図面 (/)

技術 感光性組成物

出願人 コニカミノルタ株式会社
発明者 左々信正秋山健夫
出願日 1993年10月28日 (27年0ヶ月経過) 出願番号 1993-270877
公開日 1995年5月19日 (25年6ヶ月経過) 公開番号 1995-128850
状態 特許登録済
技術分野 ホトレジストの材料 感光性樹脂・フォトレジストの処理 コロイド化学 マイクロカプセルの製造 プリント板の製造 半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) ホトレジスト感材への露光・位置合せ フォトリソグラフィー用材料 半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)
主要キーワード 水冷凝縮器 レピジン メタケイ酸ナトリウム水溶液 感光板 硫酸浴中 反応性高分子 スタラー 水溶性溶液
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(1995年5月19日)のものです。
また、この項目は機械的に抽出しているため、正しく解析できていない場合があります

図面 (0)

図面はありません

目的

従来の光カチオン重合組成物の欠点(感光性平版印刷版感光層フォトレジスト等に適用したとき、いずれも、感度耐薬品性(フォトレジストのエッチングあるいは平版印刷時の)及び機械的強度が不充分である)を改善し、高感度で、かつ耐薬品性及び機械的強度に優れる感光性組成物を提供する。

構成

有機溶剤に分散可能なマイクロゲルビニルエーテル基又はプロペニルエーテル基を有する化合物、及び光酸発生剤を含有する感光性組成物。表面にビニルエーテル基及びプロペニルエーテル基から選ばれる少なくとも1つ、及びオキシランチイランオキセタン及びチエタンから選ばれる少なくとも1つの環を有するマイクロゲルを含有する感光性組成物。

概要

背景

従来、活性光によってカチオン重合する組成物光カチオン重合組成物)が知られている。すなわち、J.Polym.,Poly.Chem.Ed.,22,pp.2105〜2121(1984)には、ビニルエーテル基を有する化合物光酸発生剤を用いた光カチオン重合組成物が開示されている。また、特開昭59-180543号公報には、オキシランチイランオキセタン及びチエタン環の少なくとも1つを有する化合物と光酸発生剤を用いた光カチオン重合組成物が開示されている。

概要

従来の光カチオン重合組成物の欠点(感光性平版印刷版感光層フォトレジスト等に適用したとき、いずれも、感度耐薬品性(フォトレジストのエッチングあるいは平版印刷時の)及び機械的強度が不充分である)を改善し、高感度で、かつ耐薬品性及び機械的強度に優れる感光性組成物を提供する。

有機溶剤に分散可能なマイクロゲル、ビニルエーテル基又はプロペニルエーテル基を有する化合物、及び光酸発生剤を含有する感光性組成物。表面にビニルエーテル基及びプロペニルエーテル基から選ばれる少なくとも1つ、及びオキシラン、チイラン、オキセタン及びチエタンから選ばれる少なくとも1つの環を有するマイクロゲルを含有する感光性組成物。

目的

そこで、本発明の目的は、高感度で、かつ耐薬品性及び機械的強度に優れる感光性組成物を提供することである。

効果

実績

技術文献被引用数
1件
牽制数
3件

この技術が所属する分野

(分野番号表示ON)※整理標準化データをもとに当社作成

ライセンス契約や譲渡などの可能性がある特許掲載中! 開放特許随時追加・更新中 詳しくはこちら

請求項1

有機溶剤に分散可能なマイクロゲルビニルエーテル基又はプロペニルエーテル基を有する化合物及び光酸発生剤を含有することを特徴とする感光性組成物

請求項2

表面にビニルエーテル基及びプロペニルエーテル基から選ばれる少なくとも1つ並びにオキシランチイランオキセタン及びチエタンから選ばれる少なくとも1つの環を有するマイクロゲルを含有することを特徴とする感光性組成物。

技術分野

0001

本発明は、感光性組成物に関し、更に詳しくは、感光性平版印刷版感光層フォトレジスト等として適する感光性組成物に関する。

背景技術

0002

従来、活性光によってカチオン重合する組成物光カチオン重合組成物)が知られている。すなわち、J.Polym.,Poly.Chem.Ed.,22,pp.2105〜2121(1984)には、ビニルエーテル基を有する化合物光酸発生剤を用いた光カチオン重合組成物が開示されている。また、特開昭59-180543号公報には、オキシランチイランオキセタン及びチエタン環の少なくとも1つを有する化合物と光酸発生剤を用いた光カチオン重合組成物が開示されている。

