ジーベルト,マクス さんに関する公開一覧

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  1. 【課題】コバルト及び/又はコバルト合金を含む基板の研磨のための化学機械研磨(CMP)組成物の使用方法【解決手段】(i)コバルト及び/又は(ii)コバルト合金を含む基板(S)を化学機械研磨するための化学機械研磨(CMP)組成物(Q)の使用方法であって、該化学機械研磨(CMP)組成物(Q)が、 (A)無機粒子、 (B)一般式(I)のアニオン性界面活性剤、 R−S...

    コバルト及び/又はコバルト合金を含む基板の研磨のための化学機械研磨(CMP)組成物の使用方法

  2. 化学機械研磨後(CMP後)洗浄組成物であって、 (A)一般式(I)の1種以上の水溶性非イオン性コポリマー及びその混合物 【化1】 (式中、R1及びR3は、互いに独立して、水素、メチル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、iso−ブチル、又はsec−ブチルであり、R2は、メチルであり、x及びyは、整数である)、 (B)最大で10,000g/mol...

    化学機械研磨後洗浄のための組成物

  3. 【課題・解決手段】(A) 400から8,000g/molの範囲内の質量平均分子量(Mw)を有するポリエチレングリコール(PEG)、 (B) ポリ(アクリル酸)(PAA)、アクリル酸−マレイン酸コポリマー、ポリアスパラギン酸(PASA)、ポリグルタミン酸(PGA)、ポリビニルホスホン酸、ポリビニルスルホン酸、ポリ(スチレンスルホン酸)、ポリカルボキシレートエーテル...

  4. (A) ポリアクリルアミド、ポリヒドロキシエチル(メタ)アクリレート(PHE(M)A)、ポリビニルピロリドン(PVP)、ポリビニルアルコール(PVA)、式(I) 【化1】(式中、R1が、水素、メチル、エチル、n−プロピル、イソ−プロピル、n−ブチル、イソ−ブチル、またはsec−ブチル、R2が、水素またはメチル、nが、整数である)のポリマー、およびこれらの混合物...

    化学機械研磨後の洗浄組成物