ジーベルト，マクス さんに関する公開一覧

【課題】コバルト及び／又はコバルト合金を含む基板の研磨のための化学機械研磨（ＣＭＰ）組成物の使用方法【解決手段】（ｉ）コバルト及び／又は（ｉｉ）コバルト合金を含む基板（Ｓ）を化学機械研磨するための化学機械研磨（ＣＭＰ）組成物（Ｑ）の使用方法であって、該化学機械研磨（ＣＭＰ）組成物（Ｑ）が、 （Ａ）無機粒子、 （Ｂ）一般式（Ｉ）のアニオン性界面活性剤、 Ｒ−Ｓ...

• 公開日：2019/07/18
• 出願人： ビーエーエスエフソシエタス・ヨーロピア
• 発明者： ライヒャルト，ロベルト 、...
• 公開番号：2019-520697号

化学機械研磨後（ＣＭＰ後）洗浄組成物であって、 （Ａ）一般式（Ｉ）の１種以上の水溶性非イオン性コポリマー及びその混合物 【化１】 （式中、Ｒ１及びＲ３は、互いに独立して、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、又はｓｅｃ−ブチルであり、Ｒ２は、メチルであり、ｘ及びｙは、整数である）、 （Ｂ）最大で１０，０００ｇ／ｍｏｌ...

• 公開日：2019/07/04
• 出願人： ビーエーエスエフソシエタス・ヨーロピア
• 発明者： デシュライン，クリスティアン 、...
• 公開番号：2019-518849号

【課題・解決手段】（Ａ） ４００から８，０００ｇ／ｍｏｌの範囲内の質量平均分子量（Ｍｗ）を有するポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、 （Ｂ） ポリ（アクリル酸）（ＰＡＡ）、アクリル酸−マレイン酸コポリマー、ポリアスパラギン酸（ＰＡＳＡ）、ポリグルタミン酸（ＰＧＡ）、ポリビニルホスホン酸、ポリビニルスルホン酸、ポリ（スチレンスルホン酸）、ポリカルボキシレートエーテル...

• 公開日：2019/01/31
• 出願人： ビーエーエスエフソシエタス・ヨーロピア
• 発明者： デシュライン，クリスティアン 、...
• 公開番号：2019-502803号

（Ａ） ポリアクリルアミド、ポリヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（ＰＨＥ（Ｍ）Ａ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、式（Ｉ） 【化１】（式中、Ｒ１が、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、またはｓｅｃ−ブチル、Ｒ２が、水素またはメチル、ｎが、整数である）のポリマー、およびこれらの混合物...

• 公開日：2019/01/31
• 出願人： ビーエーエスエフソシエタス・ヨーロピア
• 発明者： デシュライン，クリスティアン 、...
• 公開番号：2019-502802号