発明が解決しようとする課題

0003

しかしながら、上記光カチオン重合組成物は、感光性平版印刷版の感光層やフォトレジスト等に適用したとき、いずれも、感度耐薬品性(フォトレジストのエッチングあるいは平版印刷時の)及び機械的強度が不充分であるという問題がある。

0004

そこで、本発明の目的は、高感度で、かつ耐薬品性及び機械的強度に優れる感光性組成物を提供することである。

課題を解決するための手段

0005

上記本発明の目的を達成する本発明の構成は下記又はである。

0006

有機溶剤に分散可能なマイクロゲル、ビニルエーテル基又はプロペニルエーテル基を有する化合物、及び光酸発生剤を含有することを特徴とする感光性組成物。

0007

表面にビニルエーテル基及びプロペニルエーテル基から選ばれる少なくとも1つ並びにオキシラン、チイラン、オキセタン及びチエタンから選ばれる少なくとも1つの環を有するマイクロゲルを含有することを特徴とする感光性組成物。

0008

以下、本発明について詳述する。

0009

請求項1に係る発明の感光性組成物が含有する有機溶剤に分散可能なマイクロゲルとは水不溶性であり、所望の溶媒中において溶解、凝集、沈降が生じることなく数時間以上安定状態を保っていることのできる粒子状分散物である。本発明に有用な粒子状分散物は所望の溶媒中において溶解、凝集、沈降が生じなければ、特に分散物の種類には限定されない。またこれらの粒子状分散物は単独で用いてもよいし、2種以上併用して用いることもできる。

0010

このような粒子状分散物の例としては、ポリアクリル酸エステル又はそのコポリマーポリアクリロニトリル又はそのコポリマー、ポリスチレン又はそのコポリマー、ポリエチレン又はそのコポリマー、ポリ塩化ビニル又はそのコポリマー、ポリ塩化ビニリデン又はそのコポリマー、ポリ酢酸ビニル又はそのコポリマー、レゾール樹脂又はそのコポリマー、アイオノマー樹脂ポリメチルメタクリレート又はそのコポリマー、ポリブタジエン又はそのコポリマーなどのラテックス状高分子化合物を挙げることができる。

0011

また、これらの本発明に用いられるラテックス状高分子化合物は主鎖又は側鎖に極性基を有するモノマーとのコポリマーである。

0012

好ましい極性基としては−COOR,

0013

0014

等が挙げられる。特に好ましいのは4級窒素原子又は4級リン原子を有するモノマーとのコポリマーである。このうち、主鎖中に4級窒素原子を含む代表例としては、下記一般式〔1〕

0015

0016

〔X-:アニオン、R:アルキル基又は炭素環基、n:整数〕で表される、いわゆるアイオネン型のモノマー単位を含むものがあり、また、側鎖に4級窒素原子を含む代表例としては下記一般式〔2〕

0017

0018

〔X-:アニオン、R:アルキル基又は炭素環基、n:整数〕で表されるメタクリロキシアルキルアンモニウムのモノマー単位を含むものや、下記一般式〔3〕

0019

0020

〔X-:アニオン、R:アルキル基又は炭素環基〕で表されるビニルベンジルアンモニウムのモノマー単位を含むものや、さらにこのベンジルアンモニウムのモノマー単位がアミド基を介して結合した型のもので特開昭55-22766号公報に記載の下記一般式〔4〕

0021

0022

〔X-:アニオン、R:アルキル基又は炭素環基〕で表されるものがある。

0023

一方、4級リン原子を主鎖に含むモノマー単位の例は下記一般式〔5〕

0024

0025

〔X-:アニオン、R,R′:アルキル基又は炭素環基〕で示されるものがあるし、側鎖に含む例は下記一般式〔6〕

0026

0027

〔X-:アニオン、R:アルキル基又は炭素環基〕で示されるもの等が挙げられる。

0028

上記一般式〔1〕〜〔6〕の各々において、X-で表されるアニオンの具体例としては、例えば、ハロゲンイオン硫酸イオンリン酸イオンスルホン酸イオン酢酸イオン等が挙げられるし、R,R′で表されるアルキル基としては、例えば、メチルエチルプロピルイソブチルペンチル、ヘキシルヘプチルデシル等の各基が挙げられ、また炭素環基としては、例えば、アリールアルアルキルシクロアルキル、例えば、ペンジル、フェニル、p-メチルベンジルシクロヘキシルシクロペンチル等の各基が挙げられる。そして、上記各一般式中、N+又はP+に結合する、Rで表されたアルキル基又は炭素環基は、互いに同じでも、異なっていてもよい。

