梅本彩香 さんに関する公開一覧

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  1. 技術 ＣＭＰ後洗浄液、洗浄方法及び半導体ウェハの製造方法

    【課題】タングステンを溶解させることなく、鉄化合物除去性及び抗菌性に優れるＣＭＰ後洗浄液を提供する。また、タングステンを溶解させることなく、鉄化合物除去性に優れる洗浄方法を提供する。【解決手段】成分（Ａ）：抗菌剤、及び、成分（Ｂ）：カルボキシル基含有アミン化合物を含むＣＭＰ洗浄液。前記ＣＭＰ後洗浄液を用いて半導体ウェハを洗浄する洗浄方法。前記ＣＭＰ後洗浄液を用いて半導...