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技術 エンボス処理の方法及びその装置

出願人 日本ビクター株式会社
発明者 泊野和広
出願日 1993年9月22日 (27年8ヶ月経過) 出願番号 1993-259190
公開日 1995年4月7日 (26年2ヶ月経過) 公開番号 1995-092959
状態 拒絶査定
技術分野 イメージ生成 表示装置の制御、回路
主要キーワード 高輝度色 順番表 描画順番 描画回数 図形位置 描画順 仮想光源 描画ステップ
関連する未来課題
重要な関連分野

この項目の情報は公開日時点(1995年4月7日)のものです。
また、この項目は機械的に抽出しているため、正しく解析できていない場合があります

図面 (11)

目的

複雑な図面や文字に対しても、簡単な処理で短時間の内に確実にエンボス効果を施せる方法及び装置を提供すること。

構成

テップ1では、指定される奥行きdの値に応じて、描画順番表及び描画色表を作成し、ステップ2では、奥行きdの値から何回ずらして描画するか(Nの値)を求め、ステップ3では、何回目の描画であるかを記憶する変数Jを1に初期化する。ステップ4では、J≦Nの場合はステップ5へ処理を進め、J>Nの場合はステップ9へ処理を進める。ステップ5では、前記描画順番表よりJ番目描画位置を取得し、ステップ6では、前記描画色表よりJ番目に描画する際の描画色を取得する。ステップ7では、前記取得した位置に前記取得した色で図形を描画する。この描画をN回繰り返した後、ステップ9で、本来の図形の位置に図形色で描画する。これで、エンボス処理が完了する。

概要

背景

エンボス効果は図9に示すように、2次元の図形の周囲に図形より明るい色と暗い色で縁を付け、擬似的に立体的に見せる効果である。このエンボス効果を実現するために、従来は以下の方法を用いていた。(図10に概略を示す。)

(1) 図形の輪郭に添った一定幅の縁を付けるエリア確定する。
(2)縁付けエリア内の各画素に対して、光源の方向と図形の位置関係とから、その画素は光が当たっているのか、それとも影になっているのかを判定する。
(3) (2) で、光が当たっていると判定された場合は図形の色よりも輝度の高い色でその画素を描画し、影になっていると判定された場合は図形の色よりも輝度の低い色でその画素を描画する。
(4) (2) と(3) の処理を縁付けエリア内の全画素に対して行う。

概要

複雑な図面や文字に対しても、簡単な処理で短時間の内に確実にエンボス効果を施せる方法及び装置を提供すること。

テップ1では、指定される奥行きdの値に応じて、描画順番表及び描画色表を作成し、ステップ2では、奥行きdの値から何回ずらして描画するか(Nの値)を求め、ステップ3では、何回目の描画であるかを記憶する変数Jを1に初期化する。ステップ4では、J≦Nの場合はステップ5へ処理を進め、J>Nの場合はステップ9へ処理を進める。ステップ5では、前記描画順番表よりJ番目描画位置を取得し、ステップ6では、前記描画色表よりJ番目に描画する際の描画色を取得する。ステップ7では、前記取得した位置に前記取得した色で図形を描画する。この描画をN回繰り返した後、ステップ9で、本来の図形の位置に図形色で描画する。これで、エンボス処理が完了する。

目的

効果

実績

技術文献被引用数
0件
牽制数
2件

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請求項1

処理対象の図形を1回ずらすごとに、所定の色よりも輝度の高い色または輝度の低い色で前記図形を描画する動作をN回繰り返し、その後、前記図形のずらす以前の本来の位置で前記図形を前記所定の色で描画することにより、前記図形に幅d(dは画素単位)の縁を付けエンボス効果を与えるエンボス処理の方法であって、前記縁の幅dに応じて前記図形の任意の点の移動範囲確定し、その範囲内の各位置(位置は画素単位)にどの順番でずらすか、即ち前記図形の描画順を決定する描画順番決定ステップと、前記描画順の各順番での描画を、前記所定の色よりも輝度の高い色で行うか、前記所定の色よりも輝度の低い色で行うかを決定する描画色決定ステップと、前記縁の幅dに応じて、ずらしながらの描画の総描画回数Nを次式、N=(d×2+1)2 −1で計算し、N回描画したか否かを判断する描画回数判断ステップと、描画回数がN回以下の時に、前記描画順番決定ステップで決定された描画位置と描画順、及び前記描画色決定ステップで決定された描画色に従って描画を行う第1の描画ステップと、N+1回目の描画時に、前記図形のずらす以前の本来の位置で前記図形を前記所定の色で描画する第2の描画ステップとから成り、前記描画順番決定ステップでの描画順は、ずらす距離の大きい位置から順に描画される順とし、ずらす距離の等距離の位置が複数ある場合には、その複数の位置の間では描画順は任意とし、前記描画色決定ステップでの描画色の決定は、前記任意の点の移動範囲を2分し、2分した内の一方の範囲内の位置での描画時は前記輝度の高い色での描画とし、他方の範囲内の位置での描画時は前記輝度の低い色での描画とすることを特徴とするエンボス処理の方法。