0029

これらのラテックス状高分子化合物はエマルジョン重合によって得ることができる。また合成されたポリマーを後にラテックス化することによっても得られることができる。また油溶性エチレン性不飽和化合物光重合開始剤の使用を可能ならしめるため、これらのラテックスは有機溶剤に分散されていることが望ましい。さらに本発明に用いられるこれらのラテックスは有機溶剤に対する安定性を高めるため粒子内で分子間架橋されている。

0030

すなわち好ましい実施態様としては、粒子状分散物がポリアクリル酸エステルまたはそのコポリマー、ポリスチレンまたはそのコポリマー、ポリエチレンまたはそのコポリマー、ポリ塩化ビニルまたはそのコポリマー、ポリ塩化ビニリデンまたはそのコポリマー、ポリ酢酸ビニルまたはそのコポリマーのラテックスであり、好ましくはそれらのラテックスが下記の一般式で表される極性基を有するモノマーとコポリマーであり

0031

0032

さらに好ましくはそれらのラテックスが主鎖または側鎖に4級窒素原子または4級リン原子を有し、さらに好ましくは粒子内で分子間架橋されており、特に好ましくは分散媒として有機溶剤を用いていることである。

0033

これら本発明に用いられる粒子状分散物の粒径は10nm〜1μmの範囲が好ましい。粒径が1μmより大きいと最終的に得られる画像の解像力が悪くなり、また粒径が10nmより小さな粒子は実質上調製が困難である。

0034

請求項1に係る感光性組成物が含有するビニルエーテル基を有する化合物としては、例えば、フェニルビニルエーテル、式〔1〕CH2=CH−O−R−O−Ar−O−CH=CH2(Arは芳香族環、Rは脂肪族基を表す。)で表されるアリールビスビニルエーテル

0035

0036

等が挙げられる。

0037

請求項1に係る感光性組成物が含有するプロペニルエーテル基を有する化合物としては例えば下記のような化合物が挙げられる。

0038

0039

上記化合物の合成方法については、J.Poly.Sci.,Polym.Chem.Ed.22,pp.2105〜2121(1984)、及び高分子論文集,Vol.43,No.12,pp.901〜904(Dec.,1986)を参照することができる。

0040

請求項1に係る光酸発生剤としては、ジアゾニウム塩ヨードニウム塩スルホニウム塩鉄アレーン錯体及び有機ポリハロゲン化合物を好ましく使用することができる。

0041

ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩としては、特公昭54-14277号、特公昭54-14278号、特開昭51-56885号、米国特許第3,708,296号、同第3,853,002号等に記載された化合物が挙げられる。

0042

鉄・アレーン錯体としては、下記一般式〔11〕で表される化合物が挙げられる。

0043

0044

一般式〔11〕において、R1及びR2はC1〜C12のアルキル基、C2〜C12のアルケニル基、C2〜C12のアルキニル基、C1〜C8のアルコキシ基シアノ基アルキルチオ基フェノキシ基、C2〜C6のモノカルボン酸及びエステル及びアミド基、フェニル基、C2〜C5のアルカノイル基アンモニウム基ピリジニウム基ニトロ基アルキルスルフィニル基アルキルスルフォニル基及びスルファモイル基より選ばれる。

