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技術 光磁気ディスクの製造方法

出願人 ソニー株式会社
発明者 竹之内正樹
出願日 1994年6月30日 (26年5ヶ月経過) 出願番号 1994-149904
公開日 1996年1月19日 (24年10ヶ月経過) 公開番号 1996-017085
状態 未査定
技術分野 その他の記録再生2(光磁気記録等)
主要キーワード 樹脂受け 腐食発生 樹脂供給口 塗布部分 非晶質薄膜 キュリー点 供給タンク 遷移金属合金
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この項目の情報は公開日時点(1996年1月19日)のものです。
また、この項目は機械的に抽出しているため、正しく解析できていない場合があります

図面 (3)

目的

記録膜耐蝕性が向上され、耐久性が向上されて高い信頼性を有する光磁気ディスクを製造する。

構成

透明基板上の記録膜または反射膜上に形成され、紫外線硬化型樹脂スピンコーティング法により塗布して形成される保護膜の厚さを9.5μm以上とする。

概要

背景

光磁気記録方式は、磁性薄膜を部分的にキュリー点または温度補償点を越えて昇温し、この部分の保磁力消滅させて外部から印加される記録磁界の方向に磁化の向きを反転することを基本原理とするもので、光ファイルシステムコンピュータ外部記憶装置、あるいは音響、映像情報記録装置等において実用化されつつある。

この光磁気記録方式に用いられる光磁気ディスクとしては、図2に示すようなポリカーボネート等からなる透明基板101の一主面101a上に、膜面と垂直方向磁化容易軸を有し、且つ磁気光学効果の大きな記録膜(例えば希土類遷移金属合金非晶質薄膜)や反射膜誘電体膜を積層することにより記録部102を形成し、さらにこの記録部102の腐食を防止するために、記録部102上に紫外線硬化型樹脂等よりなる保護膜103を覆う如く形成したものが知られている。

そして、上記のような光磁気ディスクの保護膜は、一般に、いわゆるスピンコーティング法により紫外線硬化型樹脂を塗布した後、紫外線照射して硬化させることにより形成される。

上記スピンコーティング法とは、以下のようにして塗膜を形成する方法である。すなわち、図3(A)に示すように、透明基板上に記録部の形成された光磁気ディスク基板105を例えば図中矢印m1 で示す方向に低速で回転させながら、その一主面105a上の内周側に樹脂供給口106から紫外線硬化型樹脂107を供給する。すると、紫外線硬化型樹脂107は光磁気ディスク基板105の一主面105aの中央部付近に円を描くように塗布される。

次に、図3(B)に示すように、光磁気ディスク基板105を図中矢印m1 で示す方向に高速で回転させると、紫外線硬化型樹脂107は光磁気ディスク基板105の一主面105a上の外周側に広がって行き、その結果、図中に示すように一主面105a全面に塗膜が形成される。ただし、塗膜の膜厚は光磁気ディスク基板105の内周側において薄く、外周側において厚くなる。

なお、このとき、光磁気ディスク基板105の高速回転により余分な紫外線硬化型樹脂107は振り切られ、図中に示すように余分な紫外線硬化型樹脂107aとして光磁気ディスク基板105から飛び散る。

概要

記録膜の耐蝕性が向上され、耐久性が向上されて高い信頼性を有する光磁気ディスクを製造する。

透明基板上の記録膜または反射膜上に形成され、紫外線硬化型樹脂をスピンコーティング法により塗布して形成される保護膜の厚さを9.5μm以上とする。

目的

そこで本発明は、従来の実情に鑑みて提案されたものであり、記録膜の耐蝕性を向上させ、耐久性が向上されて高い信頼性を有する光磁気ディスクの製造を可能とする光磁気ディスクの製造方法を提供することを目的とする。

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
0件

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請求項1

透明基板上に形成される記録膜または反射膜上に紫外線硬化型樹脂スピンコーティング法により塗布し、保護膜を形成する光磁気ディスクの製造方法において、保護膜の厚さを9.5μm以上とすることを特徴とする光磁気ディスクの製造方法。

技術分野

0001

本発明は、光磁気ディスクの製造方法に関し、詳細には記録膜または反射膜上に形成される保護膜の形成に関する。

背景技術

0002

光磁気記録方式は、磁性薄膜を部分的にキュリー点または温度補償点を越えて昇温し、この部分の保磁力消滅させて外部から印加される記録磁界の方向に磁化の向きを反転することを基本原理とするもので、光ファイルシステムコンピュータ外部記憶装置、あるいは音響、映像情報記録装置等において実用化されつつある。