請求項2

処理対象の図形を1回ずらすごとに、所定の色よりも輝度の高い色または輝度の低い色で前記図形を描画する動作をN回繰り返し、その後、前記図形のずらす以前の本来の位置で前記図形を前記所定の色で描画することにより、前記図形に幅d(dは画素単位)の縁を付けエンボス効果を与えるエンボス処理装置であって、前記縁の幅dに応じて前記図形の任意の点の移動範囲を確定し、その範囲内の各位置(位置は画素単位)にどの順番でずらすか、即ち前記図形の描画順を決定する描画順番決定手段と、前記描画順の各順番での描画を、前記所定の色よりも輝度の高い色で行うか前記所定の色よりも輝度の低い色で行うかを決定する描画色決定手段と、前記縁の幅dが外部から入力され、前記描画順番決定手段と前記描画色決定手段とに前記縁の幅dを指定すると共に、前記縁の幅dに応じて、ずらしながらの描画の総描画回数Nを次式、N=(d×2+1)2 −1で計算し、N回描画したか否かを判断する描画制御手段と、前記描画制御手段に制御され、描画回数がN回目までは、前記描画順番決定手段で決定された描画位置と描画順、及び前記描画色決定手段で決定された描画色に従って描画を行うと共に、N+1回目の描画時には、前記図形のずらす以前の本来の位置で前記図形を前記所定の色で描画する描画手段とから成り、前記描画順番決定手段での描画順は、ずらす距離の大きい位置から順に描画される順とし、ずらす距離が等距離の位置が複数ある場合には、その複数の位置の間では描画順は任意とし、前記描画色決定手段での描画色の決定は、前記任意の点の移動範囲を2分し、2分した内の一方の範囲内の位置での描画時は前記輝度の高い色での描画とし、他方の範囲内の位置での描画時は前記輝度の低い色での描画とすることを特徴とするエンボス処理装置。

技術分野

0001

本発明は、複雑な図面や文字に対しても簡単な処理で短時間の内にエンボス効果を施せるエンボス処理の方法及びその装置に関する。

背景技術

0002

エンボス効果は図9に示すように、2次元の図形の周囲に図形より明るい色と暗い色で縁を付け、擬似的に立体的に見せる効果である。このエンボス効果を実現するために、従来は以下の方法を用いていた。(図10に概略を示す。)

0003

(1) 図形の輪郭に添った一定幅の縁を付けるエリア確定する。
(2)縁付けエリア内の各画素に対して、光源の方向と図形の位置関係とから、その画素は光が当たっているのか、それとも影になっているのかを判定する。
(3) (2) で、光が当たっていると判定された場合は図形の色よりも輝度の高い色でその画素を描画し、影になっていると判定された場合は図形の色よりも輝度の低い色でその画素を描画する。
(4) (2) と(3) の処理を縁付けエリア内の全画素に対して行う。

発明が解決しようとする課題

0004

この従来の方法によれば、長方形のような単純な形状の図形では容易に(1) ,(2) の処理が行えるが、複雑な形状の図形では(1) ,(2) の処理が複雑となり長時間かかるばかりか、(2) の処理での「光が当たっているか影になっているかの判定」が困難となることもあった。