0045

前記一般式〔11〕で表される鉄・アレーン錯体は、Chemiker-Zeitung, 108(II)345〜354(1984)に数多くの化合物が記載されている。

0046

具体的には(η6-ベンゼン)(η5-シクロペンタジエニル)鉄(II)-ヘキサフルオロホスフェート、(η6-トルエン)(η5-シクロペンタジエニル)鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート、(η6-クメン)(η5-シクロペンタジエニル)鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート、(η6-ベンゼン)(η5-シクロペンタジエニル)鉄(II)ヘキサフルオロアルセネート、(η6-ベンゼン)(η5-シクロペンタジエニル)鉄(II)テトラフルオロボレート、(η6-ナフタレン)(η5-シクロペンタジエニル)鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート、(η6-アントラセン)(η5-シクロペンタジエニル)鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート、(η6-ピレン)(η5-シクロペンタジエニル)鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート、(η6-ベンゼン)(η5-シアノシクロペンタジエニル)鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート、(η6-トルエン)(η5-アセチルシクロペンタジエニル)鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート、(η6-クメン)(η5-クロルシクロペンタジエニル)鉄(II)テトラフルオロボレート、(η6-ベンゼン)(η5-カルボエトキシシクロヘキサジエニル)鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート、(η6-ベンゼン)(η5-1,3-ジクロルシクロヘキサジエニル)鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート、(η6-シアノベンゼン)(η5-シクロヘキサジエニル)鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート、(η6-アセトフェノン)(η5-シクロヘキサジエニル)鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート、(η6-メチルベンゾエート)(η5-シクロペンタジエニル)鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート、(η6-ベンゼンスルホンアミド)(η5-シクロペンタジエニル)鉄(II)テトラフルオロボレート、(η6-ベンゼンスルホンアミド)(η5-シクロペンタジエニル)鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート、(η6-シアノベンゼン)(η5-シアノシクロペンタジエニル)鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート、(η6-クロルナフタレン)(η5-シクロペンタジエニル)鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート、(η6-アントラセン)(η5-シアノシクロペンタジエニル)鉄(II)ヘキサフルオロホスフェートなどがあげられる。これらの化合物は、Dokl. Akd. NaukSSSR 149 615(1963)に記載された方法により合成できる。

0047

有機ポリハロゲン化合物としては公知のあらゆる化合物を用いることができ、該有機ポリハロゲン化合物の代表具体例としては以下の一般式〔12〕,〔13〕又は〔14〕で示されるものを挙げることができる。

0048

0049

一般式〔12〕において、R11はアリール基アラルキル基、アルキル基、アルケニル基、アロイル基、異節環状化合物残基(以上の各基は置換基を有していてもよい)、水素原子ハロゲン原子、R′11−SO2−又はR′11−SO−(但し、R′11はそれぞれ置換基を有していてもよいアリール基、アルキル基又は異節環状化合物残基を表す)、X1,X2及びX3は水素原子又はハロゲン原子を表し、X1,X2及びX3は互いに異なっていても同じでもよいが同時に水素原子であることはない。

0050

その具体例としては、四塩化炭素、四臭化炭素、p-ニトベンゾトリブロマイドブロモトリクロロメタンヘキサブロモエタンベンゾトリクロライドヨードホルム、1,1,1-トリブロモ-2-メチル-2-プロパノール、1,1,2,2,-テトラブロモエタン、2,2,2-トリブロモエタノール、1,1,1-トリクロロ-2-メチル-プロパノール、o-ニトロ-α,α,α-トリブロモアセトンフェノン、m-ニトロ-α,α,α-トリブロモアセトンフェノン、p-ニトロ-α,α,α-トリブロモアセトンフェノン、α,α,α-トリブロモアセトンフェノン、α,α,α-m-テトラブロモアセトンフェノン、α,α,α-トリブロモ-3,4-ジクロルアセトンフェノン、α,α,α-p-テトラブロモアセトンフェノン、α,α,α,α′,α′,α′-ヘキサブロモ-p-ジアセチルベンゼン、ω,ω,ω-トリブロムキナルジン、ω,ω-ジブロムキナルジン、2-ω,ω,ω-トリブロモメチル-4-メチルキノリン、ω,ω-ジクロロ-メチル-キノリン、ω-ブロムレピジン、2-ω-ブロムメチルイソキノリン、4-ω,ω,ω-トリブロム-メチルピリミジン、4-フェニル-6-ω,ω-トリブロム-メチルピリミジン、2-ω,ω,ω-トリクロロメチル-6-ニトロベンゾチアゾール、1-フェニル-3-ω,ω,ω-トリクロロ-5-メチルピラゾール、ω,ω,ω-トリブロム-レピジン-ブロムメチレート、α-ω,ω-ジブロムメチル-4-クロロピリジン、1-メチル-2-クロロメチル-ベンゾイミダゾール、2,5-ジトリブロムメチル-3,4-ジブロムチオフェン、ヘキサブロモジメチルスルホオキサイドペンタブロモジメチルスルホオキサイド、ヘキサブロモジメチルスルホン、トリクロロメチルフェニルスルホン、トリブロモメチルフェニルスルホン、トリクロロメチル-p-クロロフェニルスルホン、トリブロモメチル-p-ニトロフェニルスルホン、2-トリクロロメチル-ベンゾチアゾリルスルホン、4,6-ジメチルピリミジル-2-トリブロモメチルスルホン、テトラブロモジメチルスルホン、2,4-ジクロロフェニルトリクロロメチルスルホン、2-メチル-4-クロロフェニルトリクロロメチルスルホン、2,5-ジメチル-4-クロロフェニルトリクロロメチルスルホン及び2,4-ジクロロフェニルトリブロモメチルスルホン等がある。

