鬼頭義昭 さんに関する公開一覧

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  1. 【解決手段】長尺の基板Pを長尺方向に搬送しながら、基板P上に電子デバイスを形成するデバイス製造システム10は、基板Pを長尺方向に搬入して、上位制御装置14によって目標として設定される目標膜厚となるように、基板P上に感光性機能層を形成して搬出する処理装置PR2と、処理装置PR2から搬出された基板Pの感光性機能層を、上位制御装置14によって目標として設定される目標露光量と...

    製造システム

  2. 【課題】高い生産性で高い品質の基板を生産する。【解決手段】円筒マスクの外周面上で第1軸の方向に長く、且つ周方向に短く設定される矩形状の照明領域を照明光で照射して、照明領域から発生する投影光束を投影光学系に入射させ、照明領域に対応した基板上の投影領域にマスクパターンの像を形成する為の照明光学系と、投影光束によって投影光学系の像面側に周方向に湾曲して形成されるベストフォー...

    パターン露光装置

  3. 【課題・解決手段】パターン描画装置(EX)は、光源装置(LS)からのビームを複数の描画ユニット(Un)のいずれか1つに選択的に供給するために、光源装置(LS)からのビームを順番に通すように配置され、電気的な制御によってビームを描画ユニット(Un)に向ける複数の選択用光学部材(OSn)を有するビーム切換部と、複数の描画ユニット(Un)のうちの特定の描画ユニット(Un)か...

    パターン描画装置

  4. 【課題】複数装置にわたるロール・ツー・ロール製造システムで1つの装置に動作中断が発生しても全体が正常に稼働し続けるようにする。【解決手段】シート基板を搬送しつつ、複数の処理装置によって連続的にシート基板に処理を施すデバイス製造システム10は、処理装置PR2と処理装置PR3との間に設けられ、シート基板を蓄積可能な第1の蓄積装置BF1と、処理装置PR3と処理装置PR4との...

    製造システム

  5. 【課題・解決手段】描画ユニット(Un)は、角度可変のポリゴンミラー(PM)の反射面(RP)で偏向された加工用のビーム(LBn)を入射して、基板(P)に加工用のビーム(LBn)をスポット光(SP)として集光するfθレンズ系(FT)を備え、ポリゴンミラー(PM)の反射面(RP)の角度変化に応じてスポット光(SP)を走査する。描画ユニット(Un)は、ポリゴンミラー(PM)の...

    ビーム走査装置およびパターン描画装置

  6. 【課題・解決手段】露光装置(EX)は、回転軸(AXp)の回りに回転するポリゴンミラー(PM)の複数の反射面(RP)の各々に加工用のビーム(LBn)を投射し、複数の反射面(RP)の各々で反射された加工用のビーム(LBn)を、fθレンズ系(FT)を介して基板(P)上で走査するものである。この露光装置(EX)は、ポリゴンミラー(PM)の複数の反射面(RP)の各々が所定の規定...

    ビーム走査装置、パターン描画装置、およびパターン描画装置の精度検査方法

  7. 【課題・解決手段】描画ユニット(Un)は、角度可変のポリゴンミラー(PM)の反射面(RP)で偏向された加工用のビーム(LBn)を入射して、基板Pに加工用のビーム(LBn)をスポット光(SP)として集光する屈折力を持つfθレンズ系(FT)を備え、ポリゴンミラー(PM)の反射面(RP)の角度変化に応じた走査速度でスポット光(SP)を走査する。描画ユニット(Un)は、ポリゴ...

    ビーム走査装置およびパターン描画装置

  8. 【課題】張力の影響による基板の幅方向の変形を抑制し、処理の精度を向上させる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置において、処理装置によるパターンの形成動作とパターン検出装置による複数のマークの検出動作とを共に行うときは、基板の順方向移動の速度をパターンの形成に適した第1の速度に設定し、処理装置によるパターンの形成動作を停止させてパターン検出装置による複数のマ...

    基板処理装置

  9. 【課題】円筒部材の周方向における位置を検出するにあたって、位置検出用の目盛に発生した誤差を補正する。【解決手段】回転ドラムと、処理部と、第1エンコーダヘッドと、第2エンコーダヘッドと、周方向に関して第1の方位と第2の方位との間であって、第2の方位に対して周方向に角度θsだけ回転した第3の方位にスケール目盛と対向するように配置され、スケール目盛を読み取る第3エンコーダヘ...

    基板処理装置

  10. 【課題・解決手段】長尺のシート基板を長尺方向に搬送して、シート基板に所定の処理を施す基板処理装置であって、シート基板の長尺方向の一部分ごとに所定の処理を施す処理機構と、処理機構を通るシート基板に所定の張力を与えつつ、シート基板を所定速度で長尺方向に搬送する搬送機構と、シート基板の搬送経路中の特定位置に配置され、シート基板を特定位置に係留可能な係留機構と、シート基板の搬...