0003

この光磁気記録方式に用いられる光磁気ディスクとしては、図2に示すようなポリカーボネート等からなる透明基板101の一主面101a上に、膜面と垂直方向磁化容易軸を有し、且つ磁気光学効果の大きな記録膜(例えば希土類遷移金属合金非晶質薄膜)や反射膜,誘電体膜を積層することにより記録部102を形成し、さらにこの記録部102の腐食を防止するために、記録部102上に紫外線硬化型樹脂等よりなる保護膜103を覆う如く形成したものが知られている。

0004

そして、上記のような光磁気ディスクの保護膜は、一般に、いわゆるスピンコーティング法により紫外線硬化型樹脂を塗布した後、紫外線照射して硬化させることにより形成される。

0005

上記スピンコーティング法とは、以下のようにして塗膜を形成する方法である。すなわち、図3(A)に示すように、透明基板上に記録部の形成された光磁気ディスク基板105を例えば図中矢印m1 で示す方向に低速で回転させながら、その一主面105a上の内周側に樹脂供給口106から紫外線硬化型樹脂107を供給する。すると、紫外線硬化型樹脂107は光磁気ディスク基板105の一主面105aの中央部付近に円を描くように塗布される。

0006

次に、図3(B)に示すように、光磁気ディスク基板105を図中矢印m1 で示す方向に高速で回転させると、紫外線硬化型樹脂107は光磁気ディスク基板105の一主面105a上の外周側に広がって行き、その結果、図中に示すように一主面105a全面に塗膜が形成される。ただし、塗膜の膜厚は光磁気ディスク基板105の内周側において薄く、外周側において厚くなる。

0007

なお、このとき、光磁気ディスク基板105の高速回転により余分な紫外線硬化型樹脂107は振り切られ、図中に示すように余分な紫外線硬化型樹脂107aとして光磁気ディスク基板105から飛び散る。

発明が解決しようとする課題

0008

しかしながら、上記のような光磁気ディスクの記録膜は耐蝕性に乏しく、記録膜等よりなる記録部上に単に保護膜を形成しただけでは、記録部の耐蝕性を向上させ、光磁気ディスクの耐久性を向上し、高い信頼性を得ることは困難である。

0009

そこで本発明は、従来の実情に鑑みて提案されたものであり、記録膜の耐蝕性を向上させ、耐久性が向上されて高い信頼性を有する光磁気ディスクの製造を可能とする光磁気ディスクの製造方法を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

0010

上述の目的を達成するために本発明は、透明基板上に形成される記録膜または反射膜上に紫外線硬化型樹脂をスピンコーティング法により塗布し、保護膜を形成する光磁気ディスクの製造方法において、保護膜の厚さを9.5μm以上とすることを特徴とするものである。

0011

なお、上記紫外線硬化型樹脂は、硬化の際に体積収縮する特性を有しており、本発明のように紫外線硬化型樹脂をスピンコーティング法により塗布し、硬化させた場合、塗膜の厚さがあまり厚いと透明基板の反りが大きくなってしまう。従って、本発明の光磁気ディスクの製造方法においては、紫外線硬化型樹脂として硬化収縮率の小さいものを用いることが好ましい。また、光磁気ディスクの実用性を考慮すると、保護膜の厚さは30μm以下とすることが好ましい。

0012

本発明の光磁気ディスクの製造方法においては、透明基板上の記録膜または反射膜上に形成され、紫外線硬化型樹脂をスピンコーティング法により塗布して形成される保護膜の厚さを9.5μm以上としていることから、上記保護膜により記録膜は十分に保護され、記録膜の耐蝕性が大幅に向上する。

0013

以下、本発明の好適な実施例について実験結果に基づいて説明する。先ず、本実験例において使用したスピンコーティング法を適用した光磁気ディスク製造装置について説明する。上記光磁気ディスク製造装置は、図1に示すように、主に、透明基板上に記録部の形成された光磁気ディスク基板1を保持し、回転可能となされる保持部2と、該保持部2を回転させる駆動部3、紫外線硬化型樹脂4が充填される供給タンク5、供給タンク5内の紫外線硬化型樹脂4を樹脂供給口6に供給する配管7と上記紫外線硬化型樹脂4をろ過するべく配管7の中途部に配されるフィルタ8よりなる。

0014

上記のような光磁気ディスク製造装置により光磁気ディスクを製造するには、先ず、制御部9の接続される駆動部3により保持部2を回転させて光磁気ディスク基板1を所定の方向に低速で回転させる。

0015

そして、この状態で供給タンク5内の紫外線硬化型樹脂4に図中矢印P1 で示すような圧力を加え、所定量の上記紫外線硬化型樹脂4を配管7内に押し出して配管7の中途部に配されたフィルタ8によりろ過した後、樹脂供給口6から光磁気ディスク基板1上の内周側に供給する。すると、紫外線硬化型樹脂4は、光磁気ディスク基板1の中心部付近に円を描くようにして塗布されることとなる。