0051

一般式〔13〕
R12−A1−X
(式中、R12は置換又は非置換のアルキル基又はアリール基、A1は−SO2−又は、−S−、Xはハロゲン原子を表す。)
その具体例としては、1,3-ベンゼンスルフォニルクロライド、2,4-ジニトロベンゼンスルフォニルクロライド、o-ニトロベンゼンスルフォニルクロライド、m-ニトロベンゼン-スルフォニルクロライド、3,3′-ジフェニルスルフォンジスルフォニルクロライド、エタンスルフォニルクロライド、p-ブロモベンゼンスルフォニルクロライド、p-ニトロベンゼンスルフォニルクロライド、p-ヨードベンゼンスルフォニルクロライド、p-アセトアミドベンゼンスルフォニルクロライド、p-クロロベンゼンスルフォニルクロライド、p-トルエンスルフォニルクロライド、メタンスルフォニルクロライド、ベンゼンスルフォニルクロライド、m-ニトロベンゼンスルフォニルフルオライド、ベンゼンスルフォニルブロマイド、2,4-ジニトロベンゼンスルフェニルクロライド及びo-ニトロベンゼンスルフェニルクロライドを挙げることができる。

0052

0053

(式中、Zはフッ素原子塩素原子又は臭素原子を、Yは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基を、A2はベンゾフリル基を表し、mは1〜3の整数、nは0または1である。)
Yとして表されるアルキル基としては炭素数1〜6のものが好ましく、代表的なものとしてはメチル基エチル基ブチル基が挙げられる。またアリール基としてはフェニル基が代表的なものとして挙げられる。

0054

Yとして表されるハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子が代表的なものとして挙げられる。

0055

A2で表されるベンゾフリル基は2-ベンゾフリル基であっても、3-ベンゾフリル基であってもよく、またベンゾフリル基は置換されていてもよい。該ベンゾフリル基に置換してもよい基または原子としては、例えばアルキル基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、フェノキシ基、フェニル基及びハロゲン原子の如き1価の基又は原子並びに−O−CH2−O−の如き2価の基が代表的なものとして挙げられる。ここに該アルキル基及び該アルコキシ基としてはそれぞれ炭素数1〜6のものが好ましい。

0056

ベンゾフリル基が2-ベンゾフリル基である場合、電子供与性基が置換する位置としては3位、4位及び/又は6位が好ましく、ベンゾフリル基が3-ベンゾフリル基の場合には、2位、4位および/または6位が好ましい。

0057

本発明において特に好ましい重合性化合物を次に示す。

0058

0059

0060

0061

光酸発生剤については、その他に津田譲著「超LSLレジスト分子設計」共立出版、1990、pp.55〜78に記載の化合物を使用することができる。本発明において、光酸発生剤の感光性組成物中に占める割合は、0.01〜20%が好ましく、更に好ましくは0.1〜10%である。

0062

請求項2に係る発明における、表面にビニルエーテル基及びプロペニルエーテル基から選ばれる少なくとも1つ並びにオキシラン、チイラン、オキセタン及びチエタンから選ばれる少なくとも1つの環を有するマイクロゲルは、下記(1)又は(2)に示す方法によって合成される。

0063

(1)反応性性基(好ましくは水酸基又はアミノ基)を有するマイクロゲルを合成し、化学反応により前記の官能基をマイクロゲルの反応性基に導入する。

0064

例えば、クロルエチルビニルエーテルと縮合可能な基を粒子表面に有するマイクロゲルとクロルエチルビニルエーテルとの縮合化合物エポキシド(例えばエピハロヒドリン等)と接触反応可能な基を粒子表面に有するマイクロゲルとエポキシドとの反応物

0065

水酸基を有するマイクロゲルを製造するのに用いられる水酸基を有するモノマーとしては、ビニルアルコール、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、N-(4-ヒドロキシエチルフェニル)メタクリルアミドヒドロキシ-メチルジアセトン(メタ)アクリルアミド、N-(4-ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N-(4-ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o-、m-、p-ヒドロキシスチレン、o-、m-、p-ヒドロキシフェニル-アクリレート又はメタクリレート等が挙げられる。