課題を解決するための手段

0005

そこで、上記課題を解決するために本発明は、処理対象の図形を1回ずらすごとに、所定の色よりも輝度の高い色または輝度の低い色で前記図形を描画する動作をN回繰り返し、その後、前記図形のずらす以前の本来の位置で前記図形を前記所定の色で描画することにより、前記図形に幅d(dは画素単位)の縁を付けエンボス効果を与えるエンボス処理の方法であって、前記縁の幅dに応じて前記図形の任意の点の移動範囲を確定し、その範囲内の各位置(位置は画素単位)にどの順番でずらすか、即ち前記図形の描画順を決定する描画順番決定ステップと、前記描画順の各順番での描画を、前記所定の色よりも輝度の高い色で行うか、前記所定の色よりも輝度の低い色で行うかを決定する描画色決定ステップと、前記縁の幅dに応じて、ずらしながらの描画の総描画回数Nを次式
N=(d×2+1)2 −1
で計算し、N回描画したか否かを判断する描画回数判断ステップと、描画回数がN回以下の時に、前記描画順番決定ステップで決定された描画位置と描画順、及び前記描画色決定ステップで決定された描画色に従って描画を行う第1の描画ステップと、N+1回目の描画時に、前記図形のずらす以前の本来の位置で前記図形を前記所定の色で描画する第2の描画ステップとから成り、前記描画順番決定ステップでの描画順は、ずらす距離の大きい位置から順に描画される順とし、ずらす距離の等距離の位置が複数ある場合には、その複数の位置の間では描画順は任意とし、前記描画色決定ステップでの描画色の決定は、前記任意の点の移動範囲を2分し、2分した内の一方の範囲内の位置での描画時は前記輝度の高い色での描画とし、他方の範囲内の位置での描画時は前記輝度の低い色での描画とすることを特徴とするエンボス処理の方法を提供するものである。

0006

まず最初に、下記で使用する語句の説明を行う。
奥行き…エンボス効果を施すために図形の周囲に付加する縁の幅。
この奥行きが大きいほど立体感(飛び出て見え度合)が増す。奥行きが1というのは、図形の周囲に1ドット分の縁が付き、奥行きが2というのは2ドット分の縁が付くことになる。
図形色…エンボス処理時に図形自体に付ける色。(エンボス処理前の図形の色と変えてもよい。)
高輝度色…エンボス効果を施すために図形の周囲に付加する縁の色で、図形色より輝度が高く明るい色。
低輝度色…エンボス効果を施すために図形の周囲に付加する縁の色で、図形色より輝度が低く暗い色。
この高輝度色及び低輝度色と、図形色との輝度差が大きいほど仮想光源が明るいことに相当し、エンボス効果は顕著に現われる。

0007

次に、本発明のエンボス効果の実現方法について述べる。予め、図形色、高輝度色、低輝度色、奥行き、光源の方向は決定しているものとする。

0008

奥行きをdとすると、まず、図形の本来の表示位置から水平方向、垂直方向それぞれに±dの範囲でずらしながら図形を描画する。水平方向及び垂直方向の移動はそれぞれドット単位に行うものとする。図2に本来の位置から水平方向及び垂直方向に+2ドットずらした状態を示す。

0009

奥行きをdと指定した場合のずらし方にはN通りあり、Nは以下の式で与えられる。
N=(d×2+1)2 −1

0010

本発明は、図形を1回ずらすごとに高輝度色または低輝度色で図形全体を描画し、これをN回繰り返した後、最後に本来の図形の位置に図形色で描画することで、結果的に縁取りを形成し、エンボス効果を実現するものである。

0011

1回ずらすごとの描画は、縁を形成するために必要な処理である。しかし、ずらす距離の近い描画の後に、ずらす距離の遠い描画を行うと、結果としてある位置で描画したパターンの全画素が、後で描画されたパターンにより上書きされてしまうことがある。例えば、図3に示すように、図形の*の位置が図の1,2,3の位置にその順で来るようにずらして3回描画した場合、ずらす距離の近い描画(図の1,2の位置での描画)の後に、ずらす距離の遠い描画(図の3の位置での描画)を行うことになるので、結果としてある位置(図の1の位置)で描画したパターンの全画素が、図の2の位置で描画されたパターンと図の3の位置で描画されたパターンとにより上書きされてしまう。これは。ある位置で形成されるべき、高輝度色か低輝度色かに指定された縁部分が消されてしまうことになり不都合である。

