間瀬暢之 さんに関する公開一覧

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  1. 【課題】光反応性及び暗所下安定性に優れ、かつ、可視光による脱保護が可能なケージド化合物を提供する。【解決手段】ケージド化合物は、下記一般式(1)で表される。一般式(1)中、R1は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、又はアルキルアミノ基を表し、R2は、アルキル基又は窒素原子以外のヘテロ原子を表し、R3は、水素原子、ハロ...

    ケージド化合物及びケージド化合物の製造方法並びに発現方法

  2. 【課題】スルフィド化合物からスルホン化合物を効率的、かつ高い収率で製造する方法を提供する。【解決手段】一般式(1)で表されるスルフィド化合物を、2級アルコール、酸素を25体積%以上含む気体、アントラセンまたはその誘導体の存在下、40℃以上で光酸素酸化させることにより一般式(2)で表されるスルホン化合物を製造する。(式中、R1,R2は互いに独立して炭素数1〜6の有機基で...

    スルホン化合物の製造方法

  3. 【課題】過酸化水素を、比較的高濃度の過酸化水素水の形で、低コスト、簡便且つ高率的に製造が行える手段の提供。【解決手段】過酸化水素含有水溶液の製造方法であって、(a)アミルアントラヒドロキノンの有機溶媒溶液を容器1内に準備するステップであって、該有機溶媒が水と非混和性のものであるステップと、(b)該溶液に、常圧下に、酸素ガスをファインバブル2の形で連続注入して溶液1中に...

    過酸化水素の製造方法

  4. 【課題】スルホキシド化合物からスルホン化合物を効率的、かつ高い収率で製造する方法を提供する。【解決手段】一般式(1)で表されるスルホキシド化合物を、2級アルコール、酸素を25体積%以上含む気体、アントラセンまたはその誘導体の存在下、40℃以上で光酸素酸化させることにより一般式(2)で表されるスルホン化合物を製造する。(式中、R1,R2は互いに独立して炭素数1〜6の有機...

    スルホン化合物の製造方法