0066

アミノ基を有するマイクロゲルを製造するのに用いられつアミノ基を有するモノマーとしては、アクリルアミド、メタクリルアミド、2-アミノエチルビニルエーテル、p-アミノスチレン等が挙げられる。

0067

反応性基を有するマイクロゲルは、反応性基として例えば水酸基、アミノ基等を有するモノマーと、他の共重合可能なモノマー例えばアクリル酸エステルメタクリル酸エステル、スチレンアルキレンエーテル酢酸ビニルアクリロニトリル等を用い、例えば特開昭59-6203号、同59-53505号、同61-36474号、同62-102240号各公報等に記載の乳化重合法に準じて合成することができる。この際、好ましくはジビニルベンゼンジメタクリレート等の2個以上の官能基を有するモノマーにより架橋する。

0068

さらに、粒子表面への水酸基、アミノ基の別の導入法としては、例えば「高分子の化学反応(上)(下)」大河原信著、化学同人(1972)、「高分子ファインケミカル」小田良平著、講談社(1976)、「反応性高分子田恵輔、岩著、講談社(1977)等に記載の高分子反応による方法も使用でき、例えば、反応性基を有するマイクロゲルを合成した後、水酸基又はアミノ基を有する化合物で反応性基に化学修飾したり、水酸基又はアミノ基を有する重合性モノマーで反応性基を起点にグラフト重合させる方法を適用することができる。

0069

(2)前記官能性基を有するラジカル重合性モノマーを他の共重合性モノマーと共重合する。

0070

前記官能性基を有するラジカル重合性モノマーとしては、グリシジルアクリレートグリシジルメタクリレート、2,3-エピチオプロピルアクリレート又はメタクリレート、下記一般式で示されるモノマー等が用いられる。

0071

0072

(式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、nは1〜10の整数を表す。)
上記モノマーと上記(1)に記載の共重合モノマーを用い、上記(1)と同様に、好ましくはジビニルベンゼン、ジメタクリレート等の2個以上の官能基を有するモノマーにより架橋する。

0073

請求項1又は2に係る発明の感光性組成物は、マイクロゲルの分散媒かつその他の成分の溶媒に分散・溶解して支持体上に、ディップコートコーティングロッドスピナーコート、スプレーコート等の周知の塗布方法で塗布、乾燥すれば感光板(例えばネガ型感光性平版印刷版)を製造することができる。上記分散・溶媒には例えばセロソルブ類を用いることができる。この感光板に常法に従って露光した後、アルカリ性現像液現像し非露光部を除去すれば画像を形成することができる。本発明を感光性平版印刷版の感光層に適用するとき、支持体としてはPS版通常用いられるものを使用することができる。

0074

次に、本発明を実施例により更に具体的に説明する。

0075

合成例1
乳化重合装置は5lの4つ首フラスコ撹拌スタラー、1lの添加ロート温度計窒素ガス注入管水冷凝縮器をとり付け、そして加熱マントル中に入れて構成されている。このフラスコに脱イオン水3360gとラウリルスルホン酸ナトリウム30%水溶液20gを加え、この活性剤系を窒素雰囲気の下に80℃に加熱した。

0076

この温度でメチルメタアクリレート420g、エチルアクリレート240g、p-ヒドロキシスチレン165g、スチレンスルホン酸16g及び1,4-ブタンジオールジアクリレート16gを含むモノマー混合物の25%を1度に加えた。これに過硫酸カリウムの5%水溶性溶液10mlと、リン酸カリウムの7%水性溶液10mlとを直ちに添加した。反応混合物乳濁し85℃に発熱した。温度を80〜88℃の間に保ちながら、モノマー混合物の残部を90分の期間にわたって添加した。添加が終了したら、反応混合物を80〜85℃でさらに2時間加熱した。青味を帯びた乳濁液を室温まで冷却し、メタノールを添加して凝固させた。得られたスラリー濾過し、水で2回水洗し、吸引して乾かしそして得られた微細粉末を100℃の炉の中で4時間乾燥させた。粉末粒子の球状の形が顕微鏡によって確認された。