    基板処理装置および基板処理方法

  11. 【課題】フィルム状の基板が連続した状態で供給されデバイスパターンを走査露光するにおいて、振動の影響を低減する。【解決手段】可撓性を有する長尺の基板Pを長尺方向に搬送して、基板Pにデバイスを形成するデバイス製造システム1は、基板Pに対して露光処理を行う基板処理装置U3と、基板処理装置U3に基板Pを供給する基板供給装置2を有する。基板供給装置2は、ロール状に基板Pが巻回さ...

    デバイス製造システムおよびデバイス製造方法

  12. 【課題】複数の描画ラインをつなげたマルチビーム型の描画方式であっても、基板の幅方向に継ぎ合わされるパターン同士の継ぎ誤差を低減する。【解決手段】基板P上にパターンを描画する露光装置EXであって、基板Pの搬送方向に搬送する回転ドラムDRと、基板Pに投射される描画ビームによりパターンを基板P上に描画する描画モジュールUW1〜UW5を複数有し、複数の描画モジュールUW1〜U...

    パターン描画装置

  13. 【課題】マスクのパターンを高精度に基板に露光できるマスクユニットを提供する。【解決手段】露光装置に装着して使われるマスクユニットであって、所定の軸線から一定半径の外周面を有する円筒状のマスク保持部と、湾曲可能な薄いガラス材に露光すべきマスクパターンが形成されたシートマスクをマスク保持部の外周面に巻き付ける際に、シートマスクを所定位置に係合する為の係合部と、シートマスク...

    マスクユニット及び露光装置

  14. 【課題・解決手段】可撓性を有する長尺のシート基板(P)の一部分を、円筒状の外周面の周方向に沿って巻き付けて支持する回転ドラム(DR)であって、中心軸(AXo)から一定の半径の円筒状の外周面を有する円筒体(50)と、円筒体(50)の外周面に向けて投射されて、円筒体(50)の外周面の一部に形成された開口部(501)に入射したビーム(LBn)の強度に対応した信号を出力する光...

    基板支持装置、露光装置、および、パターニング装置

  15. 【課題】搬送中のシート状の媒体(基板)上に連続して描画を行うにあたって、基板の搬送中に読み取り装置とドラムとの相対的な位置関係の誤差を検出すること。【解決手段】露光装置EXは、処理部11と、マーク検出部、スケール計測部と、横ずれ検出部と、回転ドラムの複数回の回転に伴って、基準パターンがマーク検出部の検出領域内に現れる度に、マーク検出部によって検出される基準パターンの位...

    パターン形成装置

  16. 【課題】1つの描画ユニットが描画ラインに沿ってパターンを描画する際の描画精度(露光量の均一性等)や忠実度を高める基板処理方法を提供する。【解決手段】基板処理方法は、パルス光源装置から周波数Fzでパルス発振される紫外波長域のビームを、シート基板の表面でスポット光に集光させると共に、ビームを光走査器によって振ることによって、スポット光を長尺の方向と交差した幅方向に延びる長...

    基板処理方法

  17. 【課題】複数の描画ユニットを使って、基板の幅方向にパターンを継ぎ合わせて露光(描画)した場合でも、パターン同士の継ぎ誤差を低減し、基板に大きな面積のパターンを高精度に安定して描画する基板処理装置の調整方法、及び基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置の調整方法は、複数の描画ユニットの各々によって形成される描画ライン上に、基準マークがもたらされるように、支持部材...

    基板処理装置の調整方法、及び基板処理装置

  18. 【課題】長尺の可撓性シート基板を搬送しながら、基板上にパターンを形成するパターン形成装置を提供する。【解決手段】パターン形成装置18は、基板Pの一部を支持しつつ搬送する搬送部80と、基板P上の所定の複数の位置の各々に形成された被検出体の位置情報を、搬送部80で支持された基板P上に設定される検出領域にて順次検出する検出部AMa〜AMeと、搬送部80の下流側に配置された搬...

    パターン形成装置

  19. 【課題・解決手段】光源装置(LS)からのビーム(LBn)をパターン情報に応じて強度変調させつつ、ビーム(LBn)を基板(P)上に投射して主走査方向に走査することで、基板(P)上にパターンを描画する露光装置(EX)は、ビーム(LBn)の走査のために、ビーム(LBn)を偏向するポリゴンミラー(PM)を含むビーム走査部と、ビーム(LBn)が基板(P)に投射されたときに発生す...

    パターン描画装置、パターン描画方法、および、デバイス製造方法