0016

なお、このとき、紫外線硬化型樹脂4を光磁気ディスク基板1になじませ、かつ光磁気ディスク基板1の内周側に未塗布部分を残さないように、制御部9を操作して駆動部3に接続される保持部2を停止させ光磁気ディスク基板1の回転を一定時間停止させることもある。

0017

次に、制御部9を調整して駆動部3を調整し、保持部2の回転を上げて光磁気ディスク基板1を高速で回転させる。すると、光磁気ディスク基板1上の紫外線硬化型樹脂4が光磁気ディスク基板1の外周側に広がっていき、紫外線硬化型樹脂4の塗膜が光磁気ディスク基板1全面に形成される。ただし、塗膜の膜厚は光磁気ディスク基板1の内周側において薄く、外周側において厚くなる。

0018

このとき、光磁気ディスク基板1上の紫外線硬化型樹脂4の余剰分は光磁気ディスク基板1の回転により振り切られ、光磁気ディスク基板1から飛び散ることとなる。そこで、上記光磁気ディスク製造装置においては、樹脂供給口6側に開口部10を有し、保持部2に保持された光磁気ディスク基板1を囲むような略箱状の樹脂受け皿11を配している。すなわち、光磁気ディスク基板1の回転により飛び散った紫外線硬化型樹脂4は樹脂受け皿11に回収されることとなる。

0019

また、上記樹脂受け皿11の底部には孔部12が設けられ、該孔部12と廃液タンク13が配管14により接続されており、樹脂受け皿11に回収された紫外線硬化型樹脂4は配管14を通じて廃液タンク13に回収されるようになされている。

0020

次に、上記光磁気ディスク製造装置を用いて光磁気ディスクを製造し、保護膜の膜厚が光磁気ディスクの信頼性に及ぼす影響を調査した。すなわち、光磁気ディスク基板の保護膜を形成する紫外線硬化型樹脂の塗膜を形成する際に膜厚を変化させ、保護膜の膜厚を変化させた種々の光磁気ディスクを製造し、これら光磁気ディスクを所定条件の環境下で放置した場合のエラーレート増加率及び腐食発生数を調査した。

0021

光磁気ディスクサンプルの製造
光磁気ディスク基板として、透明基板上に記録膜及び反射膜等の記録部が形成されている直径3.5インチの光磁気ディスク基板を使用し、粘度が40mPa・s程度の紫外線硬化型樹脂を用い、光磁気ディスクサンプル1〜7の製造を行った。なお、これら光磁気ディスクサンプルは、上記光磁気ディスク製造装置を使用し、光磁気ディスク基板上に紫外線硬化型樹脂を供給した後、光磁気ディスク基板を表1中に示すような条件で回転させて塗膜を形成し、これを乾燥させて保護膜を形成して製造した。

0022

0023

表1中には、上記光磁気ディスクサンプル1〜7の保護膜の重量及び膜厚も併せて示す。ただし、上記保護膜の膜厚は、これを形成する塗膜が内周側において薄く、外周側において厚いものであり、保護膜の形状も同様であるため、表1中には最小値最大値として示した。

0024

エラーレートの増加率及び腐食発生数の測定
続いて、上記光磁気ディスクサンプル1〜7を80℃,85RH%の環境下に1000時間放置し、エラーレートの増加率及び腐食発生数を測定した。結果を表2に示す。

0025

0026

表1,表2の結果から、保護膜の厚さが9.5μm以上である光磁気ディスクサンプル6,7においては、エラーレートの増加が抑えられるとともに腐食発生率が抑えられていることがわかった。

0027

すなわち、透明基板上の記録膜または反射膜上に形成され、紫外線硬化型樹脂をスピンコーティング法により塗布して形成される保護膜の厚さを9.5μmとすれば、上記保護膜により記録膜は十分に保護され、記録膜の耐蝕性が大幅に向上し、耐久性が向上されて高い信頼性を有する光磁気ディスクが製造されることがわかった。

発明の効果

0028

以上の説明からも明らかなように、本発明は、透明基板上に形成される記録膜または反射膜上に紫外線硬化型樹脂をスピンコーティング法により塗布し、保護膜を形成する光磁気ディスクの製造方法において、保護膜の厚さを9.5μm以上としていることから、上記保護膜により記録膜は十分に保護され、記録膜の耐蝕性が大幅に向上し、耐久性が向上されて高い信頼性を有する光磁気ディスクが製造される。

図面の簡単な説明

0029

図1スピンコーティング法を適用した光磁気ディスク製造装置を示す要部概略模式図である。
図2光磁気ディスクの構造を模式的に示す断面図である。
図3スピンコーティング法の原理を示す模式図である。

--

0030

1光磁気ディスク基板
2 保持部
3 駆動部
4紫外線硬化型樹脂
5供給タンク
6樹脂供給口
7 配管

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