0077

このマイクロゲル57gを500mlのジメチルスルオキシドに分散し、クロルエチルビニルエーテル9.5g、水酸化カリウム5g、テトラブチルアンモニウムブロマイド2.8gを加え60℃で24時間反応させた。反応終了後混合物酢酸中和した後2lの水に注ぎ沈殿したマイクロゲルを濾過し、水洗、真空乾燥して目的の粒子表面にビニルエーテル基を有するマイクロゲルを得た。

0078

合成例2
合成例1のp-ヒドロキシスチレンの代わりにグリシジルメタアクリレートを用いた以外は合成例1のマイクロゲル合成の第一ステップと同様に行い、粒子表面にビニルエーテル基を有するマイクロゲルを得た。

0079

合成例3
合成例1のp-ヒドロキシスチレンの代わりに2,3-エピチオプロピルメタアクリレートを用いた以外は合成例1のマイクロゲル合成の第一ステップと同様に行い、粒子表面にビニルエーテル基を有するマイクロゲルを得た。

0080

実施例1、3〜5及び比較例2、3
6枚のアルミニウム板を10重量%水酸化ナトリウム水溶液脱脂し、これを1.8%塩酸浴中で25℃、30A/dm2、30秒の電流密度条件で電解エッチングし、水洗後、30%硫酸浴中で30℃、6.5A/dm2の条件で30秒間陽極酸化処理した。次に1重量%メタケイ酸ナトリウム水溶液により、85℃、30秒間封孔処理し、水洗乾燥して、平版印刷版用支持体としてのアルミニウム版を得た。

0081

このアルミニウム版に表1〜表2に示される感光液を、乾燥後の塗膜重量が20mg/dm2になるように塗布して各々感光性平版印刷版試料を作成した。

0082

得られた感光性平版印刷版試料の各々にネガフィルムコダックステップタブレットNo.2を密着させアイドルフィン2000(岩崎電気(株)製,2kWメタルハライドランプ)で30秒間露光し、25℃のpH11のアルカリ水中で1分間スポンジで擦り未露光部分を除去して鮮明な画像を有する印刷版を得た。

0083

ステップ硬化段数3段が得られる露光エネルギー(感度)及び印刷の結果を表3に示した。

0084

実施例2、比較例1
プリント配線銅張り積層板に表1〜表2の感光液を乾燥後の塗膜重量が15mg/dm2になるように塗布した。実施例1と同様に露光、現像し、水洗後さらに塩化第二鉄銅膜エッチング処理除去、露光部の硬化塗膜剥離してプリント回路板をえた。ステップ硬化段数3段が得られる露光エネルギーおよびエッチング液に対する耐薬品性を表3に示す。

0085

0086

0087

0088

表3から、本発明の感光性組成物は、従来の光カチオン重合組成物と対比して、感度及び耐薬品性が改良され、また、感光性平版印刷版の感光層として使用したときの耐刷力が改良されることが分かる。

発明の効果

0089

本発明によれば、従来の光カチオン重合組成物が、感光性平版印刷版の感光層やフォトレジスト等に適用したとき、いずれも、感度、耐薬品性(フォトレジストのエッチングあるいは平版印刷時の)及び機械的強度が不充分である欠点が改善され、高感度で、かつ耐薬品性及び機械的強度に優れる感光性組成物が提供される。

ページトップへ

この技術を出願した法人

この技術を発明した人物

ページトップへ

関連する挑戦したい社会課題

関連する公募課題

ページトップへ

技術視点だけで見ていませんか?

この技術の活用可能性がある分野

分野別動向を把握したい方- 事業化視点で見る -

(分野番号表示ON)※整理標準化データをもとに当社作成

ページトップへ

おススメ サービス

おススメ astavisionコンテンツ

新着 最近 公開された関連が強い技術

この 技術と関連性が強い人物

関連性が強い人物一覧

この 技術と関連する社会課題

関連する挑戦したい社会課題一覧

この 技術と関連する公募課題

関連する公募課題一覧

astavision 新着記事

サイト情報について

本サービスは、国が公開している情報(公開特許公報、特許整理標準化データ等)を元に構成されています。出典元のデータには一部間違いやノイズがあり、情報の正確さについては保証致しかねます。また一時的に、各データの収録範囲や更新周期によって、一部の情報が正しく表示されないことがございます。当サイトの情報を元にした諸問題、不利益等について当方は何ら責任を負いかねることを予めご承知おきのほど宜しくお願い申し上げます。

主たる情報の出典

特許情報…特許整理標準化データ(XML編)、公開特許公報、特許公報、審決公報、Patent Map Guidance System データ