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図面 (5)

目的

半導体露光装置において、塵挨拡散及び摩耗による発塵の抑制、装置の小型化並びに調整の簡略化を目的とする。

構成

シャッター4と、シャッター4を透過した光の広がり角度を調整するシグマ絞りと、あるいは変形光源用絞りと、光の照射範囲を決定するレチクルブラインド7と、露光パターンを有し、露光パターンの光学像を与えるレチクル9と、露光パターンの光学像を半導体基板上に投影する投影レンズ10の開口数を決定する開口数絞り11とを液晶基板で構成し、電気信号印加によりこれらの光学的特性を変化させる。

効果

上記光学部品機械的駆動交換が不要となるので、塵挨の拡散及び摩耗による発塵を抑制し、装置の小型化並びに調整の簡略化を達成できる。

概要

背景

図4は従来の半導体露光装置概略構成を示す図である。

この露光装置は、光源手段としての水銀ランプ1と反射鏡2を備え、水銀ランプ1から照射される露光光光軸上には、水銀ランプ1からの光を反射光軸調整を行う第1反射板3と、露光光量調整のためのシャッター25と、照度均一化のためのフライアイレンズ5と、露光光の光束角度調整のためのシグマ絞りあるいは変形光源用絞り6と、露光光の光束面積調整のためのレチクルブラインド7と、光軸調整のための第2反射板8と、露光パターンを有するレチクル9と、前記レチクル9の露光パターンの光学像半導体基板12上に縮小投影する縮小投影レンズ10と、縮小投影レンズ10の開口数を決める開口数絞り11を備えている。縮小投影レンズ10と開口数絞り11は添設しており、温度調整された容器30内に設置されている。

また、この露光装置はレチクル9の収納のためのレチクルライブラリ24と、塵挨検査用パーティクルチェックボックス23を備えている。

動作において、水銀ランプ1から出射した露光光は反射鏡2で集光され第1反射板3に照射される。反射板3は照射された露光光を、予め設定された光学系の光軸に導く。反射板3により光路を変更された露光光は回転する4枚羽によって構成されるシャッター25に導かれ、光量を調節されてフライアイレンズ5に導かれる。シャッター25は回転することにより羽根と羽根の間から必要な光量を通し、光量を調節する。光量調節後にシャッター25は再び羽根により露光光を遮断する。光量を調節した露光光は、フライアイレンズ5に導かれ、露光光の照度を均一化してシグマ絞り6に導かれる。シグマ絞り6は光の広がり角度である光束角度を調整する作用を有し、レチクル9を照射する露光光の光束角度を決定する。光束角度を決定した光をレチクルブラインド7に導き、レチクルブラインド7によりレチクル9を照射する領域を決定する。以上の光学系により照射条件具備した露光光は、第2の反射板8により反射されて光路を変更しレチクル9を照射する。

レチクル9は半導体の露光パターンを有し、露光光の照射により露光パターンの光学像を与える。露光パターンの光学像は縮小投影レンズ10により、フォトレジストを塗布した半導体基板12上に縮小投影され、フォトレジストを感光して露光パターンを半導体基板12上に形成する。

露光パターンを有するレチクル9は、露光パターン変更の際には交換する必要があるので、多数のレチクル9が用意されている。用意されたレチクル9は、レチクルライブラリ24に収納されており、必要に応じて取り出される。レチクル9の光学系への取り付けの際は、パーティクルチェックボックス23により、レチクル9の塵挨付着状況の確認が行われる。また、レチクルの搬送にはロボットアーム等の搬送装置が使用される。

概要

半導体露光装置において、塵挨の拡散及び摩耗による発塵の抑制、装置の小型化並びに調整の簡略化を目的とする。

シャッター4と、シャッター4を透過した光の広がり角度を調整するシグマ絞りと、あるいは変形光源用絞りと、光の照射範囲を決定するレチクルブラインド7と、露光パターンを有し、露光パターンの光学像を与えるレチクル9と、露光パターンの光学像を半導体基板上に投影する投影レンズ10の開口数を決定する開口数絞り11とを液晶基板で構成し、電気信号印加によりこれらの光学的特性を変化させる。

