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この項目の情報は公開日時点(1994年5月31日)のものです。
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図面 (3)

目的

描画露光不良の発生を未然に防ぎ、描画露光用機械コスト現像検査コスト,人件費,時間等の浪費を低減させる。

構成

制御プロセッサ30内に診断プログラム37を設け、ロードロック室14の真空引き時及び/又はロードロック室14と描画室10との間の試料11の搬送時等の時間を利用することにより、描画露光前に描画露光装置内の各種のメモリレジスタ演算素子並びに回路の少なくとも一部の不具合がないことを確認して描画露光を実行する。

概要

背景

従来、荷電粒子線描画露光装置によって描画露光された集積回路パターン等の良否判定は、描画露光中はもちろん、その直後にもできず、現像等の後処理を行なった後でないとできなかった。

概要

描画露光不良の発生を未然に防ぎ、描画露光用機械コスト,現像や検査コスト,人件費,時間等の浪費を低減させる。

制御プロセッサ30内に診断プログラム37を設け、ロードロック室14の真空引き時及び/又はロードロック室14と描画室10との間の試料11の搬送時等の時間を利用することにより、描画露光前に描画露光装置内の各種のメモリレジスタ演算素子並びに回路の少なくとも一部の不具合がないことを確認して描画露光を実行する。

目的

効果

実績

技術文献被引用数
1件
牽制数
1件

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請求項1

試料ロードロック室を介して真空描画室内搬入して荷電粒子線により試料上に所望のパターン描画露光するに際し、制御プロセッサ内に診断プログラムを用意し、描画露光前に、描画露光装置内の各種のメモリレジスタ演算素子並びに回路の少なくとも一部の不具合の有無を前記診断プログラムによって把握し、該不具合がないことを確認して描画露光を実行することを特徴とする荷電粒子線描画露光方法

請求項2

前記診断プログラムによる不具合の把握を、描画露光に先立って行われる前記ロードロック室の真空引き時及び/又はロードロック室と描画室との間の試料搬送時に行うことを特徴とする請求項1の荷電粒子線描画露光方法。

請求項3

試料をロードロック室を介して真空の描画室内に搬入して荷電粒子線により試料上に所望のパターンを描画露光する装置において、同装置内の各種のメモリ,レジスタ,演算素子並びに回路の少なくとも一部について不具合の有無を把握するための診断プログラムを制御プロセッサ内に設け、該診断プログラムを描画露光前に実行可能に構成したことを特徴とする荷電粒子線描画露光装置。

請求項4

前記診断プログラムが、描画露光に先立って行われる前記ロードロック室の真空引き時及び/又はロードロック室と描画室との間の試料搬送時に実行可能に構成されていることを特徴とする請求項3の荷電粒子線描画露光装置。

技術分野

0001

本発明は、集積回路パターン等を形成するための荷電粒子線描画露光方法及びその装置に係り、特に描画露光信頼性向上に関する。

背景技術

0002

従来、荷電粒子線描画露光装置によって描画露光された集積回路のパターン等の良否判定は、描画露光中はもちろん、その直後にもできず、現像等の後処理を行なった後でないとできなかった。

発明が解決しようとする課題

0003

このため、描画露光不良が発見されるまでに時間が掛り生産計画に対しより大な遅くれを生じると共に、描画露光のための機械コスト,現像や検査コスト,人件費等の多大な浪費を生じることがあった。

0004

本発明は、前述したような点に鑑みなされたもので、描画露光不良の発生を未然に防ぐことを目的としている。

課題を解決するための手段

0005

上記目的を達成するための本発明は、試料ロードロック室を介して真空描画室内搬入して荷電粒子線により試料上に所望のパターンを描画露光するに際し、制御プロセッサ内に診断プログラムを用意し、描画露光前に、描画露光装置内の各種のメモリレジスタ演算素子並びに回路の少なくとも一部の不具合の有無を前記診断プログラムによって把握し、該不具合がないことを確認して描画露光を実行することを特徴とする荷電粒子線描画露光方法にある。

0006

なお、前記診断プログラムによる不具合の把握は、描画露光に先立って行われる前記ロードロック室の真空引き時及び/又はロードロック室と描画室との間の試料搬送時に行うことが好ましい。

0007

また、本発明は、試料をロードロック室を介して真空の描画室内に搬入して荷電粒子線により試料上に所望のパターンを描画露光する装置において、同装置内の各種のメモリ,レジスタ,演算素子並びに回路の少なくとも一部について不具合の有無を把握するための診断プログラムを制御プロセッサ内に設け、該診断プログラムを描画露光前に実行可能に構成したことを特徴とする荷電粒子線描画露光装置にある。

0008

なお、前記診断プログラムは、描画露光に先立って行われる前記ロードロック室の真空引き時及び/又はロードロック室と描画室との間の試料搬送時に実行可能に構成することが好ましい。

0009

荷電粒子線による描画露光は、高真空に保たれている描画室に隣接して設けられたロードロック室を介して試料を描画室へ搬入して描画露光を行う。好ましくは、試料をロードロック室へ搬入して、このロードロック室を描画室と同程度の真空度まで真空引きする時間及び/またはその後に試料をロードロック室から描画室へ搬送する時間等を利用して、診断プログラムにより装置内の各種メモリ,レジスタ,演算素子並びに回路の少なくとも一部について不具合の有無を把握する。こうして不具合がないことを確認してから描画することにより、描画露光不良の発生は大巾に減少し、前述した課題が大巾に改善される。