0012

よって、描画はずらす距離の大きいものから順に行うこととし、ある位置で描画したパターンの全画素がその後の描画により上書きされてしまうことがないようにする。もちろん、後の描写時に、既に描画されているパターンと重なる部分については上書きをする。図4に奥行きdが1,2,3の各場合の描画する順番(ずらす順番)を示す。図形をずらす位置は、図形内のある任意の画素(ここを基準点とする)のずらし位置を決めれば決まるので、図4ではその基準点のずらし位置とずらす順番を示している。

0013

なお、ずらす距離の等しい位置が複数ある場合には、その複数の位置の間では描画順を任意に決めてよい。(例えば図4で描画順1,2,3,4の位置は等距離であるので、その位置の描画順を3,4,1,2としてもよい。)

0014

次に、ずらした各位置での描画色の決定方法を説明する。高輝度色、低輝度色で縁をつけることは、ある方向から光が当たっていると仮定して、その光が当たっている部分については輝度を上げ、影になっている部分については輝度を下げることに他ならない。

0015

そこで、ずらす前の図形の任意の位置に基準点を設け、図5に示すように、その基準点を通り仮想光源の方向(光源の方向は予め決定されており固定)に垂直な直線により、基準点の移動範囲(図4に示した範囲となる)を2分する。そして、図形をずらした時に、基準点が前記2分したうちの光源に近い側の範囲内に移動している場合には、その位置での図形の描画を高輝度色で行い、光源に遠い側の範囲内に移動している場合には、その位置での図形の描画を低輝度色で行う。基準点の移動位置が、ちょうど分線上に位置する場合には、その位置が、ずらす前の基準点より上側では高輝度色で描画し、ずらす前の基準点より下側では低輝度色で描画する。これは、縁の高輝度色部分と低輝度色部分との面積バランスを整えるためであり、多少バランスは悪くなるが、2分線上に位置する場合には全て高輝度色(または全て低輝度色)としてもよい。

0016

図形をN回ずらし、高輝度色または低輝度色でN回描画し終わった後、元の図形位置を図形色で描画する。これによって、光の当たっている側が高輝度色、影の側が低輝度色に着色された縁が図形に形成され、エンボス効果が得られる。

0017

次に、上記したエンボス処理方法の一実施例のフローチャート図1に示す。ここでは奥行きをd、ずらして描画する回数をN(dとNとの関係は前述した式で決定)、仮想光源の方向を図5に示す左斜め方向(光源の方向は全ての場合で固定)とする。

0018

図1において、ステップ(1) では、指定される奥行きdの値に応じて、描画順番及び描画色の表を作成している。外部から指定できる奥行きdの最大値を予め決めておき、その最大値の時の描画の順番表を予め記憶させておく(最大値が3であれば、例えば図4に示すd=3の描画の順番表を記憶させておく)。そして、指定された奥行きdの値に応じて、dの最大値の時の順番表から描画の順番表を作成する。(例えば、図4に示すd=3の描画の順番表から、d=1,d=2の時の描画の順番表は容易に作成できる。)同様に、描画色の表についても、奥行きdの最大値の時の描画色表(図5で説明した方法で作成)を予め記憶させておき、その描画色表から、指定された奥行きdの値に応じた描画色表を作成する。また、奥行きdの各値ごとの描画順番表、描画色表を記憶させておいてもよい。なお、前述の方法よりも表作成に多少時間はかかるが、指定されるdの値ごとに描画順番表と描画色表とを、図4図5に示す考え方に基づいて計算して求めるようにしてもよい。描画色表の計算では仮想光源の方向は一方向固定として計算する。

0019

d=1の時に作成される表の具体的な例を図6に示す。この表は、J番目に描画する位置を本来の図形の描画位置からのずれdx,dyで表わし、合わせてその位置での描画色(高輝度色か低輝度色か)を指定した表(描画順番と描画色とが一体となった表)である。

0020

ステップ(2) では、奥行きdの値から何回ずらして描画するかを求め、Nに代入する。ステップ(3) では、これから何回目の描画をするかを記憶しておく変数Jを1に初期化する。

0021

ステップ(4) では、JがNより大きいかどうかを判断し、JがNより大きい場合(即ち既にN回ずらしてN回の描画を終了した場合)は、ステップ(9) へ処理を進め、JがN以下の場合はステップ(5) へ処理を進める。