上記光学部品機械的駆動や交換が不要となるので、塵挨の拡散及び摩耗による発塵を抑制し、装置の小型化並びに調整の簡略化を達成できる。

目的

本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたものであり、塵挨の拡散及び摩耗による発塵の抑制、さらにはレチクルの数量削減と装置全体の小型化並びに調整の簡略化を達成する半導体露光装置を得ることを目的とする。

さらには機械可動部を有しない、電子的可動部のみからなる半導体露光装置用フォトマスク、半導体露光装置用シャッター、半導体露光装置用レチクルブラインド、半導体露光装置用シグマ絞り、半導体露光装置用変形光源用絞り、半導体露光装置用開口数絞りを得ることを目的とする。

効果

実績

技術文献被引用数
1件
牽制数
0件

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請求項1

半導体製造に係る露光装置光学系において、前記光学系を構成する、機械的駆動あるいは交換作業が必要である光学部品の少なくとも1つを、液晶光学的特性を利用した液晶基板で構成することにより、前記液晶基板への電気信号印加に応じて前記光学部品の光学的特性を変化できるようにしたことを特徴とする半導体露光装置

請求項2

前記光学部品には、前記露光装置の光源手段からの露光光の透過または遮断するシャッターと、前記シャッターを透過した露光光の広がり角度を調整するシグマ絞りあるいは変形光源用絞りと、前記シグマ絞りあるいは変形光源用絞りにより広がり角度を調整された露光光の、照射範囲を決定するレチクルブラインドと、露光パターンを有し、前記レチクルブラインドからの露光光を受け前記露光パターンの光学像を与えるレチクルと、前記レチクルで与えられた前記光学像を半導体基板上に投影するレンズ開口数を決定する開口数絞りとを含む、請求項1記載の半導体露光装置。

請求項3

半導体製造に係る露光装置の光学系に用いられ、露光パターンを有し、入射光を受けて前記露光パターンの光学像を与えるレチクルであって、前記レチクルは、液晶の光学的特性を利用した液晶基板で構成され、前記液晶基板への電気信号の印加に応じて前記露光パターンが可変できることを特徴とする半導体露光装置用光学部品。

請求項4

半導体製造に係る露光装置の光学系に用いられ、前記露光装置の光源手段からの露光光を透過または遮断するシャッターであって、前記シャッターは、液晶の光学的特性を利用した液晶基板で構成され、前記液晶基板への電気信号の印加に応じて露光光の透過または遮断ができることを特徴とする半導体露光装置用光学部品。

請求項5

半導体製造に係る露光装置の光学系に用いられ、前記露光装置の光源手段からの露光光の照射範囲を決定するレチクルブラインドであって、前記レチクルブラインドは、液晶の光学的特性を利用した液晶基板で構成され、前記液晶基板への電気信号の印加に応じて露光光の透過領域が可変できることを特徴とする半導体露光装置用光学部品。

請求項6

半導体製造に係る露光装置の光学系に用いられ、前記露光装置の光源手段からの露光光の広がり角度を調整するシグマ絞りであって、前記シグマ絞りは、液晶の光学的特性を利用した液晶基板で構成され、前記液晶基板への電気信号の印加に応じて露光光の透過面積が可変できることを特徴とする半導体露光装置用光学部品。

請求項7

半導体製造に係る露光装置の光学系に用いられ、前記露光装置の光源手段からの露光光の広がり角度を調整する変形光源用絞りであって、前記変形光源用絞りは、液晶の光学的特性を利用した液晶基板で構成され、前記液晶基板への電気信号の印加に応じて露光光の透過面積が可変できることを特徴とする半導体露光装置用光学部品。

請求項8

半導体製造に係る露光装置の光学系に用いられ、前記露光装置の光源手段からの露光光を半導体基板に投影するレンズの開口数を決定する開口数絞りであって、前記開口数絞りは、液晶の光学的特性を利用した液晶基板で構成され、前記液晶基板への電気信号の印加に応じて露光光の透過面積が可変できることを特徴とする半導体露光装置用光学部品。

請求項9

液晶と、前記液晶の両側に配置された前記液晶を挟み込むための透明基板と、前記透明基板の両内側に密着して形成されたされた前記液晶に電界を加えるための透明電極膜とを少なくとも備えて構成された液晶基板を使用する、請求項3〜8のいずれかに記載の半導体露光装置用光学部品。

