金属イオン含有液で処理して金属イオン化学的吸着させ、その後、還元処理、硫化処理酸化処理等の処理を行う方法によれば、湿式法による比較的簡単な処理方法によって、該樹脂製品上に、導電性半導体特性磁性等の各種の優れた特性を有する密着性の良好な機能性皮膜を形成できることを見出し、ここに本発明を完成するに至った。

0007

即ち、本発明は、下記(i)〜(iii)の機能性皮膜の形成方法を提供するものである。

0008

(i)樹脂製品を下記の工程で処理することを特徴とする樹脂製品への機能性皮膜の形成方法:

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