0022

ステップ(5) では、ステップ(1) で作成した表より、J番目に描画する位置を取得する。ステップ(6) では、ステップ(1) で作成した表より、J番目に描画する際の描画色を取得する。

0023

ステップ(7) では、ステップ(5) で取得した位置にステップ(6) で決定した色で図形を描画する。(このステップ(7) が第1の描画ステップである。)ステップ(8) では、Jに1を加える。

0024

ステップ(9) では、本来の図形の描画位置に図形色で描画する。(このステップ(9) が第2の描画ステップである。)これで、エンボス処理が完了する。図7に、複雑な図形に対してこの方法でエンボス処理をした例を示す。

0025

このように、実施例の方法では、指定された縁付けの幅である奥行きdの値に応じて、図形をずらしながら描画していくことで縁付けを行っているので、dの値を指定すれば縁を付けるエリアを自動的に確定できる。また、仮想光源の方向は固定であり、図形の任意の基準点のずれる範囲(この範囲はdの値に応じて決まる)を2分することで縁の全部分の色が決定できる。よって、図形を描画順番表の順番にずらしながら前記決定された色に従って描画するだけでエンボス効果が得られる。

0026

上記説明より、実施例の方法は、従来のような「図形の輪郭に添った一定幅の縁を付けるエリアを確定し、縁付けエリア内の各画素ごとに、光源の方向と図形の位置関係とから、その画素は光が当たっているのか、それとも影になっているのかを判定し、画素ごとに色を決定する」といった複雑な処理を用いていないので、複雑な図形に対しても簡単な処理で短時間内に確実にエンボス効果を施すことができる。

0027

図1に示した方法を実現するブロック構成例を図8に示す。使用者によって奥行きdの値が描画制御手段16に入力され、描画制御手段16は、描画順番表作成手段11と描画色表作成手段12とにdの値を指定する。描画順番表作成手段11と描画色表作成手段12とは、指定されたdの値に応じて、描画順番表と描画色表とを作成する。(ステップ(1) )

0028

また、描画制御手段16は、奥行きdの値から何回ずらして描画するか(即ちNの値)を求め記憶する(ステップ(2) )と共に、これから何回目の描画をするかを記憶しておく変数Jを1に初期化する(ステップ(3) )。

0029

次に、描画制御手段16は、描画手段17内の描画位置取得手段13が描画順番表から1番目に描画する位置を取得するよう制御すると共に(ステップ(5) )、描画色取得手段14が描画順番表から1番目に描画する際の描画色を取得するよう制御する(ステップ(6) )。そして、パターン描画手段15は、描画位置取得手段13から1番目に描画する位置が指定されると共に、描画色取得手段14から1番目に描画する際の描画色が指定され、図形を描画する(ステップ(7) )。

0030

その後、描画制御手段16は変数Jに1を加える(ステップ(8) )。描画制御手段16は、変数JがN+1となるまで上記描画動作制御を繰り返す(ステップ(4) )。変数JがN+1となると、描画制御手段16は、パターン描画手段15がずらす前の本来の図形位置に図形色で描画するよう制御する。(ステップ(9))。

0031

なお、図形色、高輝度色、低輝度色の色自体は、予め描画制御手段16によってパターン描画手段15に設定しておく。

発明の効果

0032

以上の通り、本発明は、任意の形状の2次元図形に対して、簡単な処理で短時間に内に確実にエンボス効果を施すことができる。

図面の簡単な説明

0033

図1本発明のエンボス処理方法の一実施例のフローチャートである。
図2本来の位置の図形と位置をずらした図形とを示す図である。
図3ある位置で描画したパターンの全画素が後の描画により上書きされてしまう例を示す図である。
図4描画順番を示す図である。
図5ずらす位置による描画色を示す図である。
図6描画する位置および描画色を一括して示す図である。
図7複雑な形状の図形にエンボス効果を施した例を示す図である。
図8図1に示すフローチャートを実現するブロック構成の一例を示す図である。
図9エンボス効果を説明するための図である。
図10従来の方法を説明するための図である。

--

0034

11描画順番表作成手段
12描画色表作成手段
13描画位置取得手段
14 描画色取得手段
15パターン描画手段
16 描画制御手段
17 描画手段

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