技術分野

0001

本発明は、半導体露光装置に関するものである。

背景技術

0002

図4は従来の半導体露光装置の概略構成を示す図である。

0003

この露光装置は、光源手段としての水銀ランプ1と反射鏡2を備え、水銀ランプ1から照射される露光光光軸上には、水銀ランプ1からの光を反射光軸調整を行う第1反射板3と、露光光量調整のためのシャッター25と、照度均一化のためのフライアイレンズ5と、露光光の光束角度調整のためのシグマ絞りあるいは変形光源用絞り6と、露光光の光束面積調整のためのレチクルブラインド7と、光軸調整のための第2反射板8と、露光パターンを有するレチクル9と、前記レチクル9の露光パターンの光学像半導体基板12上に縮小投影する縮小投影レンズ10と、縮小投影レンズ10の開口数を決める開口数絞り11を備えている。縮小投影レンズ10と開口数絞り11は添設しており、温度調整された容器30内に設置されている。

0004

また、この露光装置はレチクル9の収納のためのレチクルライブラリ24と、塵挨検査用パーティクルチェックボックス23を備えている。

0005

動作において、水銀ランプ1から出射した露光光は反射鏡2で集光され第1反射板3に照射される。反射板3は照射された露光光を、予め設定された光学系の光軸に導く。反射板3により光路を変更された露光光は回転する4枚羽によって構成されるシャッター25に導かれ、光量を調節されてフライアイレンズ5に導かれる。シャッター25は回転することにより羽根と羽根の間から必要な光量を通し、光量を調節する。光量調節後にシャッター25は再び羽根により露光光を遮断する。光量を調節した露光光は、フライアイレンズ5に導かれ、露光光の照度を均一化してシグマ絞り6に導かれる。シグマ絞り6は光の広がり角度である光束角度を調整する作用を有し、レチクル9を照射する露光光の光束角度を決定する。光束角度を決定した光をレチクルブラインド7に導き、レチクルブラインド7によりレチクル9を照射する領域を決定する。以上の光学系により照射条件具備した露光光は、第2の反射板8により反射されて光路を変更しレチクル9を照射する。

0006

レチクル9は半導体の露光パターンを有し、露光光の照射により露光パターンの光学像を与える。露光パターンの光学像は縮小投影レンズ10により、フォトレジストを塗布した半導体基板12上に縮小投影され、フォトレジストを感光して露光パターンを半導体基板12上に形成する。

0007

露光パターンを有するレチクル9は、露光パターン変更の際には交換する必要があるので、多数のレチクル9が用意されている。用意されたレチクル9は、レチクルライブラリ24に収納されており、必要に応じて取り出される。レチクル9の光学系への取り付けの際は、パーティクルチェックボックス23により、レチクル9の塵挨付着状況の確認が行われる。また、レチクルの搬送にはロボットアーム等の搬送装置が使用される。

発明が解決しようとする課題

0008

従来の半導体露光装置は以上のように構成されているので、露光光の光量調整に伴うシャッター25の回転による塵挨の拡散可動部の摩耗による発塵、また露光パターンの細密化に伴って必要となるシグマ絞りあるいは変形光源用絞り6の交換に際して発塵が起こる。

0009

最も大きな発塵は、露光パターンの変更のためにレチクル9を交換する際に、レチクル9をレチクルライブラリ24から取り出し、パーティクルチェックボックス23を通して光学系の所定位置に取り付ける場合及び逆に取り外す場合に、使用されるロボットアーム等の搬送機器の可動により発生する。

0010

また、半導体装置製造過程においては多数の露光パターンを必要とするために、レチクル9も多数必要であり交換の頻度も高い。またレチクル9の取り付けには高精度な位置決めが必要であり、露光パターンの細密化に伴う位置決め装置の大型化による本体露光装置の大型化及び調整の複雑化による調整時間の長時間化が懸念されている。

0011

本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたものであり、塵挨の拡散及び摩耗による発塵の抑制、さらにはレチクルの数量削減と装置全体の小型化並びに調整の簡略化を達成する半導体露光装置を得ることを目的とする。

0012

さらには機械的可動部を有しない、電子的可動部のみからなる半導体露光装置用フォトマスク、半導体露光装置用シャッター、半導体露光装置用レチクルブラインド、半導体露光装置用シグマ絞り、半導体露光装置用変形光源用絞り、半導体露光装置用開口数絞りを得ることを目的とする。

