束野憲人 さんに関する公開一覧

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  1. 【課題】パターンの凹部内にある液体が超臨界状態の処理流体に置換される前に蒸発することを防ぐ。【解決手段】基板処理装置は、表面に液体が付着している基板を処理容器に収容した後に処理容器(301)に加圧された処理流体を供給して、処理容器内の圧力を処理流体の臨界圧力よりも高い処理圧力まで上昇させる昇圧工程と、昇圧工程の後に、処理容器内において少なくとも処理流体が超臨界状態を維...

    基板処理装置、基板処理方法及び記録媒体

  2. 【課題・解決手段】実施形態に係る基板処理装置(1)は、乾燥処理部(17)と、排出ライン(L2)と、取得部(75)と、検出部(19C)とを備える。乾燥処理部(17)は、液体により表面が濡れた状態の基板を超臨界流体と接触させて、液体を超臨界流体と置換することで基板の乾燥処理を行う。排出ライン(L2)は、乾燥処理部(17)に設けられ乾燥処理部(17)から流体を排出する。取得...

    基板処理装置および基板処理方法