ライヒャルト,ロベルト さんに関する公開一覧

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  1. 【課題】銅又は銅基合金、及び/又はタンタル、窒化タンタル、チタン、窒化チタン、ルテニウム、コバルト、又はそれらの合金、を含む基板の化学的機械研磨方法における使用に適切な、化学的機械研磨(CMP)組成物を提供する。【解決手段】(A)腐食防止剤の機能を果たすベンゾトリアゾール誘導体の群から選択される1種以上の化合物、及び(B)無機粒子、有機粒子、又はそれらの複合材料若しく...

    腐食防止剤としてベンゾトリアゾール誘導体を含む化学的機械研磨組成物

  2. 【課題】コバルト及び/又はコバルト合金を含む基板の研磨のための化学機械研磨(CMP)組成物の使用方法【解決手段】(i)コバルト及び/又は(ii)コバルト合金を含む基板(S)を化学機械研磨するための化学機械研磨(CMP)組成物(Q)の使用方法であって、該化学機械研磨(CMP)組成物(Q)が、 (A)無機粒子、 (B)一般式(I)のアニオン性界面活性剤、 R−S...

    コバルト及び/又はコバルト合金を含む基板の研磨のための化学機械研磨(CMP)組成物の使用方法