課題を解決するための手段

0013

本発明に係る半導体露光装置の第1の態様は、前記半導体露光装置の光学系において、液晶光学的特性を利用した液晶基板で構成することにより、前記液晶基板への電気信号印加に応じて光学的特性を変化できるようにした光学部品を少なくとも1つ備えている。

0014

本発明に係る半導体露光装置の第2の態様は、前記光学部品として、前記露光装置の光源手段からの露光光を透過または遮断するシャッターと、前記シャッターを透過した光の広がり角度を調整するシグマ絞りあるいは変形光源用絞りと、前記シグマ絞りあるいは変形光源用絞りにより広がり角度を調整された光の、照射範囲を決定するレチクルブラインドと、露光パターンを有し、前記レチクルブラインドからの光を受け前記露光パターンの光学像を与えるレチクルと、前記レチクルで与えられた前記光学像を半導体基板上に投影するレンズの開口数を決定する開口数絞りとを備えている。

0015

本発明に係る半導体露光装置の光学部品であるレチクルは露光パターンを有し、前記露光パターンの形成に液晶の光学的特性を利用した液晶基板で構成され、前記液晶基板への電気信号の印加に応じて前記露光パターンが可変できることを特徴とする。

0016

本発明に係る半導体露光装置の光学部品であるシャッターは、液晶の光学的特性を利用した液晶基板で構成され、前記液晶基板への電気信号の印加に応じて露光光の透過または遮断ができることを特徴とする。

0017

本発明に係る半導体露光装置の光学部品であるレチクルブラインドは、液晶の光学的特性を利用した液晶基板で構成され、前記液晶基板への電気信号の印加に応じて露光光の透過領域が可変できることを特徴とする。

0018

本発明に係る半導体露光装置の光学部品であるシグマ絞りは、液晶の光学的特性を利用した液晶基板で構成され、前記液晶基板への電気信号の印加に応じて露光光の透過面積が可変できることを特徴とする。

0019

本発明に係る半導体露光装置の光学部品である変形光源用絞りは、液晶の光学的特性を利用した液晶基板で構成され、前記液晶基板への電気信号の印加に応じて開口部形状が可変できることを特徴とする。

0020

本発明に係る半導体露光装置の光学部品である開口数絞りは、液晶の光学的特性を利用した液晶基板で構成され、前記液晶基板への電気信号の印加に応じて露光光の透過面積が可変できることを特徴とする半導体露光装置用光学部品。

0021

本発明に係る半導体露光装置用光学部品においては望ましくは、液晶と、前記液晶の両側に配置された前記液晶を挟み込むための透明基板と、前記透明基板の両内側に密着して形成された、前記液晶に電界を加えるための透明電極膜とを少なくとも備えて構成された液晶基板により構成される。

0022

本発明に係る半導体露光装置の第1の態様によれば、光学系を構成する光学部品の少なくとも1つを、液晶の光学的特性を利用した液晶基板で構成することにより、液晶基板への電気信号の印加に応じて光学的特性が変化できるので、従来は光学的特性を変更するに際しては機械的駆動を伴ったり、交換作業が必要であった光学部品を、機械的駆動あるいは交換作業が不要な光学部品にすることができる。

0023

本発明に係る半導体露光装置の第2の態様によれば、光学部品には露光装置の光源手段からの露光光を透過または遮断するシャッターと、シャッターを透過した露光光の広がり角度を調整するシグマ絞りあるいは変形光源用絞りと、シグマ絞りあるいは変形光源用絞りにより広がり角度を調整された露光光の照射範囲を決定するレチクルブラインドと、露光パターンを有し、レチクルブラインドからの露光光を受け露光パターンの光学像を与えるレチクルと、レチクルで与えられた光学像を半導体基板上に投影するレンズの開口数を決定する開口数絞りとを含んでいるので、これらの少なくとも1つを機械的駆動あるいは交換作業が不要な光学部品にすることができる。

0024

本発明に係る半導体露光装置の光学部品であるレチクルは、液晶の光学的特性を利用した液晶基板で構成され、液晶基板への電気信号の印加に応じて露光パターンが可変できるので、従来は必要であった露光パターンの変更に伴うレチクルの交換作業を不要にすることができる。