0010

以下本発明の実施例について図1ないし図2を参照して説明する。図1において、10は高真空に保たれている描画室,20は荷電粒子線光学鏡筒である。

0011

描画室10内には、試料11を載置するXYステージ12が設けられている。XYステージ12はステージ制御回路31及び駆動系32によりX方向及びY方向に移動され、XYステージ12の位置はレーザ長系33及び位置検出回路34により検出される。なお、ステージ制御回路31はコンピュータ等からなる制御プロセッサ30からの指令により作動し、位置検出回路34の検出信号は制御プロセッサ30に取り込まれる。

0012

描画室10には、ゲート弁13を介してロードロック室14が接続されている。ロードロック室14内には上下動可能なマガジン15が設けられ、複数の試料11を収納するようになっている。ロードロック室14は図示しない開閉扉により大気に対して開閉可能に形成されると共に、図示しない真空装置によって描画室10と同程度に真空引きされるようになっている。

0013

マガジン15に収納された試料11は、ロードロック室14の側部に取付けられた搬送装置16によりゲート弁13を通してXYステージ12上へ搬送され、また、描画露光が終ったXYステージ12上の試料11は搬送装置16によってマガジン15に戻される。

0014

荷電粒子線光学鏡筒20は、荷電粒子線発生部21,各種レンズ22,23,24,ブランキング電極25,走査用偏向器26等から構成されている。40は、荷電粒子線発生部21及び各種レンズ22,23,24の電源であり、制御プロセッサ30によってそれぞれへの出力を制御される。

0015

ブランキング電極25には描画回路35が接続され、走査用偏向器26には偏向回路36が接続されている。描画回路35は、位置検出回路34の検出信号に関連付けられて制御プロセッサ30から与えられるON,OFF信号によって試料11に対する荷電粒子線の照射のON,OFFを行うようになっている。また、偏向回路36は、同じく位置検出回路34の検出信号に関連付けられて制御プロセッサ30から与えられる偏向電圧によって荷電粒子線を試料11上の所定位置に対して走査させるようになっている。

0016

制御プロセッサ30には、診断プログラム37が設けられている。この診断プログラム37は、描画回路35内の図示しない描画データバッファメモリ繰り返しパターン圧縮用メモリ及び補正用パラメータ格納メモリをはじめ、各回路31,34,35,36内の各種メモリ,レジスタ,演算素子等のミクロ的なものから各回路のテスト作動による正常動作チェック等のマクロ的なものを含めて描画露光に関係する部分の少なくとも一部の不具合の有無を把握するようになっている。

0017

診断プログラム37による診断は、図2に示すように、描画露光に先立って行われるロードロック室14の真空引き時(ステップ103)及び/又は搬送装置16によるロードロック室14から描画室10への試料搬送時間(ステップ107)等を利用して、描画露光前に自動的に実行されるように制御プロセッサ30に組み込まれている。

0018

次いで、本装置の作用について説明する。ロードロック室14を大気に開放し、図2のステップ101に示すようにマガジン15に試料11をセットしてロードロック室14を閉じ、ロードロック室14の真空引きを開始する(ステップ102)。

0019

この真空引き開始後、ステップ103で真空引きが終了か否かを判断し、終了していないとき、すなわち真空引き時間を利用してステップ104に示すように、診断プログラム37を実行させて各回路31,34,35,36及びそれらの中のメモリ等の不具合の有無の診断を行う。

0020

ロードロック室14の真空度が描画室10の真空度と略等しくなったところで、真空引きを終了し、ゲート弁13を開いてマガジン15内の試料11を搬送装置16によってXYステージ12上へ搬送する(ステップ106)。この搬送時にも、ステップ107,108で示すように搬送終了までの時間を利用して診断を行う。

0021

なお、上記診断は、実質的には1つのものとして連続して行ってもよく、真空引き開始から搬送終了までの時間内で診断を完了するように構成されている。

0022

上記診断によって不具合が発見されると、その時点でプログラムの進行は停止され、不具合個所を図示しないディスプレイに表示する。不具合がなければ、ステップ107の搬送終了に従って、ステップ109で示す描画露光が実行され、描画露光が終了したところで、ステップ110で示すように、描画露光された試料11をマガジン15へ戻す。

0023

図1に示した実施例のように、ロードロック室14に複数の試料11を収容して順次描画露光する場合、上記のように、最初の試料の描画露光の前にのみ診断を行って、残りの試料の描画露光前には、該診断を省略してもよいが、上記のように、ステップ110で描画露光された試料11をマガジン15へ戻す時間(ステップ111参照)を利用すると共に、ステップ106,107と同様に行われる次の試料11をXYステージ12へ搬入する時間を利用して、各試料11の描画露光前に診断をそれぞれ行うようにしてもよい。

発明の効果

0024

以上述べたように、本発明によれば、描画露光前に装置の不具合が自動的に診断され、不具合がないときのみ描画露光が実行されるため、描画露光不良の発生を大巾に減少させることができ、また、不具合を早期に発見して未然に対処できるため、生産計画に対する遅くれを小さく押さえることができると共に、描画露光用機械コスト,現像や検査コスト及び人件費等の浪費を削減することができる効果が得られる。

図面の簡単な説明

0025

図1本発明の実施例を示す概要構成図である。
図2本発明による描画露光工程のフローチャートを示す図である。

--

0026

10描画室
11試料
12 XYステージ
14ロードロック室
15マガジン
16搬送装置
20荷電粒子線光学鏡筒
21 荷電粒子線発生部
22,23,24レンズ
25ブランキング電極
26走査用偏向器
30制御プロセッサ
31 ステージ制御回路
32 駆動系
33レーザ測長系
34位置検出回路
35描画回路
36偏向回路
37 診断プログラム

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