0025

本発明に係る半導体露光装置の光学部品であるシャッターは、液晶の光学的特性を利用した液晶基板で構成され、液晶基板への電気信号の印加に応じて露光光の透過または遮断ができるので、従来は必要であった露光光の透過、遮断に伴う機械的駆動を不要にすることができる。

0026

本発明に係る半導体露光装置の光学部品であるレチクルブラインドは、液晶の光学的特性を利用した液晶基板で構成され、液晶基板への電気信号の印加に応じて露光光の透過領域が可変できるので、従来は必要であった露光光の透過領域の変更に伴うレチクルブラインドの交換作業を不要にすることができる。

0027

本発明に係る半導体露光装置の光学部品であるシグマ絞りは、液晶の光学的特性を利用した液晶基板で構成され、液晶基板への電気信号の印加に応じて露光光の透過面積が可変できるので、従来は必要であった露光光の透過面積の変更に伴うシグマ絞りの交換作業を不要にすることができる。

0028

本発明に係る半導体露光装置の光学部品である変形光源用絞りは、液晶の光学的特性を利用した液晶基板で構成され、液晶基板への電気信号の印加に応じて開口部形状が可変できるので、従来は必要であった開口部形状の変更に伴う変形光源用絞りの交換作業を不要にすることができる。

0029

本発明に係る半導体露光装置の光学部品である開口数絞りは、液晶の光学的特性を利用した液晶基板で構成され、液晶基板への電気信号の印加に応じて露光光の透過面積が可変できるので、従来は必要であった露光光の透過面積の変更に伴う開口数絞りの交換作業を不要にすることができる。

0030

本発明に係る半導体露光装置用光学部品を構成する液晶基板は、液晶と、液晶の両側に配置された液晶を挟み込むための透明基板と、透明基板の両内側に密着して形成されたされた液晶に電界を加えるための透明電極膜とを少なくとも備えている。よって、透明電極の一方を分割し、各々に制御のための薄膜トランジスタ(以後TFTと略記)を添設して、独立制御可能な画素電極とした場合においては、液晶の応答特性の向上、解像度の増加、液晶基板の透明化を達成できる。

0031

図1に本発明に係る半導体露光装置の一実施例を示す。図1において、露光光量調整のためのシャッター4と、露光光の広がり角度調整のためのシグマ絞り6あるいは変形光源用絞りと、露光光の照射面積調整のためのレチクルブラインド7と、露光パターンを有するレチクル9と、縮小投影レンズ10の開口数を決める開口数絞り11は液晶基板により構成されている。その他の構成は図4に示す従来の半導体露光装置と同じである。

0032

動作において、シャッター4に導かれた露光光は液晶の光透過作用によりシャッター4を透過する。この場合、透過光量は液晶の光透過作用を示す部分の面積と透過作用持続時間によって決定される。故に、光量を加減するには液晶基板の電気的制御により、光透過部分光遮断部分の割合と透過時間を調整することで対応できるので、機械的可動部分を必要としない。光量調節後には、シャッター4は光遮断部分のみとなって露光光を遮断する。

0033

シャッター4を透過した露光光はフライアイレンズ5に導かれ、露光光の照度が均一化された後シグマ絞り6に導かれる。シグマ絞り6はレチクル9を照射する露光光の広がり角度を決定するためのものであり、従来の半導体露光装置では径の寸法が固定された円孔開口部により構成されていた。よって、露光パターンの細線化に伴って円孔の径を変化させる必要がある場合には、機械的な交換作業を行う必要があり、交換作業による発塵等が発生した。

0034

本実施例では液晶基板の電気的制御により、円孔開口部分に相当する液晶基板の光透過部分の寸法を任意に変更できるので、発塵を伴う交換作業を必要としない。これは、シグマ絞り6の代わりに変形光源用絞りを用いた場合も同様である。

0035

変形光源用絞りはシグマ絞りと同様な機能を備えており、異なるのはシグマ絞りの開口部が円孔であるのに対して、開口部形状が円孔ではないことである。その形状は楕円矩形多角形等である。よって従来は、開口部形状を変更する際にはシグマ絞りと同様に発塵を伴う交換作業が必要であった。

0036

本実施例では液晶基板の電気的制御により、開口部分に相当する液晶基板の光透過部分の形状を任意に変更できる。

0037

シグマ絞り6を透過した露光光はレチクルブラインド7に導かれる。レチクルブラインド7はレチクル9を照射する露光光の照射面積を決定するためのものであり、従来の半導体露光装置ではレチクル9の面積に応じて変更する必要がある場合には発塵を伴う交換作業を必要とした。

0038

本実施例では液晶基板の電気的制御により、開口部分に相当する液晶基板の光透過部分の面積を任意に変更できるので、発塵を伴う交換作業を必要としない。

0039

レチクルブラインド7を透過した露光光はレチクル9に導かれる。レチクル9は半導体の露光パターンを有し、露光光の照射により露光パターンの光学像を与える機能を有している。従来の半導体露光装置では、レチクルは石英ガラス等の透明基板に露光パターンを描画したものであった。

0040

本実施例では露光パターンを液晶基板上に液晶表示で描くため、露光パターンの形成は液晶基板の電気的制御により任意にできるので、露光パターンの変更にはレチクル9の機械的移動を伴わず、発塵を伴う交換作業を必要としない。それだけでなく、レチクル9を搬送するロボットアーム等の搬送装置が必要なく、多数のレチクルを収納する装置も移動中のレチクルの塵挨付着状況を確認する装置も必要ない。さらに、基本的にはレチクルの取り付け、取り外しを行う必要がないので、取り付けに伴うアライメント調整機構も簡略化できる。

0041

レチクル9の露光パターンの光学像は縮小投影レンズ10により、フォトレジストを塗布した半導体基板12上に縮小投影され、フォトレジストを感光して露光パターンを半導体基板12上に形成する。縮小投影レンズ10には、レンズの開口数を決定する開口数絞り11が添設されており、これらは温度調整された容器30の中に収納されている。

0042

本実施例では開口絞り11も液晶基板により構成されているため、液晶基板の電気的制御により開口部分に相当する液晶基板の光透過部分の寸法を任意に変更できるので、発塵を伴う交換作業を必要としない。

0043

図2及び図3は各々、図1に示す半導体露光装置に用いられるシャッター4、シグマ絞りあるいは変形光源用絞り6、レチクルブラインド7、レチクル9、開口数絞り11を構成する液晶基板の基本構造を示す断面図と平面図である。

0044

図2において、液晶基板の主要構成材料である液晶13には、ネマティック液晶スメクティック液晶コレステリック液晶等が使用される。

0045

液晶は2枚の透明基板40に挟み込まれる形で保持される。透明基板40の両内面には透明電極膜14が密着して形成され、透明基板40の外側には偏光子15が配置されている。

0046

動作において、入射光16は偏光子15により、特定方向の偏光成分のみを選別され液晶13に入射する。透明電極膜14は液晶13に電圧を印加するためのものであり、光の透過性が優れている、酸化すずを含む酸化インジウム膜ITO膜)等が使用される。液晶13に入射した光は、液晶13の光透過作用を受け、出射側の偏光子15により再び偏光成分を選別された後透過光17として出射されるか、あるいは液晶13の光遮断作用により遮断される。偏光子15は本発明を実施するにあたっては必須の構成ではないので、偏光子15を使用しない場合もある。

0047

図3は、図2で示した液晶基板の透明電極14の一方を分割した場合の構造を平面図として示したものである。分割した透明電極(以後画素電極18と記載)は、透明基板40上に形成したTFT22に密接して形成されている。TFT22はドレインバス21とゲート・バス19が直交する位置に設けられており、TFT22からはソース電極20が画素電極18に接続されている。透明基板40の材料としては、透明度が高くTFTを形成する上で密着性の良いガラス等が使われる。

0048

図3は、透明基板40上の1画素分のみを示しているが、透明基板40上には同様の画素を500万個以上形成する。

0049

動作において、画素ごとに設けられた各々のTFTをON、OFFにより液晶の光学的特性を操作して所望のパターンを得る。画素は透明基板上に配置されているので、液晶が透過状態にあるときは透明基板を通して光が透過することになる。

発明の効果

0050

以上のように請求項1記載の半導体露光装置によれば、光学系を構成する光学部品の少なくとも1つを、機械的駆動あるいは交換作業が不要な光学部品にすることで、可動部における発塵、塵挨の拡散を抑制する効果がある。

0051

請求項2記載の半導体露光装置によれば、光学系における、露光装置の光源手段からの露光光を透過または遮断するシャッターと、シャッターを透過した露光光の広がり角度を調整するシグマ絞りあるいは変形光源用絞りと、シグマ絞りあるいは変形光源用絞りにより広がり角度を調整された露光光の、照射範囲を決定するレチクルブラインドと、露光パターンを有し、レチクルブラインドからの露光光を受け露光パターンの光学像を与えるレチクルと、レチクルで与えられた光学像を半導体基板上に投影するレンズの開口数を決定する開口数絞りの少なくとも1つを、機械的駆動あるいは交換作業が不要な光学部品にすることで、可動部における発塵、塵挨の拡散の抑制ができ、またレチクルを機械的駆動あるいは交換作業が不要な光学部品にすることで、レチクル取り付けに伴うアライメント調整作業の簡略化とレチクル数の低減ができる。また、レチクルの光学系への取り付け、取り外しに付随する機器を省略あるいは簡略化できるので、光学系を単一の容器内に納めることも可能となり、半導体露光装置が小型化できる効果がある。

0052

請求項3記載の半導体露光装置用光学部品であるレチクルによれば、露光パターンを液晶表示で描くため、露光パターンを任意に変更できるので、露光パターンの変更に伴うレチクルの交換作業が不要になり、半導体装置の製造に要するレチクルの数を低減する効果がある。

0053

請求項4記載の半導体露光装置用光学部品であるシャッターによれば、液晶の光遮断、光透過作用により、機械的可動を伴わずに露光光の透過、遮断ができるので、可動部における発塵、塵挨の拡散を抑制する効果がある。

0054

請求項5記載の半導体露光装置用光学部品であるレチクルブラインドによれば、液晶の光遮断、光透過作用により、機械的移動を伴わずに開口領域を変更できるので、移動に伴う発塵、塵挨の拡散を抑制する効果がある。

0055

請求項6記載の半導体露光装置用光学部品であるシグマ絞りによれば、液晶の光遮断、光透過作用により、機械的移動を伴わずに開口面積を変更できるので、移動に伴う発塵、塵挨の拡散を抑制する効果がある。

0056

請求項7記載の半導体露光装置用光学部品である変形光源用絞りによれば、液晶の光遮断、光透過作用により、機械的移動を伴わずに開口形状を変更できるので、移動に伴う発塵、塵挨の拡散を抑制する効果がある。

0057

請求項8記載の半導体露光装置用光学部品である開口数絞りによれば、液晶の光遮断、光透過作用により、機械的移動を伴わずに開口面積を変更できるので、移動に伴う発塵、塵挨の拡散を抑制する効果がある。

0058

請求項9記載の半導体露光装置用光学部品を構成する液晶基板は液晶と、液晶の両側に配置された液晶を挟み込むための透明基板と、透明基板の両内側に密着して形成された液晶に電界を加えるための透明電極膜とを少なくとも備えている。よって、透明電極の一方を分割し、各々に制御のためのTFTを添設して、独立制御可能な画素電極とした場合においては、液晶の応答特性の向上、解像度の増加、液晶基板の透明化を達成できるので、半導体露光装置用光学部品の性能を向上できる効果がある。

図面の簡単な説明

0059

図1本発明の一実施例である半導体露光装置の概略構成を示す図である。
図2本発明に係る液晶基板の基本構造を示す断面図である。
図3本発明に係る液晶基板の基本構造を示す平面図である。
図4従来の半導体露光装置の概略構成を示す図である。

--

0060

1水銀ランプ
2反射鏡
3 第1反射板
4シャッター
5フライアイレンズ
6シグマ絞り
7レチクルブラインド
8 第2反射板
9レチクル
10縮小投影レンズ
11開口数絞り
12半導体基板
13液晶
14透明電極膜
15偏光子
16入射光
17透過光
18画素電極
19ゲート・バス
20ソース電極
21ドレイン・バス
22シリコン基板
23パーティクルチェックボックス
24 レチクルライブラリ
25 シャッター
30容器
